JPH0899910A - シクロペンタジエン類の製法 - Google Patents
シクロペンタジエン類の製法Info
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- JPH0899910A JPH0899910A JP6261997A JP26199794A JPH0899910A JP H0899910 A JPH0899910 A JP H0899910A JP 6261997 A JP6261997 A JP 6261997A JP 26199794 A JP26199794 A JP 26199794A JP H0899910 A JPH0899910 A JP H0899910A
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- acid catalyst
- silica
- formula
- catalyst
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 工業的に有用なシクロペンタジエン類を安価
に製造するための新規な製法を提供する。 【構成】 一般式１の不飽和カルボニル化合物を固体酸
触媒の存在下に気相で環化脱水する一般式２のシクロペ
ンタジエン類の製法。 （Ｒ１〜Ｒ５は同一または異なる基であり、それぞれ水
素またはＣ１〜４のアルキル基を表す。また式２の点線
はその５員環が２つの二重結合を含むことを示す。）
に製造するための新規な製法を提供する。 【構成】 一般式１の不飽和カルボニル化合物を固体酸
触媒の存在下に気相で環化脱水する一般式２のシクロペ
ンタジエン類の製法。 （Ｒ１〜Ｒ５は同一または異なる基であり、それぞれ水
素またはＣ１〜４のアルキル基を表す。また式２の点線
はその５員環が２つの二重結合を含むことを示す。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は有機合成の中間体として
有用なシクロペンタジエン類の新規な製法に関するもの
である。
有用なシクロペンタジエン類の新規な製法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】シクロペンタジエン類の中から１,３−
ジメチルシクロペンタジエンを例に取り従来の技術を説
明する。従来、１,３−ジメチルシクロペンタジエンの
各種の製造方法が提案されている。その中でも工業的に
入手可能な原料から製造する方法には、例えば、（１）
ジシクロペンタジエンをアルカリ金属酸化物の存在下で
メタノールと反応させる方法（特開昭６２−７２６３０
号公報）、（２）アセトニルアセトンを環化脱水して生
成した３−メチル−２−シクロペンテン−１−オンにグ
リニャール試薬を反応させる方法（Die Makromolekular
eChemie, 127(1969), p.78-93）および（３）５−メチ
ル−５−ヘキセン−２−オンをアルミナ等の触媒の存在
下で環化脱水する方法（特開平３−２１５４３７号公
報）等がある。しかしながら工業的な観点から、（１）
の方法ではモノメチル体またはトリメチル体が副生する
ほか、ジメチル基の位置異性体が副生するため分離が困
難である。（２）の方法では原料がやや高価なうえ、グ
リニャール試薬がさらに高価であり、また反応溶媒に引
火性の高いエーテル系の溶媒を使う必要がある。また
（３）の方法では分解等の副反応が起こったり、シクロ
ペンテン誘導体が生成する等の欠点がある。
ジメチルシクロペンタジエンを例に取り従来の技術を説
明する。従来、１,３−ジメチルシクロペンタジエンの
各種の製造方法が提案されている。その中でも工業的に
入手可能な原料から製造する方法には、例えば、（１）
ジシクロペンタジエンをアルカリ金属酸化物の存在下で
メタノールと反応させる方法（特開昭６２−７２６３０
号公報）、（２）アセトニルアセトンを環化脱水して生
成した３−メチル−２−シクロペンテン−１−オンにグ
リニャール試薬を反応させる方法（Die Makromolekular
eChemie, 127(1969), p.78-93）および（３）５−メチ
ル−５−ヘキセン−２−オンをアルミナ等の触媒の存在
下で環化脱水する方法（特開平３−２１５４３７号公
報）等がある。しかしながら工業的な観点から、（１）
の方法ではモノメチル体またはトリメチル体が副生する
ほか、ジメチル基の位置異性体が副生するため分離が困
難である。（２）の方法では原料がやや高価なうえ、グ
リニャール試薬がさらに高価であり、また反応溶媒に引
火性の高いエーテル系の溶媒を使う必要がある。また
（３）の方法では分解等の副反応が起こったり、シクロ
ペンテン誘導体が生成する等の欠点がある。
【０００３】
【発明が開発しようとする課題】本発明は、上記のよう
な事情に鑑み、安価な原料から簡単な反応によってシク
ロペンタジエン類を経済的に合成することを目的とす
る。
な事情に鑑み、安価な原料から簡単な反応によってシク
ロペンタジエン類を経済的に合成することを目的とす
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の第１は、下記式
化３で示される不飽和カルボニル化合物を固体酸触媒の
存在下に気相で環化脱水することを特徴とする下記式化
４で表されるシクロペンタジエン類の製法に関する。
化３で示される不飽和カルボニル化合物を固体酸触媒の
存在下に気相で環化脱水することを特徴とする下記式化
４で表されるシクロペンタジエン類の製法に関する。
【化３】
【化４】 ここで、Ｒ1〜Ｒ5は同一または異なる基であり、それぞ
れ水素または炭素数１〜４のアルキル基を表す。また、
式化４の５員環の点線はその５員環が２つの二重結合を
含むことを示す。本発明の第２は、上記第１の発明にお
いて、固体酸触媒が合成系固体酸触媒、天然粘土系固体
酸触媒または無機酸を多孔質無機物質に担持させた固体
酸触媒であることを特徴とする製法に関する。本発明の
第３は、上記第２の発明において、合成系固体酸触媒
が、シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシアまたはシリ
カ−カルシアであることを特徴とする製法に関する。本
発明の第４は、上記第１の発明において、環化脱水を１
２０〜６００℃の温度で行うことを特徴とする製法に関
する。本発明の第５は、上記第１の発明において、環化
脱水を１０kg/cm2以下の反応圧力で行うことを特徴とす
る製法に関する。本発明の第６は、上記第１の発明にお
いて、シクロペンタジエン類が１,３−、２,５−もしく
は１,４−ジメチルシクロペンタジエンまたはそれらの
混合物であることを特徴とする製法に関する。
れ水素または炭素数１〜４のアルキル基を表す。また、
式化４の５員環の点線はその５員環が２つの二重結合を
含むことを示す。本発明の第２は、上記第１の発明にお
いて、固体酸触媒が合成系固体酸触媒、天然粘土系固体
酸触媒または無機酸を多孔質無機物質に担持させた固体
酸触媒であることを特徴とする製法に関する。本発明の
第３は、上記第２の発明において、合成系固体酸触媒
が、シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシアまたはシリ
カ−カルシアであることを特徴とする製法に関する。本
発明の第４は、上記第１の発明において、環化脱水を１
２０〜６００℃の温度で行うことを特徴とする製法に関
する。本発明の第５は、上記第１の発明において、環化
脱水を１０kg/cm2以下の反応圧力で行うことを特徴とす
る製法に関する。本発明の第６は、上記第１の発明にお
いて、シクロペンタジエン類が１,３−、２,５−もしく
は１,４−ジメチルシクロペンタジエンまたはそれらの
混合物であることを特徴とする製法に関する。
【０００５】以下、本発明をさらに説明する。本発明の
式化３で示される不飽和カルボニル化合物およびそれか
ら本発明の方法により製造される式化４で表されるシク
ロペンタジエン類としては、以下のような化合物をそれ
ぞれ例示することができる。まず、式化３の不飽和カル
ボニル化合物において、Ｒ1からＲ5の置換基のいずれか
１つがメチル基であり、それ以外の置換基が水素原子で
ある５−ヘキセン−２−オン、２−メチル−４−ペンテ
ナール、４−メチル−４−ペンテナール等の原料を用い
れば、式化４のシクロペンタジエン類としてメチルシク
ロペンタジエン類を製造することができる。
式化３で示される不飽和カルボニル化合物およびそれか
ら本発明の方法により製造される式化４で表されるシク
ロペンタジエン類としては、以下のような化合物をそれ
ぞれ例示することができる。まず、式化３の不飽和カル
ボニル化合物において、Ｒ1からＲ5の置換基のいずれか
１つがメチル基であり、それ以外の置換基が水素原子で
ある５−ヘキセン−２−オン、２−メチル−４−ペンテ
ナール、４−メチル−４−ペンテナール等の原料を用い
れば、式化４のシクロペンタジエン類としてメチルシク
ロペンタジエン類を製造することができる。
【０００６】また、式化３の不飽和カルボニル化合物に
おいて、Ｒ1からＲ5の置換基のいずれか２つがメチル基
であり、それ以外の置換基が水素原子である場合、例え
ば、５−メチル−５−ヘキセン−２−オン、４−メチル
−５−ヘキセン−２−オン、２,４−ジメチル−４−ペ
ンテナール、３−メチル−４−ヘキセナール等の原料を
用いる場合には、式化４のシクロペンタジエン類として
１,３−、２,５−もしくは１,４−ジメチルシクロペン
タジエンまたはこれらの混合物を製造することができ
る。また、式化３の不飽和カルボニル化合物として、３
−メチル−５−ヘキセン−２−オン、５−ヘプテン−２
−オン、２,３−ジメチル−４−ペンテナール、３,４−
ジメチル−４−ペンテナール、４−メチル−４−ヘキセ
ナール等の原料を用いれば、式化４のシクロペンタジエ
ン類として１,２−、２,３−もしくは１,５−ジメチル
シクロペンタジエンまたはこれらの混合物を製造するこ
とができる。
おいて、Ｒ1からＲ5の置換基のいずれか２つがメチル基
であり、それ以外の置換基が水素原子である場合、例え
ば、５−メチル−５−ヘキセン−２−オン、４−メチル
−５−ヘキセン−２−オン、２,４−ジメチル−４−ペ
ンテナール、３−メチル−４−ヘキセナール等の原料を
用いる場合には、式化４のシクロペンタジエン類として
１,３−、２,５−もしくは１,４−ジメチルシクロペン
タジエンまたはこれらの混合物を製造することができ
る。また、式化３の不飽和カルボニル化合物として、３
−メチル−５−ヘキセン−２−オン、５−ヘプテン−２
−オン、２,３−ジメチル−４−ペンテナール、３,４−
ジメチル−４−ペンテナール、４−メチル−４−ヘキセ
ナール等の原料を用いれば、式化４のシクロペンタジエ
ン類として１,２−、２,３−もしくは１,５−ジメチル
シクロペンタジエンまたはこれらの混合物を製造するこ
とができる。
【０００７】式化３の不飽和カルボニル化合物におい
て、Ｒ1からＲ5の置換基の３つがメチル基であり、それ
以外の置換基が水素原子である場合、すなわち、３,４
−ジメチル−５−ヘキセン−２−オン、３,５−ジメチ
ル−５−ヘキセン−２−オン、２,３−ジメチル−４−
ヘキセナール等を用いる場合には、式化４のシクロペン
タジエン類としてトリメチルシクロペンタジエン類を製
造することができる。
て、Ｒ1からＲ5の置換基の３つがメチル基であり、それ
以外の置換基が水素原子である場合、すなわち、３,４
−ジメチル−５−ヘキセン−２−オン、３,５−ジメチ
ル−５−ヘキセン−２−オン、２,３−ジメチル−４−
ヘキセナール等を用いる場合には、式化４のシクロペン
タジエン類としてトリメチルシクロペンタジエン類を製
造することができる。
【０００８】以上、Ｒ1からＲ5の置換基をアルキル基と
して炭素数１のメチル基で例示したが、炭素数２〜４の
アルキル基についても同様にメチル基をエチル基、プロ
ピル基またはブチル基で置き換えた式化３の不飽和カル
ボニル化合物を用いることができる。また置換基が２つ
の場合であれば、メチル基とエチル基のように複数の互
いに異なる置換基を有する不飽和カルボニル化合物も同
様に式化３の不飽和カルボニル化合物として用いること
ができる。これらの中でも特に、置換基Ｒ4がアルキル
基である式化３の不飽和カルボニル化合物を原料に用い
ると、低い反応温度でも目的物であるシクロペンタジエ
ン類の収率が高くなり好ましい。
して炭素数１のメチル基で例示したが、炭素数２〜４の
アルキル基についても同様にメチル基をエチル基、プロ
ピル基またはブチル基で置き換えた式化３の不飽和カル
ボニル化合物を用いることができる。また置換基が２つ
の場合であれば、メチル基とエチル基のように複数の互
いに異なる置換基を有する不飽和カルボニル化合物も同
様に式化３の不飽和カルボニル化合物として用いること
ができる。これらの中でも特に、置換基Ｒ4がアルキル
基である式化３の不飽和カルボニル化合物を原料に用い
ると、低い反応温度でも目的物であるシクロペンタジエ
ン類の収率が高くなり好ましい。
【０００９】また、生成物として式化４で表されるシク
ロペンタジエン類のうち１,３−ジアルキルシクロペン
タジエン、特に１,３−ジメチルシクロペンタジエン
は、その熱安定性が高いことにより、目的物質として高
収率で得られる点において好ましいものである。
ロペンタジエン類のうち１,３−ジアルキルシクロペン
タジエン、特に１,３−ジメチルシクロペンタジエン
は、その熱安定性が高いことにより、目的物質として高
収率で得られる点において好ましいものである。
【００１０】本発明においては、触媒として固体酸触媒
を用いる。好ましい固体酸触媒としては、シリカ−アル
ミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−カルシア、アルミ
ナ、シリカ、ゼオライト等の合成系固体酸触媒、酸性白
土、活性白土等の天然粘土鉱物等である。ゼオライトを
固体酸触媒として用いる場合、ＨＸ型ゼオライト、ＨＹ
型ゼオライトまたは水素ホージャサイト等の水素ゼオラ
イトを含有するものを使用することができる。さらにこ
れらの固体酸触媒にナトリウム、カリウム等のアルカリ
金属を担持させることができるが、アルカリ金属の担持
により触媒に付着するカーボンを低減させることができ
る。このほかにリン酸またはリンタングステン酸、ケイ
タングステン酸もしくはケイモリブデン酸等のヘテロポ
リ酸などの無機酸を、単独または組み合わせて適宜多孔
質無機担体に担持させて使用することもできる。具体的
な例としてはアルミナ、マグネシア、シリカ、活性炭等
の多孔質無機単体に無機酸を担持した担持酸触媒が例示
される。上記の固体酸触媒のうち、触媒の安定性等を考
慮すると合成系固体酸触媒、特にシリカ−アルミナ、シ
リカ−マグネシア、シリカ−カルシア等が好ましく用い
られる。反応の選択性が高いことを考慮するとシリカ−
アルミナが特に好ましい。
を用いる。好ましい固体酸触媒としては、シリカ−アル
ミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−カルシア、アルミ
ナ、シリカ、ゼオライト等の合成系固体酸触媒、酸性白
土、活性白土等の天然粘土鉱物等である。ゼオライトを
固体酸触媒として用いる場合、ＨＸ型ゼオライト、ＨＹ
型ゼオライトまたは水素ホージャサイト等の水素ゼオラ
イトを含有するものを使用することができる。さらにこ
れらの固体酸触媒にナトリウム、カリウム等のアルカリ
金属を担持させることができるが、アルカリ金属の担持
により触媒に付着するカーボンを低減させることができ
る。このほかにリン酸またはリンタングステン酸、ケイ
タングステン酸もしくはケイモリブデン酸等のヘテロポ
リ酸などの無機酸を、単独または組み合わせて適宜多孔
質無機担体に担持させて使用することもできる。具体的
な例としてはアルミナ、マグネシア、シリカ、活性炭等
の多孔質無機単体に無機酸を担持した担持酸触媒が例示
される。上記の固体酸触媒のうち、触媒の安定性等を考
慮すると合成系固体酸触媒、特にシリカ−アルミナ、シ
リカ−マグネシア、シリカ−カルシア等が好ましく用い
られる。反応の選択性が高いことを考慮するとシリカ−
アルミナが特に好ましい。
【００１１】反応温度は、触媒の組成、触媒と原料の接
触時間、原料と希釈剤の希釈モル比などに応じて１２０
〜６００℃、好ましくは２５０〜５００℃の範囲で選択
することができる。この範囲より反応温度が高くなる
と、環化脱水反応のみならず生成した化合物が芳香族化
したり、また原料や生成物の水素添加反応などの副反応
が急速に進行し、選択率が著しく低下するので好ましく
ない。さらに、反応温度がこの範囲より低いと、目的と
する環化脱水反応の反応速度が低下して経済的に好まし
くない。
触時間、原料と希釈剤の希釈モル比などに応じて１２０
〜６００℃、好ましくは２５０〜５００℃の範囲で選択
することができる。この範囲より反応温度が高くなる
と、環化脱水反応のみならず生成した化合物が芳香族化
したり、また原料や生成物の水素添加反応などの副反応
が急速に進行し、選択率が著しく低下するので好ましく
ない。さらに、反応温度がこの範囲より低いと、目的と
する環化脱水反応の反応速度が低下して経済的に好まし
くない。
【００１２】ここで、反応系内で発生した水素によるこ
れらの副反応を抑制するために、ベンゼン、テトラリ
ン、ニトロベンゼン、桂皮酸、ベンゾフェノンなどの水
素受容体を添加したり、また、窒素、二酸化炭素または
少量の酸素を反応中に供給して生じた水素を除くことも
できる。
れらの副反応を抑制するために、ベンゼン、テトラリ
ン、ニトロベンゼン、桂皮酸、ベンゾフェノンなどの水
素受容体を添加したり、また、窒素、二酸化炭素または
少量の酸素を反応中に供給して生じた水素を除くことも
できる。
【００１３】反応により生成するジオレフィンは重合性
であるため、反応槽中でジオレフィン濃度が高い状態で
長時間高温に保つと、生成したジオレフィンの一部が重
合または二量化して損失となる。これを避けるには、不
活性ガス、例えば窒素、ヘリウム、アルゴン、スチーム
等を同伴させて原料濃度を希釈する方法が有効である。
希釈倍率に特に制限はない。
であるため、反応槽中でジオレフィン濃度が高い状態で
長時間高温に保つと、生成したジオレフィンの一部が重
合または二量化して損失となる。これを避けるには、不
活性ガス、例えば窒素、ヘリウム、アルゴン、スチーム
等を同伴させて原料濃度を希釈する方法が有効である。
希釈倍率に特に制限はない。
【００１４】本発明の反応では、触媒を長時間使用する
とコーキング等により次第に活性が低下するので、例え
ば５００℃程度の高温で空気等によりデコーキングする
ことにより初期の活性を再現する。
とコーキング等により次第に活性が低下するので、例え
ば５００℃程度の高温で空気等によりデコーキングする
ことにより初期の活性を再現する。
【００１５】反応形式は固定床、移動床、流動床のいず
れでもよい。バッチ式または連続流通式のいずれも採用
することができる。工業的には、連続流通式が好まし
い。本発明では原料または生成物は気相で触媒と接触し
なければならない。例えば、液相反応においては、原料
または生成物の重合や二量化が著しくなるので好ましく
ない。
れでもよい。バッチ式または連続流通式のいずれも採用
することができる。工業的には、連続流通式が好まし
い。本発明では原料または生成物は気相で触媒と接触し
なければならない。例えば、液相反応においては、原料
または生成物の重合や二量化が著しくなるので好ましく
ない。
【００１６】反応圧力は原料または生成物が気相になり
得る範囲であれば特に制限はないが、通常は１０kg/cm2
以下、好ましくは常圧ないし５kg/cm2である。原料と触
媒との接触時間は０.００５〜２０秒、好ましくは０.０
１〜１０秒、さらに好ましくは０.０５〜５秒である。
接触時間がこれより短いと反応率が低下して好ましくな
い。また、これより長いと、生成したジオレフィンが重
合したり水素添加されるなど副反応が多くなり選択率が
低下する。
得る範囲であれば特に制限はないが、通常は１０kg/cm2
以下、好ましくは常圧ないし５kg/cm2である。原料と触
媒との接触時間は０.００５〜２０秒、好ましくは０.０
１〜１０秒、さらに好ましくは０.０５〜５秒である。
接触時間がこれより短いと反応率が低下して好ましくな
い。また、これより長いと、生成したジオレフィンが重
合したり水素添加されるなど副反応が多くなり選択率が
低下する。
【００１７】反応層を出たガスは直ちに冷却し液化す
る。必要に応じて上記ガスを炭化水素等の吸収液に通し
て回収してもよい。水と油分を分離した後、必要に応じ
て蒸留により油分から高純度の目的生成物を回収するこ
とができる。通常、目的生成物は原料より沸点が低いの
で目的物と原料との分離は容易である。得られたシクロ
ペンタジエン類はその構造により熱的に不安定な化合物
があり、場合により減圧蒸留などの加熱温度の低い回収
手段を採用する必要がある。
る。必要に応じて上記ガスを炭化水素等の吸収液に通し
て回収してもよい。水と油分を分離した後、必要に応じ
て蒸留により油分から高純度の目的生成物を回収するこ
とができる。通常、目的生成物は原料より沸点が低いの
で目的物と原料との分離は容易である。得られたシクロ
ペンタジエン類はその構造により熱的に不安定な化合物
があり、場合により減圧蒸留などの加熱温度の低い回収
手段を採用する必要がある。
【００１８】
【実施例】実施例により本発明をさらに説明する。以下
に記載の％は特に付言しない限り重量％を示す。 ＜実施例１＞シリカ−アルミナ触媒（商品名：Ｎ６３３
Ｌ、日揮化学(株)製）の粒径を１６〜２０メッシュに調
整し、その１５ｍｌを内径１２ｍｍ、長さ１ｍのステン
レス鋼管に充填した。５−メチル−５−ヘキセン−２−
オン１１２ｇを１５ml/hr の流量で、また水を６０ml/h
r の流量で、それぞれ予熱管を経由して触媒層に通し、
反応温度３８０℃で環化脱水反応を行った（触媒との接
触時間０.３４秒）。環化脱水物を冷却し、ガスおよび
水を分離した後、有機層についてガスクロマトグラフィ
ーにより分析したところ、原料１.０％および目的生成
物８２.５％を含んでいた。得られた有機層８５ｇを常
圧蒸留したところ、沸点１０１〜１０４℃の留分４０.
５ｇを得た。別途合成した真正試料とスペクトルを比較
した結果、この留分は１,３−ジメチルシクロペンタジ
エンを主成分とするジメチルシクロペンタジエン類であ
ることが判った。
に記載の％は特に付言しない限り重量％を示す。 ＜実施例１＞シリカ−アルミナ触媒（商品名：Ｎ６３３
Ｌ、日揮化学(株)製）の粒径を１６〜２０メッシュに調
整し、その１５ｍｌを内径１２ｍｍ、長さ１ｍのステン
レス鋼管に充填した。５−メチル−５−ヘキセン−２−
オン１１２ｇを１５ml/hr の流量で、また水を６０ml/h
r の流量で、それぞれ予熱管を経由して触媒層に通し、
反応温度３８０℃で環化脱水反応を行った（触媒との接
触時間０.３４秒）。環化脱水物を冷却し、ガスおよび
水を分離した後、有機層についてガスクロマトグラフィ
ーにより分析したところ、原料１.０％および目的生成
物８２.５％を含んでいた。得られた有機層８５ｇを常
圧蒸留したところ、沸点１０１〜１０４℃の留分４０.
５ｇを得た。別途合成した真正試料とスペクトルを比較
した結果、この留分は１,３−ジメチルシクロペンタジ
エンを主成分とするジメチルシクロペンタジエン類であ
ることが判った。
【００１９】＜実施例２＞触媒としてＨＹゼオライト
（触媒化成工業(株)製）を用いた以外は実施例１と同様
に反応を行い、原料０.１％および目的生成物（１,３−
ジメチルシクロペンタジエンを主成分とするジメチルシ
クロペンタジエン類）７４.０％を含む反応液８０ｇ得
た。
（触媒化成工業(株)製）を用いた以外は実施例１と同様
に反応を行い、原料０.１％および目的生成物（１,３−
ジメチルシクロペンタジエンを主成分とするジメチルシ
クロペンタジエン類）７４.０％を含む反応液８０ｇ得
た。
【００２０】
【発明の効果】本発明により、安価な原料から簡単な反
応工程によって、有機合成の中間体として有用なシクロ
ペンタジエン類を高収率で製造することが可能となっ
た。
応工程によって、有機合成の中間体として有用なシクロ
ペンタジエン類を高収率で製造することが可能となっ
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 1/207 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (6)
- 【請求項１】 下記式化１で示される不飽和カルボニル
化合物を固体酸触媒の存在下に気相で環化脱水すること
を特徴とする下記式化２のシクロペンタジエン類の製
法、 【化１】 【化２】 ここで、Ｒ1〜Ｒ5は同一または異なる基であり、それぞ
れ水素または炭素数１〜４のアルキル基を表す。また、
式化２の５員環の点線はその５員環が２つの二重結合を
含むことを示す。 - 【請求項２】 前記固体酸触媒が、合成系固体酸触媒、
天然粘土系固体酸触媒または無機酸を多孔質無機物質に
担持させた固体酸触媒であることを特徴とする請求項１
に記載の製法。 - 【請求項３】 前記合成系固体酸触媒が、シリカ−アル
ミナ、シリカ−マグネシアまたはシリカ−カルシアであ
ることを特徴とする請求項２に記載の製法。 - 【請求項４】 前記環化脱水を１２０〜６００℃の温度
で行うことを特徴とする請求項１に記載の製法。 - 【請求項５】 前記環化脱水を１０kg/cm2以下の反応圧
力で行うことを特徴とする請求項１に記載の製法。 - 【請求項６】 前記シクロペンタジエン類が１,３−、
２,５−もしくは１,４−ジメチルシクロペンタジエンま
たはそれらの混合物であることを特徴とする請求項１に
記載の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6261997A JPH0899910A (ja) | 1994-09-29 | 1994-09-29 | シクロペンタジエン類の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6261997A JPH0899910A (ja) | 1994-09-29 | 1994-09-29 | シクロペンタジエン類の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0899910A true JPH0899910A (ja) | 1996-04-16 |
Family
ID=17369585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6261997A Pending JPH0899910A (ja) | 1994-09-29 | 1994-09-29 | シクロペンタジエン類の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0899910A (ja) |
-
1994
- 1994-09-29 JP JP6261997A patent/JPH0899910A/ja active Pending
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