JPH0882701A - 反射防止フィルムの製造方法 - Google Patents

反射防止フィルムの製造方法

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JPH0882701A
JPH0882701A JP6218960A JP21896094A JPH0882701A JP H0882701 A JPH0882701 A JP H0882701A JP 6218960 A JP6218960 A JP 6218960A JP 21896094 A JP21896094 A JP 21896094A JP H0882701 A JPH0882701 A JP H0882701A
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JP
Japan
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film
reflectance
antireflection
layer
thin film
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JP6218960A
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English (en)
Inventor
Kiminari Nakamura
公成 中村
Hiroshi Ishida
博士 石田
Akio Omae
昭雄 大前
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】製造過程の反射防止プラスチックフィルムの反
射率を直接測定し、その結果をもとに、反射率のより低
くく、均一な反射防止フィルムの製造方法を提供する。 【構成】プラスチックフィルムの表面に反射防止性の薄
膜を形成させる反射防止フィルムの製造方法において、
該プラスチックフィルムがその裏面に黒色のフィルムを
密着させたものであり、薄膜形成条件を薄膜形成面側の
反射率を測定しその結果によって調整することを特徴と
する反射防止フィルムの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はパーソナルコンピュータ
ー等OA機器のディスプレイ用フィルター、液晶ディス
プレイ等の光学部品に用いられる反射防止フィルムの製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年反射防止性能を有するプラスチック
フィルムは、OA機器ディスプレイ用フィルター表面、
液晶ディスプレイ表面等の反射防止に使用されている。
反射防止フィルムは、フッ化マグネシウム、酸化ケイ
素、酸化ジルコニウム、酸化チタンのような屈折率の小
さいもの、及び/又は大きいものをプラスチックフィル
ム上に単層の薄膜または多層の薄膜として形成すること
によって得られる。単層薄膜による反射防止膜の例とし
て、屈折率の小さいフッ化マグネシウムを使用して、屈
折率(n)と膜厚(d)の積で定義される光学的膜厚
(nd)の値を光の波長の1/4倍程度の大きさとした
ものが挙げられる。多層薄膜による反射防止の例とし
て、特開昭62−178901号公報には、プラスチッ
クフィルム上に、真空蒸着法、スパッタリングにより酸
化ジルコニウム、二酸化ケイ素、酸化チタン、二酸化ケ
イ素の四層の反射防止膜を形成させた光学物品が記載さ
れている。これら反射防止膜は、各層で反射する光を干
渉作用で打ち消すことによって反射防止能を発現させる
ことから、特性の良い反射防止膜を得るためには構成層
の光学的膜厚をなるべく設計値通りに形成させることが
望まれる。そこで真空蒸着法、スパッタリング法のよう
な反射防止膜の形成方法における反射防止膜各層の膜厚
を監視する方法としては、被着体であるプラスチックフ
ィルムの近傍に設置した水晶振動子に膜の成分を付着さ
せ、その共振周波数の変化から付着量を求め、それをも
とに被着体への付着膜厚を算出する間接法がある。ま
た、被着体であるプラスチックフィルムの近傍にモニタ
ー基板を設置し、ひの基板の反射率の変化を測定するこ
とにより膜の付着量を調整する方法がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】特性の良い反射防止膜
を得るには、反射防止膜を構成する薄膜の光学的膜厚を
厳密に管理するか、あるいは、結果的に反射率が所定の
値で均一となる様に膜厚を調整する必要がある。水晶振
動子を用いる膜厚の測定法は、間接法であるために、膜
厚の厳密な管理を行うには限界がある。又、近傍にモニ
ター基板を設置し基板の反射率の変化を測定する方法で
は、モニター基板を設置する余分な設備を要し、しかも
バッチ式にしか適用出来ない。そこで本発明は製造過程
の反射防止プラスチックフィルムの反射率を直接測定
し、その結果をもとに、反射率のより低くく、均一な反
射防止フィルムの製造方法を提供する。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、プラスチック
フィルムの表面に反射防止性の薄膜を形成させる反射防
止フィルムの製造方法において、該プラスチックフィル
ムがその裏面に黒色のフィルムを密着させたものであ
り、薄膜形成条件を薄膜形成面側の反射率を測定しその
結果によって調整することを特徴とする反射防止フィル
ムの製造方法である。
【0005】本発明に適用できるプラスチックフィルム
としては、例えばポリエステルフィルム、ポリカーボネ
ートフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、酢
酸セルロースフィルム等の透明フィルム、および液晶デ
ィスプレイに使用されている各種偏光フィルムなどであ
る。
【0006】本発明のプラスチックフィルムの表面に反
射防止性の薄膜を形成させる方法としては、公知の真空
蒸着法、スパッタリング法のように真空条件下で行う乾
式法の他湿式法の薄膜形成方法がある。なかでも乾式法
がより適している。乾式法において、所定の大きさのプ
ラスチックフィルム1枚または複数枚を薄膜を形成させ
る真空容器に仕込んでバッチ方式により反射防止膜を形
成させてもよいし、巻物状のプラスチックフィルムを薄
膜を付着させる部位に供給し、必要な薄膜形成後に巻取
る連続方式にも適用できる。なかでも連続方式が適して
いる。
【0007】本発明の黒色のフィルムとしては、各種プ
ラスチックにカーボンブラックや黒色有機顔料のごとき
黒色顔料を含有させて黒色としてフィルムとしたものが
用いられる。さらには、各種プラスチックフィルムに黒
色塗料を塗布したものも用いられる。本発明に使用する
黒色のフィルムを、プラスチックフィルムに密着させる
ためには、適度な粘着力が必要である。この粘着力は、
プラスチックフィルムとの間に空気の介在させない程度
に密着が出来る反面、反射率測定後プラスチックフィル
ムから容易に剥離が行える程度のものである。その粘着
力は、フィルム幅25mmあたり通常3〜100g程度で
ある。
【0008】黒色フィルムに粘着性を付与するには、エ
チレン/酢酸ビニル共重合体のように自己粘着性を持っ
た材料そのものを用いること、自己粘着性を持った材料
と共押出しして複合フィルムとすること、粘着剤を塗工
して粘着性を持たせる等がある。
【0009】プラスチックフィルムへの黒色フィルムを
密着させるのは、両フィルムを複数の貼合ロールの間を
くぐらせて貼合させる公知の方法が適用できる。
【0010】プラスチックフィルムへの黒色フィルムを
密着させることにより、反射率の測定において、測定面
の裏側での光の反射を防止することができ、非常に精度
の高い測定が可能となる。
【0011】プラスチックフィルムの反射率の測定は、
光量を測定する光度計を用い、入射光に対する反射光の
比を求めたものである。この反射率の測定装置としては
市販されているものを使用できる。
【0012】反射率を測定し、その結果によって薄膜形
成条件を調整するには、所謂フイードバック方式で膜の
付着量を増減させるのと、薄膜が多層の場合は、つぎの
薄膜層の付着量を増減させることもできる。なお、膜の
付着量を増減の手段は、反射防止性の薄膜を形成させる
方法に周知の手段に依ればよい。つまり膜を形成する成
分の単位時間当たりの発生量の増減、プラスチックフィ
ルムの滞留時間の増減等である。
【0013】
【実施例】実施例でもちいた巻取方式スパッタリング法
の一例を図1によって示す。黒色のフィルム付きプラス
チックフィルム1をフィルム巻出機2から冷却ロール3
に沿って第一スパッタリング室4に供給し、ここで第一
層薄膜を形成する。続いて反射率検出器5で反射率を測
定した後、第二スパッタリング室6で第二層薄膜を形成
する。さらに反射率検出器7で第二層形成後の反射率を
測定した後、フィルム巻取機8で巻取る。次に、巻取機
8で巻取ったものを逆に繰り出し冷却ロール3に沿って
(第二スパッタリング室6は単に通過)、第一スパッタ
リング室4で第三層薄膜を形成させ、同様に反射率検出
器9で第三層形成後の反射率を測定した後、巻出機2に
巻戻す。再度巻出機2から冷却ロール3に沿って(第一
スパッタリング室4は単に通過)、第二スパッタリング
室6で第四層薄膜を形成させ、反射率検出器7で第四層
形成後の反射率を測定した後巻取機8に巻取る。再度巻
取機8から冷却ロール3に沿って(第二スパッタリング
室6は単に通過)、第一スパッタリング室4で第五層薄
膜を形成させ、反射率検出器9で第五層形成後の反射率
を測定した後巻出機2に巻取る。
【0014】用いた材料、測定方法は、以下の通りであ
る。 ・プラスチックフィルム:厚さ250μのポリメチルメ
タクリレートフィルム(ハードコート付き)に厚さ60
μの黒色ポリエチレンフィルムにアクリル系粘着剤を塗
布し貼り合わせたもの。 ・スパッタリングターゲット:第一スパッタリング室
は、シリコン単結晶(ホウ素ドープ品)、第二スパッタ
リング室は、金属チタン(純度 99.9%)。 ・スパッタリング用ガス:アルゴンガス ・反応性ガス:酸素ガス ・反射率の測定:大塚電子株式会社製MCPD−100
0を用い可視光領域の400〜700nmのスペクトル
を測定した。
【0015】反射防止膜の製膜は、下記〔表1〕に示す
条件でスタートした。第五層付き反射防止フィルムの反
射率スペクトルを図2に示す。しかしこのスペクトルで
は400nm近傍の反射率が大きすぎるため第五層の成
膜を行いながらその条件の内フィルム速度のみ0.20
m/分に変更した。速度変更後の反射率スペクトルを図
3に示す。このスペクトルでは700nm付近の反射率
が大きすぎるため、成膜を行いながら再度第五層成膜の
フィルム速度を変更し、0.19m/分とした。その結
果図4に示すように適切な反射率のスペクトルが得られ
た。
【0016】
【表1】
【0017】
【発明の効果】本発明により、プラスチックフィルムの
裏面に黒色の粘着性フィルムを貼付したものを用いるこ
とにより、走行しているプラスチックフィルムの反射率
が正確に測定でき、その結果を反射防止薄膜の形成の調
整に反映させることができるので均質な反射率を有する
反射防止フィルムの製造を容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の巻取式スパッタリング装置の
断面図である。
【図2】本発明の実施例の初期条件で得られた反射防止
フィルムの反射率スペクトル図である。
【図3】本発明の実施例の1回目の条件変更で得られた
反射防止フィルムの反射率スペクトル図である。
【図4】本発明の実施例の2回目の条件変更で得られた
反射防止フィルムの反射率スペクトル図である。
【符号の説明】
1:黒色のフィルム付きプラスチックフィルム 2:フィルム巻出機 3:冷却ロール 4:第一スパッタリング室 5:反射率検出器 6:第二スパッタリング室 7:反射率検出器 8:フィルム巻取機 9:反射率検出器 10、11:スパッタリングターゲット・カソード組立
物 12、13:反応性ガス供給口 14、15、16:仕切り

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】プラスチックフィルムの表面に反射防止性
    の薄膜を形成させる反射防止フィルムの製造方法におい
    て、該プラスチックフィルムがその裏面に黒色のフィル
    ムを密着させたものであり、薄膜形成条件を薄膜形成面
    側の反射率を測定しその結果によって調整することを特
    徴とする反射防止フィルムの製造方法。
JP6218960A 1994-09-13 1994-09-13 反射防止フィルムの製造方法 Pending JPH0882701A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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