JPH089527B2 - 抗炎症性化粧料 - Google Patents
抗炎症性化粧料Info
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- JPH089527B2 JPH089527B2 JP61280667A JP28066786A JPH089527B2 JP H089527 B2 JPH089527 B2 JP H089527B2 JP 61280667 A JP61280667 A JP 61280667A JP 28066786 A JP28066786 A JP 28066786A JP H089527 B2 JPH089527 B2 JP H089527B2
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- Japan
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- acid
- ester
- general formula
- cosmetic
- cholesterol
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Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/63—Steroids; Derivatives thereof
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Cosmetics (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Steroid Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (a)産業上の利用分野 本発明は特に日光皮膚炎に対し、抗炎症作用を有する
化粧料に関する。
化粧料に関する。
(b)従来の技術 太陽光線中に含まれる紫外線は、これを浴びることに
より生体の皮膚に対し一般に紅斑と呼ばれる直接障害を
引き起こすことがよく知られている。
より生体の皮膚に対し一般に紅斑と呼ばれる直接障害を
引き起こすことがよく知られている。
この場合、紅斑の他にも熱感、かゆみ、時には小水疱
の形成といった症状が見られ、これらの症状の回復後も
色素沈着を残し、結果として皮膚の老化を促進する。
の形成といった症状が見られ、これらの症状の回復後も
色素沈着を残し、結果として皮膚の老化を促進する。
こうした日光皮膚炎に対しては、従来種々の紫外線吸
収剤が使用されているが、炎症自体の抑制に硬化のある
ものはなかった。
収剤が使用されているが、炎症自体の抑制に硬化のある
ものはなかった。
(c)発明が解決しようとする問題点 以上のようにこれまで日光皮膚炎に対して炎症そのも
のを抑制するための化粧料は見出されていない。
のを抑制するための化粧料は見出されていない。
本発明の目的は、日光皮膚炎に対し効果的な抗炎症作
用を有する化粧料を提供することにある。
用を有する化粧料を提供することにある。
(d)問題点を解決するための手段 本発明者らは一般式 (式中Rは水素原子またはメチル基、nは1または2の
数を示す。)で表わされるケイ皮酸誘導体とコレステロ
ールとのエステル化合物が化粧料中の抗炎症性物質とし
て極めて適していることを見出した。特に重要なことは
上記の化合物が太陽光線中に含まれる紫外線領域の光に
より誘発される紅斑、炎症の抑制あるいは防止に顕著な
効果を示す点である。
数を示す。)で表わされるケイ皮酸誘導体とコレステロ
ールとのエステル化合物が化粧料中の抗炎症性物質とし
て極めて適していることを見出した。特に重要なことは
上記の化合物が太陽光線中に含まれる紫外線領域の光に
より誘発される紅斑、炎症の抑制あるいは防止に顕著な
効果を示す点である。
本発明はかかる知見に基づいて完成されたもので、抗
炎症性物質として前記の一般式(I)の化合物を含有し
てなる化粧料である。
炎症性物質として前記の一般式(I)の化合物を含有し
てなる化粧料である。
一般式(I)の化合物は常法により製造することがで
きる。即ち、例べあ対応するケイ皮酸とコレステロール
を硫酸、P−トルエンスルホン酸等の存在下生成する水
をベンゼン、トルエン等で共沸的に除去することで製造
する。
きる。即ち、例べあ対応するケイ皮酸とコレステロール
を硫酸、P−トルエンスルホン酸等の存在下生成する水
をベンゼン、トルエン等で共沸的に除去することで製造
する。
本発明において使用される化合物を例示すれば、O−
ヒドロキシケイ皮酸、P−ヒドロキシケイ皮酸、O−メ
トキシケイ皮酸、P−メトキシケイ皮酸、3,4−ジヒド
ロキシケイ酸、3,4−ジメトキシケイ皮酸などのコレス
テロールエステル等があげられるが、特にP−ヒドロキ
シ皮酸および3,4−ジヒドロキシケイ皮酸のコレステロ
ールエステルが入手しやすく効果が大きい。
ヒドロキシケイ皮酸、P−ヒドロキシケイ皮酸、O−メ
トキシケイ皮酸、P−メトキシケイ皮酸、3,4−ジヒド
ロキシケイ酸、3,4−ジメトキシケイ皮酸などのコレス
テロールエステル等があげられるが、特にP−ヒドロキ
シ皮酸および3,4−ジヒドロキシケイ皮酸のコレステロ
ールエステルが入手しやすく効果が大きい。
本発明の化粧料においては、前記の化合物を液状、ペ
ースト状又は固型状の化粧料たとえば水性懸濁液、乳
液、有機溶剤による溶液、オイル、軟膏、クリーム、ス
ティック又は粉末に混合、加工することができ、その全
量に対し0.1〜10重量%好ましくは0.1〜5重量%の量で
使用する。前記の化合物は、紫外線中特に有害とされる
300nm付近のUV−B領域に一定の吸収(特にP−ヒドロ
キシケイ皮酸エステル、P−メトキシケイ皮酸エステル
は、300〜320nmの領域で強く吸収する。)を示すので、
抗炎症剤だけでなく、同時に紫外線防御剤として予防的
に使用することもできる。
ースト状又は固型状の化粧料たとえば水性懸濁液、乳
液、有機溶剤による溶液、オイル、軟膏、クリーム、ス
ティック又は粉末に混合、加工することができ、その全
量に対し0.1〜10重量%好ましくは0.1〜5重量%の量で
使用する。前記の化合物は、紫外線中特に有害とされる
300nm付近のUV−B領域に一定の吸収(特にP−ヒドロ
キシケイ皮酸エステル、P−メトキシケイ皮酸エステル
は、300〜320nmの領域で強く吸収する。)を示すので、
抗炎症剤だけでなく、同時に紫外線防御剤として予防的
に使用することもできる。
このような場合は前記の化合物を単独で、又は好まし
くは慣用の紫外線防御物質と一緒に使用する。例えば、
P−ジメチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキシルエス
テル、P−ジエチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキシ
ルエステル、サリチル酸−2−エチルエキシルエステ
ル、2−2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェ
ノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、
ウロカニン酸等との併用が望ましい。
くは慣用の紫外線防御物質と一緒に使用する。例えば、
P−ジメチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキシルエス
テル、P−ジエチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキシ
ルエステル、サリチル酸−2−エチルエキシルエステ
ル、2−2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェ
ノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、
ウロカニン酸等との併用が望ましい。
このように紫外線防御物質として使用する場合には、
製品全量に対して1〜10重量%、好ましくは2〜6重量
%を用いる。
製品全量に対して1〜10重量%、好ましくは2〜6重量
%を用いる。
次に本発明により使用しうる化合物の抗炎症性をテス
トした結果を示す。
トした結果を示す。
無毛マウスの背にUVランプにより60cmの距離で30分間
照射し、それによって皮膚に炎症を生じせしめる。この
マウスを2群に分け、実験区には試験物質を5%添加し
たワセリンを照射部位に塗布し、基準区には何も塗布し
ない。30時間後に実験区の皮膚しわの厚みを基準区の皮
膚しわの厚みと比較して炎症の抑制の度合を百分率で示
す。その結果を試験物質の吸光度と共に表−1に記載す
る。
照射し、それによって皮膚に炎症を生じせしめる。この
マウスを2群に分け、実験区には試験物質を5%添加し
たワセリンを照射部位に塗布し、基準区には何も塗布し
ない。30時間後に実験区の皮膚しわの厚みを基準区の皮
膚しわの厚みと比較して炎症の抑制の度合を百分率で示
す。その結果を試験物質の吸光度と共に表−1に記載す
る。
(e)実施例 実施例1 3,4−ジヒドロキシケイ皮酸コレステロールエステル2
0g、及びサリチル酸−2−エチルヘキシルエステル30g
を加熱下、パラフィンオイル100g中で微細に懸濁化し、
約25℃でレシチン含有植物油300g、オリーブ油400g、イ
ソプロピルミリステート100g及びパーセリン油100gを緊
密に混合して化粧用オイルを得る。
0g、及びサリチル酸−2−エチルヘキシルエステル30g
を加熱下、パラフィンオイル100g中で微細に懸濁化し、
約25℃でレシチン含有植物油300g、オリーブ油400g、イ
ソプロピルミリステート100g及びパーセリン油100gを緊
密に混合して化粧用オイルを得る。
実施例2 グリセリンモノステアラート40g、ミツロウ160g、流
動パラフィン420g、セレシン50g、コレステロール、ミ
ツロウ、ステアリルアルコールおよびワセリンを基体と
する吸収基剤50g、P−メトキシケイ皮酸コレステロー
ルエステル40g及び3,4−ジヒドロキシケイ皮酸コレステ
ロールエステル30gを65℃で溶融する。これに精製水250
gを激しく撹拌しながら混合し、得られたクリームを室
温に達するまで更に撹拌して化粧用クリームを得る。
動パラフィン420g、セレシン50g、コレステロール、ミ
ツロウ、ステアリルアルコールおよびワセリンを基体と
する吸収基剤50g、P−メトキシケイ皮酸コレステロー
ルエステル40g及び3,4−ジヒドロキシケイ皮酸コレステ
ロールエステル30gを65℃で溶融する。これに精製水250
gを激しく撹拌しながら混合し、得られたクリームを室
温に達するまで更に撹拌して化粧用クリームを得る。
実施例3 P−ヒドロキシケイ皮酸コレステロールエステル40g
を粉末混合器中でタルク300g、カオリン60g、沈降炭酸
カルシウム25g、酸化亜鉛50g、ステアリン酸マグネシウ
ム25gと共に均一に分散させて化粧用パウダーを得る。
を粉末混合器中でタルク300g、カオリン60g、沈降炭酸
カルシウム25g、酸化亜鉛50g、ステアリン酸マグネシウ
ム25gと共に均一に分散させて化粧用パウダーを得る。
(f)発明の効果 本発明の化粧料は、日光皮膚炎による紅斑、炎症等に
対して顕著な抑制乃至防止効果を発揮する。また、紫外
線中の有害とされる波長領域を吸収するので紫外線防御
効果にも優れている。
対して顕著な抑制乃至防止効果を発揮する。また、紫外
線中の有害とされる波長領域を吸収するので紫外線防御
効果にも優れている。
Claims (8)
- 【請求項1】抗炎症性物質として下記の一般式(I) (式中Rは水素原子またはメチル基、nは1または2の
数を示す。)で表わされるケイ皮酸誘導体とコレステロ
ールとのエステル化合物を含有してなる化粧料。 - 【請求項2】一般式(I)においてnが1、Rが水素原
子である特許請求の範囲第1項記載の化粧料。 - 【請求項3】一般式(I)においてnが1、Rがメチル
基である特許請求の範囲第1項記載の化粧料。 - 【請求項4】一般式(I)においてnが2、Rが水素原
子である特許請求の範囲第1項記載の化粧料。 - 【請求項5】一般式(I)で表わされる化合物がP−ヒ
ドロキシケイ皮酸コレステロールエステルである特許請
求の範囲第1項記載の化粧料。 - 【請求項6】一般式(I)で表わされる化合物がP−メ
トキシケイ皮酸コレステロールエステルである特許請求
の範囲第1項記載の化粧料。 - 【請求項7】一般式(I)で表わされる化合物が3,4−
ジヒドロケイ皮酸コレステロールエステルである特許請
求の範囲第1項記載の化粧料。 - 【請求項8】P−ジメイルアミノ安息香酸−2−エチル
ヘキシルエステル、P−ジエチルアミノ安息香酸−2−
エチルヘキシルエステル、サリチル酸−2−エチルヘキ
シルエステル、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベ
ンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフ
ェノンおよびウロカニン酸からなる群から選ばれる紫外
線防御物質を含有してなる特許請求の範囲第1項乃至第
7項のいずれかに記載の化粧料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61280667A JPH089527B2 (ja) | 1986-11-27 | 1986-11-27 | 抗炎症性化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61280667A JPH089527B2 (ja) | 1986-11-27 | 1986-11-27 | 抗炎症性化粧料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63135324A JPS63135324A (ja) | 1988-06-07 |
JPH089527B2 true JPH089527B2 (ja) | 1996-01-31 |
Family
ID=17628255
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61280667A Expired - Fee Related JPH089527B2 (ja) | 1986-11-27 | 1986-11-27 | 抗炎症性化粧料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH089527B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2653336B1 (fr) * | 1989-10-20 | 1994-04-08 | Oreal | Composition pharmaceutique et cosmetiques depigmentantes a base d'acide cafeique. |
US10143642B2 (en) | 2013-12-30 | 2018-12-04 | Conopco, Inc. | Sunscreen molecule and compositions thereof |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56161315A (en) * | 1980-05-16 | 1981-12-11 | Ichimaru Boeki Kk | Oil-soluble skin anatriptic of ferulic ester |
JPH0655664B2 (ja) * | 1985-11-19 | 1994-07-27 | ポーラ化成工業株式会社 | 美肌化粧料 |
-
1986
- 1986-11-27 JP JP61280667A patent/JPH089527B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63135324A (ja) | 1988-06-07 |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
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