JPH085694B2 - ガラスエッチングの組成物及び方法 - Google Patents
ガラスエッチングの組成物及び方法Info
- Publication number
- JPH085694B2 JPH085694B2 JP5202244A JP20224493A JPH085694B2 JP H085694 B2 JPH085694 B2 JP H085694B2 JP 5202244 A JP5202244 A JP 5202244A JP 20224493 A JP20224493 A JP 20224493A JP H085694 B2 JPH085694 B2 JP H085694B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- etching composition
- solution
- etching
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B15/00—Drawing glass upwardly from the melt
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
- H01L21/3105—After-treatment
- H01L21/311—Etching the insulating layers by chemical or physical means
- H01L21/31105—Etching inorganic layers
- H01L21/31111—Etching inorganic layers by chemical means
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラスエッチング組成
物及びこれを用いてガラス表面をエッチングする方法に
関する。
物及びこれを用いてガラス表面をエッチングする方法に
関する。
【０００２】ガラス製品をエッチングする幾つかの方法
がこの技術分野で公知である。これらの内で、活性成分
としてフッ酸を含むエッチング溶液でガラス表面を処理
するのが一般的な方法である。
がこの技術分野で公知である。これらの内で、活性成分
としてフッ酸を含むエッチング溶液でガラス表面を処理
するのが一般的な方法である。
【０００３】しかしながら、フッ酸は今や環境汚染の問
題を引き起こす主要な原因物質と認められており、従っ
て多数の国で使用が差し控えられてきた。更に、フッ酸
は非常に有害で、人体にとって致命的であるので、これ
を扱う分野での作業者の安全と保健に関して重大な問題
が存在してきた。例えば、皮膚がフッ酸に曝されると、
それは通常鋭い痛みを引き起こし、皮膚組織を傷めるか
破壊する。加えて、フッ酸蒸気は、これを吸入して喉に
浸入すると作業者に失語症を引き起こしうる。もしこの
蒸気が肺に浸入すると肺水腫が起こりうる。最悪の場合
は、蒸気によって肝臓が傷害を受け、この傷害は死をも
たらし得る。ガラスのエッチングに於けるフッ酸の使用
から生じうる事故を最小限にするために、これ迄に広範
な努力が払われてきた。その結果、環境汚染及び作業者
の身体の傷害を防ぐために種々の補助的な手段が開発さ
れた。しかしながら、これらの努力は上述の問題を解決
するものではない。
題を引き起こす主要な原因物質と認められており、従っ
て多数の国で使用が差し控えられてきた。更に、フッ酸
は非常に有害で、人体にとって致命的であるので、これ
を扱う分野での作業者の安全と保健に関して重大な問題
が存在してきた。例えば、皮膚がフッ酸に曝されると、
それは通常鋭い痛みを引き起こし、皮膚組織を傷めるか
破壊する。加えて、フッ酸蒸気は、これを吸入して喉に
浸入すると作業者に失語症を引き起こしうる。もしこの
蒸気が肺に浸入すると肺水腫が起こりうる。最悪の場合
は、蒸気によって肝臓が傷害を受け、この傷害は死をも
たらし得る。ガラスのエッチングに於けるフッ酸の使用
から生じうる事故を最小限にするために、これ迄に広範
な努力が払われてきた。その結果、環境汚染及び作業者
の身体の傷害を防ぐために種々の補助的な手段が開発さ
れた。しかしながら、これらの努力は上述の問題を解決
するものではない。
【０００４】更に、フッ酸の使用を含むエッチング方法
は、それでガラス上の複雑な模様又は文字を刻み又はエ
ッチングするのが難しいという欠点がある。この欠点を
克服するために、エッチングプロセスを、所謂「シルク
スクリーン印刷法」を用いて行うことが提案されてい
る。しかしながら、現在用いられている印刷インクはフ
ッ酸のような強酸エッチング剤に耐えられず、この印刷
法はガラス製品の加工の分野ではめったに用いられな
い。
は、それでガラス上の複雑な模様又は文字を刻み又はエ
ッチングするのが難しいという欠点がある。この欠点を
克服するために、エッチングプロセスを、所謂「シルク
スクリーン印刷法」を用いて行うことが提案されてい
る。しかしながら、現在用いられている印刷インクはフ
ッ酸のような強酸エッチング剤に耐えられず、この印刷
法はガラス製品の加工の分野ではめったに用いられな
い。
【０００５】上述の問題の基本的な原因であったフッ酸
の使用を減らし又は避けるための試みがなされて来た。
代表的なアプローチはフッ酸の代わりにフッ化水素アン
モニウムを用いることを含む。米国特許Ｎo.２，６２
２，０１６及び３，６１６，０９８は、フッ化水素アン
モニウムをフッ酸と組み合わせて用いるエッチング方法
を教えている。米国特許Ｎo.４，９２１，６２６は、フ
ッ化水素アンモニウム、キサンタムガム(xanthum gum)
、水、及びプロピレングリコールを含むガラスエッチ
ング組成物を開示している。
の使用を減らし又は避けるための試みがなされて来た。
代表的なアプローチはフッ酸の代わりにフッ化水素アン
モニウムを用いることを含む。米国特許Ｎo.２，６２
２，０１６及び３，６１６，０９８は、フッ化水素アン
モニウムをフッ酸と組み合わせて用いるエッチング方法
を教えている。米国特許Ｎo.４，９２１，６２６は、フ
ッ化水素アンモニウム、キサンタムガム(xanthum gum)
、水、及びプロピレングリコールを含むガラスエッチ
ング組成物を開示している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、フッ酸
を含まず、比較的少ない量のフッ化水素アンモニウムを
含む改善されたガラスエッチング組成物を開発するため
に広範な研究を行った。その結果、本発明者らは、ガラ
スのエッチング剤としてのフッ化水素アンモニウム及び
溶媒としての精製されたグリセリンを含むガラスエッチ
ング剤はシルクスクリーン印刷への改善された作業性及
び良好な適合性を示すことを見いだした。
を含まず、比較的少ない量のフッ化水素アンモニウムを
含む改善されたガラスエッチング組成物を開発するため
に広範な研究を行った。その結果、本発明者らは、ガラ
スのエッチング剤としてのフッ化水素アンモニウム及び
溶媒としての精製されたグリセリンを含むガラスエッチ
ング剤はシルクスクリーン印刷への改善された作業性及
び良好な適合性を示すことを見いだした。
【０００７】従って、本発明の１つの目的は、環境汚染
及び作業者への身体的傷害の問題を解決する改善された
ガラスエッチング組成物を提供することである。
及び作業者への身体的傷害の問題を解決する改善された
ガラスエッチング組成物を提供することである。
【０００８】本発明の他の目的は、マスキングテープを
用いる従来法に較べてはるかに進んだ彫り付け法である
シルクスクリーン印刷法により、ガラスに精巧な模様又
は文字を彫り付けうる改善されたガラスエッチング組成
物を提供することである。
用いる従来法に較べてはるかに進んだ彫り付け法である
シルクスクリーン印刷法により、ガラスに精巧な模様又
は文字を彫り付けうる改善されたガラスエッチング組成
物を提供することである。
【０００９】これらの及び他の本発明の目的は、精製さ
れたグリセリン中の流れ修正剤及びフッ化水素アンモニ
ウムの第１の溶液；並びに精製されたグリセリン中のフ
ッ化水素アンモニウム及び塩化第二鉄の第１の溶液を含
む本発明の改善されたガラスエッチング組成物により達
成することができる。
れたグリセリン中の流れ修正剤及びフッ化水素アンモニ
ウムの第１の溶液；並びに精製されたグリセリン中のフ
ッ化水素アンモニウム及び塩化第二鉄の第１の溶液を含
む本発明の改善されたガラスエッチング組成物により達
成することができる。
【００１０】本発明の更に他の目的はこの明細書の残り
を読めば明らかとなろう。
を読めば明らかとなろう。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、次の
（ａ）及び（ｂ）の２つの溶液を含むガラスエッチング
組成物が提供される： （ａ）１００重量部のグリセリン中の２５〜３５重量部
の流れ修正剤及び２５〜３５重量部のフッ化水素アンモ
ニウムの第１の溶液；及び （ｂ）１００重量部のグリセリン中の２５〜３５重量部
のフッ化水素アンモニウム及び１０〜１５重量部の塩化
第二鉄の第２の溶液。
（ａ）及び（ｂ）の２つの溶液を含むガラスエッチング
組成物が提供される： （ａ）１００重量部のグリセリン中の２５〜３５重量部
の流れ修正剤及び２５〜３５重量部のフッ化水素アンモ
ニウムの第１の溶液；及び （ｂ）１００重量部のグリセリン中の２５〜３５重量部
のフッ化水素アンモニウム及び１０〜１５重量部の塩化
第二鉄の第２の溶液。
【００１２】第１の溶液及び第２の溶液の重量比は１：
１〜２：１である。
１〜２：１である。
【００１３】特に、前記第１の溶液は、精製したグリセ
リン中の流れ修正剤の溶液を湯浴中で加熱し、これにフ
ッ化水素アンモニウムを加え、次いで得られた混合物を
攪拌し、室温に冷却することにより調製される。前記第
２の溶液は、精製したグリセリンを湯浴中で加熱し、こ
れにフッ化水素アンモニウム及び塩化第２鉄を順に加
え、次いで得られた混合物を攪拌し、室温に冷却し、そ
の後生じた沈殿物をろ過により除くことにより調製され
る。
リン中の流れ修正剤の溶液を湯浴中で加熱し、これにフ
ッ化水素アンモニウムを加え、次いで得られた混合物を
攪拌し、室温に冷却することにより調製される。前記第
２の溶液は、精製したグリセリンを湯浴中で加熱し、こ
れにフッ化水素アンモニウム及び塩化第２鉄を順に加
え、次いで得られた混合物を攪拌し、室温に冷却し、そ
の後生じた沈殿物をろ過により除くことにより調製され
る。
【００１４】本発明のガラスエッチング組成物は、高度
に有害なフッ酸を含まない。更に、本発明のエッチング
組成物は、より有害でないフッ化水素アンモニウムを、
従来のガラスエッチング組成物中の量よりも少ない量含
む。
に有害なフッ酸を含まない。更に、本発明のエッチング
組成物は、より有害でないフッ化水素アンモニウムを、
従来のガラスエッチング組成物中の量よりも少ない量含
む。
【００１５】本発明のガラスエッチング組成物中のフッ
化水素アンモニウムの量が少ないのは精製されたグリセ
リンを使用していることに帰せられる。精製されたグリ
セリンの存在はフッ化水素アンモニウムのガラスエッチ
ング活性を高めるのに役立つ。従って、本発明によれ
ば、本発明のエッチング組成物中のフッ化水素アンモニ
ウムの使用量は、従来のガラスエッチング組成物中のそ
れより少なくすることが可能である。グリセリンは、化
粧品、食料品、香料、抗凍結溶液等に広く用いられてき
た。この物質は、種々の化学薬品の溶媒としてもしばし
ば用いられて来た。人体に無毒で、無害などんな既知の
精製されたグリセリンも、本発明のエッチング組成物中
に用いうる。
化水素アンモニウムの量が少ないのは精製されたグリセ
リンを使用していることに帰せられる。精製されたグリ
セリンの存在はフッ化水素アンモニウムのガラスエッチ
ング活性を高めるのに役立つ。従って、本発明によれ
ば、本発明のエッチング組成物中のフッ化水素アンモニ
ウムの使用量は、従来のガラスエッチング組成物中のそ
れより少なくすることが可能である。グリセリンは、化
粧品、食料品、香料、抗凍結溶液等に広く用いられてき
た。この物質は、種々の化学薬品の溶媒としてもしばし
ば用いられて来た。人体に無毒で、無害などんな既知の
精製されたグリセリンも、本発明のエッチング組成物中
に用いうる。
【００１６】流れ修正剤が、本発明のガラスエッチング
組成物の第１の溶液に加えられる。これは、この組成物
がガラス表面を流れ下るとき、このエッチング組成物の
流速を調節するためである。これら修正剤は、しょ糖、
澱粉シロップ、グレインシロップ(grain syrup) 、蜂蜜
等を含みうる。これらの内でしょ糖が、低温でフッ化水
素アンモニウムの還元を防ぐために好ましい。
組成物の第１の溶液に加えられる。これは、この組成物
がガラス表面を流れ下るとき、このエッチング組成物の
流速を調節するためである。これら修正剤は、しょ糖、
澱粉シロップ、グレインシロップ(grain syrup) 、蜂蜜
等を含みうる。これらの内でしょ糖が、低温でフッ化水
素アンモニウムの還元を防ぐために好ましい。
【００１７】本発明の第２の溶液に塩化第２鉄が加えら
れる。この成分を第２の溶液に加えることにより、これ
に含まれるフッ化水素アンモニウム成分のエッチング活
性が高めうる。
れる。この成分を第２の溶液に加えることにより、これ
に含まれるフッ化水素アンモニウム成分のエッチング活
性が高めうる。
【００１８】本発明のガラスエッチング組成物は、随意
に、第１及び第２の溶液に加えてある量の水を含んでい
てもよい。用いるべき水の量は、エッチング方法の種類
及びエッチング組成物が適用されるガラスの化学的性質
に依存して広い範囲で変化させうる。一般に、前記エッ
チング組成物の第１及び第２の溶液の全重量に基づいて
約１０％の量の水を加えるのが適当である。
に、第１及び第２の溶液に加えてある量の水を含んでい
てもよい。用いるべき水の量は、エッチング方法の種類
及びエッチング組成物が適用されるガラスの化学的性質
に依存して広い範囲で変化させうる。一般に、前記エッ
チング組成物の第１及び第２の溶液の全重量に基づいて
約１０％の量の水を加えるのが適当である。
【００１９】本発明の組成物は、好ましくはガラスをエ
ッチングする従来法のいずれかによってガラス製品をエ
ッチングするのに用いられる。好ましい態様において、
ガラスの表面に最初に水を流し、このガラスを拭って乾
燥させることにより清浄にする。清浄にして後、エッチ
ングが必要でないガラスの表面に、従来の耐エッチング
性材料でできたマスキングテープを貼ることにより、エ
ッチング組成物が接触することから任意に保護する。次
いで、マスキングテープで部分的に覆ったガラス製品
を、従来法により、例えば、ガラスをエッチング組成物
に浸漬し、又はガラス製品の表面にエッチング組成物を
スプレーすることにより、本発明のエッチング組成物で
処理する。このエッチング組成物でガラスを処理するの
に必要な時間は、エッチングの目的に依存する。しかし
ながら、通常は２〜３分以内に完了する。エッチング処
理を終えた後、このガラスを再び水で洗い、残留エッチ
ング組成物をこれから除く。
ッチングする従来法のいずれかによってガラス製品をエ
ッチングするのに用いられる。好ましい態様において、
ガラスの表面に最初に水を流し、このガラスを拭って乾
燥させることにより清浄にする。清浄にして後、エッチ
ングが必要でないガラスの表面に、従来の耐エッチング
性材料でできたマスキングテープを貼ることにより、エ
ッチング組成物が接触することから任意に保護する。次
いで、マスキングテープで部分的に覆ったガラス製品
を、従来法により、例えば、ガラスをエッチング組成物
に浸漬し、又はガラス製品の表面にエッチング組成物を
スプレーすることにより、本発明のエッチング組成物で
処理する。このエッチング組成物でガラスを処理するの
に必要な時間は、エッチングの目的に依存する。しかし
ながら、通常は２〜３分以内に完了する。エッチング処
理を終えた後、このガラスを再び水で洗い、残留エッチ
ング組成物をこれから除く。
【００２０】ガラス表面に精巧な模様又は文字を刻む場
合には、当技術分野で従来から知られているシルクスク
リーン印刷法によりエッチングを行うことができる。シ
ルクスクリーン印刷法において従来から用いられてきた
印刷インクは、本発明組成物がフッ酸のような強酸性組
成物を含んでいないので、このエッチング組成物により
劣化されない。従って、本発明のエッチング組成物はシ
ルクスクリーン印刷法を利用するエッチングプロセスに
おいてもうまく用いることが出来る。このエッチング方
法を用いて得られるガラス製品は非常に多様で美しい模
様又は文字を有するので、消費者の注意を引く。
合には、当技術分野で従来から知られているシルクスク
リーン印刷法によりエッチングを行うことができる。シ
ルクスクリーン印刷法において従来から用いられてきた
印刷インクは、本発明組成物がフッ酸のような強酸性組
成物を含んでいないので、このエッチング組成物により
劣化されない。従って、本発明のエッチング組成物はシ
ルクスクリーン印刷法を利用するエッチングプロセスに
おいてもうまく用いることが出来る。このエッチング方
法を用いて得られるガラス製品は非常に多様で美しい模
様又は文字を有するので、消費者の注意を引く。
【００２１】
【実施例】以下の例により、本発明をより詳細に説明す
る。この例は説明のためにのみ示すのであって、特許請
求の範囲に記載された発明を限定するものと解釈すべき
でない。
る。この例は説明のためにのみ示すのであって、特許請
求の範囲に記載された発明を限定するものと解釈すべき
でない。
【００２２】（例１）０．９ｇのしょ糖を３kgの精製し
たグリセリンに加えて溶液とした。この混合物を湯浴中
９０℃で３０分間加熱した。この混合物に０．９kgのフ
ッ化水素アンモニウムを直ちに加えた。得られた混合物
を徹底的に攪拌し、室温に冷却して第１の溶液を得た。
たグリセリンに加えて溶液とした。この混合物を湯浴中
９０℃で３０分間加熱した。この混合物に０．９kgのフ
ッ化水素アンモニウムを直ちに加えた。得られた混合物
を徹底的に攪拌し、室温に冷却して第１の溶液を得た。
【００２３】別に、３kgの精製したグリセリンを９０℃
の湯浴中で３０分間加熱し、次いで０．９kgのフッ化水
素アンモニウムをこれに加えた。０．３kgの塩化第二鉄
を加えた後、得られた混合物を徹底的に攪拌し、室温ま
で冷却した。沈殿をろ別して第２の溶液を得た。
の湯浴中で３０分間加熱し、次いで０．９kgのフッ化水
素アンモニウムをこれに加えた。０．３kgの塩化第二鉄
を加えた後、得られた混合物を徹底的に攪拌し、室温ま
で冷却した。沈殿をろ別して第２の溶液を得た。
【００２４】次いで、このようにして得られた第１及び
第２の溶液を重量比１：１〜２：１の割合で混合し、本
発明のガラスエッチング組成物を得た。
第２の溶液を重量比１：１〜２：１の割合で混合し、本
発明のガラスエッチング組成物を得た。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、環境汚染及び作業者の
身体に傷害を与えるという問題を引き起こさず、シルク
スクリーン法により精巧な模様又は文字を刻み得るガラ
スエッチング組成物が提供される。
身体に傷害を与えるという問題を引き起こさず、シルク
スクリーン法により精巧な模様又は文字を刻み得るガラ
スエッチング組成物が提供される。
フロントページの続き (72)発明者 キム ジュン ヒュン 大韓民国，インチョン，ブツ−ク，シプチ ュン ２−ドン，521−14
Claims (7)
- 【請求項１】 次の（ａ）及び（ｂ）を含むガラスエッ
チング組成物： （ａ）１００重量部のグリセリン中の２５〜３５重量部
の流れ修正剤及び２５〜３５重量部のフッ化水素アンモ
ニウムの第１の溶液；及び （ｂ）１００重量部のグリセリン中の２５〜３５重量部
のフッ化水素アンモニウム及び１０〜１５重量部の塩化
第二鉄の第２の溶液、但し第１の溶液及び第２の溶液の
重量比は１：１〜２：１である。 - 【請求項２】 前記ガラスエッチング組成物の全重量に
基づいて約１０ｗｔ％の量の水がこの組成物中に存在す
る請求項１のガラスエッチング組成物。 - 【請求項３】 前記流れ修正剤がしょ糖、澱粉シロッ
プ、グレインシロップ(grain syrup) 、及び蜂蜜からな
る群から選ばれる請求項１又は２のガラスエッチング組
成物。 - 【請求項４】 前記第１の溶液が、精製したグリセリン
中の流れ修正剤の溶液を水浴中で加熱し、これにフッ化
水素アンモニウムを加え、次いで得られた混合物を攪拌
し、室温に冷却することにより調製されたものであり；
そして、前記第２の溶液が、精製したグリセリンを水浴
中で加熱し、これにフッ化水素アンモニウム及び塩化第
２鉄を順に加え、次いで得られた混合物を攪拌し、室温
に冷却し、その後生じた沈殿物をろ過により除くことに
より調製されたものである請求項１、２又は３のガラス
エッチング組成物。 - 【請求項５】 次の（ａ）〜（ｄ）のステップを含むガ
ラス表面のエッチング方法： （ａ）前記ガラス表面を清浄にし； （ｂ）随意に、エッチングが必要でない部分にマスクを
被せることにより表面を保護し； （ｃ）前記ガラス表面を請求項１のエッチング組成物で
処理し；そして （ｄ）このように処理されたガラス表面を洗浄する。 - 【請求項６】 前記エッチング組成物の全重量に基づい
て約１０ｗｔ％の量の水がこの組成物中に存在する請求
項５の方法。 - 【請求項７】 前記エッチング組成物の流れ修正剤がし
ょ糖、澱粉シロップ、グレインシロップ(grain syrup)
、及び蜂蜜からなる群から選ばれる請求項５又は６の
方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019920014675A KR950002233B1 (ko) | 1992-08-14 | 1992-08-14 | 유리에칭 조성물과 그를 이용한 유리표면의 에칭 방법 |
| KR14675/1992 | 1992-08-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0717743A JPH0717743A (ja) | 1995-01-20 |
| JPH085694B2 true JPH085694B2 (ja) | 1996-01-24 |
Family
ID=19338003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5202244A Expired - Lifetime JPH085694B2 (ja) | 1992-08-14 | 1993-08-16 | ガラスエッチングの組成物及び方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5281350A (ja) |
| EP (1) | EP0586126A1 (ja) |
| JP (1) | JPH085694B2 (ja) |
| KR (1) | KR950002233B1 (ja) |
| CA (1) | CA2104087A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101717259B1 (ko) * | 2016-01-19 | 2017-03-17 | 주식회사 가인공영 | 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물 및 그 제조방법 |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR960010586B1 (ko) * | 1993-07-03 | 1996-08-06 | 김중형 | 무반사 유리 에칭 방법 및 그를 위한 조성물 |
| US5695661A (en) | 1995-06-07 | 1997-12-09 | Micron Display Technology, Inc. | Silicon dioxide etch process which protects metal |
| TW434196B (en) | 1997-06-25 | 2001-05-16 | Ibm | Selective etching of silicate |
| US6337029B1 (en) | 1999-01-21 | 2002-01-08 | Xim Products | Method and composition for etching glass ceramic and porcelain surfaces |
| AU4314600A (en) * | 1999-04-27 | 2000-11-10 | Hiroshi Miwa | Glass etching composition and method for frosting using the same |
| DE10101926A1 (de) * | 2000-04-28 | 2001-10-31 | Merck Patent Gmbh | Ätzpasten für anorganische Oberflächen |
| FR2809722B1 (fr) | 2000-05-31 | 2003-01-03 | Seppic Sa | Nouveau procede de depolissage chimique du verre comprenant un rincage avec une solution saline et objets depolis obtenus par ce procede |
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