JPH0897611A - 高周波伝送線路およびマイクロ波回路 - Google Patents
高周波伝送線路およびマイクロ波回路Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 広帯域にわたりインピーダンス整合を行うこ
とができる高周波伝送線路およびマイクロ波回路を実現
する。 【構成】 インピーダンス整合回路は、低インピーダン
ス線路と高インピーダンス線路とからなる。ボンディン
グワイヤ、低インピーダンス線路、高インピーダンス線
路の三者によりT型回路網が構成され、低インピーダン
ス線路および高インピーダンス線路のインピーダンスを
それぞれ調整することにより、このT型回路網のインピ
ーダンスが調整される。 【効果】 広帯域にわたり良好な整合特性を有する。
とができる高周波伝送線路およびマイクロ波回路を実現
する。 【構成】 インピーダンス整合回路は、低インピーダン
ス線路と高インピーダンス線路とからなる。ボンディン
グワイヤ、低インピーダンス線路、高インピーダンス線
路の三者によりT型回路網が構成され、低インピーダン
ス線路および高インピーダンス線路のインピーダンスを
それぞれ調整することにより、このT型回路網のインピ
ーダンスが調整される。 【効果】 広帯域にわたり良好な整合特性を有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高周波集積回路に利用す
る。本発明は高周波伝送線路に利用する。特に、高周波
集積回路と高周波伝送線路との広帯域結合技術に関す
る。
る。本発明は高周波伝送線路に利用する。特に、高周波
集積回路と高周波伝送線路との広帯域結合技術に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来例を図8および図9を参照して説明
する。図8および図9は従来の高周波集積回路と高周波
伝送線路との結合を示す図である。図8は、高周波集積
回路1とコプレーナ形線路を用いた高周波伝送線路2と
の結合例を示す。図9は図8を上面からみて示したもの
である。高周波集積回路1の高周波電極5、6、6′と
コプレーナ線路の信号電極7および接地電極8、8′と
は、いずれも線路インピーダンスが等しくなるように設
計製作され、ボンディングワイア3で結合されている。
ここで、ボンディングワイヤ3はボンディングリボンで
あってもよい。
する。図8および図9は従来の高周波集積回路と高周波
伝送線路との結合を示す図である。図8は、高周波集積
回路1とコプレーナ形線路を用いた高周波伝送線路2と
の結合例を示す。図9は図8を上面からみて示したもの
である。高周波集積回路1の高周波電極5、6、6′と
コプレーナ線路の信号電極7および接地電極8、8′と
は、いずれも線路インピーダンスが等しくなるように設
計製作され、ボンディングワイア3で結合されている。
ここで、ボンディングワイヤ3はボンディングリボンで
あってもよい。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来例で示
した回路は、高周波集積回路1の高周波電極5、6、
6′と高周波伝送線路2とを接続するボンディングワイ
ヤ3の長さ、外径などで定まるインダクタンスの影響
で、高い周波数においては、高周波集積回路1の高周波
電極5、6、6′と高周波伝送線路2との特性インピー
ダンスに不整合を生じ、マイクロ波帯からミリ波帯にわ
たる広帯域な領域で利用することが困難である。すなわ
ち、従来の技術では、使用可能な周波数帯域が限定され
ている。
した回路は、高周波集積回路1の高周波電極5、6、
6′と高周波伝送線路2とを接続するボンディングワイ
ヤ3の長さ、外径などで定まるインダクタンスの影響
で、高い周波数においては、高周波集積回路1の高周波
電極5、6、6′と高周波伝送線路2との特性インピー
ダンスに不整合を生じ、マイクロ波帯からミリ波帯にわ
たる広帯域な領域で利用することが困難である。すなわ
ち、従来の技術では、使用可能な周波数帯域が限定され
ている。
【0004】本発明は、このような背景に行われたもの
であり、広帯域にわたりインピーダンス整合を行うこと
ができる高周波伝送線路およびマイクロ波回路を提供す
ることを目的とする。本発明は、高周波集積回路内にイ
ンピーダンス整合回路を実装することができる高周波伝
送線路およびマイクロ波回路を提供することを目的とす
る。
であり、広帯域にわたりインピーダンス整合を行うこと
ができる高周波伝送線路およびマイクロ波回路を提供す
ることを目的とする。本発明は、高周波集積回路内にイ
ンピーダンス整合回路を実装することができる高周波伝
送線路およびマイクロ波回路を提供することを目的とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、高周波集積回
路と高周波伝送線路とを接続するボンディングワイヤの
インダクタンスの影響を軽減し、マイクロ波帯からミリ
波帯までの広帯域にわたり適用可能にするため、高周波
集積回路に接続する高周波伝送線路にインピーダンス整
合回路を設ける構成としたことを特徴とする。
路と高周波伝送線路とを接続するボンディングワイヤの
インダクタンスの影響を軽減し、マイクロ波帯からミリ
波帯までの広帯域にわたり適用可能にするため、高周波
集積回路に接続する高周波伝送線路にインピーダンス整
合回路を設ける構成としたことを特徴とする。
【0006】すなわち、本発明の第一の観点は高周波伝
送線路であり、その特徴とするところは、ボンディング
ワイヤを介して高周波集積回路に接続される信号電極
(7)と、この信号電極と同一平面上に形成された接地
電極(8、8′)とを備え、前記信号電極は、前記ボン
ディングワイヤに接続される部分が接地電位に対して低
インピーダンス線路(10)を形成し、この線路に直列
的に高インピーダンス線路(11)を構成する部分が形
成されるところにある。
送線路であり、その特徴とするところは、ボンディング
ワイヤを介して高周波集積回路に接続される信号電極
(7)と、この信号電極と同一平面上に形成された接地
電極(8、8′)とを備え、前記信号電極は、前記ボン
ディングワイヤに接続される部分が接地電位に対して低
インピーダンス線路(10)を形成し、この線路に直列
的に高インピーダンス線路(11)を構成する部分が形
成されるところにある。
【0007】前記信号電極の両側に等しい距離を隔て前
記接地電極が設けられ、前記低インピーダンス線路は、
その両側を前記接地電極からそれぞれ距離d1 隔て設け
られたコプレーナ形の分布定数回路を形成し、前記高イ
ンピーダンス線路は、その両側を前記接地電極からそれ
ぞれ前記距離d1 より大きい距離d2 隔て設けられたコ
プレーナ形の分布定数回路を備えることが望ましい。
記接地電極が設けられ、前記低インピーダンス線路は、
その両側を前記接地電極からそれぞれ距離d1 隔て設け
られたコプレーナ形の分布定数回路を形成し、前記高イ
ンピーダンス線路は、その両側を前記接地電極からそれ
ぞれ前記距離d1 より大きい距離d2 隔て設けられたコ
プレーナ形の分布定数回路を備えることが望ましい。
【0008】本発明の第二の観点はマイクロ波回路であ
り、その特徴とするところは、前記高周波伝送線路が前
記高周波集積回路と同一のパッケージ内に実装され、こ
の高周波伝送線路が前記高周波集積回路と外部接続端子
との間に設けられるところにある。
り、その特徴とするところは、前記高周波伝送線路が前
記高周波集積回路と同一のパッケージ内に実装され、こ
の高周波伝送線路が前記高周波集積回路と外部接続端子
との間に設けられるところにある。
【0009】
【作用】本発明では、高周波伝送線路に設けたインピー
ダンス整合回路により、ボンディングワイヤのインダク
タンスの影響が小さくなり、広帯域化が容易になる。
ダンス整合回路により、ボンディングワイヤのインダク
タンスの影響が小さくなり、広帯域化が容易になる。
【0010】このインピーダンス整合回路には、低イン
ピーダンス線路と高インピーダンス線路とが設けられて
いる。低インピーダンス線路は、隣接して設けられる接
地電極との距離が小さく、この接地電極との間で容量を
持つ。高インピーダンス線路はボンディングワイヤと等
価的にインダクタンスを持つ。すなわち、ボンディング
ワイヤ、低インピーダンス線路、高インピーダンス線路
の三者によりT型回路網が構成される。低インピーダン
ス線路および高インピーダンス線路のインピーダンスを
それぞれ調整することにより、このT型回路網のインピ
ーダンスが調整され、広帯域にわたり良好な整合特性を
有する高周波伝送線路を実現することができる。
ピーダンス線路と高インピーダンス線路とが設けられて
いる。低インピーダンス線路は、隣接して設けられる接
地電極との距離が小さく、この接地電極との間で容量を
持つ。高インピーダンス線路はボンディングワイヤと等
価的にインダクタンスを持つ。すなわち、ボンディング
ワイヤ、低インピーダンス線路、高インピーダンス線路
の三者によりT型回路網が構成される。低インピーダン
ス線路および高インピーダンス線路のインピーダンスを
それぞれ調整することにより、このT型回路網のインピ
ーダンスが調整され、広帯域にわたり良好な整合特性を
有する高周波伝送線路を実現することができる。
【0011】高周波伝送線路が高周波集積回路と同一の
パッケージ内に実装され、この高周波伝送線路が高周波
集積回路と外部接続端子との間に設けられることもよ
い。
パッケージ内に実装され、この高周波伝送線路が高周波
集積回路と外部接続端子との間に設けられることもよ
い。
【0012】
【実施例】本発明第一実施例の構成を図1を参照して説
明する。図1は本発明第一実施例の高周波伝送線路の回
路図である。
明する。図1は本発明第一実施例の高周波伝送線路の回
路図である。
【0013】本発明は高周波伝送線路であり、その特徴
とするところは、ボンディングワイヤ3を介して高周波
集積回路1に接続される信号電極7と、この信号電極7
と同一平面上に形成された接地電極8、8′とを備え、
信号電極7は、ボンディングワイヤ3に接続される部分
が接地電位に対して低インピーダンス線路10を形成
し、この線路に直列的に高インピーダンス線路11を構
成する部分が形成される。
とするところは、ボンディングワイヤ3を介して高周波
集積回路1に接続される信号電極7と、この信号電極7
と同一平面上に形成された接地電極8、8′とを備え、
信号電極7は、ボンディングワイヤ3に接続される部分
が接地電位に対して低インピーダンス線路10を形成
し、この線路に直列的に高インピーダンス線路11を構
成する部分が形成される。
【0014】信号電極7の両側に等しい距離を隔て接地
電極8、8′が設けられ、低インピーダンス線路10
は、その両側を接地電極8、8′からそれぞれ距離d1
隔て設けられたコプレーナ形の分布定数回路を形成し、
高インピーダンス線路11は、その両側を接地電極8、
8′からそれぞれ前記距離d1 より大きい距離d2 隔て
設けられたコプレーナ形の分布定数回路を備える。
電極8、8′が設けられ、低インピーダンス線路10
は、その両側を接地電極8、8′からそれぞれ距離d1
隔て設けられたコプレーナ形の分布定数回路を形成し、
高インピーダンス線路11は、その両側を接地電極8、
8′からそれぞれ前記距離d1 より大きい距離d2 隔て
設けられたコプレーナ形の分布定数回路を備える。
【0015】次に、本発明第一実施例の動作を図2ない
し図5を参照して説明する。図2は、本発明第一実施例
の等価回路を示す図である。図3は、図2に示す等価回
路をT型回路網に置き換えた状態を示す図である。図4
は、T型回路網によるインピーダンス整合特性を示す図
である。横軸に周波数をとり、縦軸に伝送損失をとる。
図5は、本発明第一実施例のシミュレーション結果を示
す図である。横軸に周波数をとり、縦軸に伝送損失をと
る。図2の等価回路からわかるように、この回路はボン
ディングワイヤ3のインダクタンスと、低インピーダン
ス線路10による容量、高インピーダンス線路11によ
るインダクタンスが、図3に示すように、T型回路網を
構成しており、低インピーダンス線路10および高イン
ピーダンス線路11のインピーダンスを調整することに
より、従来例と比較して図4に示すように、通過帯域を
広くすることができる。インピーダンス調整の具体的方
法としては、図1に示す、距離d1 および距離d2 を調
整することにより行う。
し図5を参照して説明する。図2は、本発明第一実施例
の等価回路を示す図である。図3は、図2に示す等価回
路をT型回路網に置き換えた状態を示す図である。図4
は、T型回路網によるインピーダンス整合特性を示す図
である。横軸に周波数をとり、縦軸に伝送損失をとる。
図5は、本発明第一実施例のシミュレーション結果を示
す図である。横軸に周波数をとり、縦軸に伝送損失をと
る。図2の等価回路からわかるように、この回路はボン
ディングワイヤ3のインダクタンスと、低インピーダン
ス線路10による容量、高インピーダンス線路11によ
るインダクタンスが、図3に示すように、T型回路網を
構成しており、低インピーダンス線路10および高イン
ピーダンス線路11のインピーダンスを調整することに
より、従来例と比較して図4に示すように、通過帯域を
広くすることができる。インピーダンス調整の具体的方
法としては、図1に示す、距離d1 および距離d2 を調
整することにより行う。
【0016】図5はシミュレーション結果である。図5
(a)と図5(b)とでは、縦軸の目盛りが異なる。図
5(a)は、一目盛りが0.2dBであり、図5(b)
は、一目盛りが5dBである。ここでは、集積回路1の
入出力インピーダンスを50Ω、ボンディングワイヤ3
のインダクタンスを0.15nH、低インピーダンス線
路10の特性インピーダンスを35Ω、高インピーダン
ス線路11の特性インピーダンスを70Ω、インピーダ
ンス整合回路9の出力インピーダンスを50Ωとした。
(a)と図5(b)とでは、縦軸の目盛りが異なる。図
5(a)は、一目盛りが0.2dBであり、図5(b)
は、一目盛りが5dBである。ここでは、集積回路1の
入出力インピーダンスを50Ω、ボンディングワイヤ3
のインダクタンスを0.15nH、低インピーダンス線
路10の特性インピーダンスを35Ω、高インピーダン
ス線路11の特性インピーダンスを70Ω、インピーダ
ンス整合回路9の出力インピーダンスを50Ωとした。
【0017】シミュレーション結果は、1GHzから6
0GHzの広帯域にわたり、挿入損失0.4dB以下
(S21)、反射損失−10dB以下(S11)とな
り、実用に供しうる性能が得られている。
0GHzの広帯域にわたり、挿入損失0.4dB以下
(S21)、反射損失−10dB以下(S11)とな
り、実用に供しうる性能が得られている。
【0018】次に、図6を参照して本発明第二実施例を
説明する。図6は本発明第二実施例の構成図である。本
発明第二実施例において、インピーダンス整合回路9
は、絶縁膜20を介して信号電極7および接地電極8、
8′上に設けられた電極21により構成される。信号電
極7と電極21とが重なる部分が本発明第一実施例にお
ける低インピーダンス線路10を形成する。このとき信
号電極7そのものは本発明第一実施例における高インピ
ーダンス線路11とみなすことができる。したがって、
電極21の幅r1 と、信号電極7上の幅r2 とを調整す
ることにより、本発明第一実施例で示した低インピーダ
ンス線路10および高インピーダンス線路11と等価な
回路を構成することができる。
説明する。図6は本発明第二実施例の構成図である。本
発明第二実施例において、インピーダンス整合回路9
は、絶縁膜20を介して信号電極7および接地電極8、
8′上に設けられた電極21により構成される。信号電
極7と電極21とが重なる部分が本発明第一実施例にお
ける低インピーダンス線路10を形成する。このとき信
号電極7そのものは本発明第一実施例における高インピ
ーダンス線路11とみなすことができる。したがって、
電極21の幅r1 と、信号電極7上の幅r2 とを調整す
ることにより、本発明第一実施例で示した低インピーダ
ンス線路10および高インピーダンス線路11と等価な
回路を構成することができる。
【0019】次に、図7を参照して応用例を説明する。
図7は応用例を示す図である。この応用例は、インピー
ダンス整合回路9を高周波回路のフラットタイプパッケ
ージ内部の高周波電極5と外部接続端子14との間に構
成したものである。本構成により、従来は30GHz程
度が上限であったパッケージのミリ波帯域までの広帯域
化が可能になる。
図7は応用例を示す図である。この応用例は、インピー
ダンス整合回路9を高周波回路のフラットタイプパッケ
ージ内部の高周波電極5と外部接続端子14との間に構
成したものである。本構成により、従来は30GHz程
度が上限であったパッケージのミリ波帯域までの広帯域
化が可能になる。
【0020】さらに、高周波集積回路1の高周波電極5
にキャパシタが設けられているときは、インピーダンス
整合回路9は低インピーダンス線路10のみで構成する
ことができる。すなわち、高周波集積回路1側のキャパ
シタの容量とボンディングワイヤ3のインダクタンスと
からなるインピーダンスと、ボンディングワイヤ3のイ
ンダクタンスと低インピーダンス線路10の容量とから
なるインピーダンスとが等しくなるように低インピーダ
ンス線路10の容量を調整してインピーダンスを整合さ
せることができる。
にキャパシタが設けられているときは、インピーダンス
整合回路9は低インピーダンス線路10のみで構成する
ことができる。すなわち、高周波集積回路1側のキャパ
シタの容量とボンディングワイヤ3のインダクタンスと
からなるインピーダンスと、ボンディングワイヤ3のイ
ンダクタンスと低インピーダンス線路10の容量とから
なるインピーダンスとが等しくなるように低インピーダ
ンス線路10の容量を調整してインピーダンスを整合さ
せることができる。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
広帯域にわたりインピーダンス整合を行うことができる
高周波伝送線路および高周波回路を実現することができ
る。本発明によれば、高周波集積回路内にインピーダン
ス整合回路を実装することができる高周波伝送線路およ
びマイクロ波回路を実現することができる。
広帯域にわたりインピーダンス整合を行うことができる
高周波伝送線路および高周波回路を実現することができ
る。本発明によれば、高周波集積回路内にインピーダン
ス整合回路を実装することができる高周波伝送線路およ
びマイクロ波回路を実現することができる。
【図1】本発明第一実施例の高周波伝送線路の回路図。
【図2】本発明第一実施例の等価回路を示す図。
【図3】図2の等価回路をT型回路網に置き換えた状態
を示す図。
を示す図。
【図4】T型回路網によるインピーダンス整合特性を示
す図。
す図。
【図5】本発明第一実施例のシミュレーション結果を示
す図。
す図。
【図6】本発明第二実施例の構成図。
【図7】応用例の構成図。
【図8】従来の高周波集積回路と高周波伝送線路との結
合を示す図。
合を示す図。
【図9】従来の高周波集積回路と高周波伝送線路との結
合を示す図。
合を示す図。
1 高周波集積回路 2 高周波伝送線路 3 ボンディングワイヤ 4 メタルキャリア 5、6、6′高周波電極 7 信号電極 8、8′接地電極 9 インピーダンス整合回路 10 低インピーダンス線路 11 高インピーダンス線路 12 パッケージ接地電極 13 パッケージ側壁 14、15、15′外部接続端子 16 パッケージベース 17 パッケージフレーム 20 絶縁膜 21 電極
Claims (3)
- 【請求項1】 ボンディングワイヤを介して高周波集積
回路に接続される信号電極(7)と、この信号電極と同
一平面上に形成された接地電極(8、8′)とを備え、 前記信号電極は、前記ボンディングワイヤに接続される
部分が接地電位に対して低インピーダンス線路(10)
を形成し、この線路に直列的に高インピーダンス線路
(11)を構成する部分が形成されたことを特徴とする
高周波伝送線路。 - 【請求項2】 前記信号電極の両側に等しい距離を隔て
前記接地電極が設けられ、前記低インピーダンス線路
は、その両側を前記接地電極からそれぞれ距離d1 隔て
設けられたコプレーナ形の分布定数回路を形成し、前記
高インピーダンス線路は、その両側を前記接地電極から
それぞれ前記距離d1 より大きい距離d2隔て設けられ
たコプレーナ形の分布定数回路を備えた請求項1記載の
高周波伝送線路。 - 【請求項3】 請求項1または2記載の高周波伝送線路
が前記高周波集積回路と同一のパッケージ内に実装さ
れ、この高周波伝送線路が前記高周波集積回路と外部接
続端子との間に設けられたことを特徴とするマイクロ波
回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6228119A JPH0897611A (ja) | 1994-09-22 | 1994-09-22 | 高周波伝送線路およびマイクロ波回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6228119A JPH0897611A (ja) | 1994-09-22 | 1994-09-22 | 高周波伝送線路およびマイクロ波回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0897611A true JPH0897611A (ja) | 1996-04-12 |
Family
ID=16871513
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6228119A Pending JPH0897611A (ja) | 1994-09-22 | 1994-09-22 | 高周波伝送線路およびマイクロ波回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0897611A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003519925A (ja) * | 1999-12-31 | 2003-06-24 | ヘイ,インコーポレイテッド | 相互接続装置および方法 |
JP2005006031A (ja) * | 2003-06-11 | 2005-01-06 | Sony Corp | 増幅器および受信回路 |
WO2010013819A1 (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-04 | 京セラ株式会社 | 整合回路、配線基板、整合回路を備える送信器、受信器、送受信器およびレーダ装置 |
-
1994
- 1994-09-22 JP JP6228119A patent/JPH0897611A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003519925A (ja) * | 1999-12-31 | 2003-06-24 | ヘイ,インコーポレイテッド | 相互接続装置および方法 |
JP2005006031A (ja) * | 2003-06-11 | 2005-01-06 | Sony Corp | 増幅器および受信回路 |
WO2010013819A1 (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-04 | 京セラ株式会社 | 整合回路、配線基板、整合回路を備える送信器、受信器、送受信器およびレーダ装置 |
US8706050B2 (en) | 2008-07-31 | 2014-04-22 | Kyocera Corporation | Matching circuit, wiring board, and transmitter, receiver, transceiver, and radar apparatus that have the matching circuit |
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