JPH0881457A - ニトロフェノール誘導体の製造法 - Google Patents

ニトロフェノール誘導体の製造法

Info

Publication number
JPH0881457A
JPH0881457A JP6220015A JP22001594A JPH0881457A JP H0881457 A JPH0881457 A JP H0881457A JP 6220015 A JP6220015 A JP 6220015A JP 22001594 A JP22001594 A JP 22001594A JP H0881457 A JPH0881457 A JP H0881457A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
dihydroisobenzofuran
tetrafluoro
copper
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6220015A
Other languages
English (en)
Inventor
Toranori Yoshiyama
寅仙 吉山
Shinichiro Osada
伸一郎 長田
Yoshimi Yamada
好美 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP6220015A priority Critical patent/JPH0881457A/ja
Publication of JPH0881457A publication Critical patent/JPH0881457A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式 化1 【化1】 〔式中、XおよびYは、同一または相異なり、塩素原
子、臭素原子またはヨウ素原子を表わし、R1 およびR
2 は同一または相異なり、反応に不活性な基または原子
を示す。〕で表されるハロゲン化合物を非プロトン性極
性溶媒中銅系触媒の存在下に亜硝酸塩と反応させた後、
水で処理することを特徴とする、一般式 化2 【化2】 〔式中、R1 およびR2 は前記と同じ意味を表わす。〕
で示されるニトロフェノール誘導体の製造法。 【効果】 一般式 化2で示されるニトロフェノール誘
導体を効率よく製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、農薬等の製造中間体等
として有用なある種のニトロフェノール誘導体の製造法
に関するものである。
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】従
来、特開平 5-301860 号公報に式 化3
【化3】 で示されるある種のベンズイミダゾール化合物が優れた
殺菌活性を有すること、および、その製造中間体として
5−クロロ−1,1,3,3−テトラフルオロ−6−ニ
トロ−1,3−ジヒドロイソベンゾフランが有用である
こと等が記載されており、該製造中間体化合物の有利な
製造法が望まれていた。
【0002】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
な状況下、該製造中間体化合物等に容易に導くことので
きる下記一般式 化4
【化4】 〔式中、XおよびYは、同一または相異なり、塩素原
子、臭素原子またはヨウ素原子を表わし、R1 およびR
2 は同一または相異なり、反応に不活性な基または原子
を示す。〕で示されるニトロフェノール誘導体の製造法
について種々検討した結果、一般式化5
【化5】 〔式中、R1 およびR2 は前記と同じ意味を表わす。〕
で示されるハロゲン化合物を非プロトン性極性溶媒中銅
系触媒の存在下に亜硝酸塩と反応させた後、水で処理す
ることにより、一般式 化4で示されるニトロフェノー
ル誘導体が効率よく得られることを見い出し、本発明を
完成させた。
【0003】即ち、本発明は、(工程a) 一般式 化
5で示されるハロゲン化合物を、非プロトン性極性溶媒
中、銅系触媒の存在下に、亜硝酸塩と反応させた後、
(工程b) 水で処理することを特徴とする、一般式
化4で示されるニトロフェノール誘導体の製造法を提供
する。本発明の方法によれば、比較的低い反応温度で比
較的短時間で収率よく目的物を得ることができる。一般
式 化4において、R1 、R2 としては、例えば、水素
原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されてい
てもよいアルキルカルボニル基、、置換されていてもよ
いアルキルスルホニル基、置換されていてもよいハロア
ルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換され
ていてもよいアリールカルボニル基、置換されていても
よいアリールスルホニル基等があげられる。上記におい
て、「アルキル」とは、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、 sec−ブチル、tert−ブチ
ルなどのC1 〜C4 アルキル基等を表わし、「アリー
ル」とは、例えばフェニル、α−ナフチル、β−ナフチ
ルなどを表わし、置換されていてもよいアルキル基、置
換されていてもよいアルキルカルボニル基、置換されて
いてもよいアルキルスルホニル基、置換されていてもよ
いハロアルキル基における置換基としては、例えばC1
〜C4 アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基
等)があげられ、置換されていてもよいアリール基、置
換されていてもよいアリールカルボニル基、置換されて
いてもよいアリールスルホニル基における置換基として
は、例えばC1 〜C4 アルキル基(例えば、メチル基、
エチル基等)、C1 〜C4 アルコキシ基(例えば、メト
キシ基、エトキシ基等)があげられる。
【0004】本発明に用いる原料化合物である一般式
化5で示されるハロゲン化合物としては、例えば下記の
ものがあげられる。 1,1,3,3−テトラフルオロ−5,6−ジクロロ−
1,3−ジヒドロイソベンゾフラン 1,1,3,3−テトラフルオロ−5,6−ジブロモ−
1,3−ジヒドロイソベンゾフラン 1,1,3,3−テトラフルオロ−4−エチル−5,6
−ジクロロ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン 1,1,3,3−テトラフルオロ−4,7−ジエチル−
5,6−ジクロロ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン 1,1,3,3−テトラフルオロ−4,7−ジアセチル
−5,6−ジクロロ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラ
ン 1,1,3,3−テトラフルオロ−4−ベンゾイル−
5,6−ジクロロ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン
【0005】次に、工程aについて説明する。銅系触媒
としては、通常Cu,Cu(I)塩またはCu(II) 塩
が用いられ、より具体的には、例えば銅粉;塩化第一銅
(CuCl)、塩化第二銅(CuCl 2 )、臭化第一銅
(CuBr)、酸化第一銅(Cu2 O)等が用いられ
る。用いられる非プロトン性極性溶媒としては、例えば
N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、1,3−ジメチル−2−イ
ミダゾリドン及びそれらの混合物等があげられるが、本
発明においては、これらの非プロトン性極性溶媒にさら
にトルエン等の非極性溶媒を添加することもできる。用
いられる亜硝酸塩としては、例えば亜硝酸ナトリウム、
亜硝酸カリウム等の亜硝酸のアルカリ金属塩等があげら
れる。反応は、通常2〜10時間かけて、通常70〜2
00℃の範囲内で行われ、好ましくは120〜150℃
の範囲の温度で行われる。用いられる試剤の量比は、一
般式 化5で示されるハロゲン化合物1モルに対して、
亜硝酸塩は通常2〜10モルの割合望ましくは4〜5モ
ルの割合、銅系触媒は通常 0.1〜0.5 モルの割合であ
る。次に、工程bについて説明する。通常、工程aの反
応混合物を過剰の水(一般式 化5で示されるハロゲン
化合物1モルに対して1モル以上の割合の水)と室温で
瞬時〜1時間混合または攪拌するだけで目的を達成する
ことができるが、酸やアルカリの共存下で反応させても
よい。反応終了後の反応液は、そのまま有機溶媒抽出、
濃縮等の通常の後処理を行うか、あるいは、必要に応
じ、目的物の精製のため、例えば、希アルカリ水に注加
しトルエンなどの水と混合しない有機溶媒で洗浄し水層
を酸でpH2〜4に調整した後、水と混合しない有機溶
媒で抽出、濃縮等の後処理を行い、目的とする一般式
化4で示されるニトロフェノール誘導体を単離すること
ができる。
【0006】
【実施例】以下、本発明を実施例等によりさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるも
のではない。尚、得られた生成物の収率は、単離した生
成物の重量から求めた。 実施例1 50ml三ツ口フラスコに、1,1,3,3−テトラフル
オロ−5,6−ジクロロ−1,3−ジヒドロイソベンゾ
フラン 2.0g、亜硝酸カリウム2.62g、塩化第一銅(C
uCl)0.16gおよびN,N−ジメチルホルムアミド2
0gを仕込み、窒素気流下125℃で約6時間激しく攪
拌した。その後、反応液をトルエン20gおよび10%
NaOH水溶液30gに注加し、分液した。水層をトル
エン20gで2回洗浄後、水層を塩酸でpH2〜4に
し、トルエン40gで抽出した。抽出液を濃縮し、目的
とする1,1,3,3−テトラフルオロ−5−ヒドロキ
シ−6−ニトロ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン
1.5g(収率77%)を得た。1 H-NMR(CDCl3 /TMS) δ値(ppm) :1.61(1H,brs)、7.4
9(1H,s)、8.49(1H,s) mass(FD):m/e、親ピーク 253 実施例2 50ml三ツ口フラスコに、1,1,3,3−テトラフル
オロ−5,6−ジクロロ−1,3−ジヒドロイソベンゾ
フラン 1.0g、亜硝酸ナトリウム1.31g、銅粉0.12gお
よびN−メチルピロリドン10gを仕込み、窒素気流下
125℃で約6時間激しく攪拌した。その後、実施例1
と同様に後処理を行い、目的とする1,1,3,3−テ
トラフルオロ−5−ヒドロキシ−6−ニトロ−1,3−
ジヒドロイソベンゾフラン0.62g(収率64%)を得
た。
【0007】次に、参考比較例として、本発明の製造法
において銅系触媒を使用しない場合の例を示す。 参考比較例1 50ml三ツ口フラスコに、1,1,3,3−テトラフル
オロ−5,6−ジクロロ−1,3−ジヒドロイソベンゾ
フラン 2.0g、亜硝酸カリウム2.62gおよびN,N−ジ
メチルホルムアミド20gを仕込み、窒素気流下165
℃で約16時間激しく攪拌した。その後、実施例1と同
様に後処理を行い、1,1,3,3−テトラフルオロ−
5−ヒドロキシ−6−ニトロ−1,3−ジヒドロイソベ
ンゾフラン0.41g(収率21%)を得た。 参考比較例2 50ml三ツ口フラスコに、1,1,3,3−テトラフル
オロ−5,6−ジクロロ−1,3−ジヒドロイソベンゾ
フラン 1.0g、亜硝酸ナトリウム0.53gおよびジメチル
スルホキシド10gを仕込み、窒素気流下130℃で3
時間激しく攪拌した。ガスクロマトグラフィーによる分
析で目的の1,1,3,3−テトラフルオロ−5−ヒド
ロキシ−6−ニトロ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラ
ンは検出されず、原料化合物のみが検出されたので、さ
らに165℃で3時間激しく攪拌したが、同様の分析で
目的の1,1,3,3−テトラフルオロ−5−ヒドロキ
シ−6−ニトロ−1,3−ジヒドロイソベンゾフランは
検出されず、原料化合物のみが検出された。冷却した反
応混合物を、水および酢酸エチルを用いた抽出操作に付
し、原料化合物である1,1,3,3−テトラフルオロ
−5,6−ジクロロ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラ
ンを回収した。
【0008】次に、本発明に用いる原料化合物である一
般式 化5で示されるハロゲン化合物の製造例を示す。 参考製造例1 4,5−ジクロロフタル酸90g、無水酢酸58gおよ
びトルエン810gを約2時間加熱還流後、減圧下で濃
縮することにより、4,5−ジクロロフタル酸無水物8
2.8g(収率99%)を白色固体として得た。1 H-NMR(CDCl3 /TMS) δ値(ppm) :8.11(2H,s) 4,5−ジクロロフタル酸無水物82.8gおよびN,N−
ジメチルホルムアミド414gを仕込み、そこへNaB
4 28.8gをN,N−ジメチルホルムアミド331gに
溶解した溶液を内温25〜50℃の範囲内でゆっくり滴
下した。その後、65℃で約2時間攪拌した。その後、
室温まで冷却し、10%塩酸水を331g滴下した後、
100℃で1時間攪拌した。冷却後、析出した固体を濾
別乾燥して、4,5−ジクロロフタリド62.8g(収率8
1%)を得た。1 H-NMR(CDCl3 /TMS) δ値(ppm) :5.29(2H,s)、7.63
(1H,s)、8.00(1H,s) 4,5−ジクロロフタリド14gを1,2−ジクロロエ
タン150g中に加え、これに三塩化リン28.4gを加え
た後、50℃まで昇温させた。この液中に塩素ガス15.2
gを約1時間かけて吹き込んだ。反応熱により反応液の
温度は70℃前後まで上昇した。塩素ガス吹き込み終了
後は、反応液の温度を75〜80℃に保ちながらさらに
1時間攪拌した。反応液を冷却後、氷水200gに徐々
に注加し、分液した。この油層と、水層を1,2−ジク
ロロエタン100gで抽出した。油層を合わせて、1%
炭酸水素ナトリウム水溶液150gおよび水150gで
順次洗浄した。油層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
1,2−ジクロロエタンを減圧下に留去し、白色結晶の
1,1,3,3,5,6−ヘキサクロロ−1,3−ジヒ
ドロイソベンゾフラン 20.78g1 H-NMR(CDCl3 /TMS) δ値(ppm) :7.8(2H,s) mass(FD):m/e、親ピーク 324 1,1,3,3,5,6−ヘキサクロロ−1,3−ジヒ
ドロイソベンゾフラン56.3gおよび1,4−ジオキサン
563gを仕込み、これに三フッ化アンチモン(SbF
3 )110gを添加し、150℃まで昇温し、1,4−
ジオキサンを除いた。150℃で約30分攪拌後、冷却
したクロロホルム200gで希釈して、セライト濾過し
た。得られた濾液を減圧下に濃縮後、そのまま減圧下で
得られた生成物を昇華させて、1,1,3,3−テトラ
フルオロ−5,6−ジクロロ−1,3−ジヒドロイソベ
ンゾフラン31g(収率71%)を白色固体として得
た。1 H-NMR(CDCl3 /TMS) δ値(ppm) :7.79(2H,s) 本発明において用いられるその他の原料化合物について
は、1,1,3,3−テトラフルオロ−5,6−ジクロ
ロ−1,3−ジヒドロイソベンゾフランと、例えばアセ
チルクロリド、ベンゾイルクロリド、p−トルエンスル
ホニルクロリドまたはエチルブロマイドなどとAlCl
3 を用いて、Friedel-Crafts反応等を行うこと等により
得ることができる。
【0009】次に、本発明の方法で製造される1,1,
3,3−テトラフルオロ−5−ヒドロキシ−6−ニトロ
−1,3−ジヒドロイソベンゾフランを5−クロロ−
1,1,3,3−テトラフルオロ−6−ニトロ−1,3
−ジヒドロイソベンゾフランに導く方法の例を示す。 参考製造例2 1,1,3,3−テトラフルオロ−5−ヒドロキシ−6
−ニトロ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン3.72
gを塩化チオニル22.5gに加え、これにN,N−ジ
メチルホルムアミド2.89gを攪拌下、30℃以下に
冷却しながら加えた。その後、85〜87℃で3時間攪
拌し、次に、過剰の塩化チオニルを留去した後、冷却し
た。これにトルエン100gおよび水100gを加え、
抽出、分液し、トルエン層を7%炭酸水素ナトリウム水
溶液100gおよび水100gで順次洗浄した。トルエ
ン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、トルエンを減圧
下留去し、茶褐色結晶の5−クロロ−1,1,3,3−
テトラフルオロ−6−ニトロ−1,3−ジヒドロイソベ
ンゾフラン4.03gを得た。1 H-NMR(CDCl3 /TMS) δ値(ppm) :8.1(1H,s) 、7.9
(1H,s) mass(FD):m/e、親ピーク 271
【0010】
【発明の効果】本発明により、一般式 化4で示される
ニトロフェノール誘導体を効率よく製造することができ
る。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(工程a) 一般式 化1 【化1】 〔式中、XおよびYは、同一または相異なり、塩素原
    子、臭素原子またはヨウ素原子を表わし、R1 およびR
    2 は同一または相異なり、反応に不活性な基または原子
    を示す。〕で表されるハロゲン化合物を、非プロトン性
    極性溶媒中、銅系触媒の存在下に、亜硝酸塩と反応させ
    た後、(工程b) 水で処理することを特徴とする、一
    般式 化2 【化2】 〔式中、R1 およびR2 は前記と同じ意味を表わす。〕
    で示されるニトロフェノール誘導体の製造法。
  2. 【請求項2】銅系触媒がCu、Cu(I)塩またはCu
    (II) 塩である請求項1記載の製造法。
  3. 【請求項3】銅系触媒が銅粉または塩化第一銅(CuC
    l)である請求項1記載の製造法。
  4. 【請求項4】XおよびYが共に塩素原子である請求項1
    記載の製造法。
  5. 【請求項5】R1 およびR2 が共に水素原子である請求
    項1記載の製造法。
JP6220015A 1994-09-14 1994-09-14 ニトロフェノール誘導体の製造法 Pending JPH0881457A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6220015A JPH0881457A (ja) 1994-09-14 1994-09-14 ニトロフェノール誘導体の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6220015A JPH0881457A (ja) 1994-09-14 1994-09-14 ニトロフェノール誘導体の製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0881457A true JPH0881457A (ja) 1996-03-26

Family

ID=16744602

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6220015A Pending JPH0881457A (ja) 1994-09-14 1994-09-14 ニトロフェノール誘導体の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0881457A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4342940B2 (ja) 5−メチル−1−フェニル−2(1h)ピリジノンの製造方法
JP2002338516A (ja) 2−ハロゲン化安息香酸類の製造方法
LU88049A1 (fr) Bis(acyloxy-o)borate de l'(acide-o3,o4-6,7-substitue-8-alcoxy-l-cyclopropyl-1,4-dihydro-4-oxo-3-quinoleinecarboxylique et le sel de ce dernier,ainsi que leur procede de preparation
JP5008404B2 (ja) メチレンジスルホネート化合物の製造方法
JPH0784423B2 (ja) 3−アミノ−2−置換ベンゾイルアクリル酸誘導体
KR20010034017A (ko) 특정 벤조산 화합물의 제조 방법
JP2019507156A (ja) 4−アルコキシ−3−ヒドロキシピコリン酸を製造する方法
TWI698437B (zh) 製備苯并咪唑并[1,2-a]苯并咪唑之方法
JPH0881457A (ja) ニトロフェノール誘導体の製造法
JP5207516B2 (ja) 2,3−ジシアノナフタレン誘導体の製造方法
JP2021161106A (ja) 5−ブロモ−4−アルコキシ−2−アルキル安息香酸の製造方法
JP3259206B2 (ja) 2−置換ベンゾ[b]チオフェンの製造法
JPH06247918A (ja) フェニルベンズアミド誘導体の製造方法
JPH08208591A (ja) 2−アミノベンゼンスルホン酸誘導体ならびに2−アミノベンゼンスルホニルクロリド誘導体とその製造法およびその合成中間体としての使用
JPH0481582B2 (ja)
JPS60181070A (ja) カルバゾール誘導体の製造方法
KR19990015053A (ko) 2-(4-할로메틸페닐)프로피온산의 제조방법
JPH0881456A (ja) 1,1,3,3−テトラクロロ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン誘導体の製造法
JP3545466B2 (ja) ジヒドロクロマンカルボン酸類及びその製造方法
JP3376481B2 (ja) ヘキサヒドロピリダジンの製造法
JPH0789973A (ja) (ジメトキシホスフイニル)[[1,1−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキシ]酢酸(4−ニトロフエニル)メチルエステルの改良された合成方法
JP2853929B2 (ja) 2−クロロ−4,5−ジフルオロ−3−メトキシ安息香酸の製造方法
TWI252848B (en) Process for the preparation of 5-formylphthalide
JP4803896B2 (ja) 含ハロゲン芳香族酸二無水物
JPH02255673A (ja) 4―アリールオキシー1,3―ベンゾジオキソール類およびその製造方法