JP2003292313A - 単層カーボンナノチューブの製造方法 - Google Patents

単層カーボンナノチューブの製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 単層カーボンナノチューブの製造方法に関す
るものである。さらに詳しくは、この出願の発明は、触
媒担体としての多孔質材料や触媒微粒子を必要とせず
に、直径を制御して単層カーボンナノチューブを製造す
ることができる単層カーボンナノチューブの製造方法を
提供する。 【解決手段】 グラファイトの生成において触媒作用を
有する金属系触媒と、その金属系触媒の結晶粒度および
結晶方位とに対応関係を有する単結晶基板との組み合わ
せを用い、この単結晶基板に金属系触媒を分散させ、5
00℃以上の温度範囲で炭素原料を供給することで、直
径が制御された単層カーボンナノチューブを気相熱分解
成長させて製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この出願の発明は、単層カー
ボンナノチューブの製造方法に関するものである。さら
に詳しくは、この出願の発明は、触媒担体としての多孔
質材料や触媒微粒子を必要とせずに、直径を制御して単
層カーボンナノチューブを製造することができる単層カ
ーボンナノチューブの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術とその課題】各種の産業において利用価値
の高い高品質な単層カーボンナノチューブ(SWNT
s)を製造する方法として、従来より、化学気相反応
(CVD)法が注目されている。なぜならば、このCV
D法は、SWNTsの大量生産が可能とされ、また触媒
の種類やその粒径等を巧みに扱うことによりSWNTs
の気相熱分解成長をコントロールできる可能性を有する
方法であるからである。
【0003】この化学気相反応によるSWNTsの製造
については、様々な研究者たちにより研究が行われてお
り、いくつかの報告がなされている。例えば、J.Ki
ngらは、Fe(NO33・9H2O、Mo(aca
c)2、およびアルミナ・ナノ粒子の混合物で被った基
板を、メタンガス気流下、1000℃で加熱することに
より、SWNTsが得られることを報告している。ま
た、J.H.Hafnerらは、アルミナ・ナノ粒子上
に担持させたナノメーターサイズの金属粒子上にCOガ
スを流して熱処理することによりSWNTsが成長する
ことを報告している。これらの実験においては、Feお
よび/またはMoの塩が金属系触媒として、アルミナ・
ナノ粒子がその担体として使用されている。
【0004】さらに他の化学気相反応によるSWNTs
の製造については、ゼオライト、シリカ、陽極酸化シリ
コンのような多孔質材料を担体として利用することで、
SWNTsを製造できることが報告されている。
【0005】しかしながら、注目すべきことに、以上の
実験において、担体としてこのようなナノ粒子あるいは
多孔質材料を用いないで化学気相成長を行なった場合に
は、金属系触媒の量および大きさに関わらず、SWNT
sが生成されずに多層カーボンナノチューブのみが得ら
れることになるのである。
【0006】すなわち、従来の化学気相反応によるSW
NTsの製造においては、金属系触媒とともに金属系触
媒の担体としてナノ粒子あるいは多孔質材料を用いるこ
とが必須の要件とされていたのである。そして、SWN
Tsの大量生産を考慮すると、担体として、ナノ粒子あ
るいは多孔質材料に匹敵する微細構造を有し、かつ表面
積の広い基板が必要とされることになる。
【0007】そこで、この出願の発明は、以上の通りの
事情に鑑みてなされたものであり、担体としてナノ粒子
や多孔質材料を必要とせず、さらには直径を制御して単
層カーボンナノチューブを製造することができる単層カ
ーボンナノチューブの製造方法を提供することを課題と
している。
【0008】
【課題を解決するための手段】そこで、この出願の発明
は、上記の課題を解決するものとして、以下の通りの発
明を提供する。
【0009】すなわち、まず第1には、この出願の発明
は、グラファイトの生成において触媒作用を有する金属
系触媒と、その金属系触媒の結晶粒度および結晶方位と
に対応関係を有する単結晶基板との組み合わせを用い、
この単結晶基板に金属系触媒を分散させ、500℃以上
の温度範囲で炭素原料を供給することで、単層カーボン
ナノチューブを気相熱分解成長させることを特徴とする
単層カーボンナノチューブの製造方法を提供する。
【0010】またこの出願の発明は、上記の発明におい
て、第2には、金属系触媒薄膜で被覆した単結晶基板を
用いることを特徴とする単層カーボンナノチューブの製
造方法を、第3には、金属系触媒薄膜の膜厚を0.1〜
10nm以下とすることを特徴とする単層カーボンナノ
チューブの製造方法を、第4には、金属系触媒が、鉄
族、白金族、希土類金属、遷移金属およびこれらの金属
化合物のいずれか1種もしくは2種以上の混合物である
ことを特徴とする単層カーボンナノチューブの製造方法
を、第5には、単結晶基板が、500℃以上で安定な物
質であることを特徴とする単層カーボンナノチューブの
製造方法を、第6には、単結晶基板が、サファイア(A
23)、シリコン(Si)、SiO2、SiC、Mg
Oのいずれかであることを特徴とする単層カーボンナノ
チューブの製造方法を、第7には、単結晶基板に代え
て、ハイドロキシアパタイトを用いることを特徴とする
単層カーボンナノチューブの製造方法を、第8には、金
属系触媒と単結晶基板およびその結晶面の組み合わせに
よって、直径が制御された単層カーボンナノチューブを
気相熱分解成長させることを特徴とする単層カーボンナ
ノチューブの製造方法を、第9には、金属系触媒と単結
晶基板およびその結晶面の組み合わせが、Feとサファ
イアのA面、R面、あるいはC面のいずれかであること
を特徴とする単層カーボンナノチューブの製造方法を、
第10には、炭素原料が、500℃以上の温度で気体で
ある炭素含有物質であることを特徴とする単層カーボン
ナノチューブの製造方法を、第11には、炭素原料が、
メタン、エチレン、フェナトレン、ベンゼンのいずれか
であることを特徴とする単層カーボンナノチューブの製
造方法を提供する。
【0011】
【発明の実施の形態】この出願の発明は、上記の通りの
特徴を持つものであるが、以下にその実施の形態につい
て説明する。
【0012】まず、この出願の発明が提供する単層カー
ボンナノチューブの製造方法は、グラファイトの生成に
おいて触媒作用を有する金属系触媒と、その金属系触媒
の結晶粒度および結晶方位とに対応関係を有する単結晶
基板との組み合わせを用い、この単結晶基板に金属系触
媒を分散させ、500℃以上の温度範囲で炭素原料を供
給することで、単層カーボンナノチューブを気相熱分解
成長させることを特徴としている。
【0013】この出願の発明において、金属系触媒とし
ては、グラファイトの生成、すなわち単層カーボンナノ
チューブの気相熱分解成長において触媒作用を示す各種
の金属を用いることができる。具体的には、たとえば、
Ni,Fe,Coなどの鉄族、Pd,Pt,Rhなどの
白金族,La,Yなどの希土類金属、あるはMo,Mn
などの遷移金属や、これらの金属化合物のいずれか1
種、もしくはこれらの2種以上の混合物等を用いること
ができる。
【0014】また単結晶基板としては、500℃以上の
処理温度で安定な各種の材料からなるものを用いること
ができ、たとえば、サファイア(Al23)、シリコン
(Si)、SiO2、SiC、MgO等を例示すること
ができる。これらは、従来のように多孔質構造あるいは
ナノ粒子である必要はなく、たとえば平面状のものであ
ってよい。また、この出願の発明においては、これらの
単結晶基板に代えて、たとえばハイドロキシアパタイト
のような、柱状結晶等を用いることができる。
【0015】そしてこの出願の発明において特徴的なこ
とは、この金属系触媒と単結晶基板との組み合わせであ
る。この出願の発明において、金属系触媒と単結晶基板
とはある対応関係を有するものであって、500℃以上
の処理温度における金属系触媒の析出、再結晶等の固相
反応により生成する再結晶粒の結晶粒度、および隣接す
る未再結晶粒との間の結晶方位の対応関係に作用を示す
単結晶基板との組み合わせとすることができる。より具
体的には、たとえば、単結晶基板が500℃以上の処理
温度において、金属系触媒の結晶粒度を0.1〜10n
m程度の範囲で制御することや、あるいはさらに金属系
触媒の結晶面を基板に対して配向させるような作用を示
す関係であることが望ましい。この出願の発明におい
て、このような金属系触媒と単結晶基板の組み合わせと
しては、Feとサファイアの組み合わせを好適なものと
して例示することができる。
【0016】単結晶基板への金属系触媒の分散について
は特に制限はなく、たとえば、金属系触媒の微粒子を均
一に分散させることや、金属系触媒薄膜で単結晶基板を
被覆することで実現することができる。特に後者の方法
は、実際の製造工程において簡便であるために好まし
い。これらの分散の方法についても各種の方法を利用す
ることができ、具体的は、たとえば真空蒸着法、スパッ
タ−法等のドライプロセスや、溶液滴下法、スプレーコ
ート法、スピンコート法等のウェットプロセス等を利用
することができる。
【0017】単結晶基板に分散させる金属系触媒の量に
ついては特に制限はなく、任意のものとすることができ
る。たとえば単結晶基板上に1原子層程度の厚さで、部
分的にあるいは全面に分散されていれば良い。単層カー
ボンナノチューブを比較的高収率で得たい場合には、金
属系触媒と単結晶基板との組み合わせにもよるため一概
には言えないが、たとえば金属系触媒を薄膜として分散
させ、その膜厚を0.1〜10nm以下程度の範囲で調
整することを目安とすることができる。この膜厚が厚す
ぎると、金属系触媒薄膜の表面部において単結晶基板と
相互作用していない部分が局所的に生じ、金属系触媒粒
子が制御されていない可能性があるために好ましくな
い。
【0018】このように金属系触媒を分散させた単結晶
基板を500℃以上の温度とし、次いで炭素原料を供給
する。
【0019】単結晶基板の500℃以上の温度への加熱
は、不活性雰囲気で行なうことができる。また炭素原料
としては、500℃以上の温度で気体である各種の炭素
含有物質を用いることができる。より具体的には、たと
えば、メタン(CH4)、エチレン(C24)、一酸化
炭素(CO)等の常温で気体のものや、フェナトレンや
ベンゼン等のように常温では固体あるいは液体であっ
て、加熱により500℃以上の温度で気体であるもの等
を例示することができる。これによって、単結晶基板表
面に単層カーボンナノチューブを気相熱分解成長させる
ことができる。
【0020】このように、金属系触媒と単結晶基板との
組合せを適切なものとすることで、従来のように単結晶
基板を多孔質構造や粒子形状とすること無く、単層カー
ボンナノチューブを製造することができる。
【0021】さらにこの出願の発明においては、金属系
触媒と単結晶基板との相互作用に着目してより詳細な研
究を行なった結果、金属系触媒と単結晶基板との相互作
用は、上記のような金属系触媒と単結晶基板の組み合わ
せだけではなく、単結晶基板の結晶面についても考慮す
ることができ、さらにはその組み合わせによって生成す
る単層カーボンナノチューブの直径を特定のものに制御
できることを見出すに至った。単層カーボンナノチュー
ブの気相熱分解成長において直径を制御できることは今
まで全く知られておらず、この出願の発明者らによって
始めて実現されるものである。すなわち、この出願の発
明が提供する単層カーボンナノチューブの製造方法は、
金属系触媒と単結晶基板およびその結晶面の組み合わせ
によって、直径が制御された単層カーボンナノチューブ
を気相熱分解成長させることを特徴としている。
【0022】より具体的には、たとえば上記の好ましい
金属系触媒と単結晶基板の組み合わせであるFeとサフ
ァイアについては、さらにFeとサファイアのA面、R
面、あるいはC面のいずれかとの組み合わせとして考慮
することができ、これらの組み合わせごとに異なる直径
に制御された単層カーボンナノチューブを気相熱分解成
長させることができる。たとえば、Feとサファイアの
A面、R面、あるいはC面の組み合わせにより、成長す
る単層カーボンナノチューブの直径は、A面については
1.43nm、1.30nm、1.20nm、R面につ
いては1.45nm、1.24nm、1.18nm、C
面については1.49nm、1.31nm、1.18n
mの特定の値に制御されることになる。
【0023】また、この出願の発明においては、単結晶
基板の結晶面ごとに、金属系触媒薄膜の膜厚を制御する
ことで、単層カーボンナノチューブの収率を高めること
ができる。より具体的には、たとえば、Feとサファイ
アのA面、R面、あるいはC面の組み合わせについて、
単層カーボンナノチューブの収率は、A面およびR面に
ついてはFe薄膜の膜厚を前記の範囲内で薄くするほど
高めることができ、C面についてはFe薄膜の膜厚を厚
くするほど高めることができる。
【0024】一方で、単層カーボンナノチューブには様
々な対称性(カイラリティー)を有するものの存在が知
られている。この単層カーボンナノチューブのカイラリ
ティーは、カイラリティーインデックス(m,n)で表
すことができ、単層カーボンナノチューブの直径とも強
い相関性を有している。このことから、この出願の発明
の方法により、単層カーボンナノチューブの直径のみな
らず、カイラリティーもを制御できる可能性が示唆され
る。
【0025】以上のこの出願の発明によって、金属系触
媒と単結晶基板材料の間の相互作用が単層カーボンナノ
チューブを気相熱分解成長に重要な役割を果たすことが
示され、このような金属系触媒を分散させた単結晶基板
を用いることで、単層カーボンナノチューブを気相熱分
解成長させることができる。また、金属系触媒と単結晶
基板および結晶面の組み合わせを適切に選択すること
で、直径が制御された単層カーボンナノチューブを製造
することができる。さらに単結晶基板の結晶面および触
媒薄膜の膜厚を調整することにより単層カーボンナノチ
ューブの収率を高めることが可能とされる。
【0026】以下、添付した図面に沿って実施例を示
し、この発明の実施の形態についてさらに詳しく説明す
る。
【0027】
【実施例】内径2インチのチューブ炉と、炭素原料とし
てのメタンガスを用いてSWNTsの製造を試みた。基
板としては、サファイアのA面、R面、C面をそれぞれ
用いた。基板上には、触媒としてのFe薄膜を厚さ2〜
5nmとなるように、〜4×10-6Torrの真空下で
電子線蒸着した。
【0028】これらの基板をチューブ炉に導入し、まず
はアルゴン雰囲気にて加熱し、600℃〜800℃の所
定の温度に達した後、0.6l/minの流量で炭素原
料としてのメタン(99.999%)を導入した。この
メタンの導入は5分間とし、次いで再びアルゴンを導入
し、チューブ炉が室温となるまで冷却した。
【0029】熱処理後の基板を、走査型電子顕微鏡(S
EM)観察、ラマン分光分析、および透過型電子顕微鏡
(TEM)観察により詳細に調べた。なお、SEM観察
のための試料は、より明瞭な観察を行なうために、厚さ
約2nmのPd−Pt薄膜で被覆した。ラマン・スペク
トルは、集光スポット・サイズが〜1μmのArレーザ
ーからの488nm光(30mW)を用いることにより
測定することで得た。TEM観察のための試料は、サフ
ァイア基板から堆積物を集めてエタノール中に分散さ
せ、TEMグリッド上に滴下して乾燥させることで調整
した。<SEM観察>図1(a)(b)(c)に、厚さ
2nmのFe薄膜で被覆したサファイアのA面、R面、
C面上に、800℃で成長させた堆積物のSEM像をそ
れぞれ示した。A面上に堆積した管状堆積物の量が、R
面のものよりも多いことが明確に観察された。また、C
面上の管状堆積物の量は、3つの中で最も少量であるこ
とがわかった。
【0030】また図2(a)(b)(c)に、厚さ5n
mのFe薄膜で被覆したサファイアのA面、R面、C面
上に、800℃で成長させた堆積物のSEM像をそれぞ
れ示した。3つの面全てに前記と同様の管状堆積物が形
成されていることが確認された。これらの細管は、太く
て短いもの(直径20〜50nm,長さ約1mm)か、
あるいは細くて長いもの(直径3nm未満,長さ2mm
以上)のどちらかであることがわかった。
【0031】さらに、厚さ2nmのFe薄膜で被覆した
サファイアに600℃の熱処理を施した場合は、A面お
よびR面には管状の堆積物はほとんど成長していなかっ
たが、C面上には少数だがより太目の細管(直径約30
〜50nm)が成長しているのが確認された。これらの
細管の構造について、TEM観察およびラマンスペクト
ルによって検討した。 <TEM観察>厚さ2nmのFe薄膜で被覆したサファ
イアA面(以下、A(2nm)と示す)上で成長した堆
積物のTEM像を図3aに示した。このA(2nm)に
は、SWNTsと極少量の不定形炭素(以下、a−Cと
示す)が含まれていることがわかった。図3bに示した
厚さ2nmのFe薄膜で被覆したサファイアR面(以
下、R(2nm)と示す)上で成長した堆積物のTEM
像からは、R(2nm)がSWNTsとa−Cから構成
されていることがわかった。図3cに示した厚さ5nm
のFe薄膜で被覆したサファイアC面(以下、C(5n
m)と示す)上で成長した堆積物のTEM像から、C
(5nm)にはa−Cの量が最も多く、またSWNTs
はほとんど見られないことが確認された。また図3cに
は示されていないものの、C(5nm)には二層カーボ
ンナノチューブがいくらか成長していることが確認され
た。
【0032】TEM観察からは、A面、R面、C面上で
束状となっているSWNTsの直径が、およそ1.0〜
1.7nmであることがわかった。 <ラマンスペクトル>厚さ2nm,3nm,5nmのF
e薄膜で被覆したサファイアA面、R面、C面上に形成
された堆積物のラマン散乱スペクトルを図4(a)
(b)に示した。全ての試料について約1592cm-1
と1570cm-1にピークが見られ、100〜230c
-1の範囲に1〜4つの細いピークが見られた。これら
のピークはSWNTsに特徴的なピークであって、堆積
物中にSWNTsが存在していることを示すものであ
る。この約1592cm-1、1570cm-1のピークは
接線モードに相当し、100〜230cm-1の間のピー
クはSWNTsのラマンブリージングモード(RBM)
に相当するものである。
【0033】そして例えば、R(2nm)面上に形成さ
れたSWNTsは、直径1.4nmのSWNTsである
ことを示す167cm-1に強いRBMピークを有し、ま
た直径1.2nmのSWNTsであることを示す203
cm-1に弱いピークを有しているが、これよりも厚いF
e薄膜で覆われている試料についてはこれらのピークが
それほど顕著ではないことがわかる。このように、接線
のモードおよびRBMのピーク強度から、Fe薄膜の厚
さが2nmから5nmに増加するにつれて、A面および
R面の場合には生成するSWNTsの量が減少すること
がわかった。一方のC面の場合には、Fe薄膜の厚さが
2nmから5nmに増加するにつれて、SWNT量が増
加することがわかった。
【0034】また、これらのSWNTsのピーク位置お
よびRBM強度は、個々の堆積物の所々で異なってい
た。しかし、それぞれの堆積物についてさらに10箇以
上の異なる場所をより注意深く調べた結果、以下の傾向
が見られることが明らかとなった。すなわち、RBMピ
ークの幅はおよそ7〜12cm-1と狭く、ピーク数は1
〜4で、ピーク位置はサファイアの面に依存することが
わかった。
【0035】より具体的には、たとえば、A(2nm)
面、R(2nm)面、C(2nm)面についてそれぞれ
10箇所から得たラマンスペクトルを平均し、そのRB
Mピークと、算出したSWNTsの直径を表1に示し
た。
【0036】
【表1】
【0037】このように、サファイア基板の結晶面を選
択することにより、SWNTsの直径を特定の値に制御
して製造できることがされた。 (比較例1)上記実施例におけるサファイアの代わりに
シリコン単結晶面(あるいはシリコン上に熱成長したS
iO2面)を使用した場合には、Fe薄膜の厚さにかか
わらず、800℃のCVDによってSWNTsを生成さ
せることはできなかった。 (比較例2)サファイア基板を、上記実施例におけるF
e薄膜の代わりにNi薄膜で覆い、後は同様にしたとこ
ろ、SWNTsを生成させることはできなかった。 (比較例3)Fe(NO33・H2Oとアルミナ・ナノ
粒子の混合物(Mo(acac)2は無し)を配設した
シリコン・ウエハーを基板として用意し、上記実施例と
同様の熱処理を行なったところ、SWNTsが生成し
た。このSWNTsについて得られたラマンスペクトル
を図4に併せて示した。このラマンスペクトルはRBM
ピークが120〜200cm-1の範囲でブロードであっ
て、SWNTsの直径が2.0〜1.2nmの広い範囲
にわたって分布している。
【0038】このことから、金属系触媒担体であるアル
ミナ・ナノ粒子はサファイアと同じAl23であるもの
の、アルミナ・ナノ粒子はその形状から様々な結晶面や
無定形特性が備わっているため、SWNTsを成長させ
ることができるもののその直径を制御することはでき
ず、広く分布させてしまうことがわかった。
【0039】以上のことから、従来のSWNTsの気相
熱分解成長による製造では、触媒担体として多孔性材料
やナノ粒子が必須のものとして使用されている。しかし
ながら、この出願の発明によると、基板となる結晶、そ
の結晶面、金属系触媒、その膜厚および成長温度等を適
切に選択することで、平滑な結晶基板上であってもSW
NTsの製造が可能なことが示された。またこれらの要
件が、触媒金属の拡散係数やそれに付随する触媒金属の
結晶粒度および結晶方位に影響を与え、その結果として
SWNTsが特定の直径に成長されるものと結論付ける
ことができる。
【0040】もちろん、この発明は以上の例に限定され
るものではなく、細部については様々な態様が可能であ
ることは言うまでもない。
【0041】
【発明の効果】以上詳しく説明した通り、この発明によ
って、単層カーボンナノチューブの製造方法に関するも
のである。さらに詳しくは、この出願の発明は、多孔質
材料や触媒微粒子を必要とせずに、直径を制御して単層
カーボンナノチューブを製造することができる単層カー
ボンナノチューブの製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】厚さ2nmのFe薄膜で被覆したサファイアの
(a)A面、(b)R面、(c)C面上に、800℃で
成長させた堆積物のSEM像を例示した図である。
【図2】厚さ5nmのFe薄膜で被覆したサファイアの
(a)A面、(b)R面、(c)C面上に、800℃で
成長させた堆積物のSEM像を例示した図である。
【図3】(a)A(2nm)、(b)R(2nm)、
(c)C(5nm)で成長した堆積物のTEM像を例示
した図である。
【図4】実施例で製造した単層カーボンナノチューブの
ラマン散乱スペクトルの、(a)〜500cm-1の範
囲、(b)1200〜1800cm-1の範囲について例
示した図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 本郷 廣生 千葉県我孫子市天王台5−16−1−210 Fターム(参考) 4G146 AA12 AB07 BA12 BB05 BB15 BC03 BC33A BC33B BC42 BC43 BC44 CB17

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 グラファイトの生成において触媒作用を
    有する金属系触媒と、その金属系触媒の結晶粒度および
    結晶方位とに対応関係を有する単結晶基板との組み合わ
    せを用い、この単結晶基板に金属系触媒を分散させ、5
    00℃以上の温度範囲で炭素原料を供給することで、単
    層カーボンナノチューブを気相熱分解成長させることを
    特徴とする単層カーボンナノチューブの製造方法。
  2. 【請求項2】 金属系触媒薄膜で被覆した単結晶基板を
    用いることを特徴とする請求項1記載の単層カーボンナ
    ノチューブの製造方法。
  3. 【請求項3】 金属系触媒薄膜の膜厚を0.1〜10n
    m以下とすることを特徴とする請求項1または2記載の
    単層カーボンナノチューブの製造方法。
  4. 【請求項4】 金属系触媒が、鉄族、白金族、希土類金
    属、遷移金属およびこれらの金属化合物のいずれか1種
    もしくは2種以上の混合物であることを特徴とする請求
    項1ないし3いずれかに記載の単層カーボンナノチュー
    ブの製造方法。
  5. 【請求項5】 単結晶基板が、500℃以上で安定な物
    質であることを特徴とする請求項1ないし4いずれかに
    記載の単層カーボンナノチューブの製造方法。
  6. 【請求項6】 単結晶基板が、サファイア(Al
    23)、シリコン(Si)、SiO2、SiC、MgO
    のいずれかであることを特徴とする請求項5記載の単層
    カーボンナノチューブの製造方法。
  7. 【請求項7】 単結晶基板に代えて、ハイドロキシアパ
    タイトを用いることを特徴とする請求項1ないし4いず
    れかに記載の単層カーボンナノチューブの製造方法。
  8. 【請求項8】 金属系触媒と単結晶基板およびその結晶
    面の組み合わせによって、直径が制御された単層カーボ
    ンナノチューブを気相熱分解成長させることを特徴とす
    る請求項1ないし7いずれかに記載の単層カーボンナノ
    チューブの製造方法。
  9. 【請求項9】 金属系触媒と単結晶基板およびその結晶
    面の組み合わせが、FeとサファイアのA面、R面、あ
    るいはC面のいずれかであることを特徴とする請求項8
    記載の単層カーボンナノチューブの製造方法。
  10. 【請求項10】 炭素原料が、500℃以上の温度で気
    体である炭素含有物質であることを特徴とする請求項1
    ないし9いずれかに記載の単層カーボンナノチューブの
    製造方法。
  11. 【請求項11】 炭素原料が、メタン、エチレン、フェ
    ナトレン、ベンゼンのいずれかであることを特徴とする
    請求項10記載の単層カーボンナノチューブの製造方
    法。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006083486A (ja) * 2004-09-15 2006-03-30 National Institute For Materials Science 炭素繊維体およびそれを有する部材並びにそれらの製造方法
JP2007055821A (ja) * 2005-08-22 2007-03-08 Ulvac Japan Ltd グラファイトナノファイバの製造方法
JP2009283303A (ja) * 2008-05-22 2009-12-03 Keio Gijuku カーボンナノチューブ発光素子、及び、その製造方法
WO2011108545A1 (ja) * 2010-03-01 2011-09-09 国立大学法人 東京大学 カーボンナノチューブの製造方法,カーボンナノチューブ製造用の単結晶基板,およびカーボンナノチューブ
JP2011178631A (ja) * 2010-03-02 2011-09-15 Nagoya Univ カーボンナノチューブの製造方法,カーボンナノチューブ製造用の単結晶基板,およびカーボンナノチューブ
JP2011207635A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Kyocera Kinseki Corp カーボンナノチューブの製造方法,カーボンナノチューブ製造用の単結晶基板,およびカーボンナノチューブ
JP2012512811A (ja) * 2008-12-19 2012-06-07 デザインド・ナノチューブス・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー 剥離したカーボンナノチューブ、その製造方法およびそれから得られる生成物
US8277770B2 (en) 2006-08-02 2012-10-02 Fujitsu Limited Method of manufacturing carbon nanotube
JP2014131952A (ja) * 2012-12-04 2014-07-17 Honda Motor Co Ltd カーボンナノチューブ成長用基板及びその製造方法
JP2015054811A (ja) * 2013-09-13 2015-03-23 本田技研工業株式会社 カーボンナノチューブ成長用基板及びその製造方法

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070116631A1 (en) * 2004-10-18 2007-05-24 The Regents Of The University Of California Arrays of long carbon nanotubes for fiber spinning
US7713577B2 (en) * 2005-03-01 2010-05-11 Los Alamos National Security, Llc Preparation of graphitic articles
WO2007116434A1 (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Fujitsu Limited カーボンナノチューブの製造方法
US8753602B2 (en) * 2006-10-19 2014-06-17 University Of Cincinnati Composite catalyst and method for manufacturing carbon nanostructured materials
US7678672B2 (en) * 2007-01-16 2010-03-16 Northrop Grumman Space & Mission Systems Corp. Carbon nanotube fabrication from crystallography oriented catalyst
WO2012080158A1 (en) 2010-12-14 2012-06-21 Styron Europe Gmbh Improved elastomer formulations
KR101999866B1 (ko) 2011-06-23 2019-07-12 몰레큘라 레바 디자인 엘엘씨 나노플레이트-나노튜브 복합체, 그의 생산 방법 및 그로부터 수득한 생성물
US9997785B2 (en) 2011-06-23 2018-06-12 Molecular Rebar Design, Llc Nanoplate-nanotube composites, methods for production thereof and products obtained therefrom
CN105565292B (zh) * 2014-10-29 2018-04-06 北京大学 一种超高密度单壁碳纳米管水平阵列及其可控制备方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0972821A3 (en) * 1998-07-15 2001-04-04 Nippon Mitsubishi Oil Corporation Grease composition suitable for a constant velocity joint
US6232706B1 (en) * 1998-11-12 2001-05-15 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Self-oriented bundles of carbon nanotubes and method of making same
JP2000273480A (ja) * 1999-03-29 2000-10-03 Asahi Denka Kogyo Kk 潤滑性組成物
US6329327B1 (en) * 1999-09-30 2001-12-11 Asahi Denka Kogyo, K.K. Lubricant and lubricating composition
JP4620219B2 (ja) * 2000-06-02 2011-01-26 Jx日鉱日石エネルギー株式会社 グリ−ス組成物
US6420293B1 (en) * 2000-08-25 2002-07-16 Rensselaer Polytechnic Institute Ceramic matrix nanocomposites containing carbon nanotubes for enhanced mechanical behavior

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006083486A (ja) * 2004-09-15 2006-03-30 National Institute For Materials Science 炭素繊維体およびそれを有する部材並びにそれらの製造方法
JP2007055821A (ja) * 2005-08-22 2007-03-08 Ulvac Japan Ltd グラファイトナノファイバの製造方法
US8277770B2 (en) 2006-08-02 2012-10-02 Fujitsu Limited Method of manufacturing carbon nanotube
JP2009283303A (ja) * 2008-05-22 2009-12-03 Keio Gijuku カーボンナノチューブ発光素子、及び、その製造方法
JP2012512811A (ja) * 2008-12-19 2012-06-07 デザインド・ナノチューブス・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー 剥離したカーボンナノチューブ、その製造方法およびそれから得られる生成物
JP2014237583A (ja) * 2008-12-19 2014-12-18 モレキュラー レバー デザイン エルエルシー 剥離したカーボンナノチューブ、その製造方法およびそれから得られる生成物
WO2011108545A1 (ja) * 2010-03-01 2011-09-09 国立大学法人 東京大学 カーボンナノチューブの製造方法,カーボンナノチューブ製造用の単結晶基板,およびカーボンナノチューブ
JPWO2011108545A1 (ja) * 2010-03-01 2013-06-27 国立大学法人 東京大学 カーボンナノチューブの製造方法,カーボンナノチューブ製造用の単結晶基板,およびカーボンナノチューブ
JP2011178631A (ja) * 2010-03-02 2011-09-15 Nagoya Univ カーボンナノチューブの製造方法,カーボンナノチューブ製造用の単結晶基板,およびカーボンナノチューブ
JP2011207635A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Kyocera Kinseki Corp カーボンナノチューブの製造方法,カーボンナノチューブ製造用の単結晶基板,およびカーボンナノチューブ
JP2014131952A (ja) * 2012-12-04 2014-07-17 Honda Motor Co Ltd カーボンナノチューブ成長用基板及びその製造方法
JP2015054811A (ja) * 2013-09-13 2015-03-23 本田技研工業株式会社 カーボンナノチューブ成長用基板及びその製造方法

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