JPH0895014A

JPH0895014A - 液晶表示パネル

Info

Publication number: JPH0895014A
Application number: JP6227042A
Authority: JP
Inventors: Kotaro Yoneda; 公太郎米田; Masatoshi Itasaka; 昌俊板坂
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1994-09-21
Filing date: 1994-09-21
Publication date: 1996-04-12

Abstract

(57)【要約】【目的】外光の反射による表示のコントラストの低下
を軽減する。【構成】アクティブマトリクスを構成する薄膜トラン
ジスタ（ＴＦＴ）１と画素電極２は回路基板１０側のガ
ラス基板３の上面に形成される。この回路基板１０に対
向して共通電極基板２０が設けられる。そしてこの共通
電極基板２０には、ガラス基板４の下面に共通の対向電
極となる透明電極膜５が形成されると共に、上述の薄膜
トランジスタ１等の回路素子に対応する部分に遮光層６
が形成される。そして本発明においては、この遮光層６
の少なくとも外光が入射される側の表面が低反射率の酸
化クロム９で形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶を用いて例えば映
像信号の表示を行う際に使用される液晶表示パネルに関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶を用いて例えば映像信号の表示を行
う際に使用される液晶表示パネルは、例えば図３に示す
ように構成されている。

【０００３】図３において、アクティブマトリクスを構
成する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１と画素電極２は回
路基板１０側のガラス基板３の上面に形成される。この
回路基板１０に対向して共通電極基板２０が設けられ
る。そしてこの共通電極基板２０には、ガラス基板４の
下面に共通の対向電極となる透明電極膜５が形成される
と共に、上述の薄膜トランジスタ１等の回路素子に対応
する部分に遮光層６が形成される。

【０００４】すなわち上述の薄膜トランジスタ１等の回
路素子は、例えば強い外光が照射されると、回路素子が
誤動作を起こす恐れがある。このため上述の液晶表示パ
ネルにおいては、薄膜トランジスタ１等の回路素子に対
応する部分に遮光層６を設けて、外光が薄膜トランジス
タ１等の回路素子に照射されないようにしている。なお
図３は説明の都合上、上下に拡大して描いたもので、実
際の装置では回路基板１０と共通電極基板２０は極めて
密着して配置されるものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが上述の液晶表
示パネルにおいて、従来は遮光層６には通常クロム等の
金属が用いられていた。そこで遮光層６にクロムを用い
た場合には、クロムの反射率が高いために、外光をその
まま表示方向に反射してしまい、このため表示のコント
ラストが著しく低下してしまうという問題が発生した。

【０００６】一方、上述の液晶表示パネルを製作する場
合に、回路基板１０と共通電極基板２０とはそれぞれ別
体に作成され、その後に位置合わせをしながら接合する
ようにされている。その場合に、位置合わせをするため
のアライメントマークは、例えば共通電極基板２０で
は、遮光層６と同じクロム等の金属を用いて、遮光層６
の形成と同一の工程で形成するようにされている。

【０００７】このため例えば共通電極基板２０では、ア
ライメントマークは図４のＡに示すように、透明なガラ
ス基板４に一部に例えば十字形のクロム等の金属からな
るアライメントマーク７が形成される。これに対して回
路基板１０では、図４のＢに示すように上述のガラス基
板３に一部にクロムあるいはアルミニューム等の金属面
が形成され、この金属面の中に例えば十字形のアライメ
ントマーク８が金属面を除去して形成される。

【０００８】そして図４のＣに示すように、アライメン
トマーク７、８が重なるように回路基板１０と共通電極
基板２０との位置合わせが行われ、この位置合わせの行
われた状態で回路基板１０と共通電極基板２０とが接合
される。従ってこれらのアライメントマーク７、８は、
互いにコントラストが付く必要があり、従来は上述のよ
うにクロム等の金属からなるアライメントマーク７と金
属面を除去して形成されたアライメントマーク８を用い
て位置合わせが行われていた。

【０００９】この出願はこのような点に鑑みて成された
ものであって、解決しようとする問題点は、従来は遮光
層にクロム等の金属が用いられており、このクロムには
光沢があるために、外光をそのまま表示方向に反射して
表示のコントラストが著しく低下してしまっていた。ま
た共通電極基板のアライメントマークはこの遮光層と同
一の工程で形成されており、このアライメントマークと
回路基板のアライメントマークのコントラストを付ける
必要があるというものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明による第１の手段
は、回路及び画素電極の設けられる回路基板１０に対向
して共通電極基板２０の設けられる液晶表示パネルにお
いて、上記共通電極基板には、上記回路基板の回路素子
への外光の入射を遮断する遮光層６が設けられると共
に、この遮光層の少なくとも上記外光が入射される側の
表面を低反射率の酸化クロム９で形成したことを特徴と
する液晶表示パネルである。

【００１１】本発明による第２の手段は、第１の手段記
載の液晶表示パネルにおいて、上記酸化クロムで上記共
通電極基板の位置合わせのための一方のマーク７０を形
成すると共に、上記回路基板には反射率の高い金属で上
記位置合わせのための他方のマーク８０を形成したこと
を特徴とする液晶表示パネルである。

【００１２】本発明による第３の手段は、第１の手段記
載の液晶表示パネルにおいて、上記遮光層は、酸化クロ
ムのターゲットを用いてスパッタまたは酸化クロムを蒸
着して形成されたものであることを特徴とする液晶表示
パネルである。

【００１３】本発明による第４の手段は、第１の手段記
載の液晶表示パネルにおいて、上記遮光層は、クロムの
ターゲットを用いてスパッタまたはクロムを蒸着すると
共に、酸素ガスを所定の流量及び圧力で供給して酸化反
応を行い、酸化クロム層として形成されたものであるこ
とを特徴とする液晶表示パネルである。

【００１４】

【作用】これによれば、遮光層の少なくとも外光が入射
される側の表面を低反射率の酸化クロムで形成したこと
により、外光の反射による表示のコントラストの低下が
軽減され、屋外等の強い外光の下でも良好な表示を行う
ことができる。

【００１５】また、酸化クロムで共通電極基板の位置合
わせのための一方のマークを形成すると共に、回路基板
には反射率の高い金属で位置合わせのための他方のマー
クを形成したことにより、これらのマークのコントラス
トが充分に得られ、良好な位置合わせを行うことができ
る。

【００１６】

【実施例】図１において、アクティブマトリクスを構成
する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１と画素電極２は回路
基板１０側のガラス基板３の上面に形成される。この回
路基板１０に対向して共通電極基板２０が設けられる。
そしてこの共通電極基板２０には、ガラス基板４の下面
に共通の対向電極となる透明電極膜５が形成されると共
に、上述の薄膜トランジスタ１等の回路素子に対応する
部分に遮光層６が形成される。

【００１７】そして本発明においては、この遮光層６の
少なくとも外光が入射される側の表面が低反射率の酸化
クロム９で形成される。ここで酸化クロム９の形成は、
例えば酸化クロムをターゲットとしてスパッタによって
形成するか、または酸化クロムを蒸着して形成すること
ができる。

【００１８】あるいは、クロムをターゲットとしてスパ
ッタによって形成するか、またはクロムを蒸着して形成
すると共に、同時に酸素ガスを所定の流量及び圧力で供
給して酸化反応を行い、酸化クロム層として形成するこ
とができる。

【００１９】このようにして、遮光層６の少なくとも外
光が入射される側の表面が低反射率の酸化クロム９で形
成される。なお、形成される膜厚の例としては、例えば
酸化クロムの厚さを約３００Å、ピュアクロムの厚さを
約１２００Åとすることによって、外光が入射される側
の表面が低反射率で良好な遮光層６が形成される。

【００２０】そしてこの場合に、形成される酸化クロム
は、例えばＣｒ₂Ｏ₃では暗緑色を呈する。またＣｒＯ
₂では黒色を呈する。さらにＣｒ₅Ｏ₁₂では黒色を呈す
る。またＣｒ₂Ｏ₅では黒色を呈する。さらにＣｒＯ₃
では暗紫色を呈する。さらにＣｒＯ₅では青色を呈す
る。

【００２１】従ってこれらの酸化クロムを、遮光層６の
少なくとも外光が入射される側の表面に形成することに
よって、低反射率の酸化クロム９の設けられた遮光層６
が形成される。

【００２２】こうして上述の装置によれば、遮光層の少
なくとも外光が入射される側の表面を低反射率の酸化ク
ロムで形成したことにより、外光の反射による表示のコ
ントラストの低下が軽減され、屋外等の強い外光の下で
も良好な表示を行うことができるものである。

【００２３】また上述の装置によれば、パネル内やガラ
ス基板内での多重反射が低減され、この多重反射された
光によるアクティブマトリクスを構成する薄膜トランジ
スタ等の回路素子に対する影響が軽減される。さらに、
ガラス基板と接する面をクロムから酸化クロムに変えた
ことによって、遮光層自身の内部応力が減少され、ガラ
ス基板へのストレスを減少させることができる。

【００２４】さらに上述の装置において、共通電極基板
２０のアライメントマークは上述の酸化クロムで形成さ
れる。従ってこの酸化クロムによるアライメントマーク
７０は、図２のＡに示すように、透明なガラス基板４に
低反射率の酸化クロムによる十字形が形成される。

【００２５】そこでこのような低反射率の酸化クロムに
よるアライメントマーク７０を用いる場合に、例えば図
２のＢに示すような、従来と同様の回路基板２０のガラ
ス基板３上の金属面を除去して形成されたアライメント
マーク８に対しては、コントラストの差が小さく、これ
らを用いて位置合わせを行うことは困難である。

【００２６】これに対して本発明では、図２のＣに示す
ように、回路基板２０のガラス基板３の一部に形成され
た金属面のそのものを用いてアライメントマーク８０を
形成する。すなわち例えば十字形の周囲の金属面を僅か
に除去して、金属面のそのものを用いて十字形のアライ
メントマーク８０が形成されるようにする。

【００２７】従ってこのようなアライメントマーク７
０、８０を用いた場合には、図２のＤに示すようにこれ
らのコントラストが充分に得られ、これらのアライメン
トマーク７０、８０を用いて良好な位置合わせを行うこ
とができる。

【００２８】こうして酸化クロムで共通電極基板の位置
合わせのための一方のマークを形成すると共に、回路基
板には反射率の高い金属で位置合わせのための他方のマ
ークを形成したことにより、これらのマークのコントラ
ストが充分に得られ、良好な位置合わせを行うことがで
きるものである。

【００２９】なお、上述の説明でアライメントマーク７
０、８０の形状は上述の十字形には限られない。また、
アライメントマーク８０の形成は、形成時のマスクを変
えるだけで従来と同一の工程で形成することができる。

【００３０】

【発明の効果】この発明によれば、遮光層の少なくとも
外光が入射される側の表面を低反射率の酸化クロムで形
成したことにより、外光の反射による表示のコントラス
トの低下が軽減され、屋外等の強い外光の下でも良好な
表示を行うことができるようになった。

【００３１】また、酸化クロムで共通電極基板の位置合
わせのための一方のマークを形成すると共に、回路基板
には反射率の高い金属で位置合わせのための他方のマー
クを形成したことにより、これらのマークのコントラス
トが充分に得られ、良好な位置合わせを行うことができ
るようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による液晶表示パネルの一例の構成図で
ある。

【図２】その説明のための図である。

【図３】従来の液晶表示パネルの構成図である。

【図４】その説明のための図である。

【符号の説明】

１０回路基板２０共通電極基板１薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）２画素電極３、４ガラス基板５透明電極膜６遮光層９酸化クロム７０、８０アライメントマーク

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】回路及び画素電極の設けられる回路基板
に対向して共通電極基板の設けられる液晶表示パネルに
おいて、上記共通電極基板には、上記回路基板の回路素子への外
光の入射を遮断する遮光層が設けられると共に、この遮光層の少なくとも上記外光が入射される側の表面
を低反射率の酸化クロムで形成したことを特徴とする液
晶表示パネル。
【請求項２】請求項１記載の液晶表示パネルにおい
て、上記酸化クロムで上記共通電極基板の位置合わせのため
の一方のマークを形成すると共に、上記回路基板には反
射率の高い金属で上記位置合わせのための他方のマーク
を形成したことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項３】請求項１記載の液晶表示パネルにおい
て、上記遮光層は、酸化クロムのターゲットを用いてスパッ
タまたは酸化クロムを蒸着して形成されたものであるこ
とを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項４】請求項１記載の液晶表示パネルにおい
て、上記遮光層は、クロムのターゲットを用いてスパッタま
たはクロムを蒸着すると共に、酸素ガスを所定の流量及
び圧力で供給して酸化反応を行い、酸化クロム層として
形成されたものであることを特徴とする液晶表示パネ
ル。