JPH08506988A - 有利にはエピクロルヒドリン製造からの有機および無機化合物を含有する廃水を触媒を用いて処理する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、有利にはゾル−ゲル法により製造した担体をベースとした貴金属担体触媒を使用して有機および無機化合物を含有する廃水を触媒を用いて処理する方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 有利にはエピクロルヒドリン製造からの有機および無機化合物を含有する廃水を 触媒を用いて処理する方法 本発明の対象は、特にハロゲン有機および場合により無機化合物を含有する廃 水を貴金属担体触媒を使用して触媒を用いて処理する方法に関する。 ハロゲン有機、特にクロル有機化合物（ＡＯＸ）を含有する廃水を触媒を用い て処理する公知の方法は、触媒としてたとえばアルカリ金属またはアルカリ土類 金属化合物または貴金属または貴金属化合物を使用する。たとえば廃水に含まれ るクロル有機化合物をプラチナ、パラジウムまたはロジウムの存在下で分解する ことがきわめて良好に達成されることは公知であり、その際パラジウムがきわめ て大きな活性を有する。ほかの研究により、担体物質の選択が触媒活性のために 過小評価されるべきでないことが示された。たとえば担体として酸化アルミニウ ム上のパラジウムが担体として炭素上のパラジウムより低い活性を有することは 公知である。 本発明の課題は、改良された活性を有する貴金属担体触媒を使用して廃水を処 理する方法を開発することであった。 前記課題は、本発明により、担体物質が無機酸化物 および炭素を含有する貴金属担体触媒に接触させて水素の存在下で廃水を処理す ることにより解決される。無機酸化物として、本発明により、有利には単独また は互いに組み合わせた形のアルミニウム、マグネシウム、ジルコニウム、珪素、 チタンの酸化物が該当する。有利には触媒担体は酸化物成分として二酸化珪素を 含有する。有利な変法においては担体の酸化物割合は少なくとも５０重量％、有 利には５５〜８５重量％である。 活性成分として触媒は元素周期表の第８亜族の金属、たとえばプラチナ、パラ ジウム、イリジウムまたはロジウム、有利にはパラジウムを単独でまたは互いに 組み合わせて含有する。 ｐＨ値３〜１０、有利には４〜６を有する廃水、特にエピクロルヒドリン製造 からの廃水を、貴金属担体触媒が存在する少なくとも１個の反応器に導入し、５ 〜８０℃、有利には１０〜３０℃および１〜１０バールで水素で処理する。 ｐＨ値の調整は自体公知方法で実施する。 従って、たとえば一般的にｐＨ値１１〜１３を有するエピクロルヒドリン製造 からの廃水を処理する前に、酸、有利には塩酸を添加することにより、廃水のｐ Ｈ値を３〜１０の値に調整する。 少なくとも化学量論的に計算した量の除去すべきＡＯＸ含量に相当する量の水 素の存在下で処理を実施す ることが有利であると判明した。 廃水中の水素ガスの溶解度は常圧および１０℃〜２５℃の温度で１．７ｍｇ／ １未満であり、作動圧に比例して増加する。 分解効率は開始濃度、ハロゲン有機化合物の化学的性質、ｐＨ値、水素ガス濃 度または水素ガス処理速度および温度に応じて変動することができる。 パラジウム０．５〜１％を有するパラジウム担体触媒を用いてたとえば１時間 および触媒１ｇ当たりＡＯＸ０．５〜４ｍｇの分解効率を達成することができる 。 廃水への水素の供給は、直接水素ガスを導入することによりまたは膜ユニット を用いて行うことができる。 インテグラルな対称構造を有する膜、特にコンパクト膜が特に適している。こ の膜は多孔質の耐水性の担体構造および耐水性の孔不含のポリマーからなる少な くとも１個の層を有し、該層のそばをガス処理すべき廃水が通る。この孔不含の 層はたとえばシリコンポリマーからなる。 ほかの方法、たとえばガス飽和器を介する方法も同様に水素の供給に適してい る。 水素の供給は触媒を用いた廃水の接触と同時にまたは分離して行うことができ る。有利な変法においては水素の供給を廃水が触媒と接触する前に行う。 本発明による有利な実施態様においては、ゾル−ゲル法により製造した無機酸 化物をベースとする担体を 使用する。担体物質を製造するためにまず液状のアルカリ成分を液状の酸成分と 合体してゾルを形成する。このゾルを自体公知方法で、たとえば成形油浴に導入 することにより成形体に固化することができる。固化したゾル粒子を引き続き熟 成させ、洗浄し、乾燥し、かつ焼成する。 ゾルとして、成分の団結後すぐにゲル化する不安定なゾルおよびなお数時間流 動性の状態で残留する準安定なゾルが該当する。 有利な実施態様においては、ゾルを反応ガスを含有する反応帯域に下から、ゾ ルが反応帯域に入場する直前またはそのときはじめて個々のゾルパールに飛散し 、形成されたゾルパールが反応帯域の曲がった飛行軌道を通過するように噴霧し 、その際これが前固化し、引き続き前固化したゾル粒子を補集装置に補集するこ とによりゾル−ゲル変換を行う。この方法により、ゾルパール形成の位置および 時間を有利な方法でゾルパールのゲル化（前固化）の開始に合わせる。形成され る時点でほぼ理想的な球形および十分に同じ球直径を有するなお液状のゾル滴で あるゾルパールは、反応帯域を通過する際にほぼ理想的な均一の球形に定着する 、すなわち前固化し、従ってほかの自体公知のゾル−ゲル法の手段により球の形 に前固化したゾルパールが引き続き安定に固化する前に変形作用から十分に保護 される。このために反応帯域の導入開口の下側に所定の 間隔で噴霧装置を配置し、その際この間隔は噴霧装置から出発してゾルがゾルパ ールに飛散する隔たりにほぼ相当する。付加的にゾルは噴霧装置から下側に、す なわち重力に対して、所定の角度αで反応帯域に噴霧し、この場合に角度αは水 平、すなわち重力に対して垂直にある軸および噴霧装置からの排出点における噴 霧したゾルの接線から形成される。 有利な方法によりゲル化可能なゾルを反応帯域に下から上に、特に９０未満の 角度αで噴霧する。その際噴霧装置として、粒度範囲に応じて種々の直径のカニ ューレまたは自体公知の噴霧ノズル、スプレータービン、超音波ノズル、ターボ キャップ、機械的に作動するノズルまたは、静電気噴霧器またはジェットプリン タ（たとえば圧電励起ノズル）に使用されるような噴霧装置を使用することがで きる。その際粒度範囲は使用される噴霧装置を介して変動する。従って０．０１ ｍｍ〜０．３ｍｍの範囲内の所望の粒度で有利にターボキャップまたは噴霧ノズ ル、たとえば自体公知のスパイラルノズル（たとえばｓｐｒａｙｂｅｓｔ社のス パイラルノズル）または有利には超音波ノズルを使用する。０．３〜５ｍｍ、特 に０．３〜３．５ｍｍの範囲内の所望の粒度で有利にスプレータービンまたは有 利には相当する直径のカニューレを使用する。反応ガスを含有する反応帯域の供 給開口への噴霧装置の間隔がきわめて短い場合は、たとえば噴霧ノズルまたは小 さい直径のカニューレを使用する場合に、有利に噴霧装置に洗浄ガス（たとえば 圧縮空気または水蒸気）を噴霧することができ、それによりあまりに速くゲル化 するゾルにより噴霧装置が停止するのを阻止する。 この場合にゾルは、２つの成分の団結により得られた不安定のゾルとしておよ び自体ゲル化するゾルまたはなお長時間流動性である準安定のゾルとして存在す ることができる。この方法は特にゾル−ゲル変換により無機酸化物をベースとす る粒子を製造するために適している。この場合に無機酸化物は特に酸化マグネシ ウム、酸化アルミニウム、二酸化珪素、アルミノ珪酸塩、酸化亜鉛、二酸化チタ ン、酸化クロム、酸化銅、酸化マンガン、酸化セリウム、酸化錫、酸化鉄、酸化 ニッケル、酸化鉛、酸化モリブデン、酸化バナジウム、酸化トリウム、酸化ジル コニウムおよび／または酸化ハフニウムの群からなる酸化物である。有利な酸化 物はアルミノ珪酸塩、酸化アルミニウムおよび／または二酸化珪素である。この 場合に無機酸化物の概念にはそれぞれ単独の前記の金属酸化物および混合酸化物 、特にその１種の成分が二酸化珪素、酸化アルミニウムまたはアルミノ珪酸塩で ある二成分または三成分混合酸化物が含まれる。無機酸化物とはゲル形成酸化物 成分のほかに別の使用技術的および／または触媒特性を改良する添加物を含有す る酸化物のことである。 有利にはこの方法により二酸化珪素をベースとする 粒子を製造する。従って、たとえばアルカリ成分としてアルカリ金属珪酸塩の水 溶液、たとえば珪酸ナトリウム溶液を無機酸の水溶液、たとえば硫酸または塩酸 水溶液と、または有機酸、たとえばギ酸または酢酸水溶液と自体公知方法で互い に混合することにより、二酸化珪素を含有するゾルが得られる。この場合にアル カリおよび酸成分になおほかの成分、たとえばアルミニウムまたはマグネシウム 化合物を添加することができる。ほかの１つの変法においては、珪酸アルキルエ ステルをアルカリ成分、たとえばＮａＯＨ、ＮＨ₃または酸成分、たとえば塩酸 と、または四塩化珪素を酸成分、たとえばギ酸と反応させることにより、二酸化 珪素を含有する不安定のゾルが得られる。二酸化珪素を含有する粒子を製造する ほかの方法は準安定のシリカゾル（たとえばＢａｙｅｒ Ｓ２００（Ｒ））を使 用することである。 この方法により、ほかの成分を均一または不均一の形で含有するゾルを使用す ることもできる。不均一な成分としてたとえばすべての自体公知の種類、量およ び粒度の微細成分を含有することができる。使用技術的特性を改良するために、 たとえば微細成分として充填剤、たとえば珪酸、アルミノ珪酸塩、酸化アルミニ ウム、二酸化チタン、カオリン、モンモリロナイト、ベントナイト、ゼオライト 、でん粉、木粉または炭素の群からなる充填剤を添加することができる。これら の充填剤は酸および／またはアルカリ成分に結晶または無定形の形でまたはドイ ツ特許第４２１６８６８号明細書に記載されているように高分散した形で添加す ることができる。粒子の触媒特性を変化する微細成分も自体通常の方法で使用す ることができる。従って、均一の成分として、たとえばマグネシウム−、ジルコ ニウム−、銅−、鉛−またはチタンアセチルアヤトネートを添加することができ る。本発明の範囲では有利には骨剤として炭素を添加する。 ゲル化可能な不安定のゾルを形成するためのアルカリ成分と酸成分との混合は 、自体公知方法ですべてのこのための適当な混合装置、たとえば混合ノズル内で 実施することができる。引き続きこうして得られたゾルを直接噴霧装置に搬送し 、これにより本発明による方法で下から反応ガスに噴霧することができる。 噴霧装置によりゲル化可能なゾルを、下から上に、９０゜未満の角度αで、た とえば４０〜８９゜、有利には８０〜８８゜の角度で、反応帯域に、ゾルが噴霧 装置を離れた後で供給開口を通過する直前またはその際にはじめて反応帯域に十 分に等しい大きさのゾルパールの形で飛散するように噴霧し、その際ゾルパール はその形成の最中に実際すぐに反応ガスのゲル化作用にさらされる。その際、ゾ ルの個々のゾルパールへの分解は角度のほかにゾルの粘度、それぞれ使用される 噴霧装置およびゾルが噴霧装置を離れる圧力に依存す る。ゾルが個々のゾルパールに飛散する時点に合わせるために、噴霧工程の開始 時に噴霧装置と反応帯域への供給開口との間隔を当業者により観察により変動す る、すなわちゾルが個々のゾルパールに飛散する点が反応帯域への供給開口の直 前または中に存在するまで、間隔をせまくするかまたは場合により広げる。 反応帯域に導入後形成されたゾルパールが放物線の形に曲がった飛行軌道を反 応帯域に存在する反応ガスにより通過し、その際ゾルは球の形に定着し、すなわ ち前固化する。ゾルパールがこの放物線状の軌道を反応ガスにより通過しなけれ ばならないことにより、反応ガスはこの方法により、特に長くゾルパールの前固 化に貢献し、従ってそれにより補集装置に衝突する際のゾルパールの変形の不安 がすでに十分に減少する。なお変形の不安を更に減少するために、所望の場合は 高さを調整可能な補集装置を、ゾルパールがその最も少ない運動エネルギを有す る、ゾルパールの放物線状の軌道の折り返し点の近くに近づけることができる。 補集装置として平坦な延伸したフィルム、たとえばＰＶＤＦフィルムまたはＰ ＥまたはＰＶＣフィルムまたは固体の二酸化炭素を充填した補集容器または液体 を充填した補集容器を使用することができる。有利には変形した方法で固体のＣ Ｏ₂を充填した補集容器を使用する。この場合に固体の二酸化炭素のために公知 のライデンフロスト現象により衝突する場合のゾル粒 子の運動エネルギを更になお減少することができる。特に有利な変法は補集容器 として液体、特に反応液を充填した補集容器を使用する。この場合に反応液とは すべての一般的な酸またはアルカリ液のことであり、たとえば一般にゾル−ゲル 法による粒子の熟成に使用される。このための慣用の反応液は、たとえばアンモ ニア水溶液、たとえば５〜１０％アンモニア水溶液、または１〜５重量％の濃度 の酸性反応液、たとえば塩酸、硫酸または硝酸である。反応液を使用する際に、 有利には反応帯域でこれに当量の反応ガスを使用すベきである。反応液として、 たとえばアンモニア水溶液を装入する場合は、反応ガスとしてアンモニアガスま たは有機アミンの蒸気を使用すべきである。酸性反応液、たとえば塩酸、硫酸ま たは硝酸を使用する場合は、これに当量の酸性反応ガス、および塩化水素、二酸 化硫黄または酸化窒素を使用すべきである。 使用される反応ガスは反応帯域で密閉された容器として相当する補集容器を介 して容易に保持することができる。この場合に新たな反応ガスは必要により絶え ず分離したガス供給装置により反応帯域に再び充填することができる。すでに記 載されたアルカリまたは酸性の反応ガスのほかに自体ゲル化するゾルを使用する 場合は、反応ガスとして不活性ガス、たとえば空気または窒素を使用することが できる。場合により反応ガスにより曲がった飛行軌道を通過する際のゾル粒子の 前固化は反応帯域を加熱することにより促進することができる。このために有利 には反応帯域を１２０℃までの温度に、有利には８０〜１００℃に加熱する。補 集容器として固体の二酸化炭素を充填した補集容器を使用する場合は、反応帯域 を室温より低い温度に冷却することができ、この方法で粘度を低下することによ りゾル粒子の前固化を促進する。 補集容器から前固化したゾル粒子を、一般的にゾル−ゲル法により製造した粒 子のために実施するような後処理に導くことができる。この後処理には一般的に 洗浄、乾燥および場合により焼成の後処理工程が含まれる。こうしてゾル粒子を 一般的に１００〜２００℃の範囲内の温度で１〜２４時間乾燥する。変法におい ては、前固化したゾル粒子を、補集容器として平坦な延伸したフィルムまたは固 体の二酸化炭素を充填した補集容器を使用する場合は直接、たとえば吸入装置に より、乾燥ユニットに、たとえば自体公知のスプレー乾燥機に移行することがで きる。 特に細かい粒子、特に０．００１ｍｍ〜０．３ｍｍの範囲の直径を有する粒子 を製造するために、有利には変形した装置を使用し、その際噴霧装置は霧箱を有 する。この変法においてはノズル、有利にはスパイラルノズルまたは有利には超 音波ノズルにより細かいゾルパールを製造し、これを霧箱内で下に沈め、噴霧装 置から、たとえば換気装置から公知の羽根型換気装置 を用いて吸引し、その後下から上に反応ガスを含有する反応帯域に噴霧する。そ のほかの工程は引き続き同様に行う。 前記の変形した方法により得られた球状の粒子は、ほかの構成においては、補 集容器に補集後乾燥に導く前に、なお低級アルキルアルコール、特にＣ₁〜Ｃ₄− アルコール、たとえばメタノール、エタノール、プロパノールまたはイソプロパ ノールで処理するかまたはアセトンで処理することができる。有利にはできるだ け水を含まないべきであるイソプロパノールをこの処理に使用する。低級アルキ ルアルコールまたはアセトンを用いた処理により、一方では乾燥の際に有利な方 法で得られた粒子、特に平均直径１ｍｍ未満の粒子の付着を回避することができ 、他方ではこの処理により得られた粒子の細孔体積を拡大することができる。こ のために粒子を補集容器から容器に移行し、１分〜２４時間、有利には２〜３時 間アルコールで数回覆う。従ってたとえばこの処理により細孔体積を適切に変化 することができる。 本発明の方法により、有利な方法で細孔直径およびきわめて狭い粒子スペクト ルを有する無機酸化物をベースとする粒子を獲得することが可能である。この場 合に多くの量の小さすぎるまたは大きすぎる粒子の発生を十分に回避することが できる。この場合に狭い粒子スペクトルとは、８０％の粒子がそれぞれ平均直径 に対して以下の表に記載された範囲内の直径を有する粒子スペクトルのことであ る（ガウス分布）。 有利な方法ではいかなる成形油も使用する必要がなく、従って、こうして製造 した粒子はほかの不純物または変色を含まない。この方法により製造した粒子の 場合は乾燥する前にアセトンまたは低級アルキルアルコールで処理することによ り有利な方法で細孔体積を拡大することができる。更にこうして製造した球形の 粒子は驚異的に高い耐摩耗性を有する。 無機酸化物、有利には二酸化珪素をベースとするこうして製造した球形の粒子 は、 ａ）０．０１〜５ｍｍ、有利には０．０２〜３．５ｍｍの範囲内の直径、 ｂ）１〜９００ｍ²／ｇ、有利には１００〜８００ｍ²／ｇの範囲内の比表面積、 ｃ）０．１〜１．０ｇ／ｍｌの範囲内のかさ密度、 ｄ）０．２５〜２．５ｍｌ／ｇの範囲内の細孔体積、 ｅ）１５〜２０００Å、有利には１５〜４００Åの範囲内の最大値を有する細孔 直径分布（一モード細孔分布） を有する。 この粒子の比表面積、細孔体積および細孔分布は水銀ポロジメータまたは窒素 吸着曲線の記録および評価により自体公知方法で決定することができる。細孔直 径および平均細孔直径の最大値は更にこれから求めることができる。 有利にはこの粒子は一モード細孔分布を示し、細孔直径の８０％、有利には９ ５％が式： ０．８Ｒ≦Ｒ≦１．２Ｒ に相当し、この場合にＲは１５〜４００Åの範囲内の平均細孔直径に相当する。 この粒子は特に均一な球の形および狭い粒子スペクトルのほかに細孔直径の分 布が非常に狭い場合の高い細孔体積により優れている。この場合に、粒子の少な くとも８０％、有利には９５％がすでに述べた０．８Ｒ≦Ｒ≦１．２Ｒの許容範 囲内の細孔直径を有するのが特に有利である。その際マクロポア、すなわち２０ ０Åをこえる直径を有する細孔の割合は５％未満である。それと共にこの粒子は 特に均質の表面積を有し、これは特に触媒担体として使用するためにきわ めて有利である。本発明による粒子のほかの特別の特性は高い細孔体積において 驚異的に高い耐摩耗性を示すことであり、これは高いかさ密度と関連して流動床 または流動層反応器内で触媒または触媒担体として使用するために特に適してい る。 特に充填剤として二酸化珪素および炭素をベースとし、その際二酸化珪素含量 が少なくとも５０重量％、有利には５５〜８５重量％である、ゾル−ゲル法によ り製造した粒子がハロゲン有機化合物を含有する廃水を触媒を用いて処理するた めの触媒担体として適していることが判明した。 本発明により、たとえば前記方法により製造した粒子を触媒担体として含有す る貴金属または遷移金属をドープした触媒を使用する。たとえばこの触媒は貴金 属、たとえば金、銀、プラチナ、ロジウムまたはパラジウム、または遷移金属、 たとえば銅、有利にはパラジウムを含有することができる。前記金属の含量は一 般に、製造した触媒担体に対して０．１〜５重量％の範囲内である。更に金属化 合物、たとえば金属の酸化物、特に遷移金属の酸化物、たとえばマンガン、鉄、 ニッケルまたはコバルトの酸化物が含有されていてもよい。もちろん金属の混合 物、金属化合物の混合物または１種以上の金属および１種以上の金属化合物の混 合物を担体に被覆することもできる。たとえば触媒の金属成分はパラジウムおよ び／またはロジウムまたは パラジウムおよび銅から形成することができる。しかしながら有利には金属成分 としてパラジウムを使用する。本発明による触媒の製造は自体公知方法で実施す ることができる。たとえば金属塩または錯体の金属化合物を含浸法、噴霧法また は沈殿法で粒子に被覆し、乾燥および焼成後所望の場合は還元することができる 。有利には金属を含浸法により、たとえば水または有機溶剤中の金属塩または錯 体の金属化合物の溶液または懸濁液を用いて粒子に被覆する。本発明により製造 した粒子をベースとして得られた触媒の利点はその高い耐摩耗性である。 パラジウムを含有する担体触媒を製造するために、担体に溶解したパラジウム 化合物の水溶液を含浸させ、引き続き乾燥し、かつ焼成する。有利には担体にま ずパラジウム化合物の水溶液を含浸させ、引き続き乾燥し、焼成し、場合により 還元する。 本発明により、廃水の処理を、本発明による貴金属担体触媒を使用して固床、 流動床、懸濁床および流動層内で実施することができる。 固床法においては水を、触媒が存在する、水素ガス処理容器および固床反応器 からなる１つ以上の反応装置に導く。 前記装置は通常の測定装置、たとえば貫流測定装置、圧力測定装置、ｐＨ測定 装置、温度測定装置を含むことができる。 前記方法を流動層または懸濁層内で実施するために、有利には本発明による担 体触媒が存在する流動床、懸濁床または流動層反応器に水が導かれる、水素供給 装置に接続された圧力上昇装置が必要である。 前記装置は特に濾過装置、供給装置、ｐＨ測定装置および制御装置および水の 分析データを測定するための測定区間を有することができる。 本発明を以下の実施例により詳細に説明する。ただし本発明は実施例に限定さ れない。 例１ 固床反応器内に触媒１ｇが存在し、その担体材料は本発明により製造され、６ ０％が二酸化珪素および炭素４０％からなっていた。この担体材料にＰｄ０．５ 重量％を被覆した。この装置内でｐＨ値を４．５に調整したエピクロルヒドリン 製造からの廃水をまず水素で飽和し、引き続き周囲温度および前カラム圧力１． ５バールで触媒を用いて脱ハロゲン化した。反応器の貫流は１００ｍｌ／ｈであ った。処理前は廃水はＡＯＸ含量３１．６ｍｇ／ｌを有した。処理後廃水はＡＯ Ｘ含量２ｍｇ／ｌを有した。 例２ 撹拌反応器にｐＨ値を４．５に調整したエピクロルヒドリン製造からの廃水３ ００ｍｌを充填した。担体材料が本発明により製造され、６０％が二酸化珪素お よび炭素４０％からなり、Ｐｄ１重量％を被覆した触 媒１ｇをこの液体に供給した。Ｇ４−フリットにより水素ガスを溶液に導入した 。撹拌下で周囲温度および常圧でハロゲン有機化合物の触媒による反応を実施し た。処理前は廃水はＡＯＸ含量２４．５ｍｇ．ｌを有した。反応時間２時間後に 廃水はＡＯＸ含量１．８ｍｇ／ｌを有した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ Ｂ０１Ｊ 32/00 9538−4Ｄ 37/00 Ｆ 9538−4Ｄ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＤＥ，ＪＰ，ＵＳ (72)発明者 ノイエンフェルト， ゲルハルト ドイツ連邦共和国 Ｄ―31629 エストル フ ツム フィンケンブルク 11 (72)発明者 シンドラー， フーベルト ドイツ連邦共和国 Ｄ―31311 ユッツェ ヴィルヘルム―ブッシュ―シュトラーセ 16アー (72)発明者 オットマン， アルフレート ドイツ連邦共和国 Ｄ―30627 ハノーヴ ァー テオドール―ホイス―リング 15

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．吸着可能な有機ハロゲン化合物を含有する、有利にはエピクロルヒドリン製 造からの有機および場合により無機化合物を含有する廃水を、貴金属担体触媒に 接触させて水素の存在下で触媒を用いて処理する方法において、無機酸化物およ び炭素を含有する触媒担体を使用することを特徴とする、有機および無機化合物 を含有する廃水を触媒を用いて処理する方法。 ２．有利にはアルミニウム、マグネシウム、ジルコニウム、珪素またはチタンの 酸化物を単独でまたは互いに組み合わせて含有する触媒担体を使用する請求の範 囲１記載の方法。 ３．二酸化珪素を含有する触媒担体を使用する請求の範囲１記載の方法。 ４．担体の酸化物割合が少なくとも５０重量％、有利には５５〜８５重量％であ る請求の範囲１記載の方法。 ５．第８亜族の金属、たとえばプラチナ、パラジウム、イリジウムまたはロジウ ム、有利にはパラジウムを単独でまたは互いに組み合わせて触媒作用する物質と して使用する請求の範囲１記載の方法。 ６．ゾル−ゲル法により製造した触媒担体を使用する請求の範囲１記載の方法。 ７．ゾル粒子を下から反応ガスに噴霧し、反応液中の曲がった飛行軌道を通過し た後でゾル粒子を捕集し、引き続き固化したゾル粒子を熟成、洗浄、乾燥および 焼成して後処理することによりゾルを滴状のゾル粒子に変換して製造した担体を 使用する請求の範囲１記載の方法。 ８．直接水素ガスを導入することにより水素供給を実施する請求の範囲１記載の 方法。 ９．膜ユニットを用いて水素供給を実施する請求の範囲１記載の方法。 １０．ｐＨ値３〜１０、有利には４〜６を有する廃水を、貴金属担体触媒が存在 する少なくとも１つの反応器に導入し、５〜８０℃、有利には１０〜３０℃およ び１〜１０バールで水素で処理する請求の範囲１記載の方法。