JPH0863705A - 可飽和要素を有する磁気ヘッドおよび一組の磁気ヘッドを備えたマトリクス装置 - Google Patents
可飽和要素を有する磁気ヘッドおよび一組の磁気ヘッドを備えたマトリクス装置Info
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- JPH0863705A JPH0863705A JP7209314A JP20931495A JPH0863705A JP H0863705 A JPH0863705 A JP H0863705A JP 7209314 A JP7209314 A JP 7209314A JP 20931495 A JP20931495 A JP 20931495A JP H0863705 A JPH0863705 A JP H0863705A
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- G11B5/245—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features comprising means for controlling the reluctance of the magnetic circuit in a head with single gap, for co-operation with one track
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Abstract
クス装置の一部を形成する磁気ヘッドを提示する。 【解決手段】 磁気回路を有する磁気ヘッドはギャップ
(4)と少なくとも1つの可飽和要素(6)により離さ
れた二つの極(2、2’)を備えている。可飽和要素
(6)はギャップ(4)の外にあり該ギャップと平行に
なっている。応用分野は特に磁気媒体の上で情報を書き
込み/読み出しする装置の一部を形成するようにされた
磁気ヘッドである。
Description
/または読み出しを行なうマトリクス装置の一部を構成
する磁気ヘッドに関する。
情報を書き込みおよび/または読み出しを行なう装置で
ある。書き込みは媒体の磁化を部分的に変えることによ
り行なわれる。このタイプの磁気ヘッドは広範囲な使用
者と同じく専門家が使用するため例えばコンピュータの
分野や、基板に搭載された装置や、ビデオレコーダに使
用されている。
分離された二つの磁気の極を備えた磁気回路を有してい
る。情報の要素を書き込むため、磁界は磁気回路で誘導
され、磁気媒体は極およびギャップの近くに置かれる。
従って、磁気回路はギャップの位置で磁気媒体と接近さ
れる。これによりこの位置で媒体が磁化または消磁され
る。
出しは、媒体により形成される磁気回路内で磁束が変化
することにより誘導される起電力から生ずる電気信号に
より行なわれる。磁束の変化は媒体およびヘッドを相対
的に移動させる間媒体の磁化が変化することにより生ず
る。
にアドレスヘッドの励起レベルと非アドレスヘッド内に
ある寄生信号との間には比例定数3があるとされてい
る。書き込み信号のレベルと寄生信号のレベルを区別す
る閾値効果を与えるのは磁気媒体である。強い書き込み
磁界の場合、この比例定数3を減ずる飽和効果が現われ
る。フランス特許出願第2639137号には極の材料
より小さな飽和を有する磁気材料で作られた要素をギャ
ップ内に置くことが提案されている。飽和材料が飽和し
なければ磁界は磁気回路内に閉じ込められたままであ
り、媒体を通過しない。この材料が飽和すれば、磁界は
ギャップ内に閉じ込められない。この磁界の一部は媒体
内に入り媒体を磁化する。書き込みは励起を生ずる電流
が所定の閾値を越える時のみ行なわれる。
生ずる可飽和要素は大きさに基づく小さな磁束のみを伝
える。この材料はすばやく飽和し、書き込みは励起が低
い値でも生ずる。この影響は殆どの場合無視できる。こ
の欠点は狭いトラックを有するマトリクス装置に対し特
に顕著である。数10マイクロメートル平方の範囲であ
る磁気媒体に直角なギャップの表面積に対しては少なく
ない。
解決することである。本発明は少なくとも1つの効果的
な可飽和要素を有する磁気ヘッドを提示する。このヘッ
ドにより磁気媒体内で書き込まれる信号の品質が改善さ
れる。可飽和要素があることにより寄生磁束の効果的な
短絡回路が作られ書き込みが大きな書き込み電流に対し
てのみ生ずる。
はギャップにより離された二つの極と、該ギャップの外
にありギャップと平行な少なくとも1つの可飽和要素を
備えた磁気回路を有しており、該要素は一切の電気的な
制御を受けない。
またはギャップの上に位置する平面内にある。本発明の
好ましい実施態様によれば、可飽和要素は少なくとも部
分的に極の1つの拡張部である。
ことが好ましい。
磁気マトリクス装置にも関する。
置にも関する。
の例の概要図である。図1bは図1aの磁気ヘッドの等
価な電子回路を示している。
上に載せた2つの突出したパッド8、9を有した磁気回
路3を備えた磁気回路1により形成されている。向かい
合った極2、2’は非磁性のギャップ4により離れてい
る。コイル5は磁気回路1に加えられており、ギャップ
4と極2、2’の近くに置かれた磁気媒体(図示してい
ない)の上で情報の要素を書き込むため磁界を生ずる。
ギャップ4の外に置かれた少なくとも1つの可飽和要素
6は磁気回路の二つの部分と磁気的に連結している。こ
の少なくとも1つの可飽和要素は磁束の流れに関してギ
ャップ4と並列に接続されている。ここで、可飽和要素
6と磁気回路の間の連結は極2、2’で作られている。
この可飽和要素6は電気的な制御を受けない。この可飽
和要素には一切の電流が通らない。
2、2’より低い飽和点を有することが好ましい。可飽
和要素が飽和しない時、コイル内の励起電流が閾値電流
より低いため、磁界は可飽和要素の中に留まりギャップ
に到達しない。可飽和要素が飽和すると、励起電流は閾
値電流より大きいため、磁界はギャップに到達し磁束は
ギャップから漏れ磁気媒体の上で書き込みの動作を行な
う。
に少なくとも1つの非磁気要素7を与えることが好まし
い。この非磁気要素7は磁界の全体の磁気抵抗を増加す
ることにより可飽和要素6の影響を強くする。この非磁
気要素7は書き込み用に必要な励起電流を更に増加する
漏れ磁界を発生する。
素7があり可飽和要素6は非磁気要素7と極2、2’の
間にある磁気回路に連結されている。非磁気回路7はパ
ッド8、9の上に載っている。
磁気要素7が抵抗R1、R2に、可飽和要素6がフュー
ズFに等しいことが判る。ギャップ4はフューズFの端
子で電圧Uを表わしている。抵抗R1、R2と電源Vは
直列に接続されている。各抵抗は電源VとフューズFの
間に取り付けられている。
1つの磁気ヘッド内に幾つかの可飽和要素を使用するこ
とが可能である。これを示したのが図2である。
ギャップと極と同じ平面またはギャップの上に可飽和要
素を置くことが可能である。
平面の概要図である。図は舌状の形をした二つの極2、
2’を部分的に示しており、二つの極は点線で示してい
る。二つの極2、2’は互いに向き合っておりギャップ
4により離れている。これらの極はギャップ4を制限し
ている。二つの可飽和要素6を示しており、これらはギ
ャップ4の両側にある。これらの可飽和要素6は極2の
拡張部であり、極27に向かい極2から突き出ている。
極2’の上に載せたパッド9の上に位置している可飽和
要素6の端は非磁性の間隔60により極2’から離れて
いる。これらの可飽和要素6は、橋のようにギャップ4
をまたがることにより二つの極2、2’を連結してい
る。この構成により、二つの可飽和要素6はギャップと
極と同じ平面にある。同じ厚さにするため、二つの可飽
和要素6の体積は特許出願第FR−2639137号に
記載のようにギャップ内に置かれた可飽和要素の体積よ
りかなり大きい。
トリクスタイプの書き込み用装置にも関する。
置の例に対する斜視図である。
列の直線の溝111 、112 、113 …と、1つの同じ
面13の上の二番目の直列の直線の溝121 、122 、
123 …を有したフェライトのような磁気材料で作られ
ている。
であり、溝121 、122 、123…が列に直角である
列と行を構成している。
2 、143 …151 、152 、153 …がある。列の導
体141 は溝112 の中に位置しており、行の導体15
1 は溝121 の中に位置している、等。
は突出したパッドのマトリクスネットワークの境界を設
定している。このネットワークは;iが1から一番目の
パッドの列の数までの範囲の整数であり;jが1から列
当たりのパッドの数までの範囲の整数であり;kが1か
ら二番目のパッドの列の数までの範囲の整数であり;一
番目のパッド17’ijと二番目のパッド18’kjの列の
錯列から構成されている。
ある種の構成では、異なる場合がある。
3を有しており、該溝の面は可飽和要素から形成された
磁気材料で作られた層6で覆われている。この層6は一
番目のパッド17’ijの上で一番目の極17ijの列の上
に載せられ、二番目のパッド18’kjの上で二番目の列
の極18kjの上に載せられている。
8aであるより大きな表面積を有した正方形または長方
形の部分を有しており、該表面積は導体の交点の近くの
少なくとも1つの角にある拡張部17b、18bと同じ
く対応するパッド17’ijと18’kjを覆っている。ギ
ャップ19は二つの向かい合った拡張部17bと18b
の間に形成されている。これらの拡張部の方向は対角
線、即ち行と列に対し約45°に相当している。
10の一部により形成された磁気回路を備えており、該
基板10の一部は二つの極17’12、18’11と、溝1
11、121 の交点と、二つの極1712、1811と、基
板6と、二つの極1712、1811の拡張部17b、18
bの間にあるギャップ19と、励起導体141 、151
により境界が設定されている。
7’12と18’11である磁気回路の二つの部分と磁気的
に連結されている。この要素はギャップ19と極1
712、1811の下に位置しており、図3では層の形で示
されている。
ップの上に置く必要があれば、溝は樹脂のような非磁気
材料で満たし基板10がパッドの側面の上に平らな表面
を有することができる。この表面の上に極、ギャップ、
および可飽和要素を作ることが可能である。
書き込み用装置の他の変形を示しており、極と同じ面内
に磁気ヘッド当たり幾つかの可飽和要素を有している。
前述のように、この装置は突出したパッド17’ij、1
8’kjと、溝の中に電気的な励起導体141 、142 、
143 …151 、152 、153 …を有した溝のある磁
気材料で作られている。この基板10は上に極17ij、
18kjと、ギャップ19と、可飽和要素6、6’とがあ
る非磁気材料で作られている。各パッド17’ijと1
8’kjはそれぞれ極17ijと18kjの上に載せてある。
各可飽和要素6、6’は極17ij、18kjと同じ平面に
位置している。極1712、1811と、二つの極の間に位
置したギャップ19を備えた磁気ヘッドM1の磁気回路
も二つの可飽和要素6、6’を含んでいる。各可飽和要
素は1つのヘッドの二つの極を、対象とするヘッドの少
なくとも1つの極の近くにある少なくとも1つの三番目
の極により磁気的に連結している。1つの可飽和要素6
または6’も機能を果たすことができる。これらの可飽
和要素6、6’は極の拡張部である。
飽和要素6は同じ列の隣接した極1711と磁気ヘッドM
1の一番目の極1712を連結する一番目の可飽和ブリッ
ジ60と、極1711から出発し磁気ヘッドM1の二番目
の極1811に向かい突出している二番目の可飽和ブリッ
ジ61により形成されている。パッド18’11の上にあ
るブリッジ61の端は非磁性の間隔31により極1811
から離れている。
12と磁気ヘッドM1の二番目の極1811を連結する一番
目の可飽和ブリッジ62と、磁気ヘッドM1の一番目の
極1712から出発し極1812に向かい突出している二番
目の可飽和ブリッジ63により形成されている。パッド
18’12の上にあるブリッジ63の端は非磁性の間隔3
1により極1812から離れている。記載した特別な例で
は、可飽和要素6と6’の両方があり、二番目のブリッ
ジ61と63は同じ列の連続した磁気ヘッドに共通であ
る。
6を示している。平らな表面を作ることができるパッド
の間に非磁気材料を与えることによりパッドの上面に磁
気の極と、ギャップと、可飽和要素を直接作ることも可
能である。
書き込み用装置の他の変形を示している。少なくともパ
ッド17’ijと18’kjを有した溝のある基板10につ
いて図4aと同等である。
18’kjはパッド17’ijの上の番号117ij、118
ijおよび18’kjの上の番号217kj、218kjの二つ
の極で覆われている。同じパッドの上に載せた二つの極
は非磁性の間隔32により離れている。
は導体の交点の上に極の1つの角の拡張部と、当該パッ
ドの上により大きな表面積とを有した部分がある。磁気
ヘッドのギャップ19は二つの向き合った拡張部の間に
形成されている。
極の拡張部の間であるギャップ19と同様にパッド1
7’13、18’12と、溝122 、111 の交点と、一番
目の極11713と、二番目の極21812を含んだ基板部
分10を備えている。ヘッドM’2の磁気回路は、極の
拡張部の間であるギャップ19と同様にパッド1
8’12、17’21と、溝121 、112 の交点と、一番
目の極21712と、二番目の極11821を含んだ基板部
分10を備えている。これらの二つの隣り合ったヘッド
M’1とM’2は極21812がある非磁性の連結を通し
て共通のパッド18’12をヘッドM’1のギャップ19
に磁気的に結合している。このリンクは図4bに示して
いない。非磁気ギャップ32により極21812から離れ
た極21712は共通のパッド18’12を磁気ヘッドM’
2のギャップ19に磁気的に結合している。
和要素6を示している。この可飽和要素6は二つの可飽
和ブリッジ600と610により形成されている。これ
らのブリッジは二つの極に隣り合ったヘッドの極により
該二つのヘッドにより磁気的に連結されている。
番目の極11712と、二番目の極21811により形成さ
れた磁気ヘッドM1の磁気回路も、ブリッジ610とブ
リッジ600により形成された可飽和要素6を有してい
る。ブリッジ610は同じ行であるが隣り合った列の隣
接した極21812と一番目の極11712を磁気的に連結
し、ブリッジ600はこの隣接した極21812を二番目
の極21811に磁気的に連結している。極11712から
出発したブリッジ610は極21812に向かい突出して
いる。非磁性の間隔31はブリッジ610の端とパッド
18’12の上の極21812の間に作られている。
12と18’11で生ずる磁束は、それぞれのパッドの上に
載せた二つの極、即ちパッド17’12に対しては117
12と11812、パッド18’11に対しては21811と2
1711により流れている。従って、ヘッドM1のギャッ
プ16により分離されない二つの極11812と21711
はこのヘッドを励起する磁束の通過を生じている。
る。これは鉄、アルミニウムおよびシリコンの合金であ
る。可飽和要素6の材料はフェライト、センダストまた
は他のあらゆる磁気材料で作られている。このセンダス
トは極のセンダストと同じ、即ち品質の悪いセンダス
ト、つまり飽和の低いセンダストである。これを行なう
ため、アルミニウムの含有量は極のセンダストの含有量
より大きい。可飽和要素が極と同じ材料で作られている
時、書き込み電流より低い電流で飽和する極の断面より
小さく、書き込み媒体の表面に直角な断面を与えること
が十分できる。
方法の例を記載する。図5aから図5fと図3を組み合
わせて参照する。記載はマトリクスタイプの書き込み装
置に対して行なう。手順は磁気材料、例えば溝のあるフ
ェライトから出発する。2つの一連の並列の直線的な溝
111 、112 、113 、…121 、122 、123…
がある。これらの溝は直角で交差している。このよう
に、パッド17’ij、18’kjの交番列は境界を設定し
ている。各溝の中には、少なくとも1つの電気的な導体
がある。導体には参照番号141 、142 、143 …1
51 、152 …を付けている(図5a)。図5aから図
5fの断面図は二つの溝111 、121 の交点で、およ
びそれ故二つの導体151 、141 の交点で軸a−aに
沿って作られている。次に、この基板10の上には一番
目の極17と、二番目の極18と、一番目の極と二番目
の極の間のギャップ19とが形成される。このように、
各磁気回路は各磁気ヘッドから形成されている。少なく
とも1つの可飽和要素はギャップ毎に作られている。該
可飽和要素はギャップの外にあり、ギャップをまたぐこ
とにより磁気回路の二つの部分を連結している。
素6はパッド17’ij、18’ijと溝111 、112 、
121 、122 を覆っているプレートである。該可飽和
要素は例えばボンディングにより基板10に固定されて
いる。極とギャップは特許番号第FR260853号に
記載のように例えば薄い層で作られている。溝は非磁気
材料で満たされ、平らにされ、更に可飽和要素6は層の
形で作られている。
ートの上に形成されており、可飽和要素6は該プレート
の後に約1マイクロメータの厚さの薄い層の形で堆積さ
れている。
または非磁気材料で作られたプレートの上に堆積され
る。この一番目の層27の一方の端はギャップ19を通
過し同じ列にある磁気ヘッドを形成している。この層に
は後で切断される一番目の極17ijが含まれている。こ
の形成は例えば一番目のマスクで化学的またはフォトエ
ッチングにより行なわれる(図5c)。この層は一番目
の極17ijの列と同じ数のバンドにより形成される。マ
スクの輪郭は図3の点線で示している。この一番目の層
27は少なくともギャップに、可飽和要素6の表面すな
わち非磁性プレートの表面とある角度を成しているフラ
ンク20を備えている。
わち非磁性プレートの上には、非磁気材料の層21が堆
積される(図5d)。この層21は一番目の磁性の層2
7より厚さが少ない。
は、磁気材料で作られた二番目の層22が堆積される
(図5e)。
が行なわれ表面と同一面の一番目の層27が作られる。
一番目の層27と二番目の層22は例えば二番目のマス
クを使用して化学的またはフォトエッチングにより一番
目の極17ijと二番目の極18kjが所要の輪郭を取るよ
うに切断される(図5f)。この図は二番目の極18 11
が非磁性の層21に対応したギャップ19によりフラン
ク20の所で一番目の極1712から離れていることを示
している。この方法はマトリクスタイプの書き込み装置
の製造に使用する代わり、単独の磁気ヘッドの製造に使
用することができる。この場合、溝のある基板はパッド
を2つだけ有している。
内に位置している時類似した方法を使用することができ
る。可飽和要素は少なくとも部分的に極の1つの拡張部
である。ここでは図4aと図6aから図6fまでの図を
参照にする。
141 、142 を含む突出したパッドを有し溝のある磁
気材料で作られた基板10から出発する。この基板10
はパッドの側面が非磁気材料で作られたプレート6で覆
われている(図6a)。
ッドの側面の上にある基板10の表面が平らであれば非
磁気材料で作られたプレート16を無しにすることがで
きる。
の平らな表面の上に直接、磁気材料27の一番目の層が
堆積される。この一番目の層の一方の端は形成された同
じ列の磁気ヘッドのギャップを通過する。この一番目の
層27には一番目の極17ijと、切断される可飽和要素
6の少なくとも一部が含まれている。この一番目の層2
7は一番目のパッド17’ijの全体を覆い、二番目のパ
ッド18’kjの一部分を覆っている。
27は一番目の層より薄い非磁気材料21の層で覆われ
ている。次に、非磁気材料21の層の上で、磁気材料の
二番目の層22が堆積されている(図6c)。基板10
の上層は機械加工と研磨が行なわれ一番目の層27が現
われる。次に、磁気層27と22は一番目の極17ij、
二番目の極18kjおよび可飽和の要素6と6’の輪郭が
見えるまで切断される。
直接接続される一方の端を有するようにするため、該可
飽和要素6は一番目の極17ijと同時に作られる。図4
aでは、これらの可飽和要素6は(同じ列で一番目の隣
接した極、すなわち17ij+1または17ij-1に一番目の
極17ijを連結する)ブリッジ60と、(同じ行で二番
目の隣接した極、すなわち18i-1,j または18i+1,j
に一番目の極17を連結する)ブリッジ61に対応して
いることが判る。この例では、可飽和要素6の一部が一
番目の極に直接連結される一方の端を有するようにする
ため、該可飽和要素6の一部は一番目の極17ijと同時
に作られる。これらはブリッジ63である。
8ijと同時に作られる。これらは同じ列の二番目の極に
直接連結された端を有するブリッジ62である。
の上が狭く配置されているため磁束の流れに実際には少
しの影響も与えない。
を堆積する間使用される一番目のマスクの端はギャップ
19と前記の間隔31を通る。従って、一番目の層27
の端はギャップ19と前記の間隔31を通る。
である。図6dはブリッジ63を切断した図である。図
6eは軸c−cに沿った図4aの切断図である。この切
断はブリッジを一切通過しない。図6fは軸d−dに沿
った図4aの断面図である。この図は共通の極1812を
有した二つの隣接した磁気ヘッドのギャップ19を示し
ている。ヘッドの1つは極として極1713と1812を有
しており、他のヘッドは極1812と1721を有してい
る。
ば磁気ヘッドM1の一番目の極1712と同時に少なくと
も1つの可飽和要素を作ることから成り、該要素は一番
目の極に隣接した極1711または1812を通過すること
なく、二番目に形成された極1811に一番目の極1712
を磁気的に連結している。
厚さの薄い層を極17ijと18kjの上に堆積することに
より極を形成した後、可飽和要素を作ることも可能であ
る。極は例えば研磨により少なくとも部分的に再び覆い
が取られる。
を図9aから図9eと図4bに関連して示す。
照にして記載したものと同等である。出発点は図4aに
記載したものと同じ磁気基板である。
始まる。この層37には一番目の極117ij、217ij
と、後で切断される可飽和要素の少なくとも一部6が含
まれている(図9a)。この層37は列導体14i とこ
の導体の上にある空間の両側に位置した一番目のパッド
17’ijと二番目のパッド18’kjの列を部分的に覆っ
ているバンドにより形成されている。
その後磁気材料で作られた二番目の層22(図9c)は
一番目の層37の上に堆積している。
行なわれ同一面の一番目の磁性の層37を作る。次に、
磁性の層は一番目の極117ij、217kjと、二番目の
極118ij、218kjと可飽和要素6の輪郭を作るよう
に切断される(図9d)。可飽和要素の一番目の部分は
一番目の極117ijと217kjを切断する間に切断され
る。この部分は、同じ行の異なるパッドの上に置かれ、
それぞれ218ijまたは118k+1,j である二番目の隣
接した極に一番目の極117ijまたは217kjを磁気的
に連結するブリッジ610に対応している。これらのブ
リッジ610は溝111 、112 …をまたいでいる。こ
れらのブリッジ610は一番目のパッド17’ijの上に
溝の端の一方を、二番目のパッド18’ijの上に他の端
を有している。これらのブリッジ610は二番目の極2
18ijまたは118k+1,j と直接には接触していない。
一番目の非磁性の間隔31はブリッジ610と二番目の
極218ijまたは118k+1,j の間に作られ、更にこの
一番目の間隔31はパッド17’ijまたは18’ijの上
にある。この一番目の間隔31はパッドに狭く接近して
いるため磁束の循環には実際にはいかなる影響も与えな
い。
7を作るため使用されるマスクはギャップ19と一番目
の間隔31を定める端を有している。
18ijと218kjと同時に切断される。この部分は二番
目の極118ijまたは218kjを同じ列の隣接した極、
すなわち極118ijに対しては118i+1,j または11
8i-1,j に、218kjに対しては218k+1,j または2
18k-1,j に直接連結するブリッジ600に対応してい
る。これらの二番目のブリッジ600は溝121 、12
2 …をまたいでいる。
には一番目の極117ijの上に、二番目には二番目の極
118ijの上に載せてある。これは同じパッド18’kj
を載せた極217kjおよび218kjに対する場合も成り
立つ。同じパッドの上に載せたこれら二つの極は非磁気
材料で作られた二番目の間隔32により離れている。こ
の二番目の間隔は狭くパッドの所にあるため磁束の流れ
には実際にはいかなる影響も与えない。極218kjまた
は118ijの下にある非磁性の連結50は非磁性の間隔
32をこの極が定めるギャップと連結するようにされて
いる。一番目の非磁性の層37を作るため使用されるマ
スクは二番目の磁性の間隔32を通過する端を有してい
る。従って、一番目の磁性の層37はこれらの非磁性の
間隔32を通過する端を1つ有している。
二つの磁気ヘッドが同じ方向に向けられたギャップと極
を有していることである。図9eは軸d−dに沿った図
4bの断面図である。共通のパッドを有する二つの磁気
ヘッドの断面と同じであることが判る。これは図6fの
場合と異なる。磁気基板の上または非磁性の層の上のい
ずれかに極とギャップを作る代わり、磁気/非磁気を混
成した基板の上で前述の薄い層の中に極とギャップを作
ることができる。図7aから図7iは製造過程にある書
き込み装置の断面図を示している。
に形成される磁気ヘッドの突出したパッドの境界を定め
る一番目の基本基板71から開始する(図7a)。この
基板71は一番目の一連の溝とほぼ直角である二番目の
一連の溝を従来から有している。
非磁気材料で満たされる。非磁気材料は溝が満たされる
ようにするためオーバーフローが行なわれる(図7
b)。
5を露出させる(図7c)。
可飽和要素73はパッド75と同じ側面で、一番目の基
本基板71の上に連結した層の形で堆積される(図7
d)。この層は溝のピッチが約100マイクロメータか
ら200マイクロメータの時約0.5マイクロメータの
厚さである。溝のある材料で作られ突出したパッド85
のある二番目の基本基板81が取り出される。この二番
目の基板81は一番目の基板71と同じ大きさであるこ
とが好ましい(図7e)。一番目の基板71のパッド7
5の中心は二番目の基板81のパッド85の中心とほぼ
一致している。一番目の基板71は例えばボンディング
により二番目の基板81に結合されており、可飽和要素
73は二つの基板81と71の間にある(図7f)。一
番目の基板のパッドの一部分は二番目の基板のパッドと
向かい合っている。結合部の継目には参照番号70をつ
けてある。一番目の基板の覆われない表面は機械加工と
研磨を行なうことによりレベルが下がっており、パッド
75と同一面の非磁気材料76を作っている(図7
g)。
ャップ79が形成され、パッド75とギャップ79の上
に載せた極77、78は非磁気材料76の上にある(図
7h)。極とギャップは図6に関連し記載したように薄
層技術により形成される。
を二番目の基本基板81の溝の中に置くことから成る
(図7i)。
の要素である。該継目の厚さeは5マイクロメータの範
囲である。100マイクロメータの側面を有するパッド
の上の二つの結合部の継目のパーミアンスの値は次の通
りである: L=μo×S/2e μoは真空の透磁率であり1.3×10-6に等しく;S
は結合部の継目の表面積である。 L≒1.3nH 書き込み媒体をオンの状態にする300mAの書き込み
電流Iにより各パッド内に誘導される磁束は次式により
与えられる: φ=L φ≒0.4nWb
0.13nWbの範囲、すなわち誘導された磁束の3分
の1である。磁束が横切る可飽和要素の断面は1テスラ
未満で飽和するように材料を作ると100マイクロメー
タ平方である。
わり、極と同時に可飽和要素を作ることができる。更に
極とギャップの上に可飽和要素を作ることもできる。
a)の基本基板は例えばボンディングにより結合され
る。一番目の基板71の覆われない面は図7gに関連し
記載したように機械加工される(図8b)。極77、7
8とギャップ79は図6に関連し記載したように連続し
た薄い層を堆積することにより作られる(図8c)。次
に、可飽和要素80は薄い層の形で極77、78および
ギャップ79の上に堆積される(図8d)。これ以降に
することは図7iのように導体86、87を配置するこ
とである(図8e)。
対する幾つかの変形と製造に対する幾つかの方法であ
る。これらの変形した磁気ヘッドとこれらの方法を互い
に組み合わせることは全く可能である。
解図
変形した分解図
変形した他の分解図
用された一番目の段階のa−a軸に沿った断面図
用された二番目の段階のa−a軸に沿った断面図
用された三番目の段階のa−a軸に沿った断面図
用された四番目の段階のa−a軸に沿った断面図
用された五番目の段階のa−a軸に沿った断面図
用された六番目の段階のa−a軸に沿った断面図
aの磁気ヘッドを作る一番目の段階の断面図
aの磁気ヘッドを作る二番目の段階の断面図
aの磁気ヘッドを作る三番目の段階の断面図
aの磁気ヘッドを作る四番目の段階の断面図
aの磁気ヘッドを作る五番目の段階の断面図
aの磁気ヘッドを作る六番目の段階の断面図
気ヘッドを作る一番目から九番目の段階の断面図
基本基板の基礎の上に作られるように本発明により磁気
ヘッドを作る一番目から五番目の段階の断面図
図4bの磁気ヘッドを作る一番目の段階の断面図
図4bの磁気ヘッドを作る二番目の段階の断面図
図4bの磁気ヘッドを作る三番目の段階の断面図
図4bの磁気ヘッドを作る四番目の段階の断面図
図4bの磁気ヘッドを作る五番目の段階の断面図
Claims (27)
- 【請求項1】 ギャップ(4)により離された二つの極
(2、2’)と、少なくとも1つの可飽和要素(6)を
備えており、該可飽和要素(6)はギャップ(4)の外
にありギャップ(4)と平行に接続されており、一切の
電気的な制御を受けないことを特徴とする磁気回路を有
した磁気ヘッド。 - 【請求項2】 可飽和要素(6)が極(2、2’)より
低い飽和点を有していることを特徴とする請求項1に記
載の磁気ヘッド。 - 【請求項3】 可飽和要素(6)がギャップ(4)の下
にあることを特徴とする請求項1に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項4】 極(17、18)を載せている磁気材料
で作られた基板(10)を備え、可飽和要素(6)が基
板(10)と極(17、18)の間に挿入され階層状態
にあることを特徴とする請求項3に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項5】 基板が二つの基本基板(81、71)
と、相互に対応したパッド(85、75)とを結合させ
ることにより形成され、階層状態の可飽和要素(73)
が二つの基本基板(71、81)の間に挿入されている
ことを特徴とする請求項3に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項6】 可飽和要素(6)が二つの極(2、
2’)を連結していることを特徴とする請求項1に記載
の磁気ヘッド。 - 【請求項7】 可飽和要素(6)がギャップ(4)と同
じ平面にあることを特徴とする請求項5に記載の磁気ヘ
ッド。 - 【請求項8】 極(2、2’)の上に載せた磁気材料で
作られた基板(3)を備え、可飽和要素(6)が極
(2)の少なくとも1つの拡張部であることを特徴とす
る請求項6に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項9】 磁気基板(3)が極(2、2’)の上に
載せた二つの突出したパッド(8、9)を有し、極
(2)の拡張部が他の極(2’)の上に載せたパッド
(9)の上に端部を有し、該端部が非磁性の間隔(6
0)により他の極(2’)から離れていることを特徴と
する請求項8に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項10】 可飽和要素(80)がギャップ(7
9)の上にあることを特徴とする請求項6に記載の磁気
ヘッド。 - 【請求項11】 磁気材料の層(16)が基板(10)
と極(17ij、18kj)の間に挿入されている極(17
ij、18kj)の上に載せた磁気材料で作られている基板
(10)を備えていることを特徴とする請求項10に記
載の磁気ヘッド。 - 【請求項12】 可飽和要素(6)が少なくとも一つの
極(17ij、18kj)と同じ材料から作られていること
を特徴とする請求項1に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項13】 請求項1から12に記載の多数の磁気
ヘッドを備えていることを特徴とするマトリクスタイプ
の装置。 - 【請求項14】 可飽和要素(6)が他の磁気ヘッドの
少なくとも1つの極(1711)により磁気ヘッド(M
1)の二つの極(1712、1811)を磁気的に連結して
いることを特徴とする請求項13に記載のマトリクスタ
イプの装置。 - 【請求項15】 可飽和要素(6)が少なくとも部分的
に極の一つの(1712)の拡張部であることを特徴とす
る請求項13に記載のマトリクスタイプの装置。 - 【請求項16】 突出したパッド(17’12、1
8’11)を有する磁気基板(10)を備え、各パッド
(17’12、18’11)を少なくとも一つの極(1
712、1811)の上に載せていることを特徴とする請求
項13に記載のマトリクスタイプの装置。 - 【請求項17】 パッド(18’12)を非磁性の間隔
(32)により離れている二つの極(21811、217
11)の上に載せていることを特徴とする請求項16に記
載のマトリクスタイプの装置。 - 【請求項18】 極の一つ(21811)が境界を設定す
るギャップ(19)と非磁性の間隔(32)を連結する
非磁性の連結(50)の上に該極の一つを載せているこ
とを特徴とする請求項17に記載のマトリクスタイプの
装置。 - 【請求項19】 ギャップ(4)により離れた二つの極
(2、2’)を有する少なくとも1つの磁気回路を作る
ことから成り、少なくとも1つの可飽和要素(6)がギ
ャップ(4)と平行に接続されギャップの外にあること
を特徴とする請求項1から12のいずれかに記載の少な
くとも1つの磁気ヘッドを作る方法。 - 【請求項20】 磁気基板から磁気回路を形成し、基板
の上で階層状態の可飽和要素(6)を形成し、可飽和要
素(6)の上に極(17ij、18kj)を堆積させること
から成ることを特徴とする請求項19に記載の方法。 - 【請求項21】 磁気回路が相互に対応したパッド(8
5、75)を有する二つの基本基板(81、71)から
作られ、可飽和要素(73)が二つの基本基板の間に挿
入されていることを特徴とする請求項19に記載の方
法。 - 【請求項22】 磁気基板から磁気回路を形成すること
と、該磁気回路を非磁性の層(16)で覆うことと、非
磁性の層(16)の上に極(17ij、18kj)と可飽和
要素(6)を形成することから成ることを特徴とする請
求項19に記載の方法。 - 【請求項23】 突出したパッド(17’ij、1
8’kj)を有する磁気基板(10)から磁気回路を作る
ことと、パッドの間の空間を非磁気材料で埋めること
と、パッドの側面の上の基板(10)の上に極(1
7ij、18kj)と可飽和要素を作ることから成ることを
特徴とする請求項19に記載の方法。 - 【請求項24】 ヘッド(17ij)と、可飽和要素の少
なくとも一部(6、6’)を形成する少なくとも一つの
拡張部(60、61、63)とを形成するようにされた
磁気材料で作られた一番目の層(27)を基板(10)
の上に堆積し、該層(27)が一番目の極(17ij)と
拡張部(60、61、63)の位置を少なくとも含むこ
と、 ギャップ(19)を形成するようにされた非磁気材料の
層(21)を、基板(10)と一番目の磁性の層(2
7)の上に堆積させること、 ヘッドの二番目の極(18kj)と可飽和要素(6’)の
他の部分(62)を形成するようにされた磁気材料で作
られた二番目の層(22)で前記の層(21)を覆うこ
と、 二番目の磁性の層(22)と非磁性の層(21)を機械
加工し研き同一面の一番目の層(27)を作ること、 一番目の極(17ij)と一番目の磁性の層(27)にあ
る拡張部(60、61、63)の輪郭を切断すること、 二番目の極(18kj)と可飽和要素(6’)の他の部分
の輪郭を二番目の磁性の層(22)において切断するこ
と、から成る請求項22または23のいずれかに記載の
方法。 - 【請求項25】 パッド(17’ij)を極(17’ij)
の上に載せる時、前記の方法が一番目の磁性の層(2
7)を堆積し、ヘッドの一番目のパッド(17’ij)を
覆い、二番目のパッド(18’kj)の端部が二番目のパ
ッド(18’kj)の上の拡張部(61)の端でギャップ
(19)と非磁性の間隔(31)を通過するように該二
番目のパッド(18’kj)を部分的に覆っていることか
ら成ることを特徴とする請求項24に記載の方法。 - 【請求項26】 パッド(18’11)を非磁性の間隔
(32)により離された二つの間隔(21811、217
11)の上に載せている時、前記の方法が一番目の磁性の
層(37)を堆積しヘッド(M1)の二つのパッド(1
7’21、18’11)とそれらの間の空間を部分的に覆い
該磁性の層がギャップ(19)と、二番目のパッド(1
8’11)の上にある拡張部(610)の端の所で非磁性
の間隔(31)と、二つの極(21811、21711)の
間にある非磁性の間隔(32)を通過していることを特
徴とする請求項24の方法。 - 【請求項27】 磁気回路と励起導体(14i 、15
k )が連携していることから成る請求項19から26の
いずれか1つに記載の方法。
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