JPH0864814A - Ｐ−ｍｏｓトランジスタのホットキャリア劣化のシミュレーション方法 - Google Patents

Ｐ−ｍｏｓトランジスタのホットキャリア劣化のシミュレーション方法

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JPH0864814A
JPH0864814A JP19507194A JP19507194A JPH0864814A JP H0864814 A JPH0864814 A JP H0864814A JP 19507194 A JP19507194 A JP 19507194A JP 19507194 A JP19507194 A JP 19507194A JP H0864814 A JPH0864814 A JP H0864814A
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリアス
トレス後のＦＷＤモードとＲＥＶモードの両方において
ホットキャリア劣化後のトランジスタの種々の特性を高
精度でシミュレートし得る方法を提供する。 【構成】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア劣
化のシミュレーション方法は、次式（Ａ１），（Ａ
２），（Ａ３）および（Ａ４）を用いるか、または式
（Ａ２）の代わりに次式（Ａ５）を用い、係数Ａ，ｎ，
Ｂおよびｍを予備実験によって定めることによって、ト
ランジスタ寿命τを予測できる。 Ｖｔｈ＝Ｖｆｂ＋σ・Ｖｄ …（Ａ１） ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ …（Ａ２） （ΔＶｆｂ）f ＝Ａ・τn …（Ａ３） τ＝Ｂ・（Ｉｇ／Ｗ）-m …（Ａ４） ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ＋Δσ・Ｖｄ …（Ａ５）

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＭＯＳ型トランジスタの
ホットキャリア劣化のシミュレーション方法に関し、特
に、Ｐ−ＭＯＳ型トランジスタのＦＷＤモード動作時お
よびＲＥＶモード動作時におけるホットキャリア劣化の
シミュレーション方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＭＯＳ型トランジスタのホットキャリア
劣化は、初期のドレイン電流Ｉｄに対するドレイン電流
の変化量ΔＩｄの割合ΔＩｄ／Ｉｄで評価することがで
き、また、初期のしきい値電圧Ｖｔｈに対するしきい値
電圧の変化量ΔＶｔｈなどによっても評価することがで
きる。
【０００３】図１５は、従来のシミュレーション方法に
おけるＭＯＳトランジスタのホットキャリア劣化の概念
を示す等価回路図である。すなわち、図１５（Ａ）は、
ストレス印加前のフレッシュなＭＯＳトランジスタにお
いてドレイン電流Ｉｄが流れることを表わしている。図
１５（Ｂ）は、ホットキャリア劣化後において、ＭＯＳ
トランジスタをドレイン電流Ｉｄ′が流れることを表わ
している。すなわち、ホットキャリア劣化によって、ト
ランジスタを流れるドレイン電流は初期のドレイン電流
ＩｄからΔＩｄだけ変化している。
【０００４】Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア
劣化のシミュレーションは、たとえば IEEE Trans. Ele
ctron Devices, vol.37, pp.1658-1666 (1990)におい
て、 Ong et al. によって延べられている。
【０００５】ＤＣ（直流）によるスタティックなホット
キャリアストレス条件下において、ホットキャリア劣化
率ΔＩｄ／Ｉｄは次式（１０１）によって表わされる。
【０００６】 ΔＩｄ／Ｉｄ＝ＡId・ｔn …（１０１） ここで、ｔはホットキャリアストレス時間を表わし、符
号Ａとｎはトランジスタの製造プロセス条件やストレス
条件に依存する係数と考えられている。
【０００７】また、ＤＣによるスタティックなホットキ
ャリアストレス条件下において、ホットキャリア劣化Δ
Ｖｔｈは次式（１０２）によって表わされる。
【０００８】 ΔＶｔｈ＝ＡVth ・ｔn …（１０２） この式においても、ｔはホットキャリアストレス時間を
表わし、符号Ａとｎはトランジスタの製造プロセス条件
やストレス条件に依存する係数であると考えられてい
る。
【０００９】ドレイン電流の変化割合が（ΔＩｄ／Ｉ
ｄ）f になるまでのストレス時間がトランジスタの寿命
時間τであると考えれば、式（１０１）から次式（１０
３）が得られ、たとえば、（ΔＩｄ／Ｉｄ）f ＝１０％
になる時間ｔが寿命時間τと定義される。
【００１０】 （ΔＩｄ／Ｉｄ）f ＝ＡId・τn …（１０３） しきい値電圧の変化量（ΔＶｔｈ）f になるまでのスト
レス時間がトランジスタの寿命時間τであると考えれ
ば、式（１０２）から次式（１０４）が得られ、たとえ
ば、（ΔＶｔｈ）f ＝１０ｍＶになるときの時間ｔが寿
命時間τと定義される。
【００１１】 （ΔＶｔｈ）f ＝ＡVth ・τn …（１０４） Ｐ−ＭＯＳトランジスタのストレス加速試験が行なわれ
るとき、通常は、たとえば１秒から１０００００秒程度
までの測定可能な時間内においてトランジスタの寿命が
式（１０３）または（１０４）で定義された変化量（Δ
Ｉｄ／Ｉｄ）fまたは（ΔＶｔｈ）f に達するように、
トランジスタにストレス条件が与えられる。そして、ト
ランジスタのストレス時におけるソース／ドレイン間の
電流方向と同じ電流方向の下に行なわれるＦＷＤモード
の測定と、反転された電流方向の下に行なわれるＲＥＶ
モードの測定が行なわれ、線形領域と飽和領域における
ΔＩｄ／ＩｄまたはΔＶｔｈに関連するトランジスタ寿
命が求められる。加速試験において用いられるストレス
電圧は、或るドレイン電圧Ｖｄに関してホットキャリア
劣化量が最も大きくなる条件に設定される。すなわち、
Ｐ−ＭＯＳトランジスタの場合、ゲート電流Ｉｇが最大
となるゲート電圧Ｖｇが用いられる。
【００１２】前述の Ong et al. は、加速実験方法を数
式化し、それらの数式を利用するシミュレーション方法
を提案している。Ong et al.によれば、Ｐ−ＭＯＳトラ
ンジスタの寿命τは、ゲート電流Ｉｇを用いた実験式
（１０５）によって表わされる。
【００１３】 τ＝Ｂ・Ｗm ・Ｉｇ-m …（１０５） ここで、Ｗはトランジスタのゲート幅を表わし、Ｂはト
ランジスタの製造プロセス条件に依存する係数であり、
ｍはホットキャリアによるインパクトイオン化に関係す
ると考えられている指数を表わす。
【００１４】式（１０３），（１０４）および（１０
５）から、係数ＡIdとＡVth は次式（１０６）および
（１０７）で表わされる。
【００１５】 ＡId＝（ΔＩｄ／Ｉｄ）f ・（Ｂ・Ｗm ・Ｉｇ-m）-n …（１０６） ＡVth ＝（ΔＶｔｈ）f ・（Ｂ・Ｗm ・Ｉｇ-m）-n …（１０７） したがって、式（１０１），（１０２），（１０６）お
よび（１０７）から、次式（１０８）および（１０９）
が得られる。
【００１６】 ΔＩｄ／Ｉｄ＝（ΔＩｄ／Ｉｄ）f ・Ｂ-n・Ｗ-mn ・Ｉｇmn・ｔn …（１０８） ΔＶｔｈ＝（ΔＶｔｈ）f ・Ｂ-n・Ｗ-mn ・Ｉｇmn・ｔn …（１０９） ここで、便宜のために次式（１１０）を定義すれば、式
（１０８）と（１０９）は次式（１１１）と（１１２）
に書き換えられる。
【００１７】 Ｆ（ｔ）＝Ｂ-n・Ｗ-mn ・Ｉｇmn・ｔn …（１１０） ΔＩｄ／Ｉｄ＝（ΔＩｄ／Ｉｄ）f ・Ｆ（ｔ） …（１１１） ΔＶｔｈ＝（ΔＶｔｈ）f ・Ｆ（ｔ） …（１１２） すなわち、Ｆ（ｔ）は、ホットキャリアストレス開始後
の時間ｔまでのストレス量を表わしている。
【００１８】図１６は、式（１１１）または（１１２）
を利用してＰ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア劣
化をシミュレートする方法の手順を示すフロー図であ
る。このフロー図において、ステップＳ１は、式（１１
１）または（１１２）中の未知のパラメータを予備測定
実験によって抽出するためのサブステップＳ１ａ〜Ｓ１
ｅを含んでいる。
【００１９】サブステップＳ１ａにおいては、式（１０
６）または（１０７）におけるゲート電流Ｉｇを決定す
るために、予備測定実験における複数の測定点に関する
データにフィットするように実験式Ｉｇ＝ｇ（Ｖｇ，Ｖ
ｄ）が決定される。ゲート電流Ｉｇを決定する方法の一
例であるラッキーエレクトロンモデルが、 IEEE Trans.
Electron Devices, vol.ED-31, pp.1116-1125, Sep, 1
984 において、Tam etal.によって述べられている。
【００２０】サブステップＳ１ｂにおいては、ＤＣスト
レス印加前の状態で、キャリアの移動度μｓや、フラッ
トバンド電圧Ｖｆｂなどのトランジスタパラメータが、
たとえばＢＳＩＭ（Berkeley Short-Channel IGFET Mod
el) を用いて抽出される。ＢＳＩＭ法は、IEEE J. Soli
d-State Circuits, vol. SC-22, pp.558-566, Aug. (19
87) において、 She et al. によって詳述されている。
その後、サブステップＳ１ｃにおいて、トランジスタに
ＤＣストレスが印加される。サブステップＳ１ｄにおい
ては、ＤＣストレス印加後におけるトランジスタパラメ
ータの抽出が行なわれる。
【００２１】ＤＣストレスの印加の前後におけるトラン
ジスタパラメータの抽出は、ストレス印加前の実際のト
ランジスタの特性とシミュレーションにおけるトランジ
スタの特性を一致させるために必要であり、また、スト
レス印加後の実際のトランジスタのホットキャリア劣化
とトランジスタパラメータの変化がどのように対応する
かを見積もるために必要である。
【００２２】サブステップＳ１ｅにおいては、実験式
（１０５）と予備実験における複数の測定点に関するデ
ータとの比較から係数Ｂと指数ｍが抽出される。
【００２３】サブステップＳ２においては、ステップＳ
１で抽出されたパラメータを用いて式（１１１）または
（１１２）の計算が行なわれ、これによってＰ−ＭＯＳ
トランジスタのホットキャリア劣化がシミュレートされ
る。
【００２４】
【発明が解決しようとする課題】上述のような先行技術
によるＰ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア劣化の
予測シミュレーションにおいては、ＤＣストレス印加後
のトランジスタパラメータは、ＢＳＩＭ法を用いて求め
られる。しかし、ＢＳＩＭ法におけるトランジスタモデ
ルには、局所的に起こるホットキャリア注入による電子
の酸化膜トラップや界面準位によるキャリアの移動度の
低下のモデルは含まれていない。そして、ストレス後の
トランジスタ特性に合わせるために、フラットバンド電
圧Ｖｆｂや移動度μｓのパラメータを変えてパラメータ
抽出が行なわれ、それらの抽出されたパラメータを用い
てシミュレーションが行なわれている。
【００２５】実際のトランジスタにおいては、ホットキ
ャリア注入を受ければ、図１７，図１８および図１９に
示されているように、前述のＦＷＤモードとＲＥＶモー
ドにおいてトランジスタ特性が異なる。
【００２６】図１７はＰ−ＭＯＳトランジスタのＦＷＤ
モードにおけるＶｄ−Ｉｄ特性の一例を示すグラフであ
り、実線の曲線はストレス印加前における特性を示し、
破線の曲線はストレス印加後の特性を示している。
【００２７】同様に図１８は、Ｐ−ＭＯＳトランジスタ
のＲＥＶモードにおけるＶｄ−Ｉｄ特性の一例を示し、
実線の曲線はストレス印加前の特性を表わし、破線の曲
線はストレス印加後の特性を表わしている。
【００２８】図１９は、Ｐ−ＭＯＳトランジスタのＦＷ
ＤモードとＲＥＶモードにおけるＶｇ−Ｉｄ特性とＶｇ
−ｇｍ特性を示している。ここで、ｇｍは相互コンダク
タンスを表わしている。図１９において、ストレス条件
はＶｄ＝−６．０ＶであってＩｇが最大になる条件に設
定され、１０００秒間のストレスが印加された。○印は
ストレス印加前のトランジスタ特性を表わし、△印はス
トレス印加後のＦＷＤモードにおけるトランジスタ特性
を表わし、そして□印はストレス印加後のＲＥＶモード
におけるトランジスタ特性を表わしている。ドレイン電
流Ｉｄの測定は、Ｖｄ＝−１．５ＶとＶｄ＝−０．２Ｖ
の２通りの条件で測定されている。
【００２９】以上のように、ＦＷＤモードとＲＥＶモー
ドにおいてトランジスタ特性が異なるのは、ホットキャ
リア注入がトランジスタ内部のドレイン近傍で局所的に
生じるからである。したがって、トランジスタのソース
／ドレインが対称形であることをモデルの基本としてい
るＢＳＩＭ法を用いる場合、ストレス後のトランジスタ
パラメータはＦＷＤモードとＲＥＶモードの両方で抽出
されなければならない。
【００３０】また、従来のシミュレーションにおいて
は、回路中のパストランジスタのようにソース／ドレイ
ン間で電流の向きが変化する双方向動作をするトランジ
スタのホットキャリア劣化をシミュレートすることはで
きない。
【００３１】上述のような先行技術の課題に鑑み、本発
明は、Ｐ−ＭＯＳトランジスタにおけるホットキャリア
劣化をＦＷＤモードとＲＥＶモードのいずれにおいても
シミュレートすることができ、かつ双方向動作時のトラ
ンジスタにおけるホットキャリア劣化の予測をも高精度
にシミュレートし得る方法を提供することを目的として
いる。
【００３２】
【課題を解決するための手段】本発明の１つの態様によ
るＰ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア劣化のシミ
ュレーション方法は、トランジスタのストレス時とトラ
ンジスタ特性の測定時との間でソース／ドレイン間の電
流の方向を変えないＦＷＤモードにおいて、次式（Ａ
１），（Ａ２），（Ａ３）および（Ａ４）を用い、 Ｖｔｈ＝Ｖｆｂ＋σ・Ｖｄ …（Ａ１） ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ …（Ａ２） （ΔＶｆｂ）f ＝Ａ・τn …（Ａ３） τ＝Ｂ・（Ｉｇ／Ｗ）-m …（Ａ４） ここで、Ｖｔｈはしきい値電圧、Ｖｄはドレイン電圧、
ＶｆｂはＶｄ＝０Ｖにおけるしきい値電圧、Ｉｇはゲー
ト電流、Ｗはゲート幅、ΔＶｔｈとΔＶｆｂはそれぞれ
ホットキャリア劣化によるＶｔｈとＶｆｂの変化量、σ
はＶｄによる酸化膜障壁の低下の効果を示す係数を表わ
し、トランジスタの寿命τは式（Ａ３）のように定義さ
れ、係数Ａ，ｎ，Ｂおよびｍは予備測定実験によって定
められ、これによってトランジスタ寿命τが予想され得
ることを特徴としている。
【００３３】本発明のもう１つの態様によるＰ−ＭＯＳ
トランジスタのホットキャリア劣化のシミュレーション
方法は、トランジスタのストレス時とトランジスタ特性
の測定時との間でソース／ドレイン間の電流方向を反転
させるＲＥＶモードにおいて、次式（Ａ１），（Ａ
５），（Ａ３）および（Ａ４）を用い、 Ｖｔｈ＝Ｖｆｂ＋σ・Ｖｄ …（Ａ１） ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ＋Δσ・Ｖｄ …（Ａ５） （ΔＶｆｂ）f ＝Ａ・τn …（Ａ３） τ＝Ｂ・（Ｉｇ／Ｗ）-m …（Ａ４） ここで、Ｖｔｈはしきい値電圧、Ｖｄはドレイン電圧、
ＶｆｂはＶｄ＝０Ｖにおけるしきい値電圧、Ｉｇはゲー
ト電流、Ｗはゲート幅、σはＶｄによる酸化膜障壁の低
下の効果を示す係数、ΔＶｔｈとΔＶｆｂとΔσはそれ
ぞれホットキャリア劣化によるＶｔｈとＶｆｂとσの変
化量を表わし、トランジスタ寿命τは式（Ａ３）のよう
に定義され、係数Ａ，ｎ，Ｂおよびｍは予備測定実験に
よって定められ、これによってトランジスタ寿命τが予
測され得ることを特徴としている。
【００３４】
【作用】本発明によるＰ−ＭＯＳトランジスタのホット
キャリア劣化のシミュレーション方法においては、ＦＷ
ＤモードとＲＥＶモードのいずれにおいてもホットキャ
リア劣化をシミュレートすることができる。また、本発
明においては、ホットキャリア劣化により変化するパラ
メータを選別し、パラメータ同士の相関関係を予備実験
によって抽出し、それらの相関関係を用いてシミュレー
トするので、ホットキャリア劣化の高精度なシミュレー
ションが可能となる。
【００３５】
【実施例】図１は、本発明によるシミュレーションにお
けるＰ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア劣化の概
念を示す等価回路図である。従来のシミュレーションに
おいては、図１５に示されるように、トランジスタパラ
メータがホットキャリア注入によって経時的に変化し、
それらのトランジスタパラメータがストレス量を基にし
て求められる。しかし、本発明のシミュレーションの概
念においては、トランジスタパラメータは維持されて、
ホットキャリアにより変化するドレイン電流Ｉｄやしき
い値電圧Ｖｔｈなどの特性が電圧制御型電流源１Ａを用
いた等価回路で表わされることを特徴としている。
【００３６】また、この電圧制御型電流源１Ａの特性を
特徴づけるパラメータは、ホットキャリアストレスによ
る予備実験によって決定されることをも特徴としてい
る。さらに、ホットキャリアストレスにより変化するパ
ラメータが選別され、それらのパラメータ同士の相関関
係を用いてホットキャリア劣化をシミュレートすること
も特徴としている。
【００３７】（実施例１）図２は、Ｐ−ＭＯＳトランジ
スタにストレス電圧を印加してホットキャリア劣化させ
た場合に、ＦＷＤモードで測定されたドレイン電圧Ｖｄ
としきい値電圧Ｖｔｈとの関係を示している。図２にお
いて、ストレスは、Ｖｄ＝−６．０Ｖの条件とゲート電
流Ｉｇが最大になる条件の下に０秒，１０秒，１００
秒，１０００秒または１００００秒の間加えられた。図
２のグラフから、しきい値電圧Ｖｔｈは、次式（１）の
ようにドレイン電圧Ｖｄの１次関数として表わされるこ
とがわかる。
【００３８】 Ｖｔｈ＝Ｖｆｂ＋σ・Ｖｄ …（１） ここで、図２のグラフ中の各直線がＶｔｈ軸と交差する
点がフラットバンド電圧Ｖｆｂに対応し、各直線の傾き
がドレイン電圧による酸化膜障壁の低下（ＤＩＢＬ：Dr
ain Induced Barrier Lowering) 効果σに対応してい
る。
【００３９】図２において、フラットバンド電圧Ｖｆｂ
はストレス時間に依存して変化しているが、ＤＩＢＬ効
果σは一定（各直線の傾きが一定）であることがわか
る。したがって、ＦＷＤモードにおけるしきい値電圧の
変化ΔＶｔｈは次式（２）で表わされる。
【００４０】 ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ …（２） 図３において、ＦＷＤモードにおけるフラットバンド電
圧の変化ΔＶｆｂとストレス時間との関係がＬｏｇ−Ｌ
ｏｇスケールでプロットされている。図３において、ス
トレス期間中に、ドレイン電圧Ｖｄとして−４．５Ｖ，
−５Ｖ，−５．５Ｖまたは−６Ｖが印加された。また、
ゲート電圧Ｖｇは、ホットキャリア変化量が最大となる
ように、ゲート電流Ｉｇが最大となる条件の下で印加さ
れた。
【００４１】図３のグラフから、フラットバンド電圧の
変化量ΔＶｆｂは、式（１０２）に類似して、次式
（３）で表わされることがわかる。
【００４２】 ΔＶｆｂ＝Ａ・ｔn …（３） ここで、Ａとｎは、トランジスタの製造プロセス条件や
ストレス条件に依存する係数である。
【００４３】したがって、たとえば（ΔＶｆｂ）f ＝１
０ｍＶになるときをトランジスタの寿命τであると定義
すれば、寿命τは次式（４）で表わされる。
【００４４】 τ＝｛（ΔＶｆｂ）f ／Ａ｝1/n …（４） 図４は寿命τとゲート電流Ｉｇとの関係を示すグラフで
あり、寿命τは式（１０５）と同様に式（５）で表わさ
れることがわかる。
【００４５】 τ＝Ｂ・（Ｉｇ／Ｗ）-m …（５） したがって、式（３）における係数Ａは、式（１０７）
と類似した次式（６）で表わされる。
【００４６】 Ａ＝ＡVfb ＝（ΔＶｆｂ）f ・（Ｂ・Ｗm ・Ｉｇ-m）-n …（６） ゆえに、フラットバンド電圧の変化量ΔＶｆｂは、式
（１０９）に類似した次式（７）で表わされる。
【００４７】 ΔＶｆｂ＝（ΔＶｆｂ）f ・Ｂ-n・Ｗ-mn ・Ｉｇmn・ｔn …（７） 式（７）における係数Ｂ，ｍおよびｎを予備実験によっ
て抽出することにより、Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホッ
トキャリア劣化後のフラットバンド電圧ＶｆｂまたはＦ
ＷＤモードのしきい値電圧Ｖｔｈをシミュレーションで
求めることが可能となる。
【００４８】すなわち、実施例１のＦＷＤモードにおい
てはＤＩＢＬ効果σが変化しないので、フラットバンド
電圧ＶｆｂをΔＶｆｂだけ変化させることによって、ス
トレス後のしきい値電圧Ｖｔｈを精度よくシミュレート
することができる。
【００４９】（実施例２）図５は、Ｐ−ＭＯＳトランジ
スタにストレス電圧を印加してホットキャリア劣化させ
た場合に、ＲＥＶモードで測定されたドレイン電圧Ｖｄ
としきい値電圧Ｖｔｈとの関係を示している。図５にお
けるストレス条件は、図２の場合と同様である。図５の
グラフに示された直線において、ストレス時間が長くな
るに従ってそれらの直線の傾斜が大きくなっている。す
なわち、ストレス時間が長くなるに従って、式（１）中
のＤＩＢＬ効果σの絶対値が大きくなることがわかる。
したがって、ＲＥＶモードにおけるしきい値電圧の変化
ΔＶｔｈは、式（２）ではなくて次式（８）で表わされ
ることがわかる。
【００５０】 ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ＋Δσ・Ｖｄ …（８） 一方、図５を図４と比較して、フラットバンド電圧Ｖｆ
ｂは、ＦＷＤモードとＲＥＶモードの両方において、ス
トレス時間に依存して同じ量ΔＶｆｂだけ変化している
ことがわかる。すなわち、フラットバンド電圧の変化Δ
Ｖｆｂは、ホットキャリア注入による電子の酸化膜トラ
ップに基づく変化であることがわかる。したがって、Ｒ
ＥＶモードにおけるフラットバンド電圧の変化ΔＶｆｂ
は、実施例１の場合と同様に求めることができる。ま
た、求められたフラットバンド電圧の変化量ΔＶｆｂに
加えて、ＤＩＢＬ効果の変化Δσを考慮することによ
り、式（８）に基づいてホットキャリア劣化後のＲＥＶ
モードにおけるしきい値電圧の変化ΔＶｔｈを求めるこ
とができる。
【００５１】すなわち、実施例２のＲＥＶモードにおい
ては、ストレス時間に依存するフラットバンド電圧の変
化ΔＶｆｂのみならずストレス時間に依存するＤＩＢＬ
効果σの変化量Δσをも考慮することによって、ホット
キャリア劣化後のＲＥＶモードにおけるＶｔｈを精度よ
くシミュレートすることができる。
【００５２】（実施例３）図６は、Ｐ−ＭＯＳトランジ
スタにストレス電圧を印加してホットキャリア劣化させ
た場合に、ＲＥＶモードにおけるフラットバンド電圧の
変化ΔＶｆｂとＤＩＢＬ効果の変化Δσとの関係を示し
ている。ストレス条件として、−４．５Ｖ，−５．０
Ｖ，−５．５Ｖまたは−６．０Ｖのドレイン電圧Ｖｄが
印加された。また、ゲート電圧Ｖｇは、ゲート電流Ｉｇ
が最大になる条件の下に与えられた。図６から、ΔＶｆ
ｂとΔσは、ドレイン電圧Ｖｄの如何にかかわらず次式
（９）で表わされることがわかる。
【００５３】 Δσ＝Ｃ１・ΔＶｆｂ …（９） ここで、係数Ｃ１は、製造プロセス条件、ゲート酸化膜
厚、およびゲート長に依存する係数である。
【００５４】よって、式（８）と（９）の関係から、Ｒ
ＥＶモードにおけるしきい値電圧の変化ΔＶｔｈは、次
式（１０）を用いて求めることができる。
【００５５】 ΔＶｔｈ＝（１＋Ｃ１・Ｖｄ）・ΔＶｆｂ …（１０） したがって、実施例１に示された式（７）における係数
Ｂ，ｍおよびｎを予備実験で抽出してフラットバンド電
圧の変化ΔＶｆｂを求め、式（９）の係数Ｃ１をも予備
実験で定めることによって、しきい値電圧の変化ΔＶｔ
ｈをシミュレーションで求めることが可能となる。
【００５６】すなわち、実施例３のＲＥＶモードにおい
ては、フラットバンド電圧の変化ΔＶｆｂとＤＩＢＬ効
果の変化Δσとを関係づける係数Ｃ１を予備実験で定め
ることにより、ΔＶｆｂを求めるだけでストレス後のし
きい値電圧Ｖｔｈを精度よくシミュレートすることがで
きる。
【００５７】（実施例４）図７は、ホットキャリアスト
レス印加前のＰ−ＭＯＳトランジスタにおける実効チャ
ネル長ＬｅｆｆとＤＩＢＬ効果σとの関係を示してい
る。図７のグラフから、Ｌｅｆｆとσの関係は、次式
（１１）で表わされ、係数Ｃ２は、製造プロセス条件と
ゲート酸化膜厚に依存する係数である。
【００５８】 Ｌｅｆｆ∝σ1/C2 …（１１） 実施例２においてＤＩＢＬ効果σがホットキャリアスト
レスによって変化し得ることが示されているので、ＤＩ
ＢＬ効果の変化Δσと式（１１）を用いて、ホットキャ
リアストレスによる電子の酸化膜トラップに起因する実
効チャネル長ＬｅｆｆのショートニングＬｅｔは次式
（１２）で表わされる。
【００５９】 （Ｌｅｆｆ−Ｌｅｔ）／Ｌｅｆｆ＝｛（σ＋Δσ）／σ｝1/C2 …（１２） この式（１２）は、次式（１３）のように書き換えるこ
とができる。
【００６０】 Ｌｅｔ＝Ｌｅｆｆ・［１−｛（σ＋Δσ）／σ｝1/C2］ …（１３） したがって、係数Ｃ２を予備実験で定めることによっ
て、実効チャネル長のショートニングＬｅｔを求めるこ
とができる。ホットキャリアストレスを受けたＰ−ＭＯ
ＳトランジスタのパラメータにこのＬｅｔを後述の実施
例におけるように組込むことにより、ホットキャリア劣
化によるトランジスタ特性の変化をより正確にシミュレ
ートすることができる。
【００６１】すなわち、実施例４においては、ＤＩＢＬ
効果σとホットキャリアストレスによるＤＩＢＬ効果の
変化量Δσを用いることにより、実効チャネル長のショ
ートニングＬｅｔを定量的に求めることができる。この
Ｌｅｔを利用することによって、Ｐ−ＭＯＳトランジス
タのホットキャリア劣化をさらに高精度にシミュレート
することが可能となる。
【００６２】（実施例５）図８において、測定されたゲ
ート電圧Ｖｇとしきい値電圧Ｖｔｈの差に関して１／β
がプロットされている。○印，□印，△印，◇印および
●印は、それぞれ０秒，１０秒，１００秒，１０００秒
および１００００秒のストレス時間後の測定結果を表わ
している。
【００６３】βは、トランジスタの線形領域において次
式（１４）で定義される。 β＝（∂Ｉｄ／∂Ｖｇ）／Ｖｄ …（１４） また、βは線形領域におけるドレイン電流のモデル式
（１５）において用いられ、次式（１６）で表わされ
る。
【００６４】 Ｉｄ＝β・Ｖｄ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ−Ｖｄ／２） ＝Ｗ・（Ｃｏｘ／Ｌｅｆｆ）・［μｓ／｛１＋μｓ ・（Ｖｄ／Ｖｍａｘ）／Ｌｅｆｆ｝］・Ｖｄ ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ−Ｖｄ／２） …（１５） β＝Ｗ・（Ｃｏｘ／Ｌｅｆｆ）・［μｓ／｛１＋μｓ ・（Ｖｄ／Ｖｍａｘ）／Ｌｅｆｆ｝］ …（１６） ここで、Ｃｏｘはゲート酸化膜容量、そしてＶｍａｘは
飽和速度を表わす。
【００６５】キャリアの移動度μｓは次式（１７）で表
わされることが知られている。 μｓ＝Ｕ０／（１＋θ（Ｖｇ−Ｖｔｈ） …（１７） ここで、Ｕ０はＶｇ＝Ｖｔｈのときの移動度を表わし、
θは移動度の垂直電界依存性を表わしている。
【００６６】したがって、式（１６）は次式（１６ａ）
のように書き換えられる。 １／β＝｛（Ｌｅｆｆ／Ｗ）／Ｃｏｘ｝ ・｛１／Ｕ０＋θ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ）／Ｕ０｝ ＋｛（Ｖｄ／Ｖｍａｘ）／Ｗ｝／Ｃｏｘ …（１６ａ） 飽和速度Ｖｍａｘはホットキャリアストレスに依存しな
い不変の物理量であるので、図８のグラフにおいて｜Ｖ
ｇ｜が｜Ｖｔｈ｜より比較的大きな領域で１／βをＶｇ
の１次関数で近似すれば、その１次関数の比例乗数ａ１
は式（１６ａ）から次式（１８ａ）で表わされる。
【００６７】 ａ１＝Ｌｅｆｆ・｛（θ／Ｗ）／Ｃｏｘ｝／Ｕ０ …（１８ａ） また、Ｖｇ＝Ｖｔｈにおける１／β軸の切片ｂ１は、式
（１６ａ）に基づいて次式（１８）で表わされる。
【００６８】 ｂ１＝｛（Ｌｅｆｆ／Ｗ）／Ｃｏｘ｝／Ｕ０ ＋｛（Ｖｄ／Ｖｍａｘ）／Ｗ｝／ Ｃｏｘ …（１８ｂ） したがって、式（１８ａ）と（１８ｂ）から、移動度の
垂直電界依存性θは次式（１９）で表わされる。
【００６９】 θ＝ａ１／［ｂ１−｛（Ｖｄ／Ｖｍａｘ）／Ｗ｝／Ｃｏｘ］ …（１９） 図８のグラフにおいて、１／βと（Ｖｇ−Ｖｔｈ）との
関係における比例乗数ａ１は、ストレス時間に依存して
変化していることがわかる。この比例乗数ａ１の変化
は、式（１７）における移動度の垂直電界依存性θの変
化Δθに依存している。
【００７０】図９において、実施例１と２で示されたフ
ラットバンド電圧の変化ΔＶｆｂと移動度の垂直電界依
存性の変化Δθとの関係が示されている。○印，△印お
よび□印は、それぞれ−６．０Ｖ，−５．５Ｖ，−５．
０Ｖのドレイン電圧Ｖｄによるストレスを表わしてい
る。Δθは式（１９）を用いて計算され得る。図９のグ
ラフからわかるように、ΔθとΔＶｆｂは線形の関係に
あり、次式（２０）によって表わされ得る。
【００７１】 Δθ＝Ｃ３・ΔＶｆｂ …（２０） ここで、Ｃ３は、製造プロセス条件、ゲート酸化膜厚お
よびゲート長に依存する定数である。
【００７２】したがって、係数Ｃ３を予備実験によって
定めることによって、実施例１または２で求められるフ
ラットバンド電圧の変化ΔＶｆｂを用いて、ホットキャ
リアストレス後のドレイン電流におけるキャリア移動度
の垂直電界依存性の変化Δθをシミュレートすることが
できる。
【００７３】すなわち、実施例５においては、係数Ｃ３
を予備実験によって抽出することにより、Ｐ−ＭＯＳト
ランジスタのホットキャリア劣化におけるドレイン電流
特性と密接な関係を有するキャリア移動度の垂直電界依
存性の変化Δθを求めることができる。したがって、式
（１７）に基づいて、ホットキャリアストレス後の移動
度μｓを精度よくシミュレートすることができる。
【００７４】（実施例６）図８に関連して前述されたよ
うに、１／βは｜Ｖｇ｜が｜Ｖｔｈ｜に対して大きい領
域では式（１６ａ）で表わされることがわかっている。
また、キャリア移動度の垂直電界依存性θは式（１９）
で求められるので、Ｖｇ＝Ｖｔｈにおける移動度Ｕ０は
式（１８ａ）より次式（２１）で表わされる。
【００７５】 Ｕ０＝Ｌｅｆｆ・｛（θ／Ｗ）／Ｃｏｘ｝／ａ１ …（２１） また、Ｕ０は、図８のＶｇ＝Ｖｔｈにおける１／β軸の
切片ｂ１を用いて次式（２２）からも求めることができ
る。
【００７６】 Ｕ０＝Ｗ・Ｃｏｘ・ｂ１／Ｌｅｆｆ−（Ｖｄ／Ｖｍａｘ）／Ｌｅｆｆ …（２２） ところで、図８において、Ｖｇ＝Ｖｔｈにおける１／β
軸の切片ｂ１は、ホットキャリアストレス時間に依存し
て変化している。この切片ｂ１の変化は、式（１８ｂ）
から、Ｌｅｆｆの変化（Ｌｅｆｆ−Ｌｅｔ）とＵ０の変
化ΔＵ０に基づいていることがわかる。このＵ０の変化
ΔＵ０は、実施例４で求められるＬｅｆｆのショートニ
ングＬｅｔを式（２１）または（２２）内にとり入れる
ことによって求めることができる。
【００７７】図１０は、こうして求められるＶｇ＝Ｖｔ
ｈにおける移動度の変化ΔＵ０と実施例１または２で示
されたフラットバンド電圧の変化ΔＶｆｂとの関係を示
している。図１０のグラフにおいて、○印，△印および
□印は、それぞれ−６．０Ｖ，−５．５Ｖおよび−５．
０Ｖのドレイン電圧Ｖｄによるストレスを表わしてい
る。図１０のグラフにおいて、ΔＵ０とΔＶｆｂは線形
の関係にあり、次式（２３）で表わされることがわか
る。
【００７８】 ΔＵ０＝Ｃ４・ΔＶｆｂ …（２３） ここで、Ｃ４は、製造プロセス条件，ゲート酸化膜厚お
よびゲート長に依存する定数である。
【００７９】したがって、予備実験によって係数Ｃ４を
定めれば、実施例１または２で求められるΔＶｆｂか
ら、ホットキャリアストレス後のＶｇ＝Ｖｔｈにおける
キャリア移動度の変化ΔＵ０をシミュレートすることが
できる。
【００８０】すなわち、実施例６によれば、係数Ｃ４を
予備実験で定めることにより、ホットキャリアストレス
後におけるＶｇ＝Ｖｔｈの条件でのキャリア移動度の変
化ΔＵ０を求めることができ、Ｐ−ＭＯＳトランジスタ
のドレイン電流と密接な関係を有するキャリア移動度を
精度良くシミュレートすることができる。
【００８１】（実施例７）図１１において、Ｐ−ＭＯＳ
トランジスタの線形領域において、ＦＷＤモードの下で
のドレイン電流の変化率ΔＩｄ／Ｉｄとストレス時間と
の関係がＬｏｇ−Ｌｏｇスケールでプロットされてい
る。ストレス条件として、−６．０Ｖのドレイン電圧Ｖ
ｄとゲート電流が最大になるゲート電圧Ｖｇが印加され
た。図１１のグラフにおいて○印はＶｄ＝−０．２Ｖと
Ｖｇ＝−１．５Ｖを用いた測定結果を表わし、△印はＶ
ｄ＝−０．２ＶとＶｇ＝−２．０Ｖを用いた測定結果を
表わしている。さらに、実線の曲線はシミュレーション
による結果を示している。
【００８２】線形領域におけるドレイン電流Ｉｄは、次
式（１５）で表わされることが知られている。
【００８３】 Ｉｄ＝Ｗ・（Ｃｏｘ／Ｌｅｆｆ）・［μｓ／｛１＋μｓ ・（Ｖｄ／Ｖｍａｘ）／Ｌｅｆｆ｝］・Ｖｄ ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ−Ｖｄ／２） …（１５） ホットキャリアストレス後のＦＷＤモードにおけるしき
い値電圧Ｖｔｈ′は、実施例１の式（２）の関係から次
式（２４）で表わされる。
【００８４】 Ｖｔｈ′＝Ｖｔｈ−ΔＶｔｈ＝Ｖｔｈ−ΔＶｆｂ …（２４） また、ホットキャリアストレス後のＦＷＤモードにおけ
る移動度の垂直電界依存性θ′は実施例５から次式（２
５）で表わされ、Ｖｇ＝Ｖｔｈにおける移動度Ｕ０′は
実施例６から次式（２６）で表わされるので、ホットキ
ャリア劣化後のキャリア移動度μｓ′は次式（２７）で
表わされる。
【００８５】 θ′＝θ＋Δθ …（２５） Ｕ０′＝Ｕ０＋ΔＵ０ …（２６） μｓ′＝Ｕ０′／｛１＋θ′・（Ｖｇ−Ｖｔｈ′）｝ …（２７） また、ホットキャリアストレス後の実効チャネル長Ｌｅ
ｆｆ′は、実施例４から次式（２７．５）で表わされ
る。
【００８６】 Ｌｅｆｆ′＝Ｌｅｆｆ−Ｌｅｔ＝Ｌｅｆｆ・｛（σ＋Δσ）／σ｝1/C2 …（２７．５） したがって、ホットキャリアストレス後のＦＷＤモード
における線形領域のドレイン電流Ｉｄ′(FWD,LIN) は、
式（２４）のＶｔｈ′，式（２７）のμｓ′および式
（２７．５）のＬｅｆｆ′を用いて次式（２８）で表わ
される。
【００８７】 Ｉｄ′(FWD,LIN) ＝Ｗ・（Ｃｏｘ／Ｌｅｆｆ′）・［μｓ′／｛１＋μｓ′ ・（Ｖｄ／Ｖｍａｘ）／Ｌｅｆｆ′｝］・Ｖｄ ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ′−Ｖｄ／２） …（２８） よって、ホットキャリアストレス後のＦＷＤモードにお
ける線形領域のドレイン電流変化割合ΔＩｄ／Ｉｄ
(FWD,LIN) は、次式（２９）で表わされる。
【００８８】 ΔＩｄ／Ｉｄ(FWD,LIN) ＝（Ｉｄ′−Ｉｄ）／Ｉｄ ＝μｓ′／μｓ・｛（μｓ・Ｖｄ＋Ｖｍａｘ・Ｌｅｆｆ） ／（μｓ′・Ｖｄ＋Ｖｍａｘ・Ｌｅｆｆ′）｝ ・｛（Ｖｇ−Ｖｔｈ′−Ｖｄ／２） ／（Ｖｇ−Ｖｔｈ−Ｖｄ／２）｝−１ …（２９） 図１１のグラフにおける実線の曲線は、式（２９）を用
いたシミュレーション結果を示しており、実測結果と高
精度で一致していることがわかる。
【００８９】すなわち、実施例７においては、式（２
９）と前述の実施例で求められるΔＶｔｈ，Δθ，ΔＵ
０およびＬｅｆｆ′を用いることによって、ホットキャ
リアストレス後のＦＷＤモードにおける線形領域のドレ
イン電流Ｉｄを精度よくシミュレートすることができ
る。
【００９０】（実施例８）図１２において、ホットキャ
リアストレス後のＲＥＶモードにおけるＰ−ＭＯＳトラ
ンジスタの線形領域でのドレイン電流の変化割合ΔＩｄ
／Ｉｄとストレス時間との関係がＬｏｇ−Ｌｏｇスケー
ルでプロットされている。図１２のグラフにおいて、ス
トレス条件として−６．０Ｖのドレイン電圧Ｖｄとゲー
ト電流を最大にするゲート電圧Ｖｇが印加された。○印
はＶｄ＝−０．２ＶとＶｇ＝−１．５Ｖを用いた測定結
果を表わしており、△印はＶｄ＝−０．２ＶとＶｇ＝−
２．０Ｖを用いた測定結果を表わしている。また、実線
の曲線はシミュレーション結果を表わしている。
【００９１】ホットキャリアストレス後のＲＥＶモード
においても、式（１５），（２５），（２６），（２
７）および（２７．５）を利用し得る。これらの式に加
えて、ＲＥＶモードにおけるホットキャリアストレス後
のしきい値電圧Ｖｔｈ′は実施例２の式（８）および実
施例３の式（１０）の関係から次式（３０）で表わされ
る。
【００９２】 Ｖｔｈ′＝Ｖｔｈ−ΔＶｔｈ＝Ｖｔｈ−ΔＶｆｂ−Δσ・Ｖｄ ＝Ｖｔｈ−（１＋Ｃ１・Ｖｄ）・ΔＶｆｂ …（３０） したがって、ホットキャリアストレス後のＲＥＶモード
における線形領域のドレイン電流Ｉｄ′(REV,LIN) は、
式（３０）のＶｔｈ′と式（２７）のμｓ′と式（２
７．５）のＬｅｆｆ′を用いて次式（３１）で表わされ
る。
【００９３】 Ｉｄ′(REV,LIN) ＝Ｗ・（Ｃｏｘ／Ｌｅｆｆ′）・［μｓ′／｛１＋μｓ′ ・（Ｖｄ／Ｖｍａｘ）／Ｌｅｆｆ′｝］・Ｖｄ ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ′−Ｖｄ／２） …（３１） その結果、ホットキャリアストレス後のＲＥＶモードに
おける線形領域のドレイン電流の変化割合ΔＩｄ／Ｉｄ
(REV,LIN) は、次式（３２）で表わされる。
【００９４】 ΔＩｄ／Ｉｄ(REV,LIN) ＝（Ｉｄ′−Ｉｄ）／Ｉｄ ＝Ｌｅｆｆ／Ｌｅｆｆ′・（μｓ′／μｓ） ・｛（μｓ・Ｖｄ＋Ｖｍａｘ・Ｌｅｆｆ） ／（μｓ′・Ｖｄ＋Ｖｍａｘ・Ｌｅｆｆ′）｝ ・｛（Ｖｇ−Ｖｔｈ′−Ｖｄ／２） ／（Ｖｇ−Ｖｔｈ−Ｖｄ／２）｝−１ …（３２） 図１２のグラフ中の実線の曲線は、この式（３２）を用
いたシミュレーション結果を示しており、実測結果と高
い精度で一致していることがわかる。
【００９５】すなわち、実施例８によれば、式（３２）
と前述の実施例で求められるΔＶｔｈ，Δθ，ΔＵ０お
よびＬｅｆｆ′を用いることによって、ホットキャリア
ストレス後のＲＥＶモードにおける線形領域のドレイン
電流を精度よくシミュレートすることができる。
【００９６】（実施例９）図１３において、Ｐ−ＭＯＳ
トランジスタのＦＷＤモードにおける飽和領域のドレイ
ン電流の変化割合ΔＩｄ／Ｉｄとストレス時間との関係
がＬｏｇ−Ｌｏｇスケールでプロットされている。図１
３のグラフにおいて、ストレス条件として−６．０Ｖの
ドレイン電圧Ｖｄとゲート電流を最大にするゲート電圧
Ｖｇが印加された。□印は、Ｖｄ＝−１．５ＶとＶｇ＝
−１．５Ｖを用いた測定結果を示しており、◇印は、Ｖ
ｄ＝−２．０ＶとＶｇ＝−２．０Ｖを用いた測定結果を
示している。また、実線の曲線はシミュレーションの結
果を示している。
【００９７】飽和領域におけるドレイン電流Ｉｄは、次
式（３３）で表わされることが知られている。
【００９８】 Ｉｄ＝Ｗ・｛Ｃｏｘ／（Ｌｅｆｆ−ΔＬ）｝・［μｓ／｛１＋μｓ ・（Ｖｄｓａｔ／Ｖｍａｘ）／（Ｌｅｆｆ−ΔＬ）｝］ ・Ｖｄｓａｔ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ−Ｖｄｓａｔ／２） …（３３） 式（３３）内における飽和ドレイン電圧Ｖｄｓａｔは次
式（３４）で表わされ、飽和速度領域長ΔＬは次式（３
５）で表わされる。
【００９９】 Ｖｄｓａｔ＝｛（Ｖｇ−Ｖｔｈ）・Ｅｓａｔ・Ｌｅｆｆ｝ ／｛Ｅｓａｔ・Ｌｅｆｆ＋（Ｖｇ−Ｖｔｈ）｝ …（３４） ΔＬ＝ｋ・ｌｎ［｛（Ｖｄ−Ｖｄｓａｔ）／ｋ＋Ｅｍ｝／Ｅｓａｔ］ …（３５） 式（３５）における内部電界Ｅｍは次式（３６）で表わ
され、ｋは接合深さＸｊとゲート酸化膜厚ｔｏｘを含む
次式（３７）で表わされる。
【０１００】 Ｅｍ＝｛（Ｖｄ−Ｖｄｓａｔ）2 ／ｋ2 ＋Ｅｓａｔ2 ｝1/2 …（３６） ｋ＝０．２・Ｘｊ1/2 ・ｔｏｘ1/3 …（３７） ホットキャリアストレス後のＦＷＤモードにおけるしき
い値電圧Ｖｔｈ′は式（２４）で表わされ、移動度μ
ｓ′は式（２７）で表わされる。さらに、ホットキャリ
アストレス後のＦＷＤモードにおける飽和ドレイン電圧
Ｖｄｓａｔ′は次式（３８）で表わされる。
【０１０１】 Ｖｄｓａｔ′＝｛（Ｖｇ−Ｖｔｈ−ΔＶｔｈ）・Ｅｓａｔ・Ｌｅｆｆ｝ ／｛Ｅｓａｔ・Ｌｅｆｆ＋（Ｖｇ−Ｖｔｈ＋ΔＶｔｈ）｝ …（３８） したがって、ホットキャリアストレス後のＦＷＤモード
における飽和領域のドレイン電流Ｉｄ′(FWD,SAT) は、
式（２４）のＶｔｈ′，式（２７）のμｓ′および式
（３８）のＶｄｓａｔ′を用いて次式（３９）で表わさ
れる。
【０１０２】 Ｉｄ′(FWD,SAT) ＝Ｗ・｛Ｃｏｘ／（Ｌｅｆｆ−ΔＬ）｝ ・［μｓ′／｛１＋μｓ′・（Ｖｄｓａｔ′／Ｖｍａｘ） ／（Ｌｅｆｆ−ΔＬ）｝］・Ｖｄｓａｔ′ ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ′−Ｖｄｓａｔ′／２） …（３９） その結果、ホットキャリアストレス後のＦＷＤモードに
おける飽和領域のドレイン電流の変化割合ΔＩｄ／Ｉｄ
(FWD,SAT) は、次式（４０）で表わされる。
【０１０３】 ΔＩｄ／Ｉｄ(FWD,SAT) ＝（Ｉｄ′−Ｉｄ）／Ｉｄ ＝（μｓ′／μｓ）・［｛μｓ・Ｖｄｓａｔ＋Ｖｍａｘ ・（Ｌｅｆｆ−ΔＬ）｝／｛μｓ′・Ｖｄｓａｔ′＋Ｖｍａｘ ・（Ｌｅｆｆ−ΔＬ）｝］ ・｛（Ｖｇ−Ｖｔｈ′−Ｖｄｓａｔ′／２） ／（Ｖｇ−Ｖｔｈ−Ｖｄｓａｔ／２）｝ ・（Ｖｄｓａｔ′／Ｖｄｓａｔ）−１ …（４０） 図１３のグラフにおける実線の曲線はこの式（４０）を
用いたシミュレーション結果を示しており、実測の結果
と精度よく一致していることがわかる。
【０１０４】すなわち、実施例９によれば、前述の実施
例で求められるΔＶｔｈ，ΔθおよびΔＵ０と、式（３
８）で求められるＶｄｓａｔ′および式（４０）を用い
ることによって、ホットキャリアストレス後のＦＷＤモ
ードにおける飽和領域のドレイン電流を精度よくシミュ
レートすることができる。
【０１０５】（実施例１０）図１４において、Ｐ−ＭＯ
Ｓトランジスタのホットキャリアストレス後のＲＥＶモ
ードにおける飽和領域のドレイン電流の変化割合ΔＩｄ
／Ｉｄとストレス時間との関係がＬｏｇ−Ｌｏｇスケー
ルでプロットされている。図１４のグラフにおいて、ス
トレス条件として−６．０Ｖのドレイン電圧Ｖｄとゲー
ト電流を最大にするゲート電圧Ｖｇが印加された。□印
はＶｄ＝−１．５ＶとＶｇ＝−１．５Ｖを用いた測定結
果を示しており、◇印はＶｄ＝−２．０ＶとＶｇ＝−
２．０Ｖを用いた測定結果を示している。また、実線の
曲線はシミュレーションの結果を示している。前述のよ
うに、ストレス印加前においては飽和ドレイン電圧Ｖｄ
ｓａｔは式（３４）で表わされ、飽和測定領域長ΔＬは
式（３５）で表わされる。そのとき、内部電界Ｅｍは式
（３６）で表わされ、ｋは式（３７）で表わされる。ま
た、ホットキャリアストレス後のＲＥＶモードにおける
しきい値電圧Ｖｔｈ′は式（３０）で表わされ、移動度
μｓ′は式（２７）で表わされる。
【０１０６】さらに、ホットキャリアストレス後のＲＥ
Ｖモードにおける実効チャネル長Ｌｅｆｆ′は式（２
７．５）で表わされ、飽和ドレイン電圧Ｖｄｓａｔ′は
次式（４１）で表わされる。
【０１０７】 Ｖｄｓａｔ′＝｛（Ｖｇ−Ｖｔｈ−ΔＶｔｈ）・Ｅｓａｔ・Ｌｅｆｆ′｝ ／｛Ｅｓａｔ・Ｌｅｆｆ′＋（Ｖｇ−Ｖｔｈ＋ΔＶｔｈ）｝ …（４１） したがって、ホットキャリアストレス後のＲＥＶモード
における飽和領域のドレイン電流Ｉｄ′(REV,SAT) は、
式（３０）のＶｔｈ′，式（２７）のμｓ′，式（２
７．５）のＬｅｆｆ′および式（４１）のＶｄｓａｔ′
を用いて、次式（４２）で表わされる。
【０１０８】 Ｉｄ′(FWD,SAT) ＝Ｗ・｛Ｃｏｘ／（Ｌｅｆｆ′−ΔＬ）｝ ・［μｓ′／｛１＋μｓ′・（Ｖｄｓａｔ′／Ｖｍａｘ） ／（Ｌｅｆｆ′−ΔＬ）｝］・Ｖｄｓａｔ′ ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ′−Ｖｄｓａｔ′／２） …（４２） その結果、ホットキャリアストレス後のＲＥＶモードに
おける飽和領域のドレイン電流の変化割合ΔＩｄ／Ｉｄ
(FWD,SAT) は、次式（４３）で表わされる。
【０１０９】 ΔＩｄ／Ｉｄ(FWD,SAT) ＝（Ｉｄ′−Ｉｄ）／Ｉｄ ＝（μｓ′／μｓ）・｛（Ｌｅｆｆ′−ΔＬ） ／（Ｌｅｆｆ−ΔＬ）｝・［｛μｓ・Ｖｄｓａｔ＋Ｖｍａｘ ・（Ｌｅｆｆ−ΔＬ）｝／｛μｓ′・Ｖｄｓａｔ′＋Ｖｍａｘ ・（Ｌｅｆｆ′−ΔＬ）｝］ ・｛（Ｖｇ−Ｖｔｈ′−Ｖｄｓａｔ′／２） ／（Ｖｇ−Ｖｔｈ−Ｖｄｓａｔ／２）｝ ・（Ｖｄｓａｔ′／Ｖｄｓａｔ）−１ …（４３） 図１４のグラフにおける実線の曲線は、式（４３）を用
いたシミュレーション結果を示しており、実測の結果と
精度よく一致していることがわかる。
【０１１０】すなわち、実施例１０によれば、前述の実
施例で求められるΔＶｔｈ，Δθ，ΔＵ０およびＬｅｆ
ｆ′と、式（４１）で求められるＶｄｓａｔ′および式
（４３）を用いることによって、ホットキャリアストレ
ス後のＲＥＶモードにおける飽和領域のドレイン電流を
精度よくシミュレートすることができる。
【０１１１】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、Ｐ−Ｍ
ＯＳトランジスタのホットキャリアストレス後のＦＷＤ
モードとＲＥＶモードにおける種々のトランジスタ特性
のホットキャリア劣化を精度よくシミュレートし得る方
法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明によるシミュレーション方法の概念を
説明するための等価回路図である。
【図２】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリアス
トレス後のＦＷＤモードにおけるしきい値電圧Ｖｔｈと
ドレイン電圧Ｖｄとの関係を示すグラフである。
【図３】 ＦＷＤモードにおけるフラットバンド電圧の
変化ΔＶｆｂとストレス時間との関係を示すグラフであ
る。
【図４】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア劣
化による寿命τとゲート電流Ｉｇとの関係を示すグラフ
である。
【図５】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリアス
トレス後のＲＥＶモードにおけるしきい値電圧Ｖｔｈと
ドレイン電圧Ｖｄとの関係を示すグラフである。
【図６】 ＲＥＶモードにおけるフラットバンド電圧の
変化ΔＶｆｂとＤＩＢＬ効果の変化Δσとの関係を示す
グラフである。
【図７】 ホットキャリアストレス印加前のＰ−ＭＯＳ
トランジスタにおける実効チャネル長ＬｅｆｆとＤＩＢ
Ｌ効果σとの関係を示すグラフである。
【図８】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリアス
トレス印加の前後におけるゲート電圧Ｖｇとしきい値電
圧Ｖｔｈの差に関して１／βをプロットしたグラフであ
る。
【図９】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア劣
化後におけるキャリア移動度の垂直電界依存性の変化Δ
θとフラットバンド電圧の変化ΔＶｆｂとの関係を示す
グラフである。
【図１０】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア
劣化後においてＶｇ＝Ｖｔｈにおける移動度の変化ΔＵ
０とフラットバンド電圧の変化ΔＶｆｂとの関係を示す
グラフである。
【図１１】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア
ストレス後のＦＷＤモードにおいて線形領域のドレイン
電流の変化割合ΔＩｄ／Ｉｄとストレス時間との関係を
示すグラフである。
【図１２】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア
ストレス後のＲＥＶモードにおける線形領域のドレイン
電流の変化割合ΔＩｄ／Ｉｄとストレス時間との関係を
示すグラフである。
【図１３】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア
ストレス後のＦＷＤモードにおける飽和領域のドレイン
電流の変化割合ΔＩｄ／Ｉｄとストレス時間との関係を
示すグラフである。
【図１４】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア
ストレス後のＲＥＶモードにおける飽和領域のドレイン
電流の変化割合ΔＩｄ／Ｉｄとストレス時間との関係を
示すグラフである。
【図１５】 先行技術によるＰ−ＭＯＳトランジスタの
ホットキャリア劣化のシミュレーションの概念を説明す
るための等価回路図である。
【図１６】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリア
劣化に関する従来のシミュレーション方法の手順を示す
フロー図である。
【図１７】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのストレス印加の
前後におけるＦＷＤモードでの測定によるＶｄ−Ｉｄ特
性を示すグラフである。
【図１８】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのストレス印加の
前後におけるＲＥＶモードでの測定によるＶｄ−Ｉｄ特
性を示すグラフである。
【図１９】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのストレス印加の
前後におけるＦＷＤモードとＲＥＶモードで測定された
線形領域のＶｇ−Ｉｄ特性，飽和領域におけるＶｇ−Ｉ
ｄ特性およびＶｇ−ｇｍ特性を示すグラフである。
【符号の説明】
１Ａ 電圧制御型電流源、Ｉｄ ドレイン電流、Ｖｄ
ドレイン電圧、Ｖｔｈしきい値電圧、Ｉｇ ゲート電
流、Ｖｆｂ フラットバンド電圧、τ トランジスタの
ホットキャリア寿命、σ ドレイン電圧による酸化膜障
壁の低下の効果の係数、Ｌｅｆｆ 実効チャネル長、β
線形領域におけるドレイン電流のゲート電圧依存性を
ゲート電圧で微分してドレイン電圧で割った値、θ キ
ャリアの移動度の垂直電界依存性、Ｕ０ Ｖｇ＝Ｖｔｈ
におけるキャリアの移動度、ｇｍ相互コンダクタンス。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリ
    ア劣化のシミュレーション方法であって、トランジスタ
    のストレス時とトランジスタ特性の測定時との間でソー
    ス／ドレイン間の電流の方向を変えないＦＷＤモードに
    おいて、次式（Ａ１），（Ａ２），（Ａ３）および（Ａ
    ４）を用い、 Ｖｔｈ＝Ｖｆｂ＋σ・Ｖｄ …（Ａ１） ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ …（Ａ２） （ΔＶｆｂ）f ＝Ａ・τn …（Ａ３） τ＝Ｂ・（Ｉｇ／Ｗ）-m …（Ａ４） ここで、Ｖｔｈはしきい値電圧、Ｖｄはドレイン電圧、
    ＶｆｂはＶｄ＝０Ｖにおけるしきい値電圧、Ｉｇはゲー
    ト電流、Ｗはゲート幅、ΔＶｔｈとΔＶｆｂはそれぞれ
    ホットキャリア劣化によるＶｔｈとＶｆｂの変化量、σ
    はＶｄによる酸化膜障壁の低下の効果を示す係数を表わ
    し、トランジスタの寿命τは式（Ａ３）のように定義さ
    れ、（ΔＶｆｂ）f はΔＶｆｂの或る特定の値を表わ
    し、 係数Ａ，ｎ，Ｂおよびｍは予備測定実験によって定めら
    れ、これによってトランジスタ寿命τが予測され得るこ
    とを特徴とするシミュレーション方法。
  2. 【請求項２】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリ
    ア劣化のシミュレーション方法であって、トランジスタ
    のストレス時とトランジスタ特性の測定時との間でソー
    ス／ドレイン間の電流を反転させるＲＥＶモードにおい
    て、次式（Ａ１），（Ａ５），（Ａ３）および（Ａ４）
    を用い、 Ｖｔｈ＝Ｖｆｂ＋σ・Ｖｄ …（Ａ１） ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ＋Δσ・Ｖｄ …（Ａ５） （ΔＶｆｂ）f ＝Ａ・τn …（Ａ３） τ＝Ｂ・（Ｉｇ／Ｗ）-m …（Ａ４） ここで、Ｖｔｈはしきい値電圧、Ｖｄはドレイン電圧、
    ＶｆｂはＶｄ＝０Ｖにおけるしきい値電圧、Ｉｇはゲー
    ト電流、Ｗはゲート幅、σはＶｄによる酸化膜障壁の低
    下の効果を示す係数、ΔＶｔｈとΔＶｆｂとΔσはそれ
    ぞれホットキャリア劣化によるＶｔｈとＶｆｂとσの変
    化量を表わし、トランジスタ寿命τは式（Ａ３）のよう
    に定義され、（ΔＶｆｂ）f はΔＶｆｂの或る特定の値
    を表わし、 係数Ａ，ｎ，Ｂおよびｍは予備測定実験によって定めら
    れ、これによってトランジスタ寿命が予測され得ること
    を特徴とするシミュレーション方法。
  3. 【請求項３】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリ
    ア劣化のシミュレーション方法であって、トランジスタ
    のストレス時とトランジスタ特性の測定時との間でソー
    ス／ドレイン間の電流を反転させるＲＥＶモードにおい
    て、次式（Ａ５），（Ａ６），および（Ａ７）を用い、 ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ＋Δσ・Ｖｄ …（Ａ５） Δσ＝Ｃ１・ΔＶｆｂ …（Ａ６） ΔＶｔｈ＝（１＋Ｃ１・Ｖｄ）・ΔＶｆｂ …（Ａ７） ここで、Ｖｔｈはしきい値電圧、Ｖｄはドレイン電圧、
    ＶｆｂはＶｄ＝０Ｖにおけるしきい値電圧、σはＶｄに
    よる酸化膜障壁の低下の効果を示す係数、ΔＶｔｈとΔ
    ＶｆｂとΔσはそれぞれホットキャリア劣化によるＶｔ
    ｈとＶｆｂとσの変化量を表わし、 係数Ｃ１は予備測定実験によって定められ、これによっ
    てホットキャリア劣化によるΔＶｔｈが予測され得るこ
    とを特徴とするシミュレーション方法。
  4. 【請求項４】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリ
    ア劣化のシミュレーション方法であって、次式（Ａ
    ５），（Ａ８）および（Ａ９）を用い、 ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ＋Δσ・Ｖｄ …（Ａ５） Ｌｅｆｆ∝ σ1/C2 …（Ａ８） Ｌｅｆｆ′＝Ｌｅｆｆ−Ｌｅｔ＝Ｌｅｆｆ・｛（σ＋Δσ）／σ｝1/C2 …（Ａ９） ここで、Ｖｔｈはしきい値電圧、Ｖｄはドレイン電圧、
    ＶｆｂはＶｄ＝０Ｖにおけるしきい値電圧、σはＶｄに
    よる酸化膜障壁の低下の効果を示す係数、ΔＶｔｈとΔ
    ＶｆｂとΔσはそれぞれホットキャリア劣化によるＶｔ
    ｈとＶｆｂとσの変化量、Ｌｅｆｆはストレス印加前の
    フレッシュな実効チャネル長、Ｌｅｆｆ′はホットキャ
    リア劣化によるショートニングがおこった後の実効チャ
    ネル長、Ｌｅｔはチャネル長のショートニングを表わ
    し、 係数Ｃ２は予備測定実験によって定められ、これによっ
    てホットキャリア劣化によるチャネル長のショートニン
    グＬｅｔが予測され得ることを特徴とするシミュレーシ
    ョン方法。
  5. 【請求項５】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリ
    ア劣化のシミュレーション方法であって、次式（Ａ２）
    と（Ａ５）のいずれか一方を用い、 ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ …（Ａ２） ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ＋Δσ・Ｖｄ …（Ａ５） さらに、次式（Ａ１０）と（Ａ１１）を用い、 μｓ＝Ｕ０／｛１＋θ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ）｝ …（Ａ１０） Δθ＝Ｃ３・ΔＶｆｂ …（Ａ１１） ここで、Ｖｔｈはしきい値電圧、Ｖｄはドレイン電圧、
    ＶｆｂはＶｄ＝０Ｖにおけるしきい値電圧、σはＶｄに
    よる酸化膜障壁の低下の効果を示す係数、Ｖｇはゲート
    電圧、ΔＶｔｈとΔＶｆｂとΔσはそれぞれホットキャ
    リア劣化によるＶｔｈとＶｆｂとσの変化量、μｓはキ
    ャリアの移動度、Ｕ０はＶｇ＝Ｖｔｈのときの移動度、
    θはμｓの垂直電界依存性、そしてΔθはホットキャリ
    ア劣化によるθの変化量を表わし、 係数Ｃ３は予備測定実験によって定められ、これによっ
    てホットキャリア劣化によるθの変化量Δθが予測され
    得ることを特徴とするシミュレーション方法。
  6. 【請求項６】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリ
    ア劣化のシミュレーション方法であって、次式（Ａ２）
    と（Ａ５）のいずれか一方を用い、 ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ …（Ａ２） ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ＋Δσ・Ｖｄ …（Ａ５） さらに、次式（Ａ１０）と（Ａ１２）をも用い、 μｓ＝Ｕ０／｛１＋θ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ）｝ …（Ａ１０） ΔＵ０＝Ｃ４・ΔＶｆｂ …（Ａ１２） ここで、Ｖｔｈはしきい値電圧、Ｖｄはドレイン電圧、
    ＶｆｂはＶｄ＝０Ｖにおけるしきい値電圧、Ｖｇはゲー
    ト電圧、μｓはキャリアの移動度、θはμｓの垂直電界
    依存性、σはＶｄによる酸化膜障壁の低下の効果を示す
    係数、Ｕ０はＶｇ＝Ｖｔｈのときの移動度、ΔＶｔｈ，
    ΔＶｆｂ，ΔＵ０，ΔσおよびΔθはそれぞれホットキ
    ャリア劣化によるＶｔｈ，Ｖｆｂ，Ｕ０，σおよびθの
    変化量を表わし、 係数Ｃ４は予備測定実験によって求められ、これによっ
    て、ホットキャリア劣化によるＵ０の変化量ΔＵ０が予
    測され得ることを特徴とするシミュレーション方法。
  7. 【請求項７】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリ
    ア劣化のシミュレーション方法であって、トランジスタ
    のストレス時とトランジスタ特性の測定時との間でソー
    ス／ドレイン間の電流の方向を変えないＦＷＤモードに
    おいて、次式（Ａ２），（Ａ８），（Ａ９），（Ａ１
    ０），（Ａ１１），（Ａ１２），（Ａ１３），（Ａ１４
    ａ），（Ａ１５），（Ａ１６）および（Ａ１７）を用
    い、 ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ …（Ａ２） Ｌｅｆｆ∝ σ1/C2 …（Ａ８） Ｌｅｆｆ′＝Ｌｅｆｆ−Ｌｅｔ＝Ｌｅｆｆ・｛（σ＋Δσ）／σ｝1/C2 …（Ａ９） μｓ＝Ｕ０／｛１＋θ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ）｝ …（Ａ１０） Δθ＝Ｃ３・ΔＶｆｂ …（Ａ１１） ΔＵ０＝Ｃ４・ΔＶｆｂ …（Ａ１２） Ｉｄ′＝Ｗ・（Ｃｏｘ／Ｌｅｆｆ′）・［μｓ′／｛１＋μｓ′ ・（Ｖｄ／Ｖｍａｘ）／Ｌｅｆｆ′｝］・Ｖｄ ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ′−Ｖｄ／２） …（Ａ１３） Ｖｔｈ′＝Ｖｔｈ−ΔＶｆｂ …（Ａ１４ａ） μｓ′＝（Ｕ０＋ΔＵ０）／｛１＋（θ＋Δθ）・（Ｖｇ−Ｖｔｈ′）｝ …（Ａ１５） ＝（Ｕ０＋Ｃ４・ΔＶｆｂ)/｛１＋（θ＋Ｃ３・ΔＶｆｂ） ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ′）｝ …（Ａ１６） ΔＩｄ＝Ｉｄ′−Ｉｄ …（Ａ１７） ここで、Ｖｔｈはしきい値電圧、Ｖｄはドレイン電圧、
    ＶｆｂはＶｄ＝０Ｖにおけるしきい値電圧、μｓはキャ
    リアの移動度、θは移動度の垂直電界依存性、Ｕ０はＶ
    ｇ＝Ｖｔｈのときの移動度、Ｗはチャネル幅、Ｃｏｘは
    ゲート酸化膜容量、Ｌｅｆｆは実効チャネル長、Ｖｍａ
    ｘは飽和速度、Ｉｄはドレイン電流、Ｉｄ′はホットキ
    ャリア劣化後における線形領域のドレイン電流、Ｌｅｆ
    ｆ′，μｓ′およびＶｔｈ′はそれぞれホットキャリア
    劣化後のＬｅｆｆ，μｓおよびＶｔｈを表わし、 係数Ｃ２，Ｃ３およびＣ４は予備測定実験によって定め
    られ、これによって、ホットキャリア劣化後のＦＷＤモ
    ードにおける線形領域のドレイン電流の変化量ΔＩｄが
    予測され得ることを特徴とするシミュレーション方法。
  8. 【請求項８】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリ
    ア劣化のシミュレーション方法であって、トランジスタ
    のストレス時とトランジスタ特性の測定時との間でソー
    ス／ドレイン間の電流を反転させるＲＥＶモードにおい
    て、次式（Ａ５），（Ａ６），（Ａ８），（Ａ９），
    （Ａ１０），（Ａ１１），（Ａ１２），（Ａ１４ｂ），
    （Ａ１６），（Ａ１７）および（Ａ１８）を用い、 ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ＋Δσ・Ｖｄ …（Ａ５） Δσ＝Ｃ１・ΔＶｆｂ …（Ａ６） Ｌｅｆｆ∝ σ1/C2 …（Ａ８） Ｌｅｆｆ′＝Ｌｅｆｆ−Ｌｅｔ＝Ｌｅｆｆ・｛（σ＋Δσ）／σ｝1/C2 …（Ａ９） μｓ＝Ｕ０／｛１＋θ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ）｝ …（Ａ１０） Δθ＝Ｃ３・ΔＶｆｂ …（Ａ１１） ΔＵ０＝Ｃ４・ΔＶｆｂ …（Ａ１２） Ｖｔｈ′＝Ｖｔｈ−ΔＶｆｂ・（１＋Ｃ１・Ｖｄ） …（Ａ１４ｂ） μｓ′＝（Ｕ０＋Ｃ４・ΔＶｆｂ)/｛１＋（θ＋Ｃ３・ΔＶｆｂ） ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ′）｝ …（Ａ１６） ΔＩｄ＝Ｉｄ′−Ｉｄ …（Ａ１７） Ｉｄ′＝Ｗ・（Ｃｏｘ／Ｌｅｆｆ′）・［μｓ′／｛１＋μｓ′ ・（Ｖｄ／Ｖｍａｘ）／Ｌｅｆｆ′｝］・Ｖｄ ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ′−Ｖｄ／２） …（Ａ１８） ここで、Ｖｔｈはしきい値電圧、Ｖｄはドレイン電圧、
    ＶｆｂはＶｄ＝０Ｖにおけるしきい値電圧、Ｖｇはゲー
    ト電圧、Ｗはゲート幅、σはＶｄによる酸化膜障壁の低
    下の効果を示す係数、Ｉｄ′はホットキャリア劣化後に
    おける線形領域のドレイン電流、Ｃｏｘはゲート酸化膜
    容量、Ｌｅｆｆは実効チャネル長、μｓはキャリアの移
    動度、Ｖｍａｘは飽和速度、Ｌｅｆｆ′，μｓ′および
    Ｖｔｈ′はそれぞれホットキャリア劣化後のＬｅｆｆ，
    μｓおよびＶｔｈを表わし、 係数Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３およびＣ４は予備測定実験によっ
    て定められ、これによって、ホットキャリア劣化後のＲ
    ＥＶモードにおける線形領域のドレイン電流の変化量Δ
    Ｉｄが予測され得ることを特徴とするシミュレーション
    方法。
  9. 【請求項９】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャリ
    ア劣化のシミュレーション方法であって、トランジスタ
    のストレス時とトランジスタ特性の測定時との間でソー
    ス／ドレイン間の電流の方向を変えないＦＷＤモードに
    おいて、次式（Ａ２），（Ａ１０），（Ａ１１），（Ａ
    １２），（Ａ１７），（Ａ１９），（Ａ２０），（Ａ２
    １），（Ａ２２）および（Ａ２３）を用い、 ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ …（Ａ２） μｓ＝Ｕ０／｛１＋θ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ）｝ …（Ａ１０） Δθ＝Ｃ３・ΔＶｆｂ …（Ａ１１） ΔＵ０＝Ｃ４・ΔＶｆｂ …（Ａ１２） ΔＩｄ＝Ｉｄ′−Ｉｄ …（Ａ１７） Ｉｄ′＝Ｗ・｛Ｃｏｘ／（Ｌｅｆｆ−ΔＬ）｝・［μｓ′／｛１＋μｓ′ ・（Ｖｄｓａｔ′／Ｖｍａｘ）／（Ｌｅｆｆ−ΔＬ）｝］ ・Ｖｄｓａｔ′・（Ｖｇ−Ｖｔｈ′−Ｖｄｓａｔ′／２） …（Ａ１９） Ｖｄｓａｔ′＝｛（Ｖｇ−Ｖｔｈ−ΔＶｔｈ）・Ｅｓａｔ・Ｌｅｆｆ｝ ／｛Ｅｓａｔ・Ｌｅｆｆ＋（Ｖｇ−Ｖｔｈ＋ΔＶｔｈ）｝ …（Ａ２０） ΔＬ＝ｋ・ｌｎ［｛（Ｖｄ−Ｖｄｓａｔ）／ｋ＋Ｅｍ｝／Ｅｓａｔ］ …（Ａ２１） Ｅｍ＝｛（Ｖｄ−Ｖｄｓａｔ）2 ／ｋ2 ＋Ｅｓａｔ2 ｝1/2 …（Ａ２２） ｋ＝０．２・Ｘｊ1/2 ・ｔｏｘ1/3 …（Ａ２３） ここで、Ｖｔｈはしきい値電圧、Ｖｄはドレイン電圧、
    ＶｆｂはＶｄ＝０Ｖにおけるしきい値電圧、Ｖｇはゲー
    ト電圧、μｓはキャリア移動度、Ｕ０はＶｇ＝Ｖｔｈに
    おける移動度、θは移動度の垂直電界依存性、Ｉｄ′は
    ホットキャリア劣化後における飽和領域のドレイン電
    流、Ｗはゲート幅、Ｃｏｘはゲート酸化膜容量、Ｌｅｆ
    ｆは実効チャネル長、μｓ′とＶｔｈ′はそれぞれホッ
    トキャリア劣化後のキャリアの移動度としきい値電圧、
    Ｖｍａｘは飽和速度、ΔＬは飽和速度領域長、Ｅｍは内
    部電界、Ｅｓａｔは飽和電界、Ｘｊは接合の深さ、ｔｏ
    ｘはゲート酸化膜厚さ、Ｖｄｓａｔ′はホットキャリア
    劣化後の飽和ドレイン電圧Ｖｄｓａｔを表わし、 係数Ｃ３とＣ４は予備測定実験によって定められ、これ
    によって、ホットキャリア劣化後のＦＷＤモードにおけ
    る飽和領域のドレイン電流の変化量ΔＩｄが予測され得
    ることを特徴とするシミュレーション方法。
  10. 【請求項１０】 Ｐ−ＭＯＳトランジスタのホットキャ
    リア劣化のシミュレーション方法であって、トランジス
    タのストレス時とトランジスタ特性の測定時との間でソ
    ース／ドレイン間の電流を反転させるＲＥＶモードにお
    いて、次式（Ａ５），（Ａ６），（Ａ８），（Ａ９），
    （Ａ１０），（Ａ１１），（Ａ１２），（Ａ１７），
    （Ａ２４）および（Ａ２５）を用い、 ΔＶｔｈ＝ΔＶｆｂ＋Δσ・Ｖｄ …（Ａ５） Δσ＝Ｃ１・ΔＶｆｂ …（Ａ６） Ｌｅｆｆ∝ σ1/C2 …（Ａ８） Ｌｅｆｆ′＝Ｌｅｆｆ−Ｌｅｔ＝Ｌｅｆｆ・｛（σ＋Δσ）／σ｝1/C2 …（Ａ９） μｓ＝Ｕ０／｛１＋θ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ）｝ …（Ａ１０） Δθ＝Ｃ３・ΔＶｆｂ …（Ａ１１） ΔＵ０＝Ｃ４・ΔＶｆｂ …（Ａ１２） ΔＩｄ＝Ｉｄ′−Ｉｄ …（Ａ１７） Ｉｄ′＝Ｗ・｛Ｃｏｘ／（Ｌｅｆｆ′−ΔＬ）｝ ・［μｓ′／｛１＋μｓ′・（Ｖｄｓａｔ′／Ｖｍａｘ） ／（Ｌｅｆｆ′−ΔＬ）｝］ ・（Ｖｇ−Ｖｔｈ′−Ｖｄｓａｔ′／２） …（Ａ２４） Ｖｄｓａｔ′＝｛（Ｖｇ−Ｖｔｈ−ΔＶｔｈ）・Ｅｓａｔ・Ｌｅｆｆ′｝ ／｛Ｅｓａｔ・Ｌｅｆｆ′＋（Ｖｇ−Ｖｔｈ＋ΔＶｔｈ）｝ …（Ａ２５） ここで、Ｖｔｈはしきい値電圧、Ｖｄはドレイン電圧、
    ＶｆｂはＶｄ＝０Ｖにおけるしきい値電圧、Ｖｇはゲー
    ト電圧、σはＶｄによる酸化膜障壁の低下の効果を示す
    係数、μｓはキャリアの移動度、Ｕ０はＶｇ＝Ｖｔｈに
    おける移動度、θは移動度の垂直電界依存性、Ｉｄ′，
    μｓ′，Ｖｔｈ′，Ｌｅｆｆ′およびＶｄｓａｔ′はそ
    れぞれホットキャリア劣化後における飽和ドレイン電
    流，キャリア移動度，しきい値電圧，実効チャネル長お
    よび飽和ドレイン電圧、Ｗはゲート幅、Ｃｏｘはゲート
    酸化膜容量、Ｌｅｆｆはストレス印加前の実効チャネル
    長、ΔＬは飽和速度領域長、Ｖｍａｘは飽和速度、Ｌｅ
    ｔはチャネル長のショートニング、Ｅｓａｔは飽和電界
    を表わし、 係数Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３およびＣ４は予備測定実験によっ
    て定められ、これによって、ホットキャリア劣化後のＲ
    ＥＶモードにおける飽和領域のドレイン電流の変化量Δ
    Ｉｄが予測され得ることを特徴とするシミュレーション
    方法。
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