JPH0853631A - 反射防止膜用組成物 - Google Patents
反射防止膜用組成物Info
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- JPH0853631A JPH0853631A JP17050894A JP17050894A JPH0853631A JP H0853631 A JPH0853631 A JP H0853631A JP 17050894 A JP17050894 A JP 17050894A JP 17050894 A JP17050894 A JP 17050894A JP H0853631 A JPH0853631 A JP H0853631A
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- JP
- Japan
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- methacrylate
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- double bond
- carbon
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Abstract
(57)【要約】
【目的】コーティングにより形成でき、一液型でありな
がら保存安定性がきわめてよく室温では硬化しない反射
防止膜用組成物を提供する。 【構成】炭素炭素不飽和二重結合を有する含フッ素単量
体60〜85重量％と、炭素炭素不飽和二重結合とN-メチロ
ール基あるいはN-アルコキシメチル基を有する単量体15
〜40重量％、その他の炭素炭素不飽和二重結合を有する
単量体0〜25重量％からなる共重合体と硬化剤からなる1
液型の反射防止膜用組成物。
がら保存安定性がきわめてよく室温では硬化しない反射
防止膜用組成物を提供する。 【構成】炭素炭素不飽和二重結合を有する含フッ素単量
体60〜85重量％と、炭素炭素不飽和二重結合とN-メチロ
ール基あるいはN-アルコキシメチル基を有する単量体15
〜40重量％、その他の炭素炭素不飽和二重結合を有する
単量体0〜25重量％からなる共重合体と硬化剤からなる1
液型の反射防止膜用組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は硝子または透明なプラス
チック等の基材の表面に塗工することにより、該基材の
表面反射を低下し、視認性の向上及び可視光線エネルギ
ーの有効活用化に有用な反射防止膜用組成物に関するも
のである。
チック等の基材の表面に塗工することにより、該基材の
表面反射を低下し、視認性の向上及び可視光線エネルギ
ーの有効活用化に有用な反射防止膜用組成物に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来反射防止用コートとして、MgF2膜を
蒸着により形成し、更に焼き付ける方法、及びチタン含
有有機金属化合物とケイ素含有有機化合物とを加水分解
してTiO2膜とSiO2膜とからなる多層コートを形成する方
法が知られている。しかしながらMgF2蒸着膜の場合は、
蒸着設備の制約を受けるため大きな物品へのコートがで
きない、MgF2膜は付着力が小さく、かつ硬度及び耐擦傷
性が低いという難点があるためガラス製品では焼き付け
なければならず、またプラスチック製品では焼き付けで
きないため実用性のある塗膜とはならなかった。
蒸着により形成し、更に焼き付ける方法、及びチタン含
有有機金属化合物とケイ素含有有機化合物とを加水分解
してTiO2膜とSiO2膜とからなる多層コートを形成する方
法が知られている。しかしながらMgF2蒸着膜の場合は、
蒸着設備の制約を受けるため大きな物品へのコートがで
きない、MgF2膜は付着力が小さく、かつ硬度及び耐擦傷
性が低いという難点があるためガラス製品では焼き付け
なければならず、またプラスチック製品では焼き付けで
きないため実用性のある塗膜とはならなかった。
【０００３】一方、ガラスや透明プラスチックなどの透
明基材の表面に、加水分解性シリル基を含む組成物から
なる低反射処理剤を塗工して、低反射性の塗膜を形成す
るための低反射処理剤あるいは処理方法が提案されてい
る。このような組成物はアルコキシシリル基が水により
加水分解してシラノールを生成し、さらにシラノールど
うしの縮合反応で硬化塗膜が得られる。しかしこの方法
は塗液を基材に塗工した後に、加湿されたクリーンルー
ム内でアルコキシシリル基の加水分解を十分行い、その
後焼き付けを行うという時間と手間がかかるものであっ
た。そこで塗液中にあらかじめ加水分解に必要な水を入
れておき、塗工後すぐ焼き付けを行なう方法があるが、
塗液中に水を入れると加水分解、縮合が起こり塗液がゲ
ル化してしまっていた。
明基材の表面に、加水分解性シリル基を含む組成物から
なる低反射処理剤を塗工して、低反射性の塗膜を形成す
るための低反射処理剤あるいは処理方法が提案されてい
る。このような組成物はアルコキシシリル基が水により
加水分解してシラノールを生成し、さらにシラノールど
うしの縮合反応で硬化塗膜が得られる。しかしこの方法
は塗液を基材に塗工した後に、加湿されたクリーンルー
ム内でアルコキシシリル基の加水分解を十分行い、その
後焼き付けを行うという時間と手間がかかるものであっ
た。そこで塗液中にあらかじめ加水分解に必要な水を入
れておき、塗工後すぐ焼き付けを行なう方法があるが、
塗液中に水を入れると加水分解、縮合が起こり塗液がゲ
ル化してしまっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、工業
生産的に有利なコーティングによって形成され、屈折率
が低く反射防止能に優れ、更に一液型でありながら保存
安定性が非常に優れ、基材との密着性、耐水性、耐溶剤
性、硬度等に優れた反射防止膜を作るために反射防止膜
用組成物を提供することにある。
生産的に有利なコーティングによって形成され、屈折率
が低く反射防止能に優れ、更に一液型でありながら保存
安定性が非常に優れ、基材との密着性、耐水性、耐溶剤
性、硬度等に優れた反射防止膜を作るために反射防止膜
用組成物を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は炭素炭素不飽和
二重結合を有する含フッ素単量体60〜85重量％と、炭素
炭素不飽和二重結合とN-メチロール基あるいはN-アルコ
キシメチル基を有する単量体15〜40重量％、その他の炭
素炭素不飽和二重結合を有する単量体0〜25重量％から
なる共重合体を含むことを特徴とする反射防止膜用組成
物である。本発明を構成する炭素炭素不飽和二重結合を
有する含フッ素単量体の例として、2-パーフルオロイソ
ノニルエチルメタクリレート、2ーパーフルオロノニルエ
チメタクリレート、2ーパーフルオロデシルエチルメタク
リレート、2ーパーフルブチルエチルメタクリレート、パ
ーフルオロメチルメチルメタクリレート、パーフルオロ
エチルメチルメタクリレート、パーフルオロブチルメチ
ルメタクリレート、パーフルオロオクチルメチルメタク
リレート、パーフルオロデシルメチルメタクリレート、
パーフルオロプロピルプロピルメタクリレート、パーフ
ルオロオクチルプロピルメタクリレート、パーフルオロ
オクチルアミルメタクリレート、パーフルオロオクチル
ウンデシルメタクリレート等の炭素数1〜20のパーフル
オロ基を有するパーフルオロアルキルアルキルメタクリ
レート及び上記メタクリレートをアクリレートに変えた
パーフルオロアルキルアルキルアクリレート類；
二重結合を有する含フッ素単量体60〜85重量％と、炭素
炭素不飽和二重結合とN-メチロール基あるいはN-アルコ
キシメチル基を有する単量体15〜40重量％、その他の炭
素炭素不飽和二重結合を有する単量体0〜25重量％から
なる共重合体を含むことを特徴とする反射防止膜用組成
物である。本発明を構成する炭素炭素不飽和二重結合を
有する含フッ素単量体の例として、2-パーフルオロイソ
ノニルエチルメタクリレート、2ーパーフルオロノニルエ
チメタクリレート、2ーパーフルオロデシルエチルメタク
リレート、2ーパーフルブチルエチルメタクリレート、パ
ーフルオロメチルメチルメタクリレート、パーフルオロ
エチルメチルメタクリレート、パーフルオロブチルメチ
ルメタクリレート、パーフルオロオクチルメチルメタク
リレート、パーフルオロデシルメチルメタクリレート、
パーフルオロプロピルプロピルメタクリレート、パーフ
ルオロオクチルプロピルメタクリレート、パーフルオロ
オクチルアミルメタクリレート、パーフルオロオクチル
ウンデシルメタクリレート等の炭素数1〜20のパーフル
オロ基を有するパーフルオロアルキルアルキルメタクリ
レート及び上記メタクリレートをアクリレートに変えた
パーフルオロアルキルアルキルアクリレート類；
【０００６】更にこれらパーフルオロアルキルアルキル
（メタ）アクリレートのパーフルオロアルキル基におい
て1つのフッ素原子が水素原子に置き変わった（メタ）
アクリレート類、例えば2ーハイドロジエンオクタンフル
オロプロピルメチルメタクリート、4ーハイドロジエンオ
クタフルオロブチルメチルメタクリレート、6ーハロジエ
ンドデカフルオロヘキシルメチルメタクリレート、8ーハ
イドロジエンヘサデカフルオロオクチルメチルアクリレ
ート、2ーハイドロジエンテトラフルオエチルメチルメタ
クリレート；パーフルオロブチルエチレン、パーフルオ
ロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、
パーフルオロデシルエチレン等が挙げられ、要求性能に
応じてこれらの内から1種類、あるいは2種類以上を混し
て使用でき、共重合比率は60〜85重量％、共重合体の屈
折率を1.4以下とするときは75〜85重量％の共重合割合
で用いられる。
（メタ）アクリレートのパーフルオロアルキル基におい
て1つのフッ素原子が水素原子に置き変わった（メタ）
アクリレート類、例えば2ーハイドロジエンオクタンフル
オロプロピルメチルメタクリート、4ーハイドロジエンオ
クタフルオロブチルメチルメタクリレート、6ーハロジエ
ンドデカフルオロヘキシルメチルメタクリレート、8ーハ
イドロジエンヘサデカフルオロオクチルメチルアクリレ
ート、2ーハイドロジエンテトラフルオエチルメチルメタ
クリレート；パーフルオロブチルエチレン、パーフルオ
ロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、
パーフルオロデシルエチレン等が挙げられ、要求性能に
応じてこれらの内から1種類、あるいは2種類以上を混し
て使用でき、共重合比率は60〜85重量％、共重合体の屈
折率を1.4以下とするときは75〜85重量％の共重合割合
で用いられる。
【０００７】本発明を構成する炭素炭素不飽和二重結合
とN-メチロール基あるいはN-アルコキシメチル基を有す
る単量体として例えばN-メチロールアクリルアミド、N-
メチロールメタクリルアミド、N-メトキシメチルアクリ
ルアミド、N-メトキシメチルメタクリルアミド、N-エト
キシメチルアクリルアミド、N-エトキシメチルメタクリ
ルアミド、N-ブトキシメチルアクリルアミド、N-ブトキ
シメチルメタクリルアミド等が挙げられ、これらの内か
ら要求性能に応じて1種類、あるいは2種類以上を混合し
て使用でき、共重合比率は15〜40重量％、共重合体の屈
折率を1.4以下とするときは15〜25重量％の共重合比率
で用いられる。本発明中のその他の炭素炭素不飽和二重
結合を有する単量体としては、例えばアクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル
酸イソプロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ヘキシ
ル、アクリル酸2ーエチルヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸ラウリル、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イ
ソプロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシ
ル、メタクリル酸2ーエチルヘキシル、メタクリル酸オク
チル、メタクリル酸ラウリル等の（メタ）アクリル酸の
炭素数1〜18のアルキルエステル；
とN-メチロール基あるいはN-アルコキシメチル基を有す
る単量体として例えばN-メチロールアクリルアミド、N-
メチロールメタクリルアミド、N-メトキシメチルアクリ
ルアミド、N-メトキシメチルメタクリルアミド、N-エト
キシメチルアクリルアミド、N-エトキシメチルメタクリ
ルアミド、N-ブトキシメチルアクリルアミド、N-ブトキ
シメチルメタクリルアミド等が挙げられ、これらの内か
ら要求性能に応じて1種類、あるいは2種類以上を混合し
て使用でき、共重合比率は15〜40重量％、共重合体の屈
折率を1.4以下とするときは15〜25重量％の共重合比率
で用いられる。本発明中のその他の炭素炭素不飽和二重
結合を有する単量体としては、例えばアクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル
酸イソプロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ヘキシ
ル、アクリル酸2ーエチルヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸ラウリル、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イ
ソプロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシ
ル、メタクリル酸2ーエチルヘキシル、メタクリル酸オク
チル、メタクリル酸ラウリル等の（メタ）アクリル酸の
炭素数1〜18のアルキルエステル；
【０００８】グリシジルアクリレート、グリシジルメタ
クリレート；アクリル酸メトキシブチル、メタクリル酸
メトキシブチル、アクリル酸メトキシエチル、メタクリ
ル酸メトキシエチル、アクリル酸エトキシブチル、メタ
クリル酸エトキシブチル等の（メタ）アクリル酸のC2〜
18アルコキシアルキルエステル；ヒドロキシエチルアク
リレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキ
シプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリ
レート等の（メタ）アクリル酸のC2〜8のヒドロキシア
ルキルエステル；ジメチルアミノエチルアクリレート、
ジエチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエ
チルメタクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレー
ト等の（メタ）アクリル酸のアミノアルキルエステル、
アクリルアミド、メタクリルアミド；アクリル酸、メタ
クリル酸等が挙げられこれらの内から1種類、あるいは2
種類以上を混合して使用でき、共重合比率は0〜25重量
％用いられるが、共重合体の屈折率を1.4以下とすると
きは0〜5重量％の共重合合で用いられる。
クリレート；アクリル酸メトキシブチル、メタクリル酸
メトキシブチル、アクリル酸メトキシエチル、メタクリ
ル酸メトキシエチル、アクリル酸エトキシブチル、メタ
クリル酸エトキシブチル等の（メタ）アクリル酸のC2〜
18アルコキシアルキルエステル；ヒドロキシエチルアク
リレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキ
シプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリ
レート等の（メタ）アクリル酸のC2〜8のヒドロキシア
ルキルエステル；ジメチルアミノエチルアクリレート、
ジエチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエ
チルメタクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレー
ト等の（メタ）アクリル酸のアミノアルキルエステル、
アクリルアミド、メタクリルアミド；アクリル酸、メタ
クリル酸等が挙げられこれらの内から1種類、あるいは2
種類以上を混合して使用でき、共重合比率は0〜25重量
％用いられるが、共重合体の屈折率を1.4以下とすると
きは0〜5重量％の共重合合で用いられる。
【０００９】本発明の共重合体を製造するために上記単
量体成分の重合は、それ自体既知の方法、例えば溶液重
合、乳化重合いずれの方法を採用することができ、溶液
重合の場合は用いる溶媒として、上記共重合体が炭素炭
素不飽和二重結合とパーフルオロアルキル基を含む単量
体が60重量％以下の共重合比率の時フッ素を含まない溶
媒、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチ
レングリコールメチルエーテル等のアルコール類、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等
のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコール、ジエチルエーテル等のエー
テル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の芳香族
化合物類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類等の
使用も可能である。もちろん適宜２種類以上を併用して
溶媒として用いることができる。溶液濃度は１〜80重量
％である。重合開始剤としては通常の過酸化物またはア
ゾ化合物、例えば過酸化ベンゾイル、アゾイソブチルバ
レロニトリル、アゾビスイソブチロニトリル等が用いら
れ、反応温度は一般に50〜140度とすることが好まし
い。
量体成分の重合は、それ自体既知の方法、例えば溶液重
合、乳化重合いずれの方法を採用することができ、溶液
重合の場合は用いる溶媒として、上記共重合体が炭素炭
素不飽和二重結合とパーフルオロアルキル基を含む単量
体が60重量％以下の共重合比率の時フッ素を含まない溶
媒、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチ
レングリコールメチルエーテル等のアルコール類、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等
のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコール、ジエチルエーテル等のエー
テル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の芳香族
化合物類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類等の
使用も可能である。もちろん適宜２種類以上を併用して
溶媒として用いることができる。溶液濃度は１〜80重量
％である。重合開始剤としては通常の過酸化物またはア
ゾ化合物、例えば過酸化ベンゾイル、アゾイソブチルバ
レロニトリル、アゾビスイソブチロニトリル等が用いら
れ、反応温度は一般に50〜140度とすることが好まし
い。
【００１０】本発明の組成物を用いてコーティングを行
なうにはドクターブレード、バーコーター、アプリケー
ター等を用いた塗布、スプレーコート、スピンコート、
ディップコート等通常のコーティング方法のどの方法も
採用可能である。特に平滑性が必要とされる際にはスピ
ンコートを採用することが好ましい。
なうにはドクターブレード、バーコーター、アプリケー
ター等を用いた塗布、スプレーコート、スピンコート、
ディップコート等通常のコーティング方法のどの方法も
採用可能である。特に平滑性が必要とされる際にはスピ
ンコートを採用することが好ましい。
【００１１】本発明においては組成物中のN-メチロール
基あるいはN-アルコキシメチル基の縮合反応を促進させ
る触媒を必要に応じて用いることができる。かかる縮合
用触媒の代表的なものとしてはブチルアミン、ジブチル
アミン、ヘキシルアミン、t-ブチルアミン、エチレンジ
アミン、トリエチルアミン、イソホロンジアミン、イミ
ダゾール、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、ナトリウムメチラートのごとき塩基性化合
物；テトラプロピルチタネート、オクチル酸錫、オクチ
ル酸鉛、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチ
ル酸カルシウム、ナフテン酸鉛、ナフテン酸コバルト、
ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、ジ
ブチル錫ジラウレート、ジブチル錫マレート等含金属化
合物；ギ酸、酢酸、プロピオン酸、p-トルエンスルホン
酸、トリクロル酢酸、リン酸、モノアルキルリン酸、ジ
アルキルリン酸、βーヒドロキシエチル（メタ）アクリ
レートのリン酸エステル、モノアルキル亜リン酸、ジア
ルキル亜リン酸等酸性化合物などが挙げられるが、特に
ジブチル錫ジアセテートジブチル錫ジオクテート、ジブ
チル錫ジラウレート、ジブチル錫ジマレート等の錫化合
物が望ましい。この触媒の使用量は組成物100重量部に
対して、0.01〜10重量部、好ましくは0.1〜5重量部の範
囲である。
基あるいはN-アルコキシメチル基の縮合反応を促進させ
る触媒を必要に応じて用いることができる。かかる縮合
用触媒の代表的なものとしてはブチルアミン、ジブチル
アミン、ヘキシルアミン、t-ブチルアミン、エチレンジ
アミン、トリエチルアミン、イソホロンジアミン、イミ
ダゾール、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、ナトリウムメチラートのごとき塩基性化合
物；テトラプロピルチタネート、オクチル酸錫、オクチ
ル酸鉛、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチ
ル酸カルシウム、ナフテン酸鉛、ナフテン酸コバルト、
ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、ジ
ブチル錫ジラウレート、ジブチル錫マレート等含金属化
合物；ギ酸、酢酸、プロピオン酸、p-トルエンスルホン
酸、トリクロル酢酸、リン酸、モノアルキルリン酸、ジ
アルキルリン酸、βーヒドロキシエチル（メタ）アクリ
レートのリン酸エステル、モノアルキル亜リン酸、ジア
ルキル亜リン酸等酸性化合物などが挙げられるが、特に
ジブチル錫ジアセテートジブチル錫ジオクテート、ジブ
チル錫ジラウレート、ジブチル錫ジマレート等の錫化合
物が望ましい。この触媒の使用量は組成物100重量部に
対して、0.01〜10重量部、好ましくは0.1〜5重量部の範
囲である。
【００１２】
【作用】本発明において、反射防止用組成物は、フッ素
を含まない溶媒にも溶け、結晶性がないために、高い透
明性を示し且つ高い光線透過率を示すものであり、屈折
率が低いために反射防止効果に優れている。またN-メチ
ロール基あるいはN-アルコキシメチル基を含むために、
シリル基の加水分解、縮合により基材との密着性に優
れ、自己架橋して硬い塗膜を与え、耐湿性、耐候性等に
優れているものと考えられる。
を含まない溶媒にも溶け、結晶性がないために、高い透
明性を示し且つ高い光線透過率を示すものであり、屈折
率が低いために反射防止効果に優れている。またN-メチ
ロール基あるいはN-アルコキシメチル基を含むために、
シリル基の加水分解、縮合により基材との密着性に優
れ、自己架橋して硬い塗膜を与え、耐湿性、耐候性等に
優れているものと考えられる。
【実施例】次に本発明の実施例について更に具体的に説
明する。なお実施例中の部数はすべて重量部を示してい
る。また合成はすべて窒素雰囲気下で行った。
明する。なお実施例中の部数はすべて重量部を示してい
る。また合成はすべて窒素雰囲気下で行った。
【００１３】実施例１ 1H、1H、9Hーヘキサデカフルオロノニルメタクリレート80
部、N-メトキシメチルタクリルアミド20部、メチルエチ
ルケトン200部を500ml4つ口フラスコに仕込み、攪拌し
ながら80度に加熱した。アゾビスイソブチロニトリルを
0.8部加え2時重合し、さらにアゾビスイソブチロニトリ
ルを0.2部加えて時間重合反応を行い、重量平均分子量
約24000のポリマーを得た。このようにして得られたポ
リマー溶液の固形分に対して0.1％のパラトルエンスル
ホン酸、水2％、さらにメチルチルケトンを加えて固形
分2％のポリマー溶液を得た。このポリマー溶液を厚さ
約1.3mmのガラス板に0.5milのアプリコケーターで塗布
し、150℃のオーブンで分間焼き付けを行った同様にし
てガラス板の裏面もポリマー溶液を塗布して焼き付けを
行い反射防止コーティングされたガラス板を得た。
部、N-メトキシメチルタクリルアミド20部、メチルエチ
ルケトン200部を500ml4つ口フラスコに仕込み、攪拌し
ながら80度に加熱した。アゾビスイソブチロニトリルを
0.8部加え2時重合し、さらにアゾビスイソブチロニトリ
ルを0.2部加えて時間重合反応を行い、重量平均分子量
約24000のポリマーを得た。このようにして得られたポ
リマー溶液の固形分に対して0.1％のパラトルエンスル
ホン酸、水2％、さらにメチルチルケトンを加えて固形
分2％のポリマー溶液を得た。このポリマー溶液を厚さ
約1.3mmのガラス板に0.5milのアプリコケーターで塗布
し、150℃のオーブンで分間焼き付けを行った同様にし
てガラス板の裏面もポリマー溶液を塗布して焼き付けを
行い反射防止コーティングされたガラス板を得た。
【００１４】実施例２ 2-（パーフルオロオクチル）エチルメタクリレート40
部、1H、1H、9Hーヘキサデフルオロノニルメタクリレート4
0部、N-メトキシメチルメタクリルアミド20部、メチル
エチルケトン200部を500ml4つ口フラスコに仕込み、攪
拌しながら80度に加熱した。アゾビスイソブチロニトリ
ルを0.8部加え2時間重合し、さらにアゾスイソブチロニ
トリルを0.2部加えて時間重合反応を行い、重量平均分
子量1900のポリマーを得た。このポリマーを実施例1と
同じ方法でガラス板に塗布して反射防止コーティングさ
れたガラス板を得た。
部、1H、1H、9Hーヘキサデフルオロノニルメタクリレート4
0部、N-メトキシメチルメタクリルアミド20部、メチル
エチルケトン200部を500ml4つ口フラスコに仕込み、攪
拌しながら80度に加熱した。アゾビスイソブチロニトリ
ルを0.8部加え2時間重合し、さらにアゾスイソブチロニ
トリルを0.2部加えて時間重合反応を行い、重量平均分
子量1900のポリマーを得た。このポリマーを実施例1と
同じ方法でガラス板に塗布して反射防止コーティングさ
れたガラス板を得た。
【００１５】このようにして作成された反射防止コーテ
ィングされたガラス板に各種の試験を行った。試験方法
は以下の通りである。 屈折率：アッベ屈折率計にてポリマーの屈折率を測定し
た。 硬度：JISK5400に準拠した方法で室温で測定した。 剥離試験：塗膜をクロスカットした後セロハンテープ剥
離を行い塗膜の剥離した面積を％で示した。 耐溶剤性：塗膜をメチルエチルケトンのついたガーゼで
10回こすった後の塗膜の状態を5段階評価した １
（良）−−−−５（不良） 反射率：反射率計の600nmにおける塗膜の反射率 試験結果を表１に示す。
ィングされたガラス板に各種の試験を行った。試験方法
は以下の通りである。 屈折率：アッベ屈折率計にてポリマーの屈折率を測定し
た。 硬度：JISK5400に準拠した方法で室温で測定した。 剥離試験：塗膜をクロスカットした後セロハンテープ剥
離を行い塗膜の剥離した面積を％で示した。 耐溶剤性：塗膜をメチルエチルケトンのついたガーゼで
10回こすった後の塗膜の状態を5段階評価した １
（良）−−−−５（不良） 反射率：反射率計の600nmにおける塗膜の反射率 試験結果を表１に示す。
【００１６】 表1 反射防止膜の物性 ──────────────────────────────────── 屈折率 硬度 剥離試験 耐溶剤性 反射率 保存安定性 ──────────────────────────────────── 実施例１ 1.4010 4H 0 2 5.4 ３ヶ月以上 実施例２ 1.3975 5H 0 1 5.0 ３ヶ月以参 考（ガラス板) 10.1 ────────────────────────────────────
【発明の効果】本発明の反射防止膜用組成物は、室温で
反応性の低い自己架橋性官能基を含んでいるため、塗液
の保存安定性に優れかつコーティングにより簡単に硬
度、耐溶剤性、密着性に優れた反射防止膜を形成するた
め、量産製品への応用に特に有効である。本発明の反射
防止膜用組成物はテレビのブラウン管、絵画の前面硝
子、ショーケース、硝子板、眼鏡レンズ等に塗布され生
成する薄膜は太陽光、照明光の反射によるギラツキや眩
しさ、あるいは周囲の景観が映ることにより、透明性、
視認性が損なわれることを防止するのに有効である。
反応性の低い自己架橋性官能基を含んでいるため、塗液
の保存安定性に優れかつコーティングにより簡単に硬
度、耐溶剤性、密着性に優れた反射防止膜を形成するた
め、量産製品への応用に特に有効である。本発明の反射
防止膜用組成物はテレビのブラウン管、絵画の前面硝
子、ショーケース、硝子板、眼鏡レンズ等に塗布され生
成する薄膜は太陽光、照明光の反射によるギラツキや眩
しさ、あるいは周囲の景観が映ることにより、透明性、
視認性が損なわれることを防止するのに有効である。
Claims (3)
- 【請求項１】炭素炭素不飽和二重結合を有する含フッ素
単量体60〜85重量％と、炭素炭素不飽和二重結合とN-メ
チロール基あるいはN-アルコキシメチル基を有する単量
体15〜40重量％、その他の炭素炭素不飽和二重結合を有
する単量体0〜25重量％からなる共重合体を含むことを
特徴とする反射防止膜用組成物。 - 【請求項２】共重合体がハロゲン原子を含まない溶剤に
溶解することを特徴とする請求項１記載の反射防止膜用
組成物。 - 【請求項３】共重合体の屈折率が1.4以下である事を特
徴とする請求項１又は２記載の反射防止膜用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17050894A JPH0853631A (ja) | 1994-06-10 | 1994-07-22 | 反射防止膜用組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12875694 | 1994-06-10 | ||
| JP6-128756 | 1994-06-10 | ||
| JP17050894A JPH0853631A (ja) | 1994-06-10 | 1994-07-22 | 反射防止膜用組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0853631A true JPH0853631A (ja) | 1996-02-27 |
Family
ID=26464339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17050894A Pending JPH0853631A (ja) | 1994-06-10 | 1994-07-22 | 反射防止膜用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0853631A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010154007A (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Murata Mfg Co Ltd | 磁性体アンテナ及びアンテナ装置 |
| WO2011161812A1 (ja) * | 2010-06-25 | 2011-12-29 | リケンテクノス株式会社 | 塗料および積層体 |
-
1994
- 1994-07-22 JP JP17050894A patent/JPH0853631A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010154007A (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Murata Mfg Co Ltd | 磁性体アンテナ及びアンテナ装置 |
| WO2011161812A1 (ja) * | 2010-06-25 | 2011-12-29 | リケンテクノス株式会社 | 塗料および積層体 |
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