JPH08502234A - ダイヤモンドのような固体物質の合成方法とそれによって得られた物品 - Google Patents

ダイヤモンドのような固体物質の合成方法とそれによって得られた物品

Info

Publication number
JPH08502234A
JPH08502234A JP6509373A JP50937394A JPH08502234A JP H08502234 A JPH08502234 A JP H08502234A JP 6509373 A JP6509373 A JP 6509373A JP 50937394 A JP50937394 A JP 50937394A JP H08502234 A JPH08502234 A JP H08502234A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diamond
carbon
seed
mixture
atmosphere
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6509373A
Other languages
English (en)
Inventor
ロイ,ラスタム
メシアー,ラッセル
エス. デワン,ハーディアル
バジアン,アンドルツェイ
ラビンドラナザン,パラニアッパン
Original Assignee
ザ ペン ステイト リサーチ ファウンデーション
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ザ ペン ステイト リサーチ ファウンデーション filed Critical ザ ペン ステイト リサーチ ファウンデーション
Publication of JPH08502234A publication Critical patent/JPH08502234A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • DTEXTILES; PAPER
    • D01NATURAL OR MAN-MADE THREADS OR FIBRES; SPINNING
    • D01FCHEMICAL FEATURES IN THE MANUFACTURE OF ARTIFICIAL FILAMENTS, THREADS, FIBRES, BRISTLES OR RIBBONS; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OF CARBON FILAMENTS
    • D01F11/00Chemical after-treatment of artificial filaments or the like during manufacture
    • D01F11/10Chemical after-treatment of artificial filaments or the like during manufacture of carbon
    • D01F11/12Chemical after-treatment of artificial filaments or the like during manufacture of carbon with inorganic substances ; Intercalation
    • D01F11/125Carbon
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D39/00Filtering material for liquid or gaseous fluids
    • B01D39/14Other self-supporting filtering material ; Other filtering material
    • B01D39/20Other self-supporting filtering material ; Other filtering material of inorganic material, e.g. asbestos paper, metallic filtering material of non-woven wires
    • B01D39/2055Carbonaceous material
    • B01D39/2058Carbonaceous material the material being particulate
    • B01D39/2062Bonded, e.g. activated carbon blocks
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D39/00Filtering material for liquid or gaseous fluids
    • B01D39/14Other self-supporting filtering material ; Other filtering material
    • B01D39/20Other self-supporting filtering material ; Other filtering material of inorganic material, e.g. asbestos paper, metallic filtering material of non-woven wires
    • B01D39/2055Carbonaceous material
    • B01D39/2065Carbonaceous material the material being fibrous
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B21MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
    • B21CMANUFACTURE OF METAL SHEETS, WIRE, RODS, TUBES OR PROFILES, OTHERWISE THAN BY ROLLING; AUXILIARY OPERATIONS USED IN CONNECTION WITH METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL
    • B21C25/00Profiling tools for metal extruding
    • B21C25/02Dies
    • B21C25/025Selection of materials therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/25Diamond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/25Diamond
    • C01B32/26Preparation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26Deposition of carbon only
    • C23C16/27Diamond only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B1/00Single-crystal growth directly from the solid state
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B1/00Single-crystal growth directly from the solid state
    • C30B1/10Single-crystal growth directly from the solid state by solid state reactions or multi-phase diffusion
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/02Elements
    • C30B29/04Diamond
    • DTEXTILES; PAPER
    • D01NATURAL OR MAN-MADE THREADS OR FIBRES; SPINNING
    • D01FCHEMICAL FEATURES IN THE MANUFACTURE OF ARTIFICIAL FILAMENTS, THREADS, FIBRES, BRISTLES OR RIBBONS; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OF CARBON FILAMENTS
    • D01F9/00Artificial filaments or the like of other substances; Manufacture thereof; Apparatus specially adapted for the manufacture of carbon filaments
    • D01F9/08Artificial filaments or the like of other substances; Manufacture thereof; Apparatus specially adapted for the manufacture of carbon filaments of inorganic material
    • D01F9/12Carbon filaments; Apparatus specially adapted for the manufacture thereof
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2239/00Aspects relating to filtering material for liquid or gaseous fluids
    • B01D2239/04Additives and treatments of the filtering material
    • B01D2239/0464Impregnants
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2239/00Aspects relating to filtering material for liquid or gaseous fluids
    • B01D2239/04Additives and treatments of the filtering material
    • B01D2239/0471Surface coating material
    • B01D2239/0485Surface coating material on particles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2239/00Aspects relating to filtering material for liquid or gaseous fluids
    • B01D2239/04Additives and treatments of the filtering material
    • B01D2239/0471Surface coating material
    • B01D2239/0492Surface coating material on fibres
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2239/00Aspects relating to filtering material for liquid or gaseous fluids
    • B01D2239/10Filtering material manufacturing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2239/00Aspects relating to filtering material for liquid or gaseous fluids
    • B01D2239/12Special parameters characterising the filtering material
    • B01D2239/1241Particle diameter

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 本発明は、一般に、ダイヤモンド、ダイヤモンド皮膜、窒化ホウ素又は他の類似物質のような各種の固体の合成方法に関する。具体的には、本発明は、種々の物質の製造のための反応種の新規な源物質(例、ダイヤモンドの生成の場合、炭素及び/又は水素及び/又は種結晶の新規な源物質)の利用と、その物質の種々の商業的目的への用途に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 ダイヤモンドのような固体物質の合成方法とそれによって得られた物品 本発明は、アメリカ国防省研究プロジェクト(DARPA)によるアメリカ政府の 支持(契約No.N00019-91-J-4023)を受けて行った。アメリカ政府は本発明の特 定の権利を有する。 関連の特許出願との相互関係 本発明は1993年8月27日付けの特許出願「発明の名称:A Metodfor Synthesiz ing Solids Such as Diamond and Products Produced Thereby、発明者Rustum R oy)の一部継続出願であり、これは1992年10月19日付けの特許出願「発明の名称 :A Metod for Synthesizing Solids Such as Diamond and Products Produced Thereby、発明者Rustum Roy」の一部継続出願であり、これは米国特許出願第07/ 962423号「1992年10月16日出願、発明の名称:A Metod for Synthesizing Solid s Such as Diamond and Products ProducesThereby、発明者Rustum Roy、現在放 棄」の一部継続出願であり、これは米国特許出願第07/955956号「1992年10月2 日出願、発明の名称:A Metod for Synthesizing Solids Such as Diamond and Products Produced Thereby、発明者Rustum Roy)現在放棄」の一部継続出願で ある。 技術分野 本発明は、一般に、ダイヤモンド、ダイヤモンド皮膜、窒化ホウ素、及び同様 な物質のような各種の固体の合成方法に関する。具体 的には、本発明は、種々の物質の製造のために反応種の新規な原料(例、ダイヤ モンド生成の場合、炭素及び/又は水素及び/又は種結晶(seed)の新規な原料) を使用し、得られた物質を各種の商業的目的に利用することに関する。 背景技術 合成ダイヤモンドの製造法にはいろいろな方法が知られている。 第1の方法として、高温(例、1400℃)と高圧(例、60kba r)の金属溶 液の中に含まれる炭素からダイヤモンドを析出させ、ダイヤモンド粒子を合成す ることができる。このような高温高圧で得られたダイヤモンドは第二相の混入が ないことが可能であるが、一般にかなりの濃度の溶解した窒素と金属(例、ニッ ケル、鉄、コバルト等)を含む。 第2の方法として、ダイヤモンド粉末を衝撃波合成によって生成することがで き、炭素と金属溶媒/触媒の混合物に衝撃を与えるために、爆発物の充填を利用 する。衝撃波合成法の例は米国特許第3401019号(1968年9月10日発行、発明者C owanら)に見ることができる。衝撃波合成法の欠点は、得られるダイヤモンドが 一般に溶解した窒素と金属(例、鉄)で汚染されていることである。また、得ら れたダイヤモンドの回収は、反応チャンバーの中の周りの材料(例、グラファイ トと金属)からダイヤモンド粒子を分離するための労力がかかる化学的処理を必 要とする。また、この方法は、一般にサブミクロンの粉末のみを生成する。 第3の方法として、炭素が飽和した特定のアモルファス金属中でダイヤモンド を析出させることにより、ダイヤモンド粉末を得ることができる。例えば、米国 特許第4485080号(1984年11月27日発行、発明者Shinguら)は、炭素含有合金の 急速な凝固の後、100℃ 以上の温度でアモルファス金属の中にダイヤモンド粒子を析出させることによる 多数工程プロセスを開示している。次いで酸消化によって金属からダイヤモンド を取り出す。 より最近の開発において、活性化した化学蒸着プロセス(CVD)により、気 相からダイヤモンド薄膜を合成している。一般に、そのようなCVDプロセスに おいて、ダイヤモンド粒子は適当な基材の表面上に不均一に核を生成し、その後 、或る大きさに成長する。このようにして生成した粒子は、広範囲に離れて存在 することがあり、又は連続ダイヤモンド皮膜に合体するに充分隣接することもあ る。CVDプロセスの種々の面を示す代表的な技術は、次のような特許に見るこ とができる。まず、米国特許第4882138号(1989年11月21日発行、発明者John Pi nneo)は、ダイヤモンド粒子、原子の水素、ガス状炭素源を使用し、これらを処 理するとダイヤモンド粒子の上にエピタキシャルに堆積したダイヤモンドになる ことを開示している。米国特許第4958590号(1990年9月25日発行、発明者Rober t Goforth)は、CVDプロセスに関連した特定のマイクロ波と装置を開示して いる。米国特許第4985227号(1991年1月15日発行、発明者イトウら)は、基材 物質を励起した一酸化炭素と励起した水素のガス源に接触させ、基材上にダイヤ モンドを堆積させることを開示している。米国特許第5112643号(1992年5月12 日発行、発明者イケガヤら)は、炭素源と水素を含む原料ガスを使用し、照射装 置による熱電子とDCプラズマの生成により原料を活性化し、基材表面上にダイ ヤモンド皮膜を堆積させることを開示している。また、ダイヤモンド生成のため のCVDプロセスが、次の文献:「著者:R.C.DeVries、書名:Annual Review of Materials Sciences 17:161(1987)」、「著者:A.R.Badzian,R.C.DeVries 、書名:Mat.Res.Bull.23:385(1988)」、「著者:J.C.Angus,C.C.Hayman 、 書名:Science 241:915(1988)」に解説されている。また、文献「著者:B.V.S pitsyn,l.l.Bouilov,B.V.Derjaguin、書名:Prog.Crystal Growth and Cha ract.17:79(1988)」に、グラファイトは、大きな単結晶ダイヤモンド上に堆積 することができる種々のガス状炭素を基礎にした種の生成原料になることができ ると示している。しかしながら、これまでにCVDプロセスの原理は、多結晶ダ イヤモンド皮膜以外の物体を生成するために使用されたことがない。 ダイヤモンド生成のための別な技術が米国特許第4997636号(1991年3月5日 発行、発明者Johan Prins)に開示されている。この特許は、面心立方晶の構造 を有する非ダイヤモンド基材物質の使用を開示している。この基材は炭素原子を イオン注入され、次いで誘導により基材の外に拡散し、基材の表面上にエピタキ シャルに成長する。 ダイヤモンド生成のためのさらに別な技術は燃焼火炎を利用する。具体的には 、米国特許第5075096号(1991年12月24日発行、発明者タナベら)は、還元雰囲 気を形成するため酸素を含む支燃性ガス中に炭素を含む可燃性ガスを燃焼させ、 反応雰囲気の湿度を精密に調節し、燃焼性ガス火炎の中に基材を装入し、基材の 表面上にダイヤモンドを生成させることを開示しており、米国特許第5135730号 (1992年8月4日発行、発明者スズキら)は、炭化水素燃料ガスと酸素の混合ガ スを生成・燃焼させ、火炎を形成し、火炎を基材表面に接触させてその基材上に ダイヤモンドを生成させることを開示している。 ダイヤモンド製造のための上記の方法は、いずれも次のような欠点の1以上が 問題とされており、即ち、製造コストが高い、製造装置が複雑、得られるダイヤ モンドの大きさと形状の制約である。本 発明は、ダイヤモンドや他の物質の合成に関して従来公知の各種の方法に固有な 上記の欠点を克服するものである。本発明は各種の物質の新規な製造方法を提供 するものであり、限定されるものではないが、ダイヤモンド皮膜、ダイヤモンド 成形体、窒化ホウ素皮膜、窒化ホウ素成形体等である。 発明の要旨 本発明は、ダイヤモンド皮膜、ダイヤモンド成形体、窒化ホウ素皮膜、窒化ホ ウ素成形体、シリコン皮膜、炭化ケイ素成形体等を含む種々の固体の新規な製造 方法に関する。ダイヤモンド合成に関して、本発明の方法は、高温高圧反応、固 体析出反応、衝撃波合成、CVD法、燃焼火炎法等のような公知の製造方法に対 して大きく改良されている。本発明は出発物質と加工条件の新規な組み合わせを 使用し、新規な物質(例、ダイヤモンド)を得る。具体的には、ダイヤモンドの 生成に関し、非気相の形態の炭素の1種類以上の出発原料(例えば、特定の固体 であり、液体を含み、限定されるものではないがアモルファス炭素、カーボンブ ラック、炭素粉末、炭素繊維、グラファイト、木炭、炭素含有ポリマー物質、グ ラッシーカーボン、非気相炭素前駆体物質、等がある)と、炭素の出発原料に加 えられて存在する又は炭素の出発原料の中に固有に存在する1種類以上の適切な 種物質(seed)(複数でもよい)との組み合わせであり、この種物質はダイヤモ ンド又はダイヤモンド類似結晶構造を有し(例えば、ダイヤモンド結晶、シリコ ン、炭化ケイ素、cBN、ダイヤモンドの結晶格子に似た種々の面心立方構造、 又は他の同じ構造の物質)、及び/又は外的に供給又は内部で発生のいずれかの 適当な雰囲気の存在下(例、水素と、及び他のアルゴン、窒素、炭素、酸素、そ れらの混合ガスのような雰囲気)で適当な温度(例、30 0℃〜2000℃、より好ましくは300℃〜1600℃、さらに好ましくは7 00℃〜1000℃)に加熱したときにその場で1種類以上の種物質を生成する ことができる1種類以上の種物質前駆体との組み合わせであり、約1.0132 5×105Pa(1気圧)を超える圧力を必要とせず、コーティングとして、又 は種々の大きさと形状の自立式(即ち、自己支持)物体としてのダイヤモンド物 質を生成する。 本発明において使用するに適切な出発物質の混合物は、固体物質を均一に又は 不均一に一緒に簡単に混ぜる方法を含む多くの通常の方法で作成することができ る。このような混合法は、乾式混合法(例、ボールミル)、通常の湿式混合法の ような多くの従来の混合法でよい。固体を混ぜ合わせるに特に好ましい方法は、 ナノコンポジット生成法として知られている。ナノコンポジット生成法の詳細は 次のような文献から周知であり、これら文献の主要事項は本願でも特に参考にし て含まれる:「Rustum Roy,Sol-Gel Processes:Origins,Problems,Products ,Am.Ceram.Soc.Bull.60:383(1981)、「Rustum Roy,New Hybrid Materials made by Sol-Gel Technique,Bull.Am.Ceram.Soc.61:374(1982)」、「Rust um Roy,Ceramics from Solutions:Retrospect and Prospect,Mat.Res.Soc .Annual Mtg.Abstracts,p.370(1982)」、「Rustum Roy,NewMetal-Ceramic H ybrid Xerogels,Mat.Res.Soc.Annual Mtg.Abstracts,p.377(1982)」、「R ustum Roy,Ceramics by the Solution Sol-Gel Route,Science 238:1664-1669 (1987)」、「Rustum Roy,S.Komarneni and W.Yarbrough,Some New Advances with SSG-Derived Nanocomposites,Chapter 42,Ultrastructure Processing of Advanced Ceramics,John Mackenzie and Don Ulrich(eds.),Wiley Intersc ience,pp.571-588」。しかしながら、多くの例 において、ナノコンポジット生成法によって提供される均一な混合の必要なしに 、非常に望ましい生成物を得ることができる。 本発明の出発物質の加工に関して、多種多様な装置が適切に使用することがで きる。適切な加工装置の選択における主な基準として、例えば、制御された雰囲 気を保持するための装置性能、少なくとも部分的に本発明による反応が生じるこ とを可能にするような充分に高い温度まで出発物質を加熱する性能があろう。し たがって、適当な加工装置には、例えば、マイクロ波発生装置、高周波発生装置 、フィラメント加熱装置、直接加熱装置等のような装置を備えた化学蒸着装置が ある。また、ダイヤモンド生成に関して、制御された雰囲気領域に収められた又 は制御された雰囲気容器の中に収められていない水素又はアセチレンの火炎の存 在中で好適に実施することもできる。 本願の開示事項が、主としてダイヤモンドコーティングと種々のダイヤモンド 形状の形成に注力していることに注意されたい。しかしながら、当業者には、本 発明の技術的思想が、多数の類似した物質系(例、窒化ホウ素)に直接適用でき 、同様な仕方で本発明によりその物質系に有益であることが理解されるであろう 。 発明の目的 本発明の目的は、非気相状の出発物質(例、ダイヤモンド皮膜形成のための炭 素の非ガス源)を用い、種々の組成(例、ダイヤモンド)の皮膜を製造する新規 な方法を提供することである。 本発明のもう1つの目的は、非気相状の出発物質(例、自己支持ダイヤモンド 構造のための炭素の非気相源)を用い、ネット又はニアネットシェイプの各種自 己支持体(例、ダイヤモンド)を製造する方法を提供することである。 また、本発明の目的は、各種物質(例、ダイヤモンド)の合成方法を提供する ことであり、この方法は、マイクロ波や高周波等を備えたCVD反応器、高温フ ィラメント反応器のような種々の反応器の中で行うことができ、ダイヤモンドの 場合、水素又はアセチレン火炎の存在の中で行い、密閉環境に収められてもいな くてもよい。 また、本発明の目的は、適切な非気相状出発物質から立方晶窒化ホウ素を製造 することである。 図面の説明 図1は、比較例2に使用した一般的な炭素源物質の約13000倍のSEM顕 微鏡写真である。 図2は、例1で示したような本発明により作成した物質のラマンスペクトルで ある。 図3は、例2で作成した本発明の物質の約2150倍のSEM顕微鏡写真であ る。 図4は、例2で作成した比較例の物質のラマンスペクトルである。 図5は、例2で作成した比較例の物質の約2270倍のSEM顕微鏡写真であ る。 図6は、例8で作成した比較例の物質の約2220倍のSEM顕微鏡写真であ る。 図7は、例15〜17で使用したアルミナチューブ炉の大要の図である。 図8は、例8で作成した比較例の物質のラマンスペクトルである。 図9は、例1、2、3、6で使用した化学蒸着反応器を備えたマイクロ波プラ ズマの大要の図である。 図10は、例6で示した本発明によってシリコン基材上に生成し た物質のラマンスペクトルである。 図11は、例6で示した本発明によってモリブデン基材上に生成した物質のラ マンスペクトルである。 図12は、例6でシリコン基材上に生成した物質の約4500倍のSEM顕微 鏡写真である。 図13は、例6でモリブデン基材上に生成した物質の約4500倍のSEM顕 微鏡写真である。 図14は、例7で作成した物質の粉末X線回折パターンである。 図15は、水素/酸素火炎処理の前の、コロイド状グラファイト/ダイヤモン ド種結晶/ポリビニルアルコールバインダーを含む例7の球形ボールの粉末X線 回折パターンである。 図16aと16bは、例7で生成した物質のSEM顕微鏡写真である。 図17は、例10で生成した物質の約2400倍のSEM顕微鏡写真である。 図18は、例11で生成した物質のラマンスペクトルである。 図19は、例11で生成した物質の約353倍のSEM顕微鏡写真である。 図20は、例12で生成した物質のラマンスペクトルである。 図21は、例12で生成した物質の約347倍のSEM顕微鏡写真である。 図22は、例12で生成した物質の約490倍のSEM顕微鏡写真である。 図23は、例3で生成した物質のサンプルAの約620倍のSEM顕微鏡写真 である。 図24は、例3で生成した物質のサンプルAの粉末X線回折パターンである。 図25は、例3で生成した物質のサンプルAのラマンスペクトルである。 図26は、例4で生成した物質のサンプルEの約750倍の代表的なSEM顕 微鏡写真である。 図27は、例4で生成した物質のサンプルEの約1500倍の代表的なSEM 顕微鏡写真である。 図28は、例4で生成した物質のサンプルEの約500倍の代表的なSEM顕 微鏡写真である。 図29は、例9で使用した化学蒸着反応器を備えたAstexマイクロ波プラ ズマの大要の図である。 図30は、例9で生成した物質の約604倍のSEM顕微鏡写真である。 図31は、例9で生成した物質のラマンスペクトルである。 図32は、例14で利用した高温フィラメントタイプのダイヤモンド堆積/転 化装置の大要の図である。 図33は、例15で生成した物質の粉末X線回折パターンである。 図34は、例15で使用した出発物質の粉末X線回折パターンである。 図35は、例16で生成した物質の粉末X線回折パターンである。 図36は、例16で使用した出発物質の粉末X線回折パターンである。 詳細な説明 本発明の詳しい態様を次に説明する。ここで、開示の好ましい態様は、多くの 態様を具体化することができる本発明の単なる例示であると理解すべきである。 したがって、本願で開示の特定の詳細事項は、本願を限定しているのではなく、 クレイムした本発明を単に 支持するものであり、本発明を適当な具体的な形態に使用する当業者に教示する ための代表的な例であると解釈すべきである。 本発明は、一般に、適当な基材物質の上にコーティング又は皮膜を形成する新 規あ方法に関する。さらに、本発明は、一般に、自己支持成形物質を作成するた めの新規な方法に関する。本発明のそれぞれの好ましい態様に共通することは、 新規な仕方で加工する特定の非気相状出発物質の使用である。 本発明を、適当な基材物質の上に望ましいコーティングを形成するために使用 した場合、本発明の方法の第1過程は、基材物質の上にコーティングすべき物質 の適当な混合物を作成することである。その混合物を作成するにおいて考慮する ことがあるいくつかの重要な事項に次のようなことがある:(1)混合物の均一性 、(2)混合物の物質の粒子サイズ(例えば、或る態様においては1μm未満の非 常に微細な粒子サイズが望ましく、一方、別な態様においてはかなり大きい粒子 で望ましい)、(3)混合物の加工の際の、混合物中の物質のお互いの又は混合物 に接触する他の物質との反応性、(4)混合物の加工の際に混合物を一緒に保持す る助けをするバインダーの、場合による必要性。これらの考慮事項の各々を以降 で詳細に説明する。 また、本発明を自己支持(例、自立する)成形体の作成に使用する場合、上記 の考慮事項の各々が重要になることがある。ここで、作成する成形体の特定の厚 さと形状の複雑性に依存し、次のようないくつかの付加的な考慮を行う必要が生 じることがある:(1)本発明に使用する出発物質を適当な構造に成形できること 、(2)ネット又はニアネットシェイプの物質の作成(即ち、得られる成形体のサ イズと形状が、出発物質のサイズと形状に実質的に対応する)が可能なように出 発物質を加工する際にその形状を維持できること、(3)加工の少なくとも一部の 間に、気相種(使用するとすれば)が、例えば 非気相種の成形された出発物質の少なくとも一部と接触することを可能にするよ うな、少なくとも或る気孔性を出発物質が維持できること。これらの付加的な考 慮事項の各々は、以降で詳しく議論する。 コーティング又は自己支持成形体のいずれかを構成する出発物質は、典型的に 少なくとも2種類の物質を含み、あるいは二つの役割を果たす1種類の物質であ る。典型的に多量に存在する第1の物質は原料としての役割をし、典型的に少な い量で存在する第2の物質は種物質としての役割をする。源物質は、得られる物 体の物理的、機械的、電気的等の特性に好影響を与える1種類以上の付加的な物 質を含むことができる。本願における用語「源物質」は、本発明のプロセス条件 下で、1種類以上の種物質及び/又は1種類以上の種物質の前駆体(複数でもよ い)と相互作用し、種物質(複数でもよい)の1以上の表面から1種類以上の種 (specie)を成長する、又は源物質と種物質及び/又は種物質前駆体との1以上の 界面より1種類以上の種を成長することができる1種類以上の物質と理解すべき である。本願における用語「源物質前駆体」は、本発明のプロセス条件下で、1 種類以上の源物質をその場で生成することができる1種類以上の物質を意味する と理解すべきである。また、特定の物質は、(1)源物質及び/又は源物質前駆体 、(2)加工及び/又は得られる物体の特性に有益な付加的物質の供給源、として 機能することがある(例えば、グラッシーカーボンのような特定の物質は、炭素 の源物質と、水素の局所的な望ましい雰囲気の両方を提供することがある)。本 願における用語「種物質」は、本発明におけるプロセス条件下で、その上に1種 類以上の結晶構造を提供することができる、又はそこから源物質(複数でもよい )が堆積を始めることができる、又はそこから1種類以上の望ましい種が成長す ることができる1種類以上の物質であると理解すべきである。本願における用語 「種物質前駆体」は、本発明におけるプロセス条件下で、1種類以上の種物質を その場で形成することができる物質を意味すると理解すべきである。また、或る 物質は、或るプロセス条件下で種物質と種物質 前駆体の両方の機能をすることができると理解すべきである。また、或る物質は 、(1)種物質及び/又は種物質前駆体、及び(2)加工及び/又は得られる物体の特 性に有益な付加的物体の供給源、として機能することができる。また、或る物質 は、(1)種物質及び/又は種物質前駆体、及び(2)加工及び/又は得られる物体の 特性に有益な少なくとも局所的な雰囲気を形成する物質の供給源、として機能す ることができる(例えば、或る金属水素化物は(1)種物質及び/又は種物質前駆 体、(2)水素、の両方を提供することができる)。また、1種類以上の源物質及 び/又は1種類以上の源物質前駆体及び/又は1種類以上の種物質及び/又は1 種類以上の種物質前駆体は、得られる物体の加工及び/又は得られる物体の最終 的特性に好影響を与えるように、互いに組み合わせて使用することができると理 解すべきである。 源物質(複数でもよい)及び種物質(複数でもよい)及び/又はそれらの前駆 体の混合状態は、多数のいろいろな要因により、均一又は不均一でよい。例えば 、本発明の或る態様において、親密又は実質的に均一な混合が望ましいことがあ る。均一な出発物質の混合物は、低い加工温度及び/又は短い加工時間及び/又 はより均一な最終物体に結びつくことがある。したがって、混合物を作成するた めの上記のようなナノコンポジット生成技術が、本発明の各種の用途に理想的で あることがある。しかしながら、複雑さがはるかに軽減された混合方法が許容で きることも経験されている。また、得られる物体の傾斜特性が望まれる及び/又 は或る加工上の変更が必要な場合のような特定の応用については、不均一な混合 物が望ましいことがある。この点に関して、物体の組成及び/又は物体の微細構 造を傾斜させるため、不均一な混合が利用できるであろう。不均一な混合状態が 役に立つことができる例に、濾過の用途、触媒の用途、 生体用物体等がある。 種物質(又はその前駆体)に比較した源物質(又はその前駆体)の相対的な粒 子サイズは、ほぼ同等な平均粒子サイズから、それぞれが他方の平均粒子サイズ の10倍〜1000倍の粒子サイズの範囲であってよい。一般に、源物質は、望 ましい物質の製造に効率的かつ経済的に帰着する仕方で種物質と相互作用するこ とができるべきである。したがって、当業者には、これら物質の望ましい加工特 性と製造すべき最終的物体の望ましい特性により、源物質(及び/又はその前駆 体)と種物体(及び/又はその前駆体)の組み合わせの制約があり得ることが明 らかであろう。 出発物質の混合物がその形状を保つ性能(出発物質の混合物が基材上のコーテ ィングとして施されたのか、自己支持体を形成するかによらず)は、或る用途に 重要なことがある。例えば、出発物質の混合物からネット又はニアネットシェイ プを形成する性能は、非常に重要なことがある。そのような場合、その加工の少 なくとも一部の間に、出発物質の混合物が成形され、その形状を維持できるため に、バインダーが必要とされることがある。本発明の用途には、有機系と無機系 の両方のバインダーが適することができる。ここで、一般に、有機系バインダー を使用すると、バインダーの存在による全ての不都合な面(例、バインダー除去 等)を回避するように、出発物質の混合物に混和するバインダーの量を最小限に できる。 基材物質上のコーティングのために出発物質を配置するに使用する方法や、自 己支持用出発物質の組成物を作成するために使用する方法には多数の従来の作成 法があり、例えばスプレー、乾式プレス、押出、テープ注型、ソーキング又は浸 漬、高温又は冷間等方加圧、真空含浸等がある。例えば、多孔質物体の多孔性の 少なくとも一部を定める壁の少なくとも一部の上にコーティング(例、ダイヤモ ン ドコーティング)を形成することが望ましいと考えることができるような織物の 布又は繊維又は他の任意の多孔質物体の上に、出発物質の混合物を施すことが望 ましいことがある。このように、例えば、ダイヤモンドコーティングが改良され た性能を与えることができる任意の多孔質物質の少なくとも一部の上に、ダイヤ モンドコーティングを配置することができる(例、濾過装置、押出用ダイス、生 物医学用材料等)。 また、適当な出発物質のゾルゲルを作成することもできる。繊維をゾルゲル混 合物から引き出し又は抜き出し、その後に本発明により加工することもできる。 また、源物質として機能する炭素繊維を、例えば種物質で適当にコーティングし 、本発明にしたがって加工することもできる。したがって、本発明の特定の技術 を実施することにより、ダイヤモンド繊維の製造を達成することができる。さら に、適当な出発物質をポリマー(例、熱硬化性ポリマー)で含浸し、その後任意 の通常の方法で成形することができ、次いで本発明により加工して所望の生成物 にすることもできる。また、ポリマーそのものを望ましい形状に成形し、次いで 本発明によって加工することもできる。ポリマーを何らかの他の適当な出発物質 と併用することが望まれる場合、出発物質の混合物とポリマーの比は、ポリマー /出発物質混合物の成形性、及び得られる生成物の特性の両方を確保するために 調節することができる。 少なくとも1種類の源物質(又はその前駆体)と少なくとも1種類の種物質( 又はその前駆体)を含む適当な出発物質の混合物を作成した後、その混合物を本 発明によって加工する。具体的には、典型的に、1種類以上の種物質の上に又は そこから、1種類以上の望まし種の生成又は成長を可能にするに適切な環境中で 、出発物質の混合物を適当な温度に加熱する。本発明の実施に使用するに、多く の適切な装置がある。例えば、制御された雰囲気(例、所望の物体の生成に悪影 響しない雰囲気又は所望の物体の生成に好ましい影響を及ぼす雰囲気)を維持で き、かつ源物質が、種物質の上に堆積及び/又は種物質から成長することを可能 にする温度を実現できる装置が適切である。このような装置には、限定されるも のではないが、化学蒸着装置があり、マイクロ波発生装置、高周波発生装置、フ ィラメント加熱装置等を備えることができ、又は備えないこともある。これら各 々の装置の共通性は、装置の少なくとも一部の中の物質を、制御された雰囲気を 維持しながら、割合に高温(例、300℃〜2000℃、より好ましくは300 ℃〜1600℃、さらに好ましくは700℃〜1000℃)まで加熱できる性能 である。本発明において、温度と時間の制御は、生成する全ての結晶質の種の粒 子サイズ及び/又は形態にとって重要である。一般に、高温及び/又は長時間で 大きい結晶を得ることができ、一方、低温及び/又は短時間で割合に小さい結晶 を得ることができる。さらに、適当な出発物質の混合物に特定の好ましい雰囲気 (例えば、ダイヤモンド生成の場合、水素、窒素、炭素、酸素、アルゴン等、及 びこれらの混合ガスのような雰囲気)を提供することにより、この雰囲気(複数 でもよい)が、得られる任意の結晶質の種の粒子サイズ及び/又は形態に好まし い影響を及ぼすこともある。一般に、好ましい雰囲気の存在は、粒子サイズを大 きくし及び/又は得られる物体の緻密な構造に結びつくことができる。また、雰 囲気は静的でも動的(即ち、流れている)でもよい。特定の場合、本発明によっ て得られる最終的な物体の特性に好ましい影響を与えることがある。当業者は、 本発明の実施のための加工条件の正確な組み合わせは、得られる物体の所望の特 性に依存することを理解するであろう。 本発明の特定の面において、前記の装置は、出発物質の混合物と 好適に相互作用することもあるプラズマの生成を援助するために使用することが できる。出発物質の混合物の少なくとも一部の近隣でのプラズマの生成は、出発 物質の混合物からの望ましい物質又は物体の生成を容易にする又は影響すること ができる。いかなる特定の理論や説明にも束縛される意図はないが、出発物質の 混合物の少なくとも一部に接触するように誘起された特定のプラズマの生成は、 源物質が種物質に接触する動きに好適に影響する又は容易にすることができる。 例えば、生成したプラズマ中の1種類以上の種(specie)は、源物質の1種類以上 の種を、種物質の少なくとも一部まで輸送することを助けることができる。その ような輸送が生じると、その種物質の上に又は種物質からの望ましい物質の堆積 又は成長が起きることができる。 プラズマは従来の技術によって形成することができ、気相物質又は物質の組み 合わせを制御された雰囲気の装置に装入し、その物質を例えばマイクロ波、高周 波、抵抗加熱等によって励起し、1種類以上のがす状の種を形成する方法がある 。また、プラズマは、1種類以上の源物質(又は源物質前駆体)を励起すること によって形成することができ、或いは、1種類以上の前駆体ブラズマ物質を源物 質に添加し、前駆体プラズマ物質が前記の任意の手段によって励起されたとき所 望のプラズマが生成し、出発物質の混合物の少なくとも一部に接触するように形 成することができる。いくつかの場合、プラズマの形成は、種物質(複数でもよ い)の上に又はそこから望ましい量の堆積又は成長が達成されるために本質的で あり、一方、他の場合には、そのような堆積又は成長に必要ない又は本質的な役 割をしないことがある。 本発明のいくつかの重要な面の理解を助けるため、本発明をダイヤモンド生成 に適用した場合と、従来の化学蒸着プロセスをダイヤ モンド生成に使用した場合とを比較することは有益であろう。 従来のダイヤモンド生成のCVDプロセスにおいて、常にガスである炭素源( 例、メタン)が95〜99%の水素と混合され、水素を例えば熱やマイクロ波で 励起する。一般に、炭素源ガスの励起は種々の炭化水素種と、或る原子の水素と 分子の水素の複雑な混合物の生成となる。次いで生成した炭素原子は、選択した 基材物質の上に非常に小さい核(nuclei)として凝集することができる。これらの 凝集した核はsp2(即ち、グラファイト構造)とsp3(即ち、ダイヤモンド構 造)の結合の両方を含む。前記の核の少なくとも一部が堆積した後、H2の励起 により生じた水素原子がsp2の全てを溶解し又は反応除去し、ダイヤモンド構 造を形成するsp3核を支配的に残す。このダイヤモンド核は次いで離れたダイ ヤモンド結晶の成長し、やがて連続的な皮膜を形成することができる。 従来のCVDダイヤモンド形成とは異なり、本発明は、ダイヤモンドコーティ ングや自己支持ダイヤモンド成形体を得るために、炭素供給用の出発ガスの使用 に依存しない。反対に、本発明は非ガス(例、固体又は液体)の炭素質出発物質 を利用する。具体的には、本発明の好ましい態様において、ダイヤモンド種物質 を非気相炭素源物質と共に提供する(例、混合する、又は炭素源物質の一部とし て生得的に存在する)。種物質と源物質は、一緒に均一に又は不均一に混合する 。水素の供給(例、水素ガス又は水素原子であり、外部から供給された、或いは 1種類以上の種物質(又は種物質前駆体)又は源物質(又は源物質前駆体)から その場で作成された)は、炭素源物質とダイヤモンド種物質の混合物に供給する ことができる。この混合物と供給水素は高温に供され(例、300〜160℃) 、大部分のsp2グラファイト炭素がsp3ダイヤモンド構造に転化することを可 能する。また、炭素質出発物質からの炭素は、sp3 ダイヤモンド種結晶と相互作用することを可能にされ、その種結晶の上又はそこ からのダイヤモンド成長に結びつく。 当業者は、所望の最終的ダイヤモンド生成物を形成する炭素の大部分は、ダイ ヤモンド種結晶の近隣の炭素源物質から供給されることを理解するであろう。こ のような仕方で炭素を供給することにより、これまで不可能でないにせよ困難で あると考えられてきたダイヤモンド皮膜や自己支持ダイヤモンド成形体を容易に 作成することができる。また、本発明の方法は、ダイヤモンド種結晶の直ぐ近く (例、数ナノメートル〜数ミクロン)に炭素源物質を配置したときに特に効果的 であることができる。いかなる特定の理論や説明にも束縛される意図はないが、 炭素源物質は、気相、又は触媒的に溶解した中間物、さらには固体状態の転移プ ロセスによってダイヤモンドに転移できると思われ、これらは、一部は、大きな ダイヤモンド結晶の成長のためのエピタキシャル核を提供する非常に微細なダイ ヤモンド種結晶の存在によって可能になると思われる。さらに、ダイヤモンド種 結晶に対する炭素源物質の並置(juxtaposition)と濃度が、例えば、炭素源物 質とダイヤモンド種結晶との起こり得る反応の程度を高め、これら物質の間の相 互作用を促進するものと思われる。 ダイヤモンド生成についての本発明の第4の面において、従来のCVDプロセ スに使用される付加的なガスを所望により追加することができる。例えば、メタ ンのような炭化水素ガスを源物質/種物質の混合物に入れ、例えば前記の反応に よって得られた結晶の上に又は結晶の間にダイヤモンド結晶をさらに成長させる ことができる。したがって、提供される炭化水素ガスの量は、得られる物体の微 細構造のさらなる制御を可能にする仕方で調節することができる。 本発明にしたがうダイヤモンド生成に関して、非気相炭素源物質 は、実質的に全ての形態の炭素を含むと思われる。ここで、特に好ましい形態に は、AQUA−DAG(商標)コロイド状グラファイトとして市販の微細に分散 された炭素(<1μm)、カーボンブラック、グラッシーカーボン、煤、ランプ ブラック、炭素にその場で転化できる有機ポリマー等がある。特定の炭素源物質 は、得られるダイヤモンド生成物に好ましい影響を与える1種類以上の付加的物 質を含むことができる。例えば、炭素源物質を窒素及び/又は燐でドーピングす ると(例、C−N及び/又はC−P結合が炭素源物質のなかに形成されると)、 得られるダイヤモンド生成物の望ましいドーピングが生じることが期待できる( 例、そのような生成物はP/N接合のような電子用途に使用することができる) 。また、例えば、炭素を含む非常に微細な混合物の多層を種結晶の表面上にコー ティングし、その多層をその後に又は実質的に同時にダイヤモンドに転化させる ことにより、大きなダイヤモンド単結晶を作成することができる。 容認できるダイヤモンド種結晶物質にはダイヤモンド粉末があるが、ダイヤモ ンド又はダイヤモンド状構造の任意の種結晶(例、cBM、シリコン、炭化ケイ 素、ダイヤモンドの結晶格子に似た種々の面心立方晶構造、又は他の同じ構造の 物質等)もまた適当な種結晶物質として作用することができる。また、特定の物 質が種結晶物質前駆体(複数でもよい)として作用することもある。そのような 物質は単独で、又は種結晶物質及び/又は他の種結晶物質前駆体に付加して使用 することができる。特定の加工条件下では、種結晶物質前駆体が種結晶物質とし て作用することもできる。種結晶物質(複数でもよい)及び/又は種結晶物質前 駆体(複数でもよい)の選択における或る重要な考え方に、その物質の化学的性 質(ダイヤモンドの作成を触媒する物質の能力)、その物質の安定性(例、本 発明の特定の加工条件に耐える)、その物質の構造と格子定数(例、ダイヤモン ドのそれらと同等)等がある。上記以外の満足できる種結晶物質及び/又は種結 晶物質前駆体には、例えば、Ni、Si、Cu、Fe、Mo、Pt、Pd等があ る。また、特定の物質は、本発明の加工の間に多数の役割を果たすことができる 。具体的には、特定の物質は、(1)種結晶物質及び/又は種結晶物質前駆体、及 び(2)水素源、として作用することができる。この点に関して、単一又は複合金 属水素化物(例、水素化ランタン、水素化タンタル、水素化ランタンニッケル、 水素化ジルコニウム、水素化チタン等)は、種物質及び/又は種物質前駆体(例 、ランタン、ニッケル、又はそれらの化合物の1種類以上)に加え、ダイヤモン ドの生成に有用な水素を供給することができる。 特定の金属水素化物の選択は、金属水素化物が分解して構成成分になる加工温 度を含む多くの因子に依存する。本発明の好ましい態様において、金属水素化物 は本発明の加工温度又はその付近で分解する。この場合、分解した金属水素化物 からの水素は、炭素源物質と好適に相互作用することができる。金属水素化物が 高過ぎる又は低過ぎる温度で分解すると、水素は、得られる物体の加工及び/又 は特性に好ましい影響を与えることができないことがある。 また、本発明の特定の面において、局所的又は全体的(即ち、反応容器の内部 全体)に水素の雰囲気が望ましいと決定されることがある。特定の場合、金属水 素化物が、望ましい反応を達成するに充分な量の水素(例、少なくとも局所的雰 囲気)を供給できることがある。しかし、他の場合、金属水素化物は、水素の外 部供給源に加えて水素を供給することができる。 もう1つの好ましい態様において、ダイヤモンド作成に使用する前記の本発明 の方法と同様な仕方で、窒化ホウ素(例、立方晶窒化 ホウ素)を作成することができる。固体状態の源物質からの立方晶BNの成長に 関して、一般にグラファイト構造で得られるBNをダイヤモンド構造にすること ができるといった予見は、結晶化学の学術分野に馴染んでいる全ての者に明らか であろう。Van Arkelがこのことを1926年に最初に明言している。また、ゼネラ ルエレクトリック社の研究チームが1955年に、高圧(>50kb)と高温(>1 000℃)において、六方晶BNを立方晶BNへ首尾よく転化させている。しか しながら、上記のように、これら従来の技術は多くの欠点が問題とされている。 次の例は、本発明の特定の態様を例示するために用意したものであるが、本願 の請求の範囲にクレイムした発明を制限するものではない。例1 この例は、CVD反応器を備えたマイクロ波プラズマを利用し、本発明による 最初のダイヤモンド作成法を例証する。 上記の説明のように、AQUA−DAG(商標)Eコロイド状グラファイト( Acheson Product Code No.5300021,Ted Pella社(Tustin,CA)より販売)のサン プルを小さなガラスビーカーに入れ、炭素の出発源物質を調製した。AQUA− DAG(商標)Eを、約7メガオーム以上の抵抗率を有する脱イオン水で希釈し 、AQUA−DAG(商標)Eと水の比を約1:3とした。予め超音波浴中でア セトンにより充分に脱脂し、次いで超音波浴中で脱イオン水により洗浄・乾燥し ておいたステンレス鋼のスパチュラを用い、約10分間手でAQUA−DAG( 商標)E/水の混合物を混合した。 上記に詳しく説明した種物質を調製するにおいて、先ず、3mlのビンを超音 波浴中でアセトンにより充分に脱脂し、次いで超音波 浴中で脱イオン水によりビンを洗浄した。この操作を数回繰り返し、最後のメタ ノール洗浄の後、最終的に高温空気でビンを乾燥した(市販のヘアドライヤーを 使用)。 洗浄した3mlのガラスビンをミクロ天秤の上に置き、重さ約0.075gで 平均粒子サイズが約3〜6μmのダイヤモンド粉末のサンプル(South Bay Tech nologyより供給)をガラスビンの中に入れた。次いで約0.525gの脱イオン 水をガラスビンの中に入れ、洗浄しておいた細いワイヤーを用いて手で攪拌し、 ダイヤモンドと水とを混合した。 ダイヤモンドけがき針を用い、大きなシリコンウェハーより約1cm×1cm ×厚さ約0.2mmのシリコン基材を切り出した。シリコン基材は次のようにし て洗浄した。約25mmの高純度アセトンを、きれいな50mlのPyrex( 商標)ガラスビーカーの中に入れた。きれいな小型ピンセットを用い、シリコン 基材をビーカーの中に入れ、アセトン中に沈めた。アセトンとシリコンウェハー を入れたビーカーを、超音波洗浄器の流体を入れた容器の中に配置した。超音波 洗浄器の中の流体は水であり、流体を入れた容器の水位がビーカーの上部より下 に維持されることを保証するように注意を払った。次いでシリコン基材を4回の アセトン超音波浴洗浄に供し、各々の洗浄後にアセトンを交換した。各々の超音 波洗浄は約3分間続けた。4回のアセトン超音波浴洗浄の後、ビーカーを超音波 洗浄器から取り出し、アセトンをビーカーから除去した。約7メガオーム以上の 抵抗率を有する脱イオン水の約25mlをビーカーに入れ、浴に脱イオン水を使 用した4回の別々な超音波浴洗浄にシリコンウェハーを供し、各々の超音波浴洗 浄の後、脱イオン水を交換した。各々の超音波洗浄は約3分間続けた。4回の脱 イオン水超音波浴洗浄の後、ビーカーを超音波洗浄器から取り出し、脱イオン水 をビーカーから除去した。次いで約2mlの高純度メチルアルコールをビーカー に注ぎ入れ、シリコン基材を約1分間の超音波洗浄に供した。約1分間後、超音 波洗浄器からビーカーを取り出し、ビーカーからメチルアルコールを除去した。 次いでシリコン基材をビーカーから取り出し、温かい空気を吹きつけて乾燥した (即ち、市販のドライヤーを「低温」に設定)。 洗浄・乾燥したシリコン基材を小型ペトリ皿に入れ、ミクロ天秤を使用して秤 量し、約0.0735gのシリコン基材重量を記録した。 AQUA−DAG(商標)E/脱イオン水の混合物をきれいな小型スパチュラ を用いて再度充分に混合し、AQUA−DAG(商標)E/脱イオン水の混合物 の1滴(重さ約0.0017g)を、シリコン基材の1cm×1cmの1つの面 のほぼ中央に落とした。 ダイヤモンド粉末/脱イオン水の混合物を再度充分に混合し、きれいな直径1 mmのワイヤーを用い、ダイヤモンド粉末/脱イオン水の混合物の非常に小さな 1滴(重さ約0.0118g)を、両方の混合物が互いに混合できるようにシリ コン基材の同じ1cm×1cmの面のほぼ中央に同じく落とした。適当な混合と 、AQUA−DAG(商標)E/脱イオン水の混合物とダイヤモンド粉末/脱イ オン水の混合物が一緒に平らに広がることを容易にするため、シリコン基材の同 じ1cm×1cmの面のほぼ中央に同じく1滴の脱イオン水を落とした。次いで スパチュラの丸いチップを使用し、AQUA−DAG(商標)E/脱イオン水の 混合物、ダイヤモンド粉末/脱イオン水の混合物、及び脱イオン水の水滴を手で 約4分間徹底的に混合し、次いでシリコン基材の表面上にゆっくり均等に広げ、 シリコンの1cm×1cmの表面の実質的に全てがその混合物で実質的に均等に 被覆されるようにした。 次いで被覆したシリコン基材を支持するペトリ皿を、室温の空気雰囲気の埃の ないキャビネットの中の水平な面の上に配置し、約3時間放置乾燥した。約3時 間後、シリコン基材を入れたペトリ皿を埃のないキャビネットから取り出し、約 80℃の大気圧の空気雰囲気のオーブンの中に配置した。約5分間後、ペトリ皿 と被覆したシリコン基材を80℃のオーブンから取り出し、約150℃の温度の 空気雰囲気の大気圧のオーブンの中に配置した。約5分間後、ペトリ皿と被覆し たシリコン基材をオーブンから取り出し、被覆したシリコン基材をミクロ天秤に 乗せ、約0.0784gの重量を記録し た。 図9は、この例で使用したマイクロ波プラズマ利用化学蒸着反応器の大要の図 である。表1は、図9に示すマイクロ波プラズマ利用化学蒸着反応器の種々の構 成成分のリストを表にしたものであり、図9で使用した参照番号がマイクロ波プ ラズマ利用化学蒸着反応器装置の種々の構成成分について参照できる。 図9に示すように、マイクロ波プラズマ利用化学蒸着反応器は、マイクロ波キ ャビティ6の最大強度の場の領域を通過する石英管4を含む。管4には、その両 端に真空タイプの金属の多数口アダプター26を施す。多数口の上側端部に、ガス シリンダー15、質量流量コントローラー14、電子制御回路13、高真空ストッパー 28、及びガス入口管3からなるガスフロー(入口)供給制御系25を接続し、下側 端部に排気バルブ10、窒素シリンダー9、真空ポンプ11からなる排気系24を接続 する。観測及び光高温計2で基材温度を測定するための石英窓1を、石英管4の 上部に用意する。石英管4とマイクロ波キャビティ6の周りに水冷ジャケット( 図示せず)を用意する。シリコン基材を、石英/ステンレス鋼で支持したグラフ ァイト基材ホルダー8(直径約18mmで、約0.5mmの突起リムを有し、高 品位グラファイトより機械加工)の上に配置し、真空タイプの口 から反応器の中の石英管4の底に入れる。特殊なOリングをジョイント(金属製 の多数口アダプター26の内側)に使用し、キャビティ6の中で芯合わせが必要で あれば、基材調節12を利用して基材の配置と回転を可能にさせる。 キャビティ6のインピーダンスをマイクロ波パワー源に合わせ、キャビティ6 をマイクロ波パワー源周波数に同調させるため、それぞれ適当なマイクロ波スタ ブチューナー18と波ガイド可変チューニングショート7を設置する。キャビティ 6の両面に超過カットオフ管27を使用し、反応器からマイクロ波パワーが漏れる ことを防ぐ。 質量流量コントローラー14(MSK Instruments社、Andover,MA)と電子制御回路 13を、ガス入口管3と反応器を流れるガスの流量調節に使用する。反応器の内圧 は、反応器と排気ポンプ11の間に装着した排気バルブ10で電気機械的に操作する ことにより、所定の設定値にほぼ一定に保つ。 コーティングしたシリコン基材を、コーティングした面を上に向けて基材ホル ダー8の中に配置した。約90sccmの超高純度水素と10%メタンと残余が超高 純度水素の混合ガスの約10sccmのガス流量(即ち、全ガス流量は約100sccm )を、ガス入口管3を通り、反応器を通るガスとして設定した。約90トールの 反応器圧力に設定した。マイクロ波パワー発生器21からのマイクロ波パワーを 作動し、プラズマ5を発生させ、コーティングしたシリコン基材の温度を約室温 から約990℃まで約20分間で昇温した。このガス流量、反応器圧力、及び温 度を約6時間維持した。約6時間後、マイクロ波パワーを徐々に約10分間で下 げ、基材の温度を約室温まで放冷し、反応器内の圧力を大気圧に上げ、ガス流量 を完全に止めた。次いで基材ホルダーから基材を取り出し、基材のコーティング した面 を微焦点のラマンスペクトログラフ(Model ISA RAM U-1000)を用いて分析した。 ラマンスペクトログラフの設定条件は次の通りであった:レーザー波長=514 .532mm、レーザーパワー=150mW、スリット=200μm、増分=1 00cm-1、倍率=40倍、NBスキャン=1。 基材のコーティング側をラマン分光分析に供し、図2に示すように、サンプル のコーティングから非常に鋭いラマン線が約1332cm-1に得られた。この値 はダイヤモンド結晶のみに対応する。また、スペクトルは、グラファイト状炭素 が事実上存在しないことを示した。 また、シリコン基材のコーティングした面の走査型電子顕微鏡(SEM)写真 を撮影し、図3に示すように、ダイヤモンドコーティングの多結晶形態、純粋な 結晶構造、及び良好な核生成密度が観察された。この目的のため、簡便タイプの SEM(Electroscan ES-30)と高真空タイプのSEM(ISI DS 130)を使用し た。 最後に、コーティングをX線回折を用いて分析し、X線回折スペクトルはd= 0.2056nm(2.056オングストローム)にピークを示し、これはダイ ヤモンド結晶に対応し、したがって、或る量のダイヤモンド層が基材上に生成し たことがさらに確認された。例2 外的な等構造種物質(即ち、微細な粉末)をコーティング中に加えない以外は 、例1と同じ手順を繰り返した。この比較例において、AQUA−DAG(商標 )Eコロイド状グラファイトの出発物質混合物は、図1に示すように、プロセス 条件下で全く変化をしなかった。このことは、図4に示すラマンスペクトルでダ イヤモンドは生成しておらず、図5に示すSEM顕微鏡写真によっても証明され た。例3 次のサンプルは、例1で示したダイヤモンド生成法のさらなるプロセスの改良 を例証する。サンプルA コロイド状グラファイトのAqua−Dag(商標)E(Acheson Colloids社 (Port Huron,MI)の製品、製品コード5300021)を出発の炭素源として用いた 。数回のアセトン、脱イオン水での洗浄、メタノールでの仕上洗浄、及び乾燥に より、ステンレスのスパチュラと一緒に洗浄しておいた30mlのパイレックス (商標)ガラスビーカーの中に約5gのAqua−Dag(商標)Eを入れた。 これら洗浄プロセスの各々の段階において、超音波浴(Geoscience Instruments 社、New York)中で約5分間の超音波攪拌を行った。 ステンレス製のスパチュラでAqua−Dag(商標)Eをかき混ぜながら、 約15mlの脱イオン水(7メガオーム以上の抵抗率)をパイレックス(商標) ビーカーに加えた。上記のパイレックスビーカーと実質的に同じ仕方で洗浄・乾 燥しておいた時計皿を用い、約2μmのサイズのダイヤモンド種結晶粉末(Warr en DiamondPowder Company社より供給)を約0.250g秤量した。このダイヤ モンド粉末を、超音波によって約15分間Aqua−Dag(商標)Eと混合し 、Aqua−Dag(商標)Eとダイヤモンド種結晶との均一な分散ゾルを作成 した。 ダイヤモンドけがき針を用い、大きなシリコンウェハーより約1cm×1c m×厚さ約0.2mmのシリコン基材を切り出した。例1と実質的に同じ仕方で 基材を徹底的に洗浄・乾燥し、その後きれいなペトリ皿の中に入れた。シリコン ウェハーを支持するペトリ皿を水平な表面上に保持し、新たに超音波処理したA qua−Da g(商標)E/ダイヤモンド種結晶の2つの液滴を、シリコン基材の1cm×1 cmの1つの面の中央に落とした。ステンレスのスパチュラとペトリ皿のシーソ ー式の傾斜を利用し、ゾルをシリコン基材の1cm×1cmの1つの面の上に均 一にコーティングした。このコーティングを、例1と同様にして、先ず埃のない キャビネット中にて室温で、次に80℃で乾燥した。 例1で詳しく説明し、図9に示したマイクロ波プラズマ利用化学蒸着反応器を 、この例で使用した。乾燥ゾルでコーティングしたシリコン基材を、石英/ステ ンレス鋼のロッド12の上に装着した基材ホルダー8の上に置き、それらを石英 管反応器の中の底に装入した。しっかりした真空シールのために、多数口の金属 製アダプター26を適正にクランプした。最初に、基材ホルダー8を、マイクロ 波キャビティ6の約1cm下のレベルに保った。排気バルブ10を開け、反応器 を通る約90sccmの高純度水素のガス流量を設定した。圧力を調節して約0.1 トールから約20トールに上げ、マイクロ波パワーのスイッチを入れ、反応器の 中にプラズマを形成した。圧力を約90トールに上げ、基材ホルダーをマイクロ 波キャビティのレベルまで、徐々に約10分間で持ち上げた。発生器21からのマ イクロ波パワーレベル、チューナー18、及び同調ショート7を同時に調節し、プ ラズマを基材/基材ホルダーに均一に制限し、光高温計2に表示される基材の温 度を約950℃に調節した。送り/反射パワーメーター19に示される反射マイク ロ波パワーを、これらの微調節のために最小値に下げた。この時点で、約10% のメタンと残余超高純度水素からなるガスの流れを約10sccmの流量で導き、水 素中の約1%の正味のメタン濃度と約100sccmの全ガス流量とした。スタブチ ューナー18、同調ショート7、マイクロ波パワーをさらに細かく同調し、基材に おいて約900℃の指示温度とした。これらガ ス圧力、ガス流量、及び基材の温度を約6時間維持した。 次いでマイクロ波パワーを徐々に落とし、約5分間でゼロにし、装置を約室温 まで放冷した。メタン供給を止めた。約20分間後、反応器に空気を入れ、基材 をホルダーから取り出し、例1に説明したような光学的顕微鏡検査、SEM、X RD)ラマンスペクトル特性の評価に供した。 SEM写真、X線回折パターン、ラマンスペクトルはいずれもシリコン基材上 の多結晶ダイヤモンドの存在を示した。具体的には、図23は、このサンプルの 得られた物質の約620倍のSEM顕微鏡写真である。図24は、このサンプル の得られた物質の粉末X線回折パターンである。図25は、このサンプルの得ら れた物質のラマンスペクトルである。サンプルB メタンを反応器に導入しない以外はサンプルAについて示した過程を実質的に 繰り返した。合計で約100sccmの超高純度水素ガス流量を反応の間中で維持し た。例1と同様に、SEM写真、X線回折パターン、ラマンスペクトルを採取し 、シリコン基材上の多結晶ダイヤモンドの生成を確認した。例4 この例は、例3のサンプルAとBに示したプロセスパラメーターの多くの変数 を系統的に変化させ、依然として本発明のダイヤモンド生成に結びつくことがで きることを示す。 表2は、本発明にしたがってダイヤモンドを生成した、種々の変化させたプロ セス条件と種々の物質を示す。 次の選択の例示サンプルは、多くの可能なパラメーターの変化の一部を示す。サンプルA この例は、ポリマー、具体的には固体炭素源の非ガス出発物質前駆体としての フェノールホルムアルデヒド樹脂の使用方法を例証する。先ず、このポリマーを 窒素雰囲気中で約500℃にて約10時 間加熱し、ガラス状の炭素前駆体を得た。このガラス状炭素前駆体の約0.5g に、平均粒子サイズが約≦1μpmのダイヤモンド種結晶(Johnson Mattheyよ り供給)の約0.025gを混ぜた。約4mlの脱イオン水と約1mlのエタノ ールを含む溶液をガラス状炭素前駆体/ダイヤモンド種結晶の混合物に添加した 。この2相(diphasic)の混合物を約3分間の超音波処理により分散させた。厚 さ約2cmのきれいなシリコン基材(例1で示したと同様にして調製)の1cm ×1cmの面の上に、この2相のゾルを数滴を広げ、層を作成し、空気雰囲気の オーブンの中で約80℃で数時間乾燥した。例3で用いたと基本的に同じ方法を 使用し、サンプルAの処理を行った。良好なラマンとXRDのデータがダイヤモ ンド生成を証明した。サンプルB 市販のグラッシーカーボン源物質(東海カーボン社より入手、グレードGC-20 )の約0.5gに、平均粒子サイズが約≦1μmのダイヤモンド種結晶(Johnso n Mattheyより購入)の約0.025gを乳鉢と乳棒を使って混ぜた。混合物を 全てきれいなガラス試験管に移した。約2mlの脱イオン水、約2mlの水酸化 アンモニウム、及び約1mlのエタノールを含む溶媒混合液をグラッシーカーボ ン/ダイヤモンド種結晶の混合物に添加した。次いで約3分間超音波浴を用い、 その混合物を分散させた。約2滴のゾルを、約1cm×1cmのシリコン基材( 例1と実質的に同じにして調製・洗浄)の1つの面の上に落とし、その上に均等 に広げて(例1と同様にして)層を形成し、空気雰囲気のオーブン中で約80℃ にて約2時間そのシリコン基材を乾燥した。サンプルBについてダイヤモンドを 作成するため、例3で用いたと基本的に同じ方法を使用した。良好なラマンとX RDのデータが得られ、ダイヤモンド種結晶入りグラッシーカーボンがダイヤモ ンドに転化したことを証明した。サンプルC 約4gのAqua−Dag(商標)Eコロイド状グラファイト(Acheson Coll oids社)を含む炭素源物質を、50mlのナルゲネ(商標)ビーカー(Fisher S cientificより購入)に入れた。平均粒子サイズが約≦1μmのダイヤモンド種 結晶(Johnson Mattheyより購入)の約0.05gをナルゲネ(商標)ビーカー に加えた。抵抗率約4メガオームを有する脱イオン水の約10mlをナルゲネ( 商標)ビーカーに加え、予め脱イオン水で徹底的に洗浄して約100℃の空気雰 囲気のオーブンで乾燥しておいたステンレス製のスパチュラを用い、ビーカーの 内容物を攪拌した。次いで2相ゾルを形成する粒子を分散させるため、ナルゲネ (Nalgene)ビーカーの内容物を約3分間超音波処理に供した。約1cm×1c mのシリコン基材(例1と実質的に同様にして調製・洗浄)の1つの面にこの溶 液を2滴落とし、その上に均一に広げ(例1と同様にして)、層を形成し、その 基材を約80℃に保ったオーブンで約2時間乾燥した。2相ゾルでコーティング したシリコン基材をグラファイト板の上に置き、Astexシステムのマイクロ 波プラズマ利用化学蒸着反応器(Applied Science and Technology社、Woburn, MAより購入)の中に入れた。グラファイト板の温度を約400℃に維持し、プロ セス時間を約20時間とした以外は例9に示したと同じ操作を繰り返した。良好 なラマンとXRDのデータがダイヤモンドに転化したことを証明した。サンプルD 約4gのAqua−Dag(商標)Eコロイド状グラファイト(Acheson Coll oids社)を含む炭素源物質を、50mlのナルゲネビーカー(Fisher Scientifi cより購入)に入れた。平均粒子サイズが約≦1μmのダイヤモンド種結晶(Joh nson Mattheyより購入)の約0.05gをナルゲネビーカーに加えた。抵抗率約 4メガオームを有する脱イオン水の約10mlをナルゲネビーカーに加え、予め 脱イオン水で徹底的に洗浄して約100℃の空気雰囲気のオーブンで乾燥してお いたステンレス製のスパチュラを用い、ビーカーの内容物を攪拌した。次いで2 相ゾルを形成する粒子を分散させるため、ナルゲネ(Nalgene)ビーカーの内容 物を約3分間超音波処理に供した。溶液を空気雰囲気オーブン中で約80℃にて 終夜で乾燥した。2相の乾燥したゲル粉末をビーカーから取り出し、乳鉢と乳棒 を使って潰した。次いで粉末を厚さ約2mm×直径約10mmのペレットに圧密 化した。1つのペレットを図9に示すマイクロ波プラズマ利用化学蒸着反応器シ ステムのグラファイトホルダーの上に置いた。例3のサンプルBと実質的に同じ 加工過程を用い、ただし約1500℃のサンプル温度に約24時間維持し、約2 50トールの圧力に維持した。良好なラマンとXRDのデータがダイヤモンドに 転化したことを証明した。サンプルE 例3のサンプルAとBで記した両方のプロセスを繰り返し、ただし種物質とし てのダイヤモンドの代わりに、非常に細かい粉末のニッケル、銅、モリブデン、 白金、及びパラジウムを種物質及び/又は種物質前駆体として使用した。SEM 、ラマン、XRD評価によってダイヤモンド結晶の良好な生成が確認された。 図26〜28は、AQUA−DAG(商標)Eコロイド状グラ ファイトを含む炭素源物質と組み合わせた、種結晶としてのそれぞれ銅、ニッケ ル、モリブデン粉末を使用して作成した物質の代表的なSEM顕微鏡写真である 。これら顕微鏡写真はそれぞれ750倍、1500倍、500倍の倍率で撮影し た。サンプルF 例3のサンプルBで記したプロセスを繰り返し、ただし種物質としてのダイヤ モンドの代わりに、約1μmの平均粒子径を有する微細な約0.05gのβ−S iC(立方晶)(Johnson Mattheyより購入)を種物質として使用した。このβ −SiCを5gのAqua−Dag(商標)Eコロイド状グラファイトと混合し た。処理した基材はダイヤモンド結晶への良好な転化を示した。サンプルG 例3のサンプルAで記したプロセスを繰り返し、ただし超高純度のH2の代わ りに超高純度の水素とメタン、約80%のH2Oと約20%のCH3OHを含む蒸 気を使用した。加工した基材は、SEM)ラマン、XRDの評価が示すように、 ダイヤモンド結晶への良好な転化を示した。例5 平均粒子径が約2μmのダイヤモンド微粉末(Warren Diamond Powder社)を 約10重量%含む種物質を、カーボンブラック源物質と約0.5重量%のPVA バインダーとに徹底的に混合し、ペーストを作成した。このペーストを約80℃ の空気雰囲気のオーブンで約2時間乾燥し、次いで約130℃で約10分間乾燥 し、ダイの中でプレスして、約6.35mm(1/4インチ)の直径と約3.1 8mm(1/8インチ)の厚さを有する小さな正確な円筒を作成した。また、ペ ーストを厚さ約2mmのタブレットにプレスした。1つの タブレットを削って約2mm×2mm×2mmのダイ(サイコロ)を作成した。 ダイ、タブレット、円筒を、図9に示すようなマイクロ波反応器のプラズマゾー ンの中にゆっくり持ち上げた(約1時間で)。このことは、全ての流体と高分子 バインダーをゆっくり燃焼除去させた。サンプルを約950℃で約10時間反応 させ、他の全ての反応条件は例1の記載と実質的に同じとした。冷却した後、サ ンプルをXRD、ラマン、SEMで評価した。サンプルは、数μmの大きさの結 晶のほぼ純粋なダイヤモンドに実質的に転化していた。例6 この例は、マイクロ波プラズマ利用化学蒸着反応器を使用した本発明による別 なダイヤモンド作成方法を例証する。 次の物質を125mlのガラスビーカーに加えた:平均粒子サイズ約30nm の約1.8gの炭素粉末源物質(VULCAN XC-72R、キャボット社、Boston,MA) 、平均粒子サイズ約1μm未満のダイヤモンド種物質を約0.2g(Johnson Mat they,Ward Hill,MA)、約70体積%の1,1,1,トリクロロエタンと約30体積% の2−プロパノール(Aldridge,Milwaukee,MI、純度99%以上)の混合溶媒 を約50ml。次いで予め脱イオン水で充分に洗浄・乾燥しておいたガラス棒を 用いて手でビーカーの内容物をかき混ぜた。約0.1gのバインダー(Du Pont 5200)をガラスビーカーに加えた。ガラスビーカーとその内容物を、約2分間超 音波浴(Ultrasonics,L&R Manufacturing社、Kearny,NJ)に供した。 各々約1cm×1cm×厚さ0.02cmのモリブデン基材とシリコン基材を 次の仕方で洗浄した。50mlの2つのパイレックスガラスビーカーを水で次い でアセトンで充分に洗い、約100℃の空気雰囲気オーブン中で約3時間乾燥し た。次いで約50mlの高 純度アセトンを各々のパイレックスガラスビーカーに入れた。きれいな小型ピン セットを用い、各々の基材をそれぞれのビーカーに入れ、アセトンの中に沈めた 。アセトンと基材を入れたビーカーを超音波浴の中に約3分間入れた。約3分間 後、ガラスビーカーを超音波浴から取り出し、各々のビーカーからアセトンを除 去した。約20mlのイソプロパノールを各々のビーカーに入れ、基材をイソプ ロパノールの中に沈めた。イソプロパノールと基材を入れたビーカーを超音波浴 の中に約3分間入れた。次いでビーカーを超音波浴から取り出し、基材をビーカ ーから取り出し、約室温で乾燥した。 炭素源/ダイヤモンド種結晶の混合物の数mlを、使い捨てのプラスチック移 液ピペット(Aldridge,Milwaukee,MI)を用いて125mlのビーカーより取 り出した。炭素/ダイヤモンド種結晶の混合物の2滴(即ち、約0.2ml)を 、約1.0cm×1.0cmの各々の基材の1つの面のほぼ中央に落とした。次 いで、各々の基材の1.0cm×1.0cmの実質的に全体に炭素源/ダイヤモ ンド種結晶の混合物が広がるように、各々の基材を全部の方向に少し傾けた。空 気雰囲気オーブン中の温度を100℃に設定し、各々の基材をそのオーブンの中 に入れ、実質的に完全に乾燥させた。 例1で説明したと同じ、図9に示したマイクロ波プラズマ利用化学蒸着反応器 をこの例で使用した。 コーティングしたシリコン基材を、コーティングした面を上にして基材ホルダ ーの中に配置した。マイクロ波プラズマ利用化学蒸着反応器を通過する超高純度 水素の約80sccmと、メタン10%で残余超高純度水素の混合ガスの約20sccm のガス流量(即ち、全体で約100sccmのガス流量)を設定した。約90トール の反応器圧力を設定した。マイクロ波パワーを入れ、シリコン基材の温度を約室 温から約20分間で約975℃まで昇温し、プラズマを発生させた。 このガス流量、反応器圧力、温度を約5時間維持した。約5時間後、マイクロ波 パワーを約10分間で徐々に下げ、次いで止めた。基材は約室温まで放冷した。 反応器の内圧を大気圧まで上げ、ガスの流れを完全に止めた。シリコン基材を基 材ホルダーから取り出した。 コーティングしたモリブデン基材は、前記のコーティングしたシリコン基材と 実質的に同じ反応条件に供した。 ラマン分光分析(ISA RAM U-1000)の調節設定は次の通りとした:レーザー波 長=514.532nm、レーザーパワー=40mW)、スリット=200μm 、増分=1.00cm-1、倍率=40倍、NBスキャン=1。 各々のコーティングした面をラマン分光分析に供し、約1332cm-1に非常 に鋭いラマン線が、各々のサンプルのコーティングから得られた。この値はダイ ヤモンド結晶のみに対応する。また、そのスペクトルは残存した一部の六方晶グ ラファイト炭素の存在を示した。シリコンとモリブデンの基材上のサンプルのラ マンスペクトルを、それぞれ図10と図11に示す。 また、シリコンとモリブデンの基材の表面を撮影した走査型電子顕微鏡写真を 、それぞれ図12と13に示す。図12と13は、ダイヤモンドコーティングの 多結晶形態、純粋な結晶構造、良好な核生成密度を示す。簡便なSEM(electr onscan ES-30)と高真空タイプのSEM(ISI DS 130)をこの目的に使用した。 最後に、コーティングをX線回折によって分析し、そのX線回折パターンはd =0.2056nm(2.058Å)にピークを示し、これはダイヤモンド結晶 に対応し、したがって各々の基材上に或る量のダイヤモンド層が生成したことが さらに確認された。例7 この例は、本発明によるダイヤモンド生成の別な方法を例証する。具体的には 、この例は、水素/酸素火炎技術を利用する。 約0.64gのAqua−Dag(商標)Eコロイド状グラファイト炭素源物 質(Ted Pella社より購入、Tustin,CA)を50mlのナルゲネ(商標)プラス チックビーカー(Fisher Scientific,Pittsburgh,PA)の中に入れた。平均粒 子サイズが約1μm未満のダイヤモンド種結晶(Johnson Mattheyより購入)の 約0.025gと、約10mlの脱イオン水をナルゲネプラスチックビーカーに 加えた。予め脱イオン水で徹底的に洗浄して約100℃の空気雰囲気のオーブン で乾燥しておいたステンレス製のスパチュラを用い、ビーカーの内容物を手で混 ぜ合わせた。AQUA−DAG(商標)E源物質/ダイヤモンド種結晶溶液をい れたナルゲネプラスチックビーカーを約3分間超音波浴に供し、粒子を充分に分 散させ、2相溶液を形成させた。 20重量%のポリビニルアルコールバインダー(PolySciences社、Warrington ,PA)の約3滴(重さ約0.21g)をガラス試験管に加えた。バインダーは、 約3mlの脱イオン水を加え、試験管を超音波浴に入れ、ガラス試験管とその内 容物を超音波浴に約3分間供することにより溶解させた。約2分間後、試験管を 超音波浴から取り出し、試験管の内容物を、ナルゲネプラスチックビーカーに入 れたAQUA−DAG(商標)E源物質/ダイヤモンド種結晶の2相溶液に添加 した。次いでナルゲネプラスチックビーカーとその内容物を超音波浴に約2分間 供した。約2分間後、ナルゲネプラスチックビーカーを超音波浴から取り出し、 2相溶液をガラスビーカーに移した。ガラスビーカーとその内容物を約100℃ の空気雰囲気オーブンに約2時間入れた。約2時間後の2相溶液が完全に乾燥す る前に、ガラスビーカーをオーブンから取り出し、ほぼ球形の平均 直径約1〜2mmの小さなボールを2相混合物から手で作成した。次いでほぼ球 形のボールをきれいなペトリ皿に入れ、その球形ボールを入れたペトリ皿を、球 形ボールを実質的に完全に乾かすために100℃の空気雰囲気オーブンの中に約 3時間入れた。 球形ボールを収めるキャビティを作成するため、直径約1cm×深さ約0.2 cmのキャビティを、1個の高品位グラファイトより機械加工した。全部で6つ の球形ボールをキャビティの中に入れ、H2/O2の混合ガスを用い、バーナー管 の中に火炎を発生させた。H2/O2の比は、火炎が球形ボールをキャビティの外 に追い出さないように調節した。火炎をキャビティの方に向け、火炎の中の青い 部分が球形ボールの上に集中するようにした。球形ボールが白色の高温になった ことが認められた。球形ボールを火炎に約3分間曝した後、火炎を球形ボールか ら外した。球形ボールを室温まで放冷し、その後メノウの乳鉢と乳棒で粉砕した 。 次いで粉砕した球形ボールを粉末X線回折に供し、その結果を図14に示す。 図14は、グラファイトのピークと別に、ダイヤモンド相の生成を示している。 図15は、上記の火炎処理に供する前の、球形ボールの粉末X線回折解析の結 果を示す。図15に示されているように、火炎処理の前の球形ボールの粉末X線 回折パターンはグラファイトのピークのみを示している。 図16aと16bは、上記の火炎処理の後の球形ボールの走査型電子顕微鏡写 真の結果を示す。簡便なSEM(electronscan ES-30)をこの目的に使用した。例8 ダイヤモンド微粉末(Johnson Mattheyより購入、平均粒子径≦1 μm)を約5%(重量の固体)を含む種物質を、Aqua−Dag(商標)Eコ ロイド状グラファイト炭素源物質に添加し、その中に分散させた。この混合物を シリコンウェハー(例1に記載したと実質的におなじにして調節・洗浄)の上に スパチュラで広げ、ほぼ室温のデシケーター中で約12時間ほぼ完全に放置乾燥 した。次いでコーティングしたウェハーを標準的なAstex反応器(例9で記 載)の中に導入した。反応器を約0.001トール(mmHg)まで排気し、次 いで超高純度水素ガスを用いて約20トールまで圧力を上げた。反応器を通る、 約99%の超高純度水素ガスと約1%のメタンからなる約100sccmのガスの流 量を設定した。マイクロ波パワー発生器からのマイクロ波パワーを同調させ、グ ラファイト基材の温度を約室温から約950℃の温度まで高めた。マイクロ波パ ワー発生器を同調させ、反応チャンバーの中でプラズマを発生させ、コーティン グしたウェハーをプラズマの中にゆっくり移動した。約時間の反応の後、反応器 からウェハーを取り出し、光学鏡検法、SEM、ラマン分光分析により評価した 。生成した物体は約25 1の厚さで、図6のSEM顕微鏡写真、図8のラマン パターンに示すように、ほぼ完全にダイヤモンドに転化していた。上記の過程を 繰り返し、連続的に付加した25 1(最終的なダイヤモンドの厚さ)の層を作 成し、このようにして厚めの自立式皮膜を形成した。例9 この例は、本発明の方法によるダイヤモンド繊維の作成法を例証する。 先ず、約4gのAqua−Dag(商標)Eコロイド状グラファイト(Acheso n Colloids社)を含む炭素源物質を、50mlのナル ゲネビーカー(Fisher Scientificより購入)に入れた。平均粒子サイズが約≦ 1μmのダイヤモンド種結晶(Johnson Mattheyより購入)の約0.05gと、 約106μm以下の直径のニッケル粒子(Johnson Mattheyより購入、Ward Hill ,MA)の約0.1gを含む第2の種物質をナルゲネ(商標)ビーカーに添加し、 約4メガオームの抵抗率を有する10mlの脱イオン水をナルゲネビーカーに添 加し、そのビーカーの内容物を、脱イオン水で充分に洗浄して約100℃で乾燥 しておいたステンレスのスパチュラを用いて混合した。次いで、粒子を分散して 3相液を形成するため、超音波浴にナルゲネビーカーの内容物を3分間供した。 長さ約25.4mm(1インチ)、平均繊維径約10μm、重さ約0.000 4gの炭素繊維(米国海軍省より入手、品名Type AS412K)の小さな束を含む第 2の炭素源物質を、各々の炭素繊維のほぼ全表面が3相液でコーティングされる ように液の中に浸した。次いでコーティングした繊維を終夜で室温にて乾燥した 。 直径約25.4mm(1インチ)×長さ約9.53mm(3/8インチ)の窒 化ホウ素ロッド(Union Carbideより購入、Cleveland, OH)に直径約3.18 mm(1/8インチ)の円柱状の穴を機械加工し、コーティングした繊維を支持 するための窒化ホウ素ホルダーを調製した。繊維の乾燥した束を円柱状の穴の中 に配置し、窒化ホウ素ホルダーをグラファイト板の上に置いた。グラファイト板 と、繊維束を入れた窒化ホウ素ホルダーを、Astex Systemマイクロ波プラズマ利 用化学蒸着反応器(Applied Science & Technology社より購入、Woburn,MA)の 反応チャンバーの中に入れた。 図29は、この例で使用したAstex Systemマイクロ波プラズマ利用化学蒸着反 応器の大要の図である。表3は、図29に示すAstexSystemの各種構成成分をリ ストを表示したものであり、図29で用 いた参照番号をAstex Systemの各種構成成分に対応して示している。 反応器60を約0.001トール(mmHg)まで排気し、次いで超高純度水素 ガスを用いて約20トールまで圧力を上げた。反応器60への水素ガス流量を約1 00sccmに設定した。マイクロ波パワー源52からのマイクロ波パワーを同調し、 グラファイト基材62の温度を約室温から約800℃まで昇温した。マイクロ波パ ワー源52を同調し、反応チャンバー60の中にプラズマ61を発生させた。このガ ス流量、圧力、温度を約20時間維持した。約20時間後、マイクロ波パワーを 徐々に下げ、次いで止めた。基材温度を約室温まで下げ、反応器内の圧力を大気 圧まで上げ、ガスの流れを完全に止めた。グラファイト板、窒化ホウ素ホルダー 、繊維の束を取り出し、繊維を窒化ホウ素ホルダーから取り出した。 ラマン分光分析(Model ISA RAM U-1000)を用いてその繊維を解析した。ラマ ン分光分析器の調節設定は次の通りとした:レーザー波長=514.532nm 、レーザーパワー=200mW、スリット=200μm、増分=1.00cm-1 、倍率=40倍、NBスキャン=1。 繊維をラマン分光分析に供し、約1325cm-1に非常に鋭いラマン線が得ら れ、これはダイヤモンド結晶のみに対応する。SEM1本の繊維を604倍で撮 影した顕微鏡写真を図30に示す。プラズマに暴露されていた部分の繊維がダイ ヤモンドに転化し、その他は転化していないことを示している。転化した部分の ラマンスペクトルを図31に示す。例10 この例は、本発明の方法によるダイヤモンド繊維の作成方法を例証する。 約0.66gの硝酸ニッケル6水和物(Ni(NO3)2.6H2O)(AldrichChemical社 より購入)を約1mlの脱イオン水に溶かした。長さ約25.4mm(1インチ )、平均繊維径約10pmの炭素繊維(米国海軍省より入手、品名Type AS412K )の小さな束を含む炭素源物質をその溶液に浸し、各々の炭素繊維のほぼ全表面 がその溶液でコーティングされるように液の中に浸した。次いでコーティングし た繊維を終夜で室温にて乾燥した。 直径約25.4mm(1インチ)×長さ約9.53mm(3/8インチ)の窒 化ホウ素ロッド(Union Carbideより購入、Cleveland,OH)に直径約3.18m m(1/8インチ)の円柱状の穴を機械加工し、コーティングした繊維を支持す るための窒化ホウ素ホルダーを調製した。繊維の乾燥した束を円柱状の穴の中に 配置し、窒化ホウ素ホルダーをグラファイト板の上に置いた。グラファイト板と 、繊維束を入れた窒化ホウ素ホルダーを、Astex Systemマイクロ波プラズマ利用 化学蒸着反応器(Applied Science & Technology社より購入、Woburn,MA)の反 応チャンバーの中に入れた。 反応器を約0.001トール(mmHg)まで排気し、次いで超高純度水素ガ スを用いて約20トールまで圧力を上げた。グラファイト板の温度を約500℃ まで上げ、この温度を約5時間保った。約5時間後、温度を約880℃まで上げ た。反応器への水素ガスの流れを約100sccmに設定した。マイクロ波パワー発 生器からのマイクロ波パワーを入れ、同調して反応器チャンバーにプラズマを発 生させた。このガス流量、圧力、温度を約20時間維持した。約20時間後、マ イクロ波パワーを徐々に下げ、次いで止めた。基材温度を約室温まで下げ、反応 器内の圧力を大気圧まで上げ、ガスの流れを完全に止めた。グラファイト板、窒 化ホウ素ホルダー、繊維の束を取り出し、繊維を窒化ホウ素ホルダーから取り出 した。 図17は、この例の繊維の1本の約240倍のSEM顕微鏡写真である。例11 この例は、本発明の方法によるダイヤモンド繊維の作成方法を例証する。 約106μm以下の直径を有するニッケル粉末(−120メッシュ)(Johnso n Mattheyより購入、Ward Hill,MA)の0.05gを含む種物質と、約2mlの 脱イオン水を50mlのナルゲネ(商標)ビーカー(Fisher Scientificより購 入)に入れた。そのビーカーと内容物を超音波浴に約3分間供することにより、 ニッケル粉末を分散させた。 長さ約25.4mm(1インチ)、平均繊維径約10μmの炭素繊維(米国海 軍省より入手、品名Type AS412K)の小さな束を含む炭素源物質をそのゾルに浸 し、各々の炭素繊維のほぼ全表面がニッケルゾルでコーティングされるようにゾ ルの中に浸した。次いでコー ティングした繊維を終夜で室温にて乾燥した。 例9と実質的に同じ手順を繰り返し、ただし反応温度は約900℃、反応時間 は約22時間とした。 繊維をラマン分光分析に供し、図18に示すように、約1333cm-1に非常 に鋭いラマン線が得られた。 図19は、この例で作成した繊維サンプルを約353倍で撮影したSEM顕微 鏡写真である。例12 この例は、本発明の方法によるダイヤモンド繊維の作成方法を例証する。 先ず、約4gのAqua−Dag(商標)Eコロイド状グラファイト(Acheso n Colloids社)を含む炭素源物質を、50mlのナルゲネビーカー(Fisher Sci entificより購入)に入れた。平均粒子サイズが<1μmのダイヤモンド種結晶 (Johnson Mattheyより購入)の約0.05gをナルゲネビーカーに入れた。約 4メガオームの抵抗率を有する10mlの脱イオン水をナルゲネビーカーに添加 し、そのビーカーの内容物を、脱イオン水で充分に洗浄して約100℃で乾燥し ておいたステンレスのスパチュラを用いて混合した。次いで、粒子を分散して2 相液を形成するため、超音波浴にナルゲネビーカーの内容物を3分間供した。 長さ約25.4mm(1インチ)、平均繊維径約10μm、重さ約0.000 4gの炭素繊維(米国海軍省より入手、品名Type AS412K)の小さな束を含む第 2の炭素源物質を、各々の炭素繊維のほぼ全表面が2相液でコーティングされる ように液の中に浸した。次いでコーティングした繊維を終夜で室温にて乾燥した 。 例9と実質的に同じ手順を繰り返し、ただし反応温度は約900 ℃、反応時間は約22時間とした。 ラマン分光分析(Model ISA RAM U-1000)を用いてその繊維を評価した。ラマ ン分光分析器の調節設定は次の通りとした:レーザー波長=514.532nm 、レーザーパワー=200mW)スリット=200pm、増分=1.00cm-1 、倍率=40倍、NBスキャン=1。 繊維をラマン分光分析に供し、約1325cm-1に非常に鋭いラマン線が得ら れ、これはダイヤモンド結晶のみに対応する。 図20は、この例で作成した物質のラマンスペクトルである。図21と22は 、この例で作成した繊維のそれぞれ約347倍、490倍で撮影したSEM顕微 鏡写真である。例13 この例は、本発明の方法によるダイヤモンド繊維の作成方法を例証する。 約0.03gのダイヤモンド粉末を含む種物質と約2mlの脱イオン水を、5 0mlのナルゲネビーカー(Fisher Scientificより購入)に入れた。ビーカー とその内容物を超音波浴に3分間供することにより、ダイヤモンド粉末を分散さ せた。 長さが各々約25.4mm(1インチ)、平均繊維径約10μmの炭素繊維( 米国海軍省より入手、品名Type AS412K)の小さな束を、各々の炭素繊維のほぼ 全表面がゾルでコーティングされるように液の中に浸した。次いでコーティング した繊維を終夜で室温にて乾燥した。 例9と実質的に同じ手順を使用した。 ラマン分光分析(Model ISA RAM U-1000)を用いてその繊維を評価した。ラマ ン分光分析器の調節設定は次の通りとした:レーザー波 長=514.532nm、レーザーパワー=200mW、スリット=200μm 、増分=1.00cm-1、倍率=40倍、NBスキャン=1。 繊維をラマン分光分析に供し、約1335cm-1に非常に鋭いラマン線が得ら れた。例14 図32は、この例で使用した高温フィラメントタイプのダイヤモンド堆積/転 化装置の大要の図である。表4は、図32に示す装置の各種構成成分をリストを 表示したものであり、図32で用いた参照番号をAstex Systemの各種構成成分に 対応して示している。 高温フィラメントタイプのダイヤモンド堆積/転化装置において、活性種は水 素と含炭素ガス(この例ではメタンであり、この例では固体炭素源物質と併用す る)を非常に高温(約2000℃付近)のフィラメント構造体に接触させること により生成する。基材物質と、ダイヤモンド種結晶、金属又は非金属の種結晶粉 末により種結晶を添加した種々のタイプの乾燥したゾルの炭素源を高温フィラメ ントの非常に近隣に維持し、活性種と相互作用させ、ダイヤモンド結晶を生成さ せた。 図32に関して、高温フィラメント反応器装置は、高周波(450kHz)パワー発 生器(10kW)109に接続した高周波(R.F.)コイル105によって高周波誘導加熱さ れる円形ガーゼの形態の浸炭タンタルワイヤーヒーター106を含む。コイル105は 、石英管反応器104の外のタンタルワイヤーヒーターグリッド106の近くに配置す る。 シリコン基材物質を、例3のサンプルAに記載したと実質的に同 様にして調製した。基材を基材ホルダーの上に置き、反応管104の中に持ち上げ 、高温フィラメント106の約1cm下に保った。1%のメタンを含む超高純度水 素ガスを使用し、反応器に流れるガス流量を約200sccmに、圧力を約30トー ルに設定した。流量と圧力の自動コントローラーにより、その流量と圧力を維持 した。高周波発生器109からの高周波パワーを調節し、光高温計103の指示でタン タルフィラメントグリッド106の温度を約2200℃に設定した。また、高周波 コイル105の位置は、基材ホルダーの孔を通して基材の底に取り付けた熱電対111 の指示で約950℃の基材温度になるように調節した。例15 この例は、非プラズマ利用転化による内部原子水素源を使用したダイヤモンド の作成方法を例証する。 具体的には、約5gのAqua−Dag(商標)Eコロイド状グラファイト( Acheson Colloids社、MI)を含む炭素源物質を、きれいな30mlのパイレック スガラスビーカーに秤量した。このAqua−Dag(商標)Eに、約0.25 gのダイヤモンド粉末(粒子サイズ約2μm、Warren Diamond Powder Co.社よ り供給のType 300S)を含む種物質を添加した。きれいなステンレス製スパチュ ラでこれらを混ぜながら、約15mlの脱イオン水を添加した。この混合物に、 超音波浴(Geoscience Instruments社、NY)中での約15分間の超音波攪拌に供 した。この2相ゾルをきれいなガラスペトリ皿に注ぎ入れた。ペトリ皿を80℃ に保った空気雰囲気のオーブンに約2時間保持し、次いで約130℃に保った空 気雰囲気のオーブンに約10分間保持し、ゾルをほぼ完全に乾燥した。ダイヤモ ンド粉末で種結晶を添加したAqua−Dag(商標)E源物質のフ レークを、次いで約38μm以下(400メッシュ未満)の直径の微粉末に粉砕 した。この粉末の2gを、ほぼ同重量の水素化ジルコニウム粉末(−325メッ シュ、直径約45μm以下、99%、Alfa,Johnson Matthey Catalog Company 社,MAより供給)と混合した。この粉末をボールミルに2時間供し、均一な混合 物とし、次いでステンレス鋼のダイを用い、約6.9×105Paの圧力でプレ スし、直径約6.35mm(1/4インチ)のタブレットにした。 そのタブレットの2個を、直径約2.45cm×高さ約2cmの小型グラファ イト坩堝に入れ、グラファイトの蓋をした。次いでタブレットを少量の水素化ジ ルコニウム粉末で覆った。坩堝の上部に幅1mm×深さ1mmの6本の溝を用意 し、蓋で覆ったときでもゆっくりした拡散でガスが坩堝を出入りできるようにし た。 図7に示すように、アルミナボートの中に坩堝202を入れ、直径約2インチの アルミナ管状炉205(Lindberg社より供給)の中央にアルミナボートを配置した 。管状炉の端部は、Oリングとさらにガスの出入りのための直径1cmの管を備 えた金属製アダプターで閉じた。炉の入口200は、正確なフロート弁を通して超 高純度水素ガスシリンダーに接続した。炉の出口管206は、噴水装置を通して排 気フードに接続した。内部の空気を実質的に完全に置換するため、超高純度水素 を管状炉205に約20分間流した後、炉へのパワースイッチを入れた。炉温度を 約室温から約850℃まで約3時間で上げた。次いで温度を約935℃まで約3 時間で上げた。約935℃に達した後、約945℃まで約24時間で上げ、次い で約970℃まで約6時間で上げた。次いで炉温度を約1100℃まで上げ、次 いで約室温まで約8時間で冷やした。水素の流量をこの熱サイクルの開始時に約 60泡/分に下げ、この流量を過程の全体で維持した。 坩堝を炉から取り出した。処理した物質のタブレットをX線回折解析に供した。 図33に示すように、X線回折スペクトルは、ダイヤモンドに典型的なd=0 .2056nm(2.056Å)の大きな鋭いXRDピークを示した。この処理 の前の粉末のXRDは、図34に示すように、非常に微量のダイヤモンド種結晶 の存在を示した。 このことは、炭素のダイヤモンドへの全体的な転化を示している。例16 この例は、固体炭素源としてガラス状炭素を用いたダイヤモンドの非プラズマ 作成方法を例証する。 具体的には、ガラス炭素を含む炭素源物質を、例4のサンプルAの説明と同様 にし、フェノールホルムアルデヒド樹脂の熱処理によって調製した。 約3gのガラス状炭素の微粉末を、きれいな30mlのパイレックス(商標) ガラスビーカーの中に秤量した。これに、約0.3gのダイヤモンド種結晶(1 μm未満のサイズ、天然、99.9%、Johnson Matthey社より供給、カタログN o.13401)と約0.305gのPVA溶液(脱イオン水中に5%PVA)を加え た。抵抗率7メガオーム以上の脱イオン水の約10mlを添加し、きれいなステ ンレスのスパチュラで混合した。このゾルを超音波浴(GeoscienceInstruments 社、NY)中での約30分間の超音波攪拌に供した。この均一にしたゾルをきれい な直径10cmのペトリ皿に注ぎ入れた。この皿とその内容物を、無埃キャビネ ット(約50℃に保持)に約12時間入れた。次いでこの皿とその内容物を約1 30℃の空気雰囲気オーブンに移し、その温度に約15分間保持し、脱イオン水 をほぼ完全に乾燥した。鋭利できれいなステンレス製の刃を用い、約 5mm×5mmの前駆体物質の板状物を切り出し、きれいなグラファイト坩堝に 入れ、それをアルミナボートに入れた。 坩堝を入れたボートを、例15と図7に示した一般的な雰囲気制御炉(Lindbe rg社)の中央に配置した。超高純度水素の雰囲気を炉の中に形成し、約60泡/ 分の流量に調節し、正確なリークフロートバルブを用いてこの過程の全体で維持 した。例15で用いたと実質的に同じ加熱スケジュールをこの例でも用いた。室 温に達した後、処理した物質を入れた坩堝を乗せたボートを炉から取り出し、処 理した物質をX線回折分析に供した。図35は2.059と1.260に非常に 明瞭で鋭いダイヤモンド結晶相のラインを示している。処理前の前駆体物質のX 線回折分析を示す図36において、同じラインの相対的に低いカウントは、この 処理がダイヤモンド含有率を明らかに増やしたことを示している。例17 この例は、プラズマを利用しない転化による、内部水素原子源を利用したダイ ヤモンドの生成方法を例証する。 例15に記載の方法を繰り返し、ただし、超高純度水素に代えて超高純度アル ゴンを使用し、炉内部の雰囲気に供給した。処理した物質はダイヤモンド結晶へ の良好な転化を示した。 本発明のさらに別な面として、種々の不活性ガスと各種の種物質、炭素源物質 、水素原子の内部源を組み合わせると、ダイヤモンド結晶の種々の形態を生成し 、異なる転化速度を与えることに注意すべきである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI C23C 16/50 7738−4K C30B 29/04 S 9261−4G (31)優先権主張番号 07/962,751 (32)優先日 1992年10月19日 (33)優先権主張国 米国(US) (31)優先権主張番号 08/113,148 (32)優先日 1993年8月27日 (33)優先権主張国 米国(US) (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AU,BB,BG,BR,CA,CZ, FI,HU,JP,KP,KR,LK,LU,MG,M N,MW,NO,NZ,PL,RO,RU,SD,SK ,UA,US (72)発明者 メシアー,ラッセル アメリカ合衆国,ペンシルバニア 16803, ステイト カレッジ,スリーピー ホロー ロード 2616 (72)発明者 デワン,ハーディアル エス. アメリカ合衆国,ペンシルバニア 16803, ステイト カレッジ,バイロ ブールバー ド 30エスジェイ (72)発明者 バジアン,アンドルツェイ アメリカ合衆国,ペンシルバニア 16801, ステイト カレッジ,クラバップル ドラ イブ 913 (72)発明者 ラビンドラナザン,パラニアッパン アメリカ合衆国,ペンシルバニア 16801, ステイト カレッジ,イースト ハミルト ン アベニュ 127

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.次の過程を含んでなるダイヤモンドの製造方法: ・少なくとも1種類の非気相炭素源物質を提供し、 ・ダイヤモンド又はダイヤモンド類似構造を有する少なくとも1種類の種物質 を提供し、 ・前記少なくとも1種の炭素源物質と前記少なくとも1種類の種物質を混ぜ合 わせ、混合物を作成し、 ・水素を含む雰囲気を提供し、 ・前記混合物を加熱し、 ・加圧を必要とせずに、前記混合物から少なくとも1つのダイヤモンドを成長 させる。 2.前記少なくとも1種類の非気相炭素源物質が、アモルファス炭素、ガラス 状炭素、カーボンブラック、炭素粉末、炭素繊維、グラファイト、木炭、炭素含 有ポリマー物質、コロイド状グラファイト、煤、ランプブラック、及び炭素に転 化できる有機物粉末からなる群より選択された少なくとも1種類の物質を含む請 求の範囲第1項に記載の方法。 3.前記少なくとも1種類の種物質が、立方晶窒化ホウ素、炭化ケイ素、ダイ ヤモンド粉末、及びダイヤモンドの結晶格子に類似の他の面心立方構造の物質か らなる群より選択された少なくとも1種類の物質を含む請求の範囲第1又は2項 に記載の方法。 4.前記少なくとも1種類の種物質が、ニッケル、銅、モリブデン、ジルコニ ウム、白金、パラジウムからなる群より選択された少なくとも1種類の物質を含 む請求の範囲第1又は2項に記載の方法。 5.随意のマイクロ波発生装置、高周波発生装置、フィラメント加熱装置を利 用した化学蒸着装置からなる群より選択された少なく とも1種類の装置によって前記少なくとも1種類の物質を成長させる過程を含む 請求の範囲第1項に記載の方法。 6.前記装置がプラズマを形成することができる請求の範囲第5項に記載の方 法。 7.前記少なくとも1種類の炭素源物質と前記少なくとも1種類の種物質が1 種類の物質である請求の範囲第1項に記載の方法。 8.前記水素含有雰囲気が静的又は動的である請求の範囲第1項に記載の方法 。 9.1種類の物質が種物質と水素雰囲気生成用物質の両方の役割をする請求の 範囲第1項に記載の方法。 10.前記1種類の物質が、水素化ランタン、水素化タンタル、水素化ランタ ンニッケル、水素化ジルコニウム、及び水素化チタンからなる群より選択された 少なくとも1種類の物質を含む請求の範囲第9項に記載の方法。 11.前記少なくとも1種類の物質の成長を助長する付加的な雰囲気の提供を さらに含む請求の範囲第10項に記載の方法。 12.前記付加的な雰囲気が水素、窒素、酸素、炭素、アルゴン、及びこれら の混合雰囲気からなる群より選択された少なくとも1種類の雰囲気を含む請求の 範囲第11項に記載の方法。 13.前記少なくとも1つのダイヤモンドの前記成長が約300℃〜2000 ℃の温度範囲で生じる請求の範囲第1項に記載の方法。 14.前記少なくとも1種類のダイヤモンドの前記成長が約300℃〜160 0℃の温度範囲で生じる請求の範囲第13項に記載の方法。 15.前記少なくとも1種類のダイヤモンドの前記成長が約700℃〜100 0℃の温度範囲で生じる請求の範囲第13項に記載の方法。 16.前記水素含有雰囲気を約1.01325×105Pa以下の圧力で提供 する請求の範囲第1項に記載の方法。 17.前記成長が、基材物質上のコーティングの形成を含む請求の範囲第1又 は2項に記載の方法。 18.前記成長が、自己支持物体の形成を含む請求の範囲第1又は2項に記載 の方法。 19.前記混合が、乾式混合と湿式混合からなる群より選択された少なくとも 1種類の方法を含む請求の範囲第1項に記載の方法。 20.前記自己支持物体を、吹付、プレス、押出、テープ注型、ソーキング、 熱間等方プレス、冷間等方プレス、減圧含浸からなる群より選択された少なくと も1種類の方法によって作成する請求の範囲第18項に記載の方法。 21.前記混合が均一な混合物を生成する請求の範囲第1〜20項のいずれか 1項に記載の方法。 22.前記混合が不均一な混合物を生成する請求の範囲第1〜20項のいずれ か1項に記載の方法。 23.生成した自己支持物体が多孔質である請求の範囲第18項に記載の方法 。 24.前記自己支持物体を、濾過装置、押出ダイ、生体医学物体の少なくとも 1種に利用する請求の範囲第23項に記載の方法。 25.前記少なくとも1種類の非気相炭素源物質と前記少なくとも1種類の種 物質を粒子の形態で提供する請求の範囲第1又は2項に記載の方法。 26.前記少なくとも1種類の非気相炭素源物質と前記少なくとも1種類の種 物質の前記粒子の形態が、実質的に同じ粒子サイズを有する請求の範囲第25項 に記載の方法。 27.前記少なくとも1種類の非気相炭素源物質と前記少なくとも1種類の種 物質の前記粒子の形態が、実質的に異なる粒子サイズを有する請求の範囲第25 項に記載の方法。 28.前記少なくとも1種類の非気相炭素源物質と前記少なくとも1種類の種 物質を含むゾルゲル混合物を形成する請求の範囲第1又は2項に記載の方法。 29.前記ゾルゲル混合物を、少なくとも1つの基材物質の上にコーティング する請求の範囲第28項に記載の方法。 30.ゾルゲル混合物より繊維を生成する請求の範囲第28項に記載の方法。 31.次の過程を含んでなるダイヤモンドの製造方法: ・コロイド状グラファイト、カーボンブラック、ガラス状炭素、煤、ランプブ ラック、及び炭素に転化できる有機物粉末からなる群より選択された少なくとも 1種類の物質を含む少なくとも1種類の非気相源物質を提供し、 ・ダイヤモンド粉末、ダイヤモンド結晶、シリコン、炭化ケイ素、立方晶窒化 ホウ素、ニッケル、銅、モリブデン、ジルコニウム、白金、及びパラジウムから なる群より選択された少なくとも1種類の種物質を提供し、 ・前記少なくとも1種類の源物質と前記少なくとも1種類の種物質を混ぜ合わ せて混合物を作成し、 ・前記混合物を所望の形状に形成し、 ・前記混合物を約300℃〜2000℃の温度に加熱し、 ・ダイヤモンド成長を誘起する雰囲気を提供し、前記雰囲気は水素、窒素、酸 素、炭素、及びアルゴンからなる群より選択された雰囲気を含み、 ・圧力の適用を必要とせずに、前記少なくとも1つの界面より少 なくとも1種類のダイヤモンド物質を成長させる。 32.前記少なくとも1種類の炭素源物質の多層を1つの種物質の上に配置し 、前記種物質の上に単結晶を形成する請求の範囲第1又は2項に記載の方法。 33.得られた少なくとも1つの物体が傾斜した特性を有する請求の範囲第1 〜32項のいずれか1項に記載の方法。 34.前記少なくとも1種類の炭素源物質が多孔質物質を含む請求の範囲第1 項に記載の方法。 35.成長した少なくとも1種類の物質が繊維を含む請求の範囲第1項に記載 の方法。
JP6509373A 1992-10-02 1993-10-01 ダイヤモンドのような固体物質の合成方法とそれによって得られた物品 Pending JPH08502234A (ja)

Applications Claiming Priority (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US95595692A 1992-10-02 1992-10-02
US07/955,956 1992-10-02
US96242392A 1992-10-16 1992-10-16
US07/962,423 1992-10-16
US96275192A 1992-10-19 1992-10-19
US07/962,751 1992-10-19
US11314893A 1993-08-27 1993-08-27
US08/113,148 1993-08-27
PCT/US1993/009436 WO1994007613A2 (en) 1992-10-02 1993-10-01 Method for synthesizing solids such as diamond and products produced thereby

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08502234A true JPH08502234A (ja) 1996-03-12

Family

ID=27493893

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6509373A Pending JPH08502234A (ja) 1992-10-02 1993-10-01 ダイヤモンドのような固体物質の合成方法とそれによって得られた物品

Country Status (7)

Country Link
EP (1) EP0662868B1 (ja)
JP (1) JPH08502234A (ja)
AT (1) ATE165256T1 (ja)
AU (1) AU5725294A (ja)
CA (1) CA2146111A1 (ja)
DE (1) DE69318168T2 (ja)
WO (1) WO1994007613A2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001220236A (ja) * 2000-02-14 2001-08-14 Hitachi Metals Ltd ダイヤモンド変換用炭素粒及びダイヤモンドの変換方法並びにそれにより得られるダイヤモンド
JP2016180132A (ja) * 2015-03-23 2016-10-13 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター ダイヤモンド薄膜の製造方法、熱フィラメントcvd装置及びメカニカルシール
JP2020073433A (ja) * 2016-03-08 2020-05-14 トゥー‐シックス・インコーポレイテッド シリコン層、及び、光学的に仕上げられた(又は密集した)シリコン‐ダイヤモンド界面を有するダイヤモンド層を含む基板

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6749813B1 (en) 2000-03-05 2004-06-15 3M Innovative Properties Company Fluid handling devices with diamond-like films
US7866343B2 (en) 2002-12-18 2011-01-11 Masco Corporation Of Indiana Faucet
US7866342B2 (en) 2002-12-18 2011-01-11 Vapor Technologies, Inc. Valve component for faucet
US8555921B2 (en) 2002-12-18 2013-10-15 Vapor Technologies Inc. Faucet component with coating
US9540245B1 (en) * 2016-02-29 2017-01-10 Kuwait Institute For Scientific Research Method for systhesizing nanodiamonds
DE202021107052U1 (de) 2021-12-23 2023-03-27 M L S Mikrowellen - Labor - Systeme GmbH Vorrichtung für Prozesse zur Behandlung von Probenmaterial

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1131645B (de) * 1957-08-07 1962-06-20 Albrecht Fischer Dipl Phys Dr Verfahren zur Herstellung von kubisches Bornitrid enthaltenden Gemischen
IL68820A0 (en) * 1982-06-07 1983-09-30 Holcombe Cressie E Jr Process for producing diamond particles having a selected morphology
US4882138A (en) * 1987-03-30 1989-11-21 Crystallume Method for preparation of diamond ceramics
US4806198A (en) * 1987-11-02 1989-02-21 Cornell Research Foundation, Inc. Producing alpha-alumina whiskers
US5075094A (en) * 1990-04-30 1991-12-24 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method of growing diamond film on substrates
JPH04197431A (ja) * 1990-11-29 1992-07-17 Sumitomo Electric Ind Ltd ダイヤモンドの合成方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001220236A (ja) * 2000-02-14 2001-08-14 Hitachi Metals Ltd ダイヤモンド変換用炭素粒及びダイヤモンドの変換方法並びにそれにより得られるダイヤモンド
JP2016180132A (ja) * 2015-03-23 2016-10-13 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター ダイヤモンド薄膜の製造方法、熱フィラメントcvd装置及びメカニカルシール
JP2020073433A (ja) * 2016-03-08 2020-05-14 トゥー‐シックス・インコーポレイテッド シリコン層、及び、光学的に仕上げられた(又は密集した)シリコン‐ダイヤモンド界面を有するダイヤモンド層を含む基板

Also Published As

Publication number Publication date
WO1994007613A3 (en) 1994-06-23
DE69318168D1 (de) 1998-05-28
EP0662868A1 (en) 1995-07-19
EP0662868B1 (en) 1998-04-22
DE69318168T2 (de) 1998-08-13
AU5725294A (en) 1994-04-26
WO1994007613A2 (en) 1994-04-14
CA2146111A1 (en) 1994-04-14
ATE165256T1 (de) 1998-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6342195B1 (en) Method for synthesizing solids such as diamond and products produced thereby
Cao et al. Well‐aligned boron nanowire arrays
US7713352B2 (en) Synthesis of fibers of inorganic materials using low-melting metals
KR20100035161A (ko) 다이아몬드막 침착
JPH08502234A (ja) ダイヤモンドのような固体物質の合成方法とそれによって得られた物品
CN105836730A (zh) 一种石墨材料表面原位自生碳纳米管的方法
JPS63182297A (ja) Cvd法によるダイヤモンド製造のための装置及び方法
JP2003292313A (ja) 単層カーボンナノチューブの製造方法
Attolini et al. Synthesis and characterization of 3C–SiC nanowires
JP4968746B2 (ja) 単結晶炭化ケイ素ナノワイヤーの製造方法及びそれを含むフィルターの製造方法
Liu et al. Morphologies and growth mechanisms of zirconium carbide films by chemical vapor deposition
TW200927648A (en) Method for producing carbon nanocoils
Zheng et al. Synthesis and characterization of boron nitride sponges as a novel support for metal nanoparticles
Ece et al. Nucleation and growth of diamond films on Mo and Cu substrates
Yu et al. Catalytic synthesis of crystalline SiC nanowires from a Ni/aC/Si sandwich configuration
Tian et al. Synthesis and characterization of hafnium carbide microcrystal chains with a carbon-rich shell via CVD
KR100596677B1 (ko) 기상합성법에 의한 이중벽 탄소나노튜브의 대량 합성 방법
Roy et al. Crystallization of diamond below 1 atm from carbon–metal mixtures
KR100596676B1 (ko) 기상합성법에 의한 단일벽 탄소 나노튜브의 대량 합성 방법
WO2000047795A1 (en) Method of hot-filament chemical vapor deposition of diamond
CN115340084A (zh) 一种采用无氢气化学气相沉积制备碳纳米管的方法
CN108914085A (zh) 一种多孔微纤负载石墨烯薄膜及其制备方法
CN111468187B (zh) 基于表面聚合反应的高分散性单原子催化剂的制备方法
CN114212774A (zh) 一种无金属催化剂残留单壁碳纳米管的高效制备方法
JP2007262509A (ja) カーボンナノチューブ生成用合金基板とその作製方法、それを用いて生成したカーボンナノチューブ生成合金基板とその製造方法、及びその用途