JPH08503916A - ラスター顔料の塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 少なくとも一種の金属酸化物の表面被覆を有する無機小板状粒子から成るラスター願料の塗布方法であって、先ず該願料を、金属基材上のガラス質エナメル、セラミック基材上のガラス質釉、ガラス、または、ガラス、エナメル被覆した金属若しくは釉被覆したセラミック上の上釉のようなガラス質表面に塗布する。該ガラス質表面は、ラスター願料塗布前に溶融状態であるか、非溶融状態である。このようにしてガラス質表面上にラスター願料の表面被覆を行う。次にガラス質表面をラスター願料が該表面に固定されるのに十分な温度で、十分な時間加熱する。

Description

【発明の詳細な説明】 ラスター顔料の塗布方法技術分野 本発明は、表面に無機系ラスター顔料を塗布する方法に関する。より詳しくは 、本発明は、外観に悪影響を及ぼさずに、ラスター顔料をガラス質表面に塗布し 、固定する方法に関する。背景技術 ラスター顔料は独特な外観を有し、目を楽しませる真珠色の外観を有する。広 く市販されているラスター顔料は、二酸化チタンおよび／または酸化第二鉄の様 な金属酸化物で被覆したマイカフレークである。ラスター顔料は米国特許第３， ０８７，８２８号および第３，０８７，８２９号に記載されている。これらの顔 料は多くの配合に推奨されており、自動車用塗料、印刷インク、プラスチックび ん、化粧品および模造真珠に広く使用されている。市販されている他のラスター 顔料は、広く使用されてはいないが、金属酸化物被覆したガラスの様な無機の小 板状の粒子を有する。これらのラスター顔料は米国特許第３，３３１，６９９号 に記載されている。米国特許第５，０２６，４２９号に記載されている様な有機 ラスター顔料もある。 しかし、ガラス質組成物におけるラスター顔料の使用は限られている。ガラス 質組成物自体は良く知られている。これらの組成物は、粉砕したガラス、ガラス 形成材料またはその両方をベースとしている。その様な組成物は、基材に塗布さ れ、次いで被覆成分が融解するのに十分な温度に加熱または焼成される塗料でよ い。冷却すると、ガラスの薄い被覆が基材上に形成される。これらの被覆は一般 的に、基材が金属である場合にはガラス質エナメル、基材がセラミックである場 合にはガラス質釉と呼ばれる。被覆は、基材を色または美術的表現で装飾すると 共に、引掻きや擦り傷に対する耐性、湿分バリヤー、等に関する基材の耐久性を 与えるために使用する。 ガラス質組成物に顔料を配合する通常の方法は、組成物のガラス成分中に顔料 を含めることである。あるいは、顔料をガラス質フラックスに配合し、それをガ ラス質基材に塗布する。いずれの場合も、ガラス質組成物は高温に加熱し、ガラ ス成分を溶融させなければならない。従って、配合物中に含まれる顔料はすべて 高温に耐えられなければならない。これは、入手可能な顔料の多くでは問題にな っていない。顔料供給者により与えられるデータシートならびに当業者または製 造者の得ている知識は十分である。しかし、無論、色または他の視覚的効果のた めに、ある種のガラス質組成物には使用できない顔料もある。ラスター顔料は、 それが受ける高温で不安定で あることが分かっている。ガラスの成分が高温で顔料を攻撃すると考えられる。 形成される表面は実際望ましい外観を有していない。 塗料および基材両方における、ガラス質組成物中のラスター顔料の不安定性の 問題は認識されている。米国特許第５，０２２，９２３は、この問題を認識し、 解決策を提案している。開示されている顔料は、二酸化スズおよび／または二酸 化セリウムで上を被覆してある。必然的に、この特別に処理したラスター顔料は より高価である。さらに、より安定してはいるが、その安定性は理想的とまでは いかない。開示されているラスター顔料のある種の用途は望ましい外観をもたら していない。その上、これらのラスター顔料をガラス質フラックスに配合する場 合、適度の色強度を得るには、極端な量のラスター顔料が必要である。もう一つ の欠点は、望ましい色効果を得るために透明なフラックスを使用しなければなら ないことである。 必要性に応じて、ガラス質表面を有する基材に所望のラスター顔料外観を与え る方法を開発した。この塗布方法は経済的で実用的である。本方法により製造さ れる製品は、望ましい、快い外観を有し、欠点がない。発明の開示 ラスター顔料をガラス質表面に、その表面の外観に悪影響を与えずに顔料を表 面に固定する方法で塗布する。 ガラス質表面はガラス質の素地を有するか、あるいは異なった材料からなる基材 上にガラス質表面がある。板ガラスは本来ガラス質表面を有する。本方法で使用 するガラス質表面を有する基材の例は、ガラス質エナメル表面を有する金属、ガ ラス質釉表面を有するセラミック、およびガラス質上釉を有するガラスエナメル 金属および釉をかけたセラミックである。本方法では、ガラス質表面に無機系ラ スター顔料の表面塗料を塗布した後、その表面を、顔料を表面に固定するのに十 分な温度で十分な時間加熱する。発明を実施するための最良の形態 本発明は、ガラス質表面にラスター顔料を施す方法に関する。本方法の工程な らびにガラス質表面材料を以下に詳細に説明する。無論、ここに記載する方法は 、個々の職人および趣味で行なう人、ならびに日用品を大量生産する工業設備に も有用である。即ち、個々の職人は本発明を、非常に装飾的で、快い外観を有す る花瓶の様な小型セラミック器の製造に使用できる。工業設備なら本発明を快い 、独特な外観を有する浴槽、流し、板ガラス、等の日用品の製造に利用できる。 本発明の方法では、幾つかの異なった、ガラス質表面を有する基材を使用する 。基材は本来金属でもセラミックでもよく、鋳鉄、鋼、アルミニウム、銅、銀、 金、磁器およびガラスが含まれる。一般的に、基材は、浴槽、 花瓶、陶磁器、窓ガラスまたは他の構造物の様な、整形された、または機械加工 された物体である。ガラス質表面はガラス質エナメル、ガラス質釉、またはガラ ス質上釉である。ガラス質のエナメル、釉および上釉は良く知られており、市販 されている。教本「エンジニアはセラミックについて何を知るべきか」Solomon Musikant、Marcel-Dekker著、１９９１、および「セラミックの成分」F.H. Nort on 、 Addison-Wesley著、１９７０、第２版は、一般的な配合ならびに個々のエ ナメル、釉、および上釉を記載している。ガラスの場合、基材およびガラス質表 面は同一である。 本発明の方法で使用するラスター顔料は、作用する温度におけるその熱安定性 の理由から無機系である。この顔料は、少なくとも華氏約８００度（摂氏４２７ 度）で変形に対する温度安定性を有する。顔料は、少なくとも１種の金属酸化物 層で表面被覆した無機の小板状粒子である。顔料は実際に透明な無機物質の小板 であり、その小板の広い両面上に金属酸化物の被覆を有する。光学的な貢献は、 その金属酸化物層によってなされる。即ち、各顔料粒子は、粒子基材により一つ に保持された２枚の金属酸化物小板の様な挙動を示す。粒子は一般的に長さが約 １ミクロン〜約１８０ミクロンであり、幅が約１ミクロン〜約１８０ミクロンで あり、厚さが約０．１ミクロン〜約３ミクロンである。小板状粒子としては、例 え ば、マイカおよびガラスを挙げることができる。被覆として使用される金属酸化 物には、二酸化チタン、酸化第二鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニッケ ル、酸化コバルトおよび酸化クロムがある。 二酸化チタン、酸化第二鉄、またはそれらの混合物で被覆したマイカフレーク が、容易に入手できるので好ましい。マイカを基材とし、二酸化チタンで表面被 覆した顔料は、華氏約１９００度（摂氏１０３８度）でも安定している。マイカ を基材とし、酸化第二鉄で表面被覆した顔料は、華氏約２０００度（摂氏１０９ ３度）でも安定している。後者の顔料は、比較的低い温度で固定され、強度がよ り高いので、特にガラスに効果的である。二酸化チタンで表面被覆したガラス系 顔料は、華氏約１５００度（摂氏８１６度）で安定しており、マイカ系顔料より も安定性は低いが、より高い輝度を有する。さらに、この顔料のガラス小板状粒 子は、酸化コバルトの様な金属酸化物で着色し、ラスター効果を強化することが できる。 ここで使用するラスター顔料は、米国特許第５，０２２，９２３で提案されて いる様に、二酸化チタンおよび二酸化セリウムの上層により安定化させることが できる。しかし、安定化の必要はなく、経費が増加し、それに見合った利得もな いので、ここに開示する方法には好ましくない。 最初に、所望の外観を与えるのに有効な量でラスター顔料をガラス質表面に塗 布する。塗布する顔料の量は重要ではない。一般的に、ガラス質表面１平方フィ ート（０．０９３平方メートル）あたり約１グラムの顔料で、ほとんどの製品に 良好な光沢外観を与えるのに十分である。加熱後の完成した製品上に過剰のラス ター顔料が残るのを避けるためには、特定のガラス質表面、光沢度、および加熱 工程の温度／時間に適合する様に、例えばスクリーン印刷により、顔料を調整さ れた量で塗布する。薄い被覆は、反射角度における優れた光沢品質、および透過 角度における良好な透明性および良好な光沢を有する。厚い被覆はつや消し外観 を与える。ガラス質表面に固定されていない過剰の顔料は、以下に説明する様に 、単に洗い流すことにより、所望の快い外観が得られるので、過剰の顔料を塗布 してもよい。本方法では、顔料は粉体として散布または静電気スプレーによりガ ラス質表面に付けるか、あるいは最初に水または有機溶剤の様な液体キャリヤー 中に分散させることにより、液体として塗布する。液体中に分散した顔料は、ガ ラス質表面に直接スプレー、ブラシ塗り、またはロール塗りする。ガラス質上釉 上に塗布する場合、顔料は上釉上に散布またはブラシ塗りすることができる。あ るいは、そしてより好ましくは、上釉は、フリットの未溶融第一層およびラスタ ー顔料層からなる装飾スクリーン印刷または転写印刷 の形態であり、ラスター顔料層が表面上に載る様に基材上に塗布したものである 。 ラスター顔料を上に塗布するガラス質表面自体は、溶融固体、未溶融固体ある いは場合によっては以下に記載する様に、乾燥した、または湿った非溶融ガラス 質エナメル、釉、または上釉の形態である。未溶融エナメルまたは釉のメッシュ サイズは、ラスター顔料の一様な被覆を確保するために、約２００〜約３２５で あるが、顔料の粒子径は、滑らかな仕上には約５ミクロン〜約２５ミクロン、光 沢仕上げには約１０ミクロン〜約６０ミクロン、火花の様な／輝きのある仕上に は約１０ミクロン〜約１５０ミクロンである。溶融ガラス質表面では、同じ程度 の仕上を得るには同じ顔料粒子径を使用する。最も重要なことは、ラスター顔料 は表面被覆として塗布し、フラックス、フリットまたは他の結合剤材料の助けを 借りずに塗布する。 ガラス質表面を有する基材および表面に塗布したラスター顔料を加熱し、顔料 をガラス質表面に固定する。湿式ガラス質塗料の場合、基材をまず加熱し、液体 キャリヤーを除去してから顔料を固定するための加熱工程を行なう。いずれの場 合も、ガラス質表面を、ラスター顔料を表面に固定するのに十分な温度に、十分 な時間加熱する。必要な温度は、ガラス質表面により異なる。ガラス質エナメル 、ガラス質釉、またはガラス質上釉表面には、 温度はガラス質表面の軟化点よりも少なくとも華氏約１８０度（摂氏８２度）、 好ましくは華氏約２６０度（摂氏１２７度）〜華氏約３８０度（摂氏１９３度） 上である。ガラス表面には、ガラスの軟化点よりも少なくとも華氏約２００度（ 摂氏９３度）、好ましくは華氏約２００度（摂氏９３度）〜華氏約３００度（摂 氏１４９度）低い温度である。一般的に、顔料をガラス質表面に固定するには、 高温で少なくとも約３分間の時間が必要である。一般的に、軟化点と、それより 上の固定温度の差が大きい程、必要な固定時間は短く、ラスター被覆は厚い。 ガラス質エナメル被覆を有する金属基材の場合、被覆の軟化点は華氏約６００ 度（摂氏３１６度）〜華氏約１１００度（摂氏５９３度）である。ガラス質釉を 有するセラミック基材の場合、被覆の軟化点は華氏約９００度（摂氏４８２度） 〜華氏約１８００度（摂氏９８２度）である。ガラスの場合、軟化点は華氏約４ ００度（摂氏２０４度）〜華氏約１６００度（摂氏８７１度）である。ガラス基 材に対するラスター顔料固定温度は、ガラスの変形を避けるために、好ましくは その軟化点より低い温度である。非溶融ガラス質上釉では、上釉の溶融に必要な 温度が、ラスター顔料をその表面に固定するのに十分な温度であり、すなわち華 氏約１０００度（摂氏５３８度）〜華氏約１５００度（摂氏８１６度）である。 特定のガラス質表面の軟化点または溶融点は、発表されてい るデータを使用して容易に決定できる、あるいは通常の方法により実験的に測定 することができる。 適切な温度および時間が達成されたら、基材を冷却する。得られた製品は、そ の表面に固定されたラスター顔料の表面被覆を有する。顔料はその表面に永久的 に固定されている。顔料は、その快い外観を保持し、高温による著しい悪影響を 受けていない。特に平らなガラスが快い外観を有し、反射特性を有する建築用ガ ラスの品質は、その塗布した方と反対の側から、およびその反射角度で見たとき に高められる。 本発明の方法では、単に表面塗布するために、ラスター顔料はエナメルまたは 釉成分により、外観変化が明らかになる程度まで化学的に攻撃されないと理論付 けられる。配合物のマトリックス中に埋め込まれたラスター顔料は、化学活性に よりさらされ易いと考えられる。エナメルまたは釉配合物中により多くの顔料を 使用することは、事実、「顔料犠牲」の余裕をみておくことになるが、高価であ り、それでも本発明で得られるのと同じ外観上の利点は得られない。 ガラス質表面被覆のガラス成分を溶融させ、ラスター顔料をガラス質表面に固 定する１工程方法は、金属上のガラス質エナメル、ガラス上のガラス質エナメル 、およびガラス質上釉で可能である。未溶融状態のガラス質エナメルを上記の様 に下の基材に乾式または湿式で塗布す る。次に、ラスター顔料を表面に付ける。次いで基材を、その上の未溶融ガラス 質エナメルおよび表面に付けたラスター顔料と共に、ガラス成分の溶融に十分な 熱にさらす。溶融工程に必要な温度および時間は、本発明の利点が得られる様式 でラスター顔料を固定するのにも十分である。ガラス質上釉は、一般的にスクリ ーン印刷または転写印刷により基材に、未溶融フリットの層およびラスター顔料 の層として塗布され、顔料が表面上にある。次に、このスクリーン印刷物または 転写印刷物を、上釉成分を溶融させ、ラスター顔料を上釉に固定するのに十分な 温度に加熱する。 しかし、セラミック基材上のガラス質釉に対する１工程方法は、必要な化学反 応を誘発するためにこれらの材料により必要とされる、非常に高い温度および長 い時間のために有用性がない。その様な材料には、最初に適当な温度と時間で溶 融し、次いでラスター顔料を表面に付け、上記の様に固定する２工程方法が必要 である。 下記の実施例により本発明の方法を説明する。 実施例Ｉ この実施例は、ラスター顔料を金属基材上のガラス質エナメルに固定する方法 を例示する。 まず銅基材の試験タイルにエナメル塗料を塗布する。この塗料は、Thompson E namel Co．からコード番号３９９０で市販されている。エナメル被覆した基材を まず華 氏１３００度（摂氏７０４度）に加熱して被覆を溶融させる。エナメルの膨脹軟 化点は華氏６８９度（摂氏３６６度）である。 本発明により、エナメル被覆した銅基材にラスター顔料塗料を塗布する。顔料 塗料は、二酸化チタンで被覆したマイカフレーク系ラスター顔料の分散液である 。この顔料はMearl Corp．からHI-LITE GREEN 9820Cとして供給される。この顔 料を、Thompson Enamel Co．からKLYR-FIREとして供給されるガム水溶液に体積 で５０：５０に分散させる。この顔料分散液をエナメル被覆した基材にブラシ塗 りで塗布し、乾燥させ、次いでオーブン中に華氏１０６０度（摂氏５７１度）、 すなわちガラス質表面の軟化点より華氏３７１度（摂氏１８８度）高い温度で３ 分間置く。３分間後、被覆したタイルを取り出し、冷却し、水洗し、耐久性およ び外観について試験する。 ラスター顔料はガラス質表面に固定されている。ラスター顔料は、洗っても、 あるいは家庭用のクレンザーで強く磨いても除去できなかった。さらに、ラスタ ー顔料被覆の外観は供給者により供給された塗料片と同等であり、したがって、 ラスター顔料はガラス質エナメルあるいは使用した条件下の熱により悪影響を受 けていないことを示している。 実施例II この実施例は、セラミック基材上のガラス質釉にラス ター顔料を固定する方法を例示する。まずセラミック基材試験タイルの表面に、 American Art Clay.，Inc.からAMACO LG-1として供給される不透明の黒色ガラス 質釉を塗布し、乾燥させ、華氏１９１５度（摂氏１０４６度）で溶融させる。こ の釉の軟化点は華氏約１４３６度（摂氏７８０度）と推定される。次にラスター 顔料を付ける。顔料は実施例１に記載したのと同じである。被覆したタイルを華 氏１７８０度（摂氏９７１度）のオーブン中に３分間置き、取り出し、冷却し、 すすぎ、評価した。この温度はガラス質釉の軟化点より華氏３４４度（摂氏１７ ４度）高い。このラスター顔料は、供給された印刷塗料片と比較測定することに より、耐久性があり、優れた外観を有することが分かった。 実施例III この実施例は、ラスター顔料をガラス表面に固定する方法を例示するが、その 下にある基材もガラスである。 ２個のガラス基材の試験タイルを使用する。一方にはガラス質エナメル塗料を 塗布し、華氏１５１７度（摂氏８２５度）で溶融させ、もう一方はエナメルで被 覆しない。エナメルは、Thompson Enamel Co．のコード番号５９９０、８０メッ シュの乾燥粉体不透明黒色エナメルである。このエナメルは軟化点が華氏１０３ １度（摂氏５５４度）である。被覆していないガラスの軟化点は華氏１０９４度 （摂氏５９０度）である。 ２個の試験タイルのそれぞれにラスター顔料塗料を塗布する。塗料は実施例１ に記載の塗料である。次に、エナメル被覆したタイルをオーブン中に入れ、華氏 １３８０度（摂氏７４９度）で３分間加熱する。もう一方のガラス試験タイルを オーブンに入れ、華氏１４６０度（摂氏７９３度）で３分間加熱する。これらの 温度はそれぞれのガラス質表面軟化点より華氏３４９度（摂氏１７６度）および 華氏３６６度（摂氏１８６度）高い。 ３分間の固定時間の後、タイルをオーブンから取りだし、冷却し、すすぎ、評 価する。両方のラスター顔料被覆共耐久性があり、良好な外観を有している。 実施例IV この実施例は、ラスター顔料を湿った未溶融ガラス質エナメル表面に散布する 、本発明の方法を例示する。 まず、溶融下塗を有する鉄基材の試験タイルに、Ceramic Coating Companyか ら供給された液体の不透明黒色エナメルをスプレー被覆する。次にこのタイルに 、まだ湿っている間に、その湿ったエナメル表面上に、静電気式スプレーガンで ラスター顔料を乾式塗布する。顔料は、Mearl Corp．から供給されたHI-LITE GR EEN 9820Cラスター顔料である。次いで、タイルを赤外光の下に置いて乾燥させ 、エナメル塗料中の水を除去する。 次いで、タイルを華氏１４２０度（摂氏７７１度）のオーブン中に３分間入れ る。この間に、エナメルは下塗 に溶融し、顔料はエナメルに固定される。オーブンから取り出し、冷却し、すす いだタイルは、耐擦り傷性が優れ、顔料製造者の標準塗料片と同等の外観を有す る。 実施例Ｖ この実施例は、ラスター顔料を高温のガラス質エナメル表面に散布する、本発 明の方法を例示する。 銅基材タイルに、Thompson Enamel Co．からコード１９９５として供給された ８０メッシュの乾燥不透明黒色エナメルを塗布する。この被覆したタイルを華氏 １４６０度（摂氏７９３度）のオーブン中に入れ、塗料を銅基材に融着させる。 オーブン温度を華氏１３００度（摂氏７０４度）に下げる。タイルを取り出し、 熱いうちにラスター顔料を散布する。顔料は、Mearl Corp．のHI-LITE GREEN 98 20Cである。次いで、タイルを華氏１３００度（摂氏７０４度）のオーブン中に ３分間入れ、取り出し、冷却し、すすぎ、評価する。ラスター顔料を付ける方法 のために、まだら状の外観が得られる。さらに、タイルのラスター品質および耐 久性は優れている。 実施例VI この実施例は、ガラス質表面の軟化点より上の適切な温度差を使用することの 重要性を立証する。 小型の高火度、白黄褐色の、直径約1/2インチのセラミック試験タイルにガラ ス質釉を塗布する。釉はAmerican Art Clay Company（AMACO）からの液体不透明 黒色光沢 釉LG-1である。この釉を試験タイルにブラシ塗りする。被覆したタイルを乾燥さ せ、室温から華氏１９１５度（摂氏１０４６度）に加熱し、オーブン中で室温に 冷却し、釉をセラミックに結合させる。この釉の軟化点は華氏約１４３６度（摂 氏７８０度）と推定される。 次にラスター顔料塗料をセラミック試験タイル上のガラス質釉の表面に塗布す る。この塗料は、金属酸化物で被覆したマイカフレーク系ラスター顔料の分散液 である。この実施例用の顔料はMearl Corp．から得たHI-LITE GREEN 9820Cであ る。この顔料を、Thompson Enamel Co．からKLYR-FIREとして供給されるガム水 溶液に体積で５０：５０に分散させる。この顔料分散液をガラス質表面に1/4イ ンチの点としてブラシで塗布し、乾燥させてからオーブン中に入れる。ラスター 顔料を固定するための加熱温度および時間は変化させる。試験タイルを冷却し、 水洗して固定されていない顔料を除去し、タオルで乾燥させてからラスター品質 の等級をつける。残留したラスター顔料はガラス質表面に固定されている。この ラスター顔料を洗い流したり、掻き落としたりすることはできなかった。 試料は、この緑色ラスター顔料用の標準カラーチップを等級４として、これに 対する反射角度におけるラスター顔料品質を０〜４の尺度で等級付けを行なう。 等級０は光沢なし（すなわちベースの釉）を表わし、等級２は ベースの釉と標準カラーチップの中間のラスター品質を表わす。結果を以下に示 す。 ラスター顔料の固定温度を、ラスター品質が反射角度で標準に等しい（すなわ ち等級４）最低温度とする。ガラス質表面の軟化点と、それより上のラスター顔 料の固定温度との差は、滞留時間により異なる。３分間では差は３４４であり、 ６分間では２２４であり、１２分間では１８４である。 HI-LITE GREEN 9820CをMearl Corp．からの他のラスター顔料（すなわちINCA GOLD 92226、SUPER SPARKLE）で置き換えても、これらの試験で観察された固定 温度は変化しなかった。 実施例VII ラスター顔料をガラス質エナメルと混合し、基材に塗布する方法を、本発明の 、表面に溶融したガラス質エナメルを有する基材にラスター顔料を表面塗布する 方法と比較する。銅の試験タイルにガラス質エナメルを塗布する。エナメルは、 Thompson Enamel Co．からコード２３１０として販売されている８０メッシュの 透明なエナメルである。ラスター顔料をエナメルに１０体積％の量で加える。顔 料は、E.M．IndustriesからPISAMPEVA GREEN EM-140250として入手できる安定化 された顔料である。試験タイルを華氏１４６０度（摂氏７９３度）に３分間加熱 し、顔料を加えたエナメルを溶融させる。 上記と同じ透明エナメルを、顔料を加えずに、他の２個の銅試験タイルに付け る。透明エナメルはそのままの状態で付け、次いで華氏１４６０度（摂氏７９３ 度）で溶融させる。一方の試験タイルに、上記の安定化させたラスター顔料をガ ラス質フラックスの一部として１０％量で付ける。フラックスはThompson Ename ls Co．のPF-1である。もう一方の試験タイルは、EM Industries，Inc．からAFF LAIR GREEN 235として供給される、安定化されていないラスター顔料を、フラッ クスを加えずに付ける。 次いで、２個の試験タイルを華氏１３００度（摂氏７０４度）のオーブンに３ 分間入れる。いずれの場合も、 温度はそれぞれのガラス質エナメルの軟化点より少なくとも華氏１８０度（摂氏 ８２度）高い。試料 ラスター等級 Ａ 安定化したラスター顔料を 含むガラス質エナメル ２− Ｂ 安定化した顔料を含むガラス質 フラックスで表面被覆した ガラス質エナメル ２＋ Ｃ 安定化していない顔料で 表面被覆したガラス質エナメル ４ 試験タイルの外観を、実施例VIに記載の方法でラスター品質について目視によ り等級判定する。上記の結果は、本発明に従う表面被覆としてラスター顔料を塗 布する重要性を示している。試料Ｃは、非常に良好な結果を示している。事実、 この結果は、より高価な安定化ラスター顔料が、それらの価格を正当化するだけ の十分な外観上の利点を与えていないことを示している。顔料をエナメルまたは フラックスの一部として塗布するこれらの試料、すなわち試料ＡおよびＢは、外 観が不良である。 本発明を実施例で詳細に説明および例示したが、本発明に様 々な修正を行なうことができる。修正および変更はすべて、請求項に記載する本 発明の範囲内に入る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． ラスター顔料をガラス質表面に、前記顔料が前記表面に固定される様に 塗布する方法であって、 （ａ）ガラス質表面に無機系ラスター顔料の表面被覆を施し、 （ｂ）ガラス質表面を、ラスター顔料をガラス質表面に固定するのに十分な温度 で、十分な時間加熱することを特徴とする方法。 ２． ガラス質表面が、金属基材上のガラス質エナメルである、請求項１に記 載の方法。 ３． ガラス質表面が、セラミック基材上のガラス質釉である、請求項１に記 載の方法。 ４． ガラス質表面がガラス基材上にある、請求項１に記載の方法。 ５． さらに、ガラス基材がその上にガラス質エナメルを有する、請求項４に 記載の方法。 ６． ガラス質表面が、ガラス、エナメル被覆した金属、または釉をかけたセ ラミック基材の上にあるガラス質釉である、請求項１に記載の方法。 ７． ラスター顔料を塗布する前にガラス質表面が溶融される、請求項１に記 載の方法。 ８． ガラス質表面が、ラスター顔料の表面被覆が施される時には未溶融であ り、同じ工程でガラス質表面が 溶融し、ラスター顔料表面被覆が固定される、請求項２に記載の方法。 ９． ガラス質表面が、ラスター顔料の表面被覆が施される時には未溶融であ り、同じ加熱工程でガラス質表面が溶融し、ラスター顔料表面被覆が固定される 、請求項６に記載の方法。 １０． ラスター顔料がガラス質表面に乾燥状態で塗布される、請求項１に記 載の方法。 １１． ラスター顔料がキャリヤー液体中に分散され、次いでガラス質表面に 塗布される、請求項１に記載の方法。 １２． ガラス質エナメルの軟化点温度が華氏約６００度（摂氏３１６度）〜 華氏約１１００度（摂氏５９３度）であり、ガラス質エナメルがその軟化点より 少なくとも華氏約１８０度（摂氏８２度）高い温度に加熱される、請求項２に記 載の方法。 １３． ガラス質釉の軟化点温度が華氏約９００度（摂氏４８２度）〜華氏約 １８００度（摂氏９８２度）であり、ガラス質釉がその軟化点より少なくとも華 氏約１８０度（摂氏８２度）高い温度に加熱される、請求項３に記載の方法。 １４． ガラス基材が、その軟化点より華氏約２００度（摂氏９３度）〜華氏 約３００度（摂氏１４９度）低い温度に加熱される、請求項４に記載の方法。 １５． ラスター顔料が、少なくとも１種の金属酸化物層の表面被覆を有する 、長さ約１ミクロン〜約１８０ミクロン、幅約１ミクロン〜約１８０ミクロン、 および厚さ約０．１ミクロン〜約３ミクロンの無機小板状粒子である、請求項１ に記載の方法。 １６． ラスター顔料が、少なくとも華氏約８００度（摂氏４２７度）までの 熱安定性を有する、請求項１５に記載の方法。 １７． ラスター顔料の無機小板状粒子がマイカである、請求項１６に記載の 方法。 １８． ラスター顔料が、二酸化チタン、酸化第二鉄、またはそれらの混合物 で被覆されたマイカフレークである、請求項１７に記載の方法。 １９． ラスター顔料の無機小板状粒子がガラスである、請求項１６に記載の 方法。 ２０． ラスター顔料が、二酸化チタン、酸化第二鉄、またはそれらの混合物 で被覆されたガラスである、請求項１９に記載の方法。