JPH0896319A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】空隙部の対向する面とこの面の反対側の面との
間に所定の平行度が得られるとともにそれぞれの面に鏡
面が得られる磁気ヘッドおよびその製造方法を提供する
こと。 【構成】両面ラップ盤10a,10b にて、略直方体の形状を
為す一対のフェライトウエハ1,2 を両面同時に加工す
る。この加工にて、所定の平行度と平面度を得た後、フ
ェライトウエハ1,2 にトラック幅を得るための溝加工を
施し、一方のフェライトウエハ１に、さらにこの溝５が
施された面に、巻線用の溝加工を施す。この溝5,6 が施
された面にそれぞれ非磁性膜SiO2を形成した後、一対の
フェライトウエハ1,2 を溝を突き合わせるようにして、
ガラスにて接着する。この溶着されたフェライトブロッ
ク7 を所定の寸法毎に分割する。この分割されたフェラ
イトブロック9 の空隙部G を中心にして対称に円みR を
施した後、スライス加工にて磁気ヘッドチップ20A を切
り出す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドおよびこの
磁気ヘッドの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】図８に従来の製造方法による磁気ヘッド
の製造プロセスを示す。図を参照して、順を追って説明
する。予め、略直方体の形状を為す一対のフェライトウ
エハ１，２を加工治具３の上に接着材４を介し固定する
（図８−ｂ）。次に、一対のフェライトウエハ１，２の
一方の面１ａ、２ａに、片面ラップ盤１０にて研磨加工
を行い、鏡面に仕上げる（図３−ｃ）。その後，鏡面に
仕上げられた面１ａ，２ａにトラック幅を得るための溝
５の加工を施す（図８−ｄ）。さらに、一方のフェライ
トウエハ１にのみ、先の溝とほぼ直交するように巻線用
の溝６を設けるための溝加工を施す（図８−ｅ）。次
に、２酸化珪素（ＳｉＯ2 ）などの非磁性膜を付け、溝
が設けられた面に薄膜を形成する（図８−ｆ）。

【０００３】この薄膜形成工程では、溝が設けられたフ
ェライトウエハ１，２に、非磁性膜を吹き付けるなどし
て薄膜を形成し、所定の幅の空隙部を得るためのスペー
サを設けている。このスペーサは、所定の幅の空隙を正
確に得るために設けられる他、高温温度中にて行われる
次工程の接着工程におけるガラス材のフェライトウエハ
への拡散などを防止するために設けられる。

【０００４】次に、接着工程（図８−ｇ）では、所定の
トラック幅を得るために設けられた溝５および巻線用の
溝６が設けられたフェライトウエハ１と、所定のトラッ
ク幅を得るための溝５のみが設けられたフェライトウエ
ハ２とが、それぞれ溝が設けられた面を突き合わせるよ
うにして接着される。

【０００５】さらに、このフェライトブロック７から、
一方の端辺８とほぼ平行かつ巻線溝６が一つずつ含まれ
るように、小さなフェライトブロック９が切り出され、
分割される（図８−ｈ）。この分割されたフェライトブ
ロック９に、さらに円みＲが施される。この円みＲは、
所定の空隙深度Ａが得られている空隙部Ｇの表面を含む
面内にのみ、空隙部Ｇを中心としてほぼ対称になるよう
に設けられる。さらにこの分割されたフェライトブロッ
ク９から、所定のトラック幅を得るように設けられた溝
に沿って、ヘッドチップ２０が切り出される。

【０００６】しかしながら、このような製造方法では、
フェライトウエハ１，２を加工治具３に接着材４を介し
接着しているため、加工面１ａ，２ａ側の平面度は良い
がガラスにて溶着するために接着材４を除去した時のウ
エハ単体の形状は、両面の平行度、平面度が加工による
歪などで一定にならず、図９−ａに示すように凹凸、凸
凸などの量が大きくなる。これは、片側の接着層４の厚
さが均一にならず、傾きあるいは凹凸があるため（図９
−ｂ）、上下のフェライトブロックの厚さがばらつくこ
となどにより起こる。また、加工時の温度変形などの影
響もある。したがって、これらのウエハ１，２を、突き
合わせるようにして、接着する際、両側から押しきれ
ず、出来た空隙幅Ｇ１は、図１０に示すように、ばらつ
いてしまうという問題があった。なお、所望の電気特性
を得るためには、この空隙幅Ｇ１の値は、0.1 μＳ以下
の幅にに抑えることが必要となっている。ここでは図１
０に示すように0.2 μＳの幅が生じている。また、図１
１に示すように空隙部の位置精度が得られず、電気性能
が劣化するなどの問題があった。図１１は、この空隙部
Ｇの位置ずれを光学測定系（干渉測定機）にて測定した
測定例であり、干渉縞１１のずれが空隙部Ｇの位置ずれ
を示している。この図は、空隙部Ｇを上から見た図であ
り、位置ずれのない場合、空隙部Ｇの中心に干渉縞が位
置するようになっている。

【０００７】さらに、一方の片面を接着して、他方の面
にラッピングを施すため、所定の平面度および平行度が
得られず、凹凸あるいは傾きにより、両側面から圧力を
加えて接着を行う際、不要な部分に必要以上の圧力が加
わる。このため、次工程の切断などで、この加工歪によ
りひび割れ１３などが発生するという問題があった（図
１２参照）。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記の如く、一方の片
面を接着して鏡面加工を施すため、所望の平行度が得ら
れいばかりでなく、接着面側に凹凸ができ、両側面から
圧力を加えきれず、空隙部の空隙幅がばらつくという問
題があった。

【０００９】また、接着面側に凹凸ができ、両側面から
圧力を加えて接着する際、不要な部分に圧力が加わり、
これが為に、次工程の切断工程などでクラックを生じる
という問題があった。

【００１０】そこで、本発明は、上記の問題に鑑み、空
隙部の対向する面とこの面の反対側の面との間に所定の
平行度が得られるとともにそれぞれの面に鏡面が得られ
る磁気ヘッドおよびその製造方法を提供することを目的
とするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の磁気ヘ
ッドは、一対の磁性体ウエハを非磁性体を介して、突き
合わし接着してなる磁気ヘッドであって、この突き合わ
される接合面および反対側の面に鏡面加工が施されてい
ることを特徴とするものである。

【００１２】請求項２に記載の磁気ヘッドは、請求項１
記載の磁気ヘッドにおいて、鏡面加工が施された面の平
面度が0.03μｍ以下であることを特徴とするものであ
る。

【００１３】請求項３記載の磁気ヘッドは、請求項１記
載の磁気ヘッドにおいて、前記非磁性体の鏡面加工が施
された２面の平行度が0.1μｍ以下であることを特徴と
するものである。

【００１４】請求項４記載の磁気ヘッドの製造方法は、
略直方体の形状を為す一対の磁性体ウエハの両面に、所
定の平行度が得られるように、同時に鏡面加工を施すた
めの第１の工程と、第１の工程にて、鏡面加工を施され
た一対の磁性体ウエハのそれぞれ一方の面にトラック幅
を構成するための第１の溝を施すとともに、少なくとも
一方の磁性体ウエハの前記第１の溝がもうけられた面に
この溝と交差する巻線溝となる第２の溝を施す第２の工
程と、第２の工程にて、溝が設けられた一対の磁性体ウ
エハを溝が設けられた面をそれぞれ、突き合わせた際に
所定の空隙を得るため、少なくとも一方の磁性体ウエハ
に所定の厚さの非磁性膜を形成するための第３の工程
と、第２および第３の工程を経た前記一対の磁性体ウエ
ハを前記非磁性膜を介して、突き合わせて接着するため
の第４の工程と、第４の工程にて、接着された磁性体ウ
エハと磁性体ウエハから成るブロック状のヘッドブロッ
クからさらに所定の寸法毎にブロック状のヘッドブロッ
クを切り出すだめの第５の工程と、第５の工程にて、作
成されたヘッドブロックの空隙部の表面に、一方の磁性
体ウエハから他の磁性体ウエハ方向へ曲面加工を施すた
めの第６の工程と、第６の工程にて作成されたヘッドブ
ロックから所定の厚さごとにヘッドチップを切り出すた
めの第７の工程と、から成ることを特徴とするものであ
る。

【００１５】請求項５記載の磁気ヘッドの製造方法は、
略直方体の形状を為す一対の磁性体ウエハの両面に、所
定の平行度が得られるように、同時に鏡面加工を施すた
めの第１の工程と、第１の工程にて、鏡面加工を施され
た一対の磁性体ウエハのそれぞれ一方の面にトラック幅
を構成するための第１の溝を施すとともに、少なくとも
一方の磁性体ウエハの前記第１の溝がもうけられた面に
この溝と交差する巻線溝となる第２の溝を施す第２の工
程と、第２の工程にて、溝が設けられた一対の磁性体ウ
エハの面の少なくとも一方の磁性体ウエハの面に所定の
厚さの金属磁性体膜を形成する第３の工程と、第２およ
び第３の工程にて溝、金属磁性体膜が形成された一対の
磁性体ウエハをその溝、金属磁性体膜が設けられた面を
それぞれ突き合わせた際に所定の幅を持つ空隙を得るた
め、少なくとも一方の磁性体ウエハに所定の厚さの非磁
性膜を形成するための第４の工程と、第２乃至第４の工
程を経た前記一対の磁性体ウエハを前記非磁性膜を介し
て突き合わせて接着するための第５の工程と第５の工程
にて、接着された磁性体ウエハと磁性体ウエハから成る
ブロック状のヘッドブロックからさらに所定の寸法毎に
ブロック状のヘッドブロックを切り出すだめの第６の工
程と、第６の工程にて、作成されたヘッドブロックの空
隙部の表面に、一方の磁性体ウエハから他の磁性体ウエ
ハ方向に曲面加工を施すための第７の工程と、第７の工
程にて作成されたヘッドブロックから所定の厚さごとに
ヘッドチップを切り出すための第８の工程と、から成る
ことを特徴とするものである。

【００１６】

【作用】フェライトウエハを突き合わせるようにして得
られる面と、この面と反対側の面とに所定の平行度にて
鏡面が得られるため、後工程の切断あるいは溝加工など
の精度が上がり、クラックなどの発生を防止できる。

【００１７】

【実施例】実施例について図面を参照して説明する。図
１は、本発明に係る製造工程の一実施例を示す図であ
る。両面ラップ盤を用いて両面、同時に鏡面加工を施
す。ここでは、両面ラップ盤の上部の上ラップ盤１０ａ
と下部の下ラップ盤１０ｂのみを断面図にて示してあ
る。

【００１８】まず、予め、略直方体の形状に加工された
一対のフェライトウエハ１，２をフォルダなどの保持具
に固定し、両面ラップ盤の下ラップ盤１０ｂ上に配す。
この下盤１０ｂに置かれたフェライトウエハ１，２を挟
みようにして、上ラップ盤１０ａを静かに、下降させ
る。このようにしてフォルダ（図示せず）に保持された
フェライトウエハ１、２を上下ラップ盤１０ａ，１０ｂ
内に配す。上ラップ盤１０ａからの加工物（フェライト
ウエハ）１，２への圧力は、たとえば自重、油圧あるい
は空気圧により、調整できるようになっており、これに
より所定の圧力で加工物を押しつける。また、保持具に
は、たとえば、外周にギアが設けられており、このギア
とラップ盤１０ａ，１０ｂに設けられたギアとが噛み合
うようになっている。したがって、フォルダに保持され
たフェライトウエハ１，２は、自転および公転を行い、
上下ラップ盤１０ａ，１０ｂの間で、回転運動を行うよ
うになる。ラップ盤１０ａ，１０ｂの材質は、たとえ
ば、錫などが用いられ、このラップ盤１０ａ，１０ｂと
フェライトウエハ１，２の間に配される遊離砥粒（図示
せず）によりフェライトウエハの両面１ａ、１ｂ、２
ａ，２ｂが同時に研磨される。この砥粒の粒径は、仕上
げ面の粗さにより、決定されている。

【００１９】このようにして、両面１ａ，１ｂ，２ａ，
２ｂが同時に鏡面加工された一対のフェライトウエハ
１，２を得た後、次工程の溝加工に移る。まず、鏡面加
工された一方の面１ａ，２ａに、トラック幅を得るため
の溝を施す（図１−ｃ）。このようにして、ラップ盤１
０ａ，１０ｂにて鏡面仕上げを施された一対のフェライ
トウエハに溝５を施し、この溝５が設けられたフェライ
トウエハ１，２の内、一方のフェライトウエハ１を次工
程の溝加工（図１−ｄ）へ供給し、他方２を次々工程の
非磁性膜の薄膜形成工程（図１−ｅ）へ供給する。

【００２０】前工程にて、溝５が施されたフェライトウ
エハ１に、さらにこの溝工程にて先の溝５に直交するよ
うにして巻線用の溝６を施す。この巻線用の溝６は、ほ
ぼ台形の形状を為しており、空隙部Ｇの表面から所定の
深度で空隙深度Ａ（図１−ｇ参照）が得られるように加
工が施されている。

【００２１】このようにして溝５，６を設けた後、一方
のフェライトウエハ２が予め供給された薄膜形成工程
（図１−ｅ）へ、この溝が設けられたフェライトウエハ
１を供給して、非磁性体ＳｉＯ2 の薄膜の形成を行う。

【００２２】この薄膜形成工程（図１−ｅ）では、溝
５，６が設けられたフェライトウエハ１，２に、非磁性
膜（ＳｉＯ2 ）を吹き付けるなどして薄膜を形成し、所
定の幅Ｇ１の空隙部を得るためのスペーサを設ける。こ
のスペーサは、空隙幅Ｇ１を正確に得るために設けられ
る他、高温温度中にて行われる次工程の接着工程におけ
るガラス材のフェライトへの拡散などを防止するために
設けられる。

【００２３】次に、接着工程（図１−ｆ）では、所定の
トラック幅を得るための溝５および巻線用の溝６が設け
られたフェライトウエハ１と、所定のトラック幅を得る
ための溝のみが設けられたフェライトウエハ２とが、溝
５，６が設けられた面を突き合わせるようにして接着さ
れる。

【００２４】さらに、このフェライトブロック７から、
一方の端辺とほぼ平行かつ巻線溝６が一つずつ含まれる
ように、小さなフェライトブロック９が切り出され、分
割される（図１−ｇ）。この分割されたフェライトブロ
ック９に、さらに円みＲが施される（図１−ｈ）。この
円みＲは、所定の空隙深度Ａが得られている空隙部Ｇの
表面を含む面内にのみ、空隙部Ｇを中心としてほぼ対称
になるように設けられる。

【００２５】さらにこの分割されたフェライトブロック
９から、所定のトラック幅を得るため、設けられた溝に
沿って、磁気ヘッドチップ２０Ａが切り出される。この
ヘッドチップ２０Ａを基準治具（図示せず）を用いて、
ベース板５０に接着して、磁気ヘッドアッセンブリを得
る。

【００２６】図１の作用を図２、図３、図４を用いて説
明する。両面ラップ盤１０ａ，１０ｂにより、両面を同
時に加工することにより、0.1μｍの良好な平行度が得
られる。また、良好な平面度も0.03μｍ以下で得られ
る。したがって、これらを溝を突き合わせるようにして
接着する際、両側から圧力を均等に加えることが可能と
なり、図１０に比べ、空隙幅Ｇ１を図２に示すように制
御できるようになる。

【００２７】本発明により得られた磁気ヘッドの空隙幅
Ｇの測定結果を図２に示す。図２に示すように、0.5 μ
ｍの空隙幅の仕様値を中心にして、ほとんどの磁気ヘッ
ドが0.05μｍ以内の幅に収まるようになる。したがっ
て、高い歩留まりが得られ、磁気ヘッド２０Ａの不良率
が小さくなる。また、従来例で測定した干渉縞１１の測
定と同様の測定を本発明による製造方法により製造した
磁気ヘッド２０にて行った結果を図３に示す。フェライ
トウエハ１，２の厚みも均一に得られているため、空隙
部Ｇの位置精度も得られ、空隙中心に干渉縞１１Ａが得
られている。したがって、左右の磁路の不均一性もなく
なり、所望の電気性能が得られるほか、このヘッドチッ
プ２０Ａをベース板２０へ組み込む場合などの組立時に
起こる取付の誤差もほとんどなくなる。この模様を干渉
縞１１Ａのずれ量ｄのばらつきにて図４に示す。なお、
ずれ量ｄは、空隙Ｇの中心位置Ｃからのずれを示してい
る。このようにして、所定の平行度および平面度が得ら
れるため、空隙幅、トラック幅、チップ形状の均一化が
図れ、寸法の揃った磁気ヘッド２０Ａが得られる。図５
に他の実施例を示す。この実施例では、高い記録能力を
得るために、磁性体の上に金属磁性膜３２を付けた複合
ヘッドを例に挙げている。両面の加工は図１と同様であ
る。

【００２８】このような複合ヘッド２０Ｂでは、トラッ
ク幅ＴＷに厳しい寸法精度が要求されるため、ブレード
（歯）３１を用いた、精密な溝加工が行われる（図５−
ｂ’）。この溝は、後工程で施される金属磁性体がはが
れないように、緩やかな傾斜を持つように溝の端部が加
工される。ここでは、ほぼ９０度の角度を持つくさび状
の溝を設けている（図５−ｂ”）。このくさび状の溝が
設けられた面に、金属磁性体を吹き付け、所定の磁性膜
を得ている（図５−ｃ）。

【００２９】巻線用の溝６は、図１と同様に設けられて
おり、これらの溝５，６が施された面を突き合わせるよ
うにしてフェライトウエハ１，２同士を溶着する。さら
に溶着されたフェライトブロック７Ｂから、図１と同様
に、小さなフェライトブロック９Ｂを得た後、円みＲを
施す。そして、このフェライトブロック９Ｂをスライス
して、磁気ヘッド２０Ｂを得る。

【００３０】このように、鏡面を構成することにより、
ブレード３１にて加工を施してもひび割れの発生がなく
なり、精密な溝加工ができるようなる。図６にトラック
幅のばらつきの分布を示す。このように、良好な平面度
および平行度が得られるため、トラック幅ＴＷも寸法が
揃うようになる。

【００３１】また、本実施例では、両面ラップ盤１０
ａ，１０ｂを用いているため、加工治具が必要なくなる
ほか、平面度および平行度が得られているため、図５−
ｂ’に示すように真空チャック３０にてフェライトウエ
ハ１，２を固定し、容易に精密な加工を施すことができ
る。

【００３２】なお、図７に平面度によるひび割れ発生状
態を、遊離砥粒の粒径を変えた場合について示す。この
ことからも、砥粒の粒径を直径1 μｍ以下として鏡面を
仕上げることにより、ひび割れの発生がほとんどなくな
ることが判る。

【００３３】また、砥粒の粒径を直径１μＳ以下とする
ことにより、平面度が０．３μｍ以下になることが計算
および実験結果からも得られている。したがって、０．
３μｍ以下の平面度を得ることにより、ひび割れの発生
は、ほとんどなくなる。

【００３４】

【発明の効果】本発明によれば、高い平行度および鏡面
精度が得られるため、加工精度が上がり、ひび割れなど
の不具合の発生を防止できる。また、複数の磁気ヘッド
を製造してもほとんど揃った寸法にて、磁気ヘッドを得
ることができる。

【００３５】また、鏡面の精度が得られているため、容
易にブレードにて精密な加工ができるという効果もあ
る。

【００３６】さらに、空隙幅の制御が均一にできるた
め、記録・再生などの電気性能が向上するという効果も
ある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す製造工程図である。

【図２】図１の製造方法により製造した複数の磁気ヘッ
ドの空隙幅の測定結果である。

【図３】図１の製造方法により製造した磁気ヘッドにお
ける空隙位置のずれを測定した例である。

【図４】図１の製造方法により製造した複数の磁気ヘッ
ドにおける空隙位置のずれを測定した測定結果である。

【図５】本発明の他の実施例を示す工程図である。

【図６】図５の製造方法により製造された複数の磁気ヘ
ッドのトラック幅を測定した結果である。

【図７】図１および図５で用いられるラップ盤の遊離砥
粒の粒径とクラックの発生率を示す図である。

【図８】従来の磁気ヘッドの製造方法を示す製造工程図
である。

【図９】従来の製造方法でのフェライトウエハの形状を
示す図である。

【図１０】図８の製造方法で製造された複数の磁気ヘッ
ドの空隙幅の測定結果である。

【図１１】図８の空隙位置のずれ量を測定した測定例で
ある。

【図１２】図８の製造方法にて製造された磁気ヘッドの
不具合を示す図である。

【符号の説明】 １，２…フェライトウエハ １０ａ，１０ｂ…上下ラップ盤 ２０，２０Ａ，２０Ｂ…磁気ヘッド

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一対の磁性体ウエハを非磁性体を介して、
   突き合わし接着してなる磁気ヘッドであって、この突き
   合わされる接合面およびこの接合面と反対側の面に鏡面
   加工が施されていることを特徴とする磁気ヘッド。
2. 【請求項２】鏡面加工が施された面の平面度が0.03μｍ
   以下であることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッ
   ド
3. 【請求項３】前記非磁性体の鏡面加工が施された２面の
   平行度が0.1 μｍ以下であることを特徴とする請求項１
   に記載の磁気ヘッド
4. 【請求項４】略直方体の形状を為す一対の磁性体ウエハ
   の両面に、所定の平行度が得られるように、同時に鏡面
   加工を施すための第１の工程と、 第１の工程にて、鏡面加工を施された一対の磁性体ウエ
   ハのそれぞれ一方の面にトラック幅を構成するための第
   １の溝を施すとともに、少なくとも一方の磁性体ウエハ
   の前記第１の溝がもうけられた面にこの溝と交差する巻
   線溝となる第２の溝を施す第２の工程と、 第２の工程にて、溝が設けられた一対の磁性体ウエハを
   溝が設けられた面をそれぞれ、突き合わせた際に所定の
   空隙を得るため、少なくとも一方の磁性体ウエハに所定
   の厚さの非磁性膜を形成するための第３の工程と、 第２および第３の工程を経た前記一対の磁性体ウエハを
   前記非磁性膜を介して、突き合わせて接着するための第
   ４の工程と、 第４の工程にて、接着された磁性体ウエハと磁性体ウエ
   ハから成るブロック状のヘッドブロックからさらに所定
   の寸法毎にブロック状のヘッドブロックを切り出すだめ
   の第５の工程と、 第５の工程にて、作成されたヘッドブロックの空隙部の
   表面に、一方の磁性体ウエハから他の磁性体ウエハ方向
   に曲面加工を施すための第６の工程と、 第６の工程にて作成されたヘッドブロックから所定の厚
   さごとにヘッドチップを切り出すための第７の工程と、 から成る磁気ヘッドの製造方法。
5. 【請求項５】略直方体の形状を為す一対の磁性体ウエハ
   の両面に、所定の平行度が得られるように、同時に鏡面
   加工を施すための第１の工程と、 第１の工程にて、鏡面加工を施された一対の磁性体ウエ
   ハのそれぞれ一方の面にトラック幅を構成するための第
   １の溝を施すとともに、少なくとも一方の磁性体ウエハ
   の前記第１の溝がもうけられた面にこの溝と交差する巻
   線溝となる第２の溝を施す第２の工程と、 第２の工程にて、溝が設けられた一対の磁性体ウエハの
   面の少なくとも一方の磁性体ウエハの面に所定の厚さの
   金属磁性体膜を形成する第３の工程と、 第２および第３の工程にて溝、金属磁性体膜が形成され
   た一対の磁性体ウエハをその溝、金属磁性体膜が設けら
   れた面をそれぞれ突き合わせた際に所定の幅を持つ空隙
   を得るため、少なくとも一方の磁性体ウエハに所定の厚
   さの非磁性膜を形成するための第４の工程と、 第２乃至第４の工程を経た前記一対の磁性体ウエハを前
   記非磁性膜を介して突き合わせて接着するための第５の
   工程と第５の工程にて、接着された磁性体ウエハと磁性
   体ウエハから成るブロック状のヘッドブロックからさら
   に所定の寸法毎にブロック状のヘッドブロックを切り出
   すだめの第６の工程と、 第６の工程にて、作成されたヘッドブロックの空隙部の
   表面に、一方の磁性体ウエハから他の磁性体ウエハ方向
   に曲面加工を施すための第７の工程と、 第７の工程にて作成されたヘッドブロックから所定の厚
   さごとにヘッドチップを切り出すための第８の工程と、 から成る磁気ヘッドの製造方法。