JPH0866451A - 人体洗浄器 - Google Patents

人体洗浄器

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Publication number
JPH0866451A
JPH0866451A JP23080594A JP23080594A JPH0866451A JP H0866451 A JPH0866451 A JP H0866451A JP 23080594 A JP23080594 A JP 23080594A JP 23080594 A JP23080594 A JP 23080594A JP H0866451 A JPH0866451 A JP H0866451A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning liquid
human body
bath
balls
jet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23080594A
Other languages
English (en)
Inventor
Shozo Fukuma
正三 福馬
Yasuhiro Matsuyoshi
恭裕 松吉
Toshio Saito
敏夫 斉藤
Masaki Suzuki
雅喜 鈴木
Nami Matsumoto
奈弥 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Inax Corp
Chugai Technos Corp
Original Assignee
Inax Corp
Chugai Technos Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Inax Corp, Chugai Technos Corp filed Critical Inax Corp
Priority to JP23080594A priority Critical patent/JPH0866451A/ja
Publication of JPH0866451A publication Critical patent/JPH0866451A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄効率に優れかつ未洗浄箇所を残すことな
く洗浄できる人体洗浄器の提供。 【構成】 人体洗浄器1は、洗浄液Wと小粒径のボール
Bとを混合した混合液を内部に収容する浴槽本体2と、
該浴槽本体2内の混合液中の洗浄液Wを循環させて当該
浴槽本体2に設けられた混合液噴射口7〜7から噴射さ
せるための循環噴射装置3とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、人体洗浄器に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、人体の汚れを落とすには、タオ
ル等に洗剤をつけて人体をこすり、次いでシャワー等で
洗剤を落とすのが通常である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、タオル
等に洗剤をつけて人体をこする作業は手作業であるた
め、特に病院等において患者の洗浄を行う場合に効率が
悪く、また手の届かない場所や、足の指の間のような狭
い箇所が未洗浄のままになってしまいがちとなる不具合
が有った。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の請求項1の人体洗浄器は 洗浄液と小粒径
のボールとを混合した混合液を内部に収容する浴槽本体
と、該浴槽本体内の混合液中の洗浄液を循環させて当該
浴槽本体に設けられた洗浄液噴射口から噴射させるため
の循環噴射装置とを有することを特徴とする。また請求
項2の発明は、請求項1の人体洗浄器における前記ボー
ルはセラミックボールであることを特徴とする。さらに
請求項3の発明は、請求項1の人体洗浄器における前記
浴槽本体と前記循環噴射装置とは既存のジェットバスに
備えられたものを利用することを特徴とする。
【0005】
【作用】請求項1の発明では、人体の洗浄を、洗浄液と
小粒径のボールとを混合した混合液中の洗浄液を噴射口
から噴射させることで行うものであり、ボールが人体に
当たって衝突し、付着した汚れを洗浄液により有効に洗
い流すことができる。また請求項2の発明は、ボールを
セラミックボールにより形成したことにより、ボールの
磨耗、破損等を少なくすることができる。さらに請求項
3の発明は、既存のジェットバスの浴槽本体と循環噴射
装置を利用するものであり、洗浄液は湯を利用できるた
め、発明の実施に必要なものは小粒径のボールだけで済
む。
【0006】
【実施例】次に本発明の一実施例による人体洗浄器を図
面を参照して説明する。本実施例は既存のジェットバス
に本発明を適用した例を示すものであり、図1に平面視
を、図2に要部断面をそれぞれ示した人体洗浄器1は、
浴槽本体2と循環噴射装置3とを有している。循環噴射
装置3は浴室4の外部に配置されたポンプPと、浴室4
の壁4Aを通じて該ポンプPと浴槽本体2との間に接続
された洗浄液吸入管5及び洗浄液吐出管6とからなって
おり、ポンプPを起動すると浴槽本体2内の洗浄液(湯
もしくは洗剤を含んだ湯)が浴槽本体2の内壁に設けら
れた図示しない洗浄液吸入口から洗浄液吸入管5を経て
ポンプPに吸引され、次いで洗浄液吐出管6を経て浴槽
本体2の内壁に設けられた洗浄液噴射口7〜7よりジェ
ットとして噴出するようになっている。なお、これらの
構成は既存のジェットバスに本来的に備えられているも
のである。
【0007】浴槽本体2内には0.5〜5.0mmのアル
ミナボール或いはジルコニアボールからなる小粒径のボ
ールBが洗浄液Wと混合状態で収容されており、各ボー
ルBには抗菌剤が担持されている。なお、抗菌剤として
は例えば銀、銅、亜鉛、水銀、鉛、錫、ビスマス、カド
ミウムまたはタリウム等の金属イオンおよびその化合物
や安定化塩素、次亜塩素酸塩、クロラミン、ヨウ化エチ
レン等のハロゲン化合物やアルコール類、フェノール
類、エーテル類、グアニジン類等を挙げることができ、
人体に対する安全性が高くかつ抗菌力が強い点では前記
銀、銅、亜鉛および錫のイオンまたはその化合物が適当
である。ボールBは原料をこれらの抗菌剤を分散剤で分
散させた後に成形されるものであり、抗菌剤は細胞のエ
ネルギー代謝を不能として細菌、微生物の繁殖を長期間
に亘って抑え、ボールBの表面等を無菌状態に保持する
ことができるものである。
【0008】また、本実施例では浴槽本体2も上記のよ
うな抗菌剤を担持した樹脂により成形されているもので
ある。
【0009】なお、浴槽本体2の上記洗浄液吸入口及び
洗浄液噴射口7〜7には図示しないスクリーンが設けら
れ、ボールBが循環噴射装置3側に入り込まないように
なっている。
【0010】本実施例では循環噴射装置3のポンプPを
起動すると、洗浄液Wが洗浄液噴射口7〜7から噴射さ
れ、ボールBが噴流とともに人体に衝突するため、人体
に付着した汚れが有効に洗い流される。ここで、ボール
Bは噴流とともに、足の指の間のような隙間にも容易に
到達するので、この部位の汚れも有効に除去できる。ま
たボールBが人体に衝突することにより、噴流自体によ
る効果に加えてさらに優れたマッサージ効果が得られ
る。
【0011】また、本実施例は既存のジェットバスをそ
のまま利用するため、発明を容易かつ安価に実施できる
ものである。
【0012】さらに、人体への衝突に供する上記ボール
Bとしては上記したセラミック製のものが磨耗、破損等
が少なく、長期間にわたり上記洗浄効果を達成できる点
で最も好ましいが、セラミック以外の材料、例えばセラ
ミックよりも軟質な他の適当な材料を利用することもで
き、さらにはボールの粒径は上記範囲に限らず、さらに
大きな値とすることもできる。
【0013】
【発明の効果】請求項1の発明では人体の洗浄を、ボー
ルの人体への衝突を利用して行うものであるため汚れの
除去効果が優れ、かつ優れたマッサージ効果を与えるこ
とができる。加えて、手の届かない場所や、足の指の間
のような狭い箇所でも洗浄効果を十分に及ぼすことがで
きる利点を有する。また請求項2の発明はボールの磨
耗、破損等を少なくすることができるので、洗浄効果を
長期間にわたり有効に発揮できる利点を有する。さらに
請求項3の発明は既存のジェットバスの浴槽本体と循環
噴射装置をそのまま利用するものであり、発明の実施に
必要なものは小粒径のボールだけで済むので、発明を容
易かつ安価に実施できる利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による人体洗浄器の平面図。
【図2】図1の要部断面図。
【符号の説明】
1 人体洗浄器 2 浴槽本体 3 循環噴射装置 7 洗浄液噴射口 B ボール W 洗浄液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斉藤 敏夫 愛知県常滑市鯉江本町5丁目1番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 鈴木 雅喜 愛知県常滑市鯉江本町5丁目1番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 松本 奈弥 愛知県常滑市鯉江本町5丁目1番地 株式 会社イナックス内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄液と小粒径のボールとを混合した混
    合液を内部に収容する浴槽本体と、該浴槽本体内の混合
    液中の洗浄液を循環させて当該浴槽本体に設けられた洗
    浄液噴射口から噴射させるための循環噴射装置とを有す
    ることを特徴とする人体洗浄器。
  2. 【請求項2】 前記ボールはセラミックボールであるこ
    とを特徴とする請求項1の人体洗浄器。
  3. 【請求項3】 前記浴槽本体と前記循環噴射装置とは既
    存のジェットバスに備えられたものを利用することを特
    徴とする請求項1の人体洗浄器。
JP23080594A 1994-08-30 1994-08-30 人体洗浄器 Pending JPH0866451A (ja)

Priority Applications (1)

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JP23080594A JPH0866451A (ja) 1994-08-30 1994-08-30 人体洗浄器

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JP23080594A JPH0866451A (ja) 1994-08-30 1994-08-30 人体洗浄器

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JPH0866451A true JPH0866451A (ja) 1996-03-12

Family

ID=16913557

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23080594A Pending JPH0866451A (ja) 1994-08-30 1994-08-30 人体洗浄器

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JP (1) JPH0866451A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6926016B1 (en) * 2001-02-15 2005-08-09 Quantum Global Technologies, Llc System for removing contaminants from semiconductor process equipment
US7328712B1 (en) 2000-02-15 2008-02-12 Quantum Global Technologies Cleaning bench for removing contaminants from semiconductor process equipment
US7427330B1 (en) 2000-02-15 2008-09-23 Quantum Global Technologies, Llc Cleaning bench for removing contaminants from semiconductor process equipment

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7328712B1 (en) 2000-02-15 2008-02-12 Quantum Global Technologies Cleaning bench for removing contaminants from semiconductor process equipment
US7427330B1 (en) 2000-02-15 2008-09-23 Quantum Global Technologies, Llc Cleaning bench for removing contaminants from semiconductor process equipment
US6926016B1 (en) * 2001-02-15 2005-08-09 Quantum Global Technologies, Llc System for removing contaminants from semiconductor process equipment

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