JPH08500355A - 新規ポリヨウ素化化合物、その製法およびそれらを含有する造影剤 - Google Patents

新規ポリヨウ素化化合物、その製法およびそれらを含有する造影剤

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JPH08500355A
JPH08500355A JP6505969A JP50596994A JPH08500355A JP H08500355 A JPH08500355 A JP H08500355A JP 6505969 A JP6505969 A JP 6505969A JP 50596994 A JP50596994 A JP 50596994A JP H08500355 A JPH08500355 A JP H08500355A
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ドゥガ−ツリーエン、マリセ
メイエル、ドミニク
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ゲルベ・ソシエテ・アノニム
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07C237/28Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
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Abstract

(57)【要約】 一般式(I)で示される新規ポリヨウ素化化合物類、但し、R1、R2は、同じかまたは異なっており、式(a)の基を示し、R3およびR4は、同じかまたは異なっており、式(b)の基を示し、R1、R2、R3およびR4は、合計少なくとも10のヒドロキシ基を含んで成るものである。本発明の化合物は、放射線撮影法において、コントラスト生成物として有用である。本発明は、また、該化合物および該化合物を含有するコントラスト生成物の製法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 新規ポリヨウ素化化合物、その製法およびそれらを含有する造影剤 本発明は、放射線撮影法用の造影剤として使用できる新規ポリヨウ素化化合物 に関する。 本発明は、また、これらの化合物の製法およびこれらを含有する造影剤に関す る。 式中、R1およびR2は、互いに同一かまたは異なって、式: の基を表し、R3およびR4は、互いに同一かまたは異なって、式 の基を表し、 ここで、R5とR6、およびR7とR8は、互いに同一かまたは異なって、水素原子 、直鎖状または分枝状C1−C6アルキル、直鎖状または分枝状C1−C6ヒドロキ シまたはポリヒドロキシアルキルを表すが、所望により更に1またはそれ以上の C1−C6アルコキシ、特に、メトキシまたはエトキシ、直鎖状または分枝状(C1 −C6)アルコキシ(C1−C6)アルキルまたは直鎖状または分枝状(C1−C6 )ヒドロキシまたはポリヒドロキシアルコキシ(C1−C6)アルキルを含有して おり、該置換基R1、R2、R3およびR4は計少なくとも10のヒドロキシルを含 んでなるものである、 で示されるポリヨウ素化化合物類である。 を表し、R3およびR4が、-NH-CO-CHOH-CH3 を表す(化合物番号1 2)、ような化合物類である。 本発明の式(I)の化合物類は、アルキル化および/またはアシル化反応によ り製造できる。 本発明の式(I)の化合物類は、特に、下記段階を含んで成る製法により製造 できる: a)式(II)および(III)のベンゼン誘導体: Xは、塩素、臭素およびヨウ素から選択され、R’1およびR’2は、−CO2R を表し、ここでRは、C1−C6アルキルであって、R’3およびR’4は、−NO2 を表す、 をカップリングさせて、式(IV): 式中、R’1、R’2、R’3およびR’4は、上記定義のとおりである、 の化合物を生成し; 5およびR6は、上記定義のとおりである、 でアミド化し; c)ニトロ基をアミノ基に還元し; d)常用の条件下でヨウ素化し; e)所望により常用の保護基を用いてヒドロキシル基を保護し; f)芳香族アミノ基を式R’8−COCl、R’8は、上記定義、但しヒドロキ シル基が常用の保護基を用いて保護されているR8に相当する、の酸クロライド でアシル化し;そして g)所望により、アミド基を式Z−R7、Zは、Cl、BrまたはIから選択 される不安定な基であり、R7は、上記定義のとおりである、の試薬でアルキル 化し、そして保護したヒドロキシル基を脱保護するか、または h)保護したヒドロキシル基を脱保護し、所望により、アミド基を式Z−R7 、 Zは、Cl、BrまたはIから選択される不安定な基であり、R7は、上記定義 のとおりである、の試薬でアルキル化する。 段階a)の反応は、ウルマン法(E.ファンタ、ケミカル・レヴュー、64巻 、613頁、1964年)に従い、好ましくはキシレン、ニトロベンゼン、ニト ロトルエン、DMFまたはピリジンなどの適切な溶媒中、銅などの金属触媒の存 在下で起こる。 段階c)の反応は、パラジウム炭素またはラネーニッケル上水素による触媒的 還元または化学的還元である。 段階d)のヨウ素化反応は、常用の条件下、例えば、0℃および100℃の間 の温度でKI/エチルアミンの存在下で水性IClまたはI2を用いて起こる。 段階f)およびg)のアシル化およびアルキル化反応は、強塩基の存在下、常 用の条件で行う。 本発明の式(I)の化合物類は、また、下記段階を含んで成る製法によっても 製造できる: a1)上記の式(II)および(III)のベンゼン誘導体をカップリングさせて、 上記式(IV)の化合物を得; b1)エステル基−CO2Rをケン化して−CO2Hを得; c1)常用の条件下で酸基を塩素化して−COClを得; d1)−COClを式 5およびR6は、上記定義のとおりである、 のアミンでアミド化し; e1)ニトロ基をアミノ基に還元し; f1)常用の条件下でヨウ素化し; g1)所望により常用の保護基を用いて−OHを保護し; h1)芳香族アミノ基を上記段階f)で定義した式R’8−COClの酸クロラ イドでアシル化し;そして i1)所望により、アミド基を上記段階g)で定義した式Z−R7の試薬でアル キル化し、そして−OHを脱保護するか、または j1)−OHを脱保護し、所望により、アミド基を上記段階h)で定義した式 Z−R7の試薬でアルキル化する。 本発明の式(I)の化合物類は、また、下記段階を含んで成る製法によっても 製造できる: a2)式(II)および(III)のベンゼン誘導体: Xは、塩素、臭素およびヨウ素から選択され、R’1およびR’2は、−CO2R を表し、ここでRは、HまたはC1−C6アルキルであって、R’3およびR’4は 、NO2を表す、をカップリングさせて、式(IV): 式中、R’1、R’2、R’3およびR’4は、上記定義のとおりである、 の化合物を生成し; b2)ニトロ基をアミノ基に還元し; c2)常用の条件下でヨウ素化し、そして d2)CO2RをCOClに塩素化し、その後、 e2)芳香族アミノ基を式R’8COCl、R’8は、上記定義したR8に相当す る、の酸クロライドでアシル化するか、または、 d’2)芳香族アミノ基を式R’8COCl、R’8は、上記定義したR8基を表 しており、ヒドロキシル基は予め保護されている、の酸クロライドでアシル化し 、その後、 e’2)−CO2Rを−COClに塩素化し、そして f2)−COClを式 5およびR6は、上記定義のとおりである、 のアミンでアミド化する。 その殆どが知られており、商業的に入手できる。更に、上記した、本発明に好ま しい化合物類の製造に使用されるアミノアルコールは、下記方法において製造で きる。 ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー、2301巻、1 960年、バーカー R.等に記載されている方法に従い得られる2,4−エチ リデン−D−エリトロース2g(13.7ミリモル)を30℃で水10cm3に溶 解する。メチルアミン水溶液(40%)10cm3を0℃で滴下して加えた。室温 まで戻した後、2時間撹拌を続ける。その後、溶液をパラジウム炭の存在下、室 温で還元する。その後、触媒を濾過し、濾液を濃縮乾固する。エチルエーテル中 で凝固後、標記生成物1.7g,即ち収率77%を得る。 TLC(ジオキサン/H2O/NH3:8/3/2)Rf:0.74 TLC(CH2Cl2/MeOH 8/2)Rf:0.17 13C NMR(DMSO)(δ,ppm)200MHz 98.2(−CH3) ,80.3(H−O),70.5(H2−O),63.4(HOH),5 3.1(2−N),36.5(NH−3),20.7(C−3 a)で得られた生成物1.5g(9.3ミリモル)を2N HCl20cm3に 溶解する。その溶液を50℃で5分間撹拌する。濃縮し、H+樹脂に通して精製 した後、溶液を蒸発乾固する。残渣をエチルエーテルに取る。濾過し、乾燥した 後、標記生成物0.8gを得る(収率:64%)。 TLC(ジオキサン/H2O/NH3:8/3/2)Rf:0.18 13C NMR(DMSO)(δ,ppm)200MHz 74.5(H−CH2 OH),69.6(HOHCH2),63.3(2OH),54.7(2 ),36.12(NH3) MS(DCI/NH3)m/z;153(M+N+4);136(M+H+)ベ ースピーク この化合物は、上記方法に従い製造する。 2,4−エチリデン−D−エリトロース(6g、41ミリモル)の還元的アミ ノ化をエタノール(40cm3)中アミノプロパンジオール(1.2当量)の存在 下で行う。 シリカカラムでのクロマトグラフィー後、標記生成物を収率73%で得る。 TLC(ジオキサン/H2O/NH3:8/3/2)Rf:0.73 13C NMR(DMSO)(δ,ppm)(200MHz)(98,−CH3) ,(80.2−80.5,H−O),(70.2−70.4,2−O), (70.3,HOH),(64.5−64.6,2−OH),(62.2 −63.1,HOH),(52.9−53,2),(50.8−51,2),20.5(3 前段階で得られた生成物6g(29.8ミリモル)を5N HCl(50cm3 )で 処理して脱保護する。反応混合物を50℃で4時間撹拌する。蒸発濃縮後、得ら れた残渣をH+樹脂で精製する。濃縮し、エチルエーテル中で凝固後、標記生成 物2.6gを得る(収率54.7%)。 TLC(ジオキサン/H2O/NH3:8/3/2)Rf:0.39 13C NMR(DMSO)(δ,ppm) 74.3(H−CH2OH,ブタントリオール鎖),70.3(H−CH2 )×2,64.5−64.6(2OH,ブタントリオール鎖),63.3(2 OH),52.8(CH2N)×2 MS(DCI/NH3)m/z 196(M+H+)ベースピーク,178(M+H+−H2O), 160(M+H+−2H2O)136,122,109,92 メチルアミン(アミノアルコールNo.1の製造)およびアミノプロパンジオ ール(アミノアルコールNo.2の製造)の場合のように、エタノールアミンを 同様の還元的アミノ化条件下で、2,4−エチリデン−D−エリトロースの存在 下、標記生成物へと導く。 TLC(CH2C12/MeOH/NH3:8/2/1)Rf:0.56 13C NMR(DMSO)(δ,ppm)97.9(−CH3),80.5( H−O),70.2(2OH),62.9(HOH),60.2(2− O),51.6(2−N),50.7(2−N),20.4(3 TLC(CH2Cl2/MeOH/NH3 55/30/10)Rf:0.25 TLC(ジオキサン/H2O/NH3:8/3/2)Rf:0.48 13C NMR(DMSO)(δ,ppm) 74.5(HOHCH2OH),70.2(HOH−CH2),63.5( CH2OH2OH),60.4(CH22OH),52.5(2−C HOH),51.8(2CH2OH) 上記操作条件を採用し、かつ2,4−エチリデン−D−エリトロースと共にセ リノール(serinol)を用いることにより、同様の方法で式: のアミノアルコールを製造する。 ブテン−3,4−ジオールは、米国特許第4,661,646号記載の転位方 法に従い、ブテン−1,4−ジオール(アルドリッチ・ストラスブルグ社から商 業的に入手できる)から製造する。 ブテン−3,4−ジオールのエポキシ化を米国特許第3,352,898号に 記載の方法に従い実施して、3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールを導く 。 ベンジルアミン(0.5当量)によるジオールエポキシドの開裂により、ビス (2,3,4−トリヒドロキシブチルベンジルアミンを導く。 パラジウム炭の存在下、水素での脱ベンジル化後、ビス(2,3,4−トリヒド ロキシブチル)アミンを得る。 本発明が、式(I)の化合物をラセミ混合物としてだけでなく、エナンチオマ 一類、ジアステレオ異性体類、アトロポ異性体類、およびシン−アンチ、エンド −エキソおよびE−Z異性体類などの立体異性体類をも包含していることは、不 斉炭素原子の存在および/または、ヨウ素原子によりおよび/または式(I)の 化合物類の置換基R1ないしR4により導かれる立体障害が原因で起こる回転制限 から考えて明らかである。 本発明の別の主題は、式(I)の化合物を少なくとも1つ含んで成る造影剤類 である。 これらの造影剤類は、放射線医学の対象となるヒトおよび動物において有用で ある。 本発明の造影剤類の好ましい製剤形態は、該化合物の水溶液から成る。本発明 の一実施態様によると、この化合物は、リポソーム内にカプセル封入されている 。 一般に、水溶液は、100ml当たり計5ないし100gの化合物を含有してお り、このような溶液の注射可能量は、一般に、1から1000mlの間で可変であ る。溶液は、またナトリウム塩、特にクエン酸ナトリウム、ヘパリンおよびエチ レンジアミンテトラ酢酸カルシウムジナトリウムなどの添加剤を含有することも できる。 これらの組成物類は、ヨウ素化非イオン性造影剤類用に用いられるあらゆる常 用ルートで投与できる。従って、これらを直腸的にまたは非経口的(静脈内ルー ト、動脈内、各種腔の混濁形成)に、そして特にクモ膜下空間に投与できる。 本発明化合物類の製造実施例を下記する。実施例1 3,3’−ビス[(2,3−ジヒドロキシ)プロピオニル]アミノ−5,5’ −ビス[N−2−ヒドロキシエチル−N−2,3,4−トリヒドロキシブチル]カ ルバモ イル−2,2’,4,4’,6,6’−ヘキサヨードビフェニル(化合物No. 1) 1)3−ヨード−5−ニトロ安息香酸の製造 3−ニトロ安息香酸120g(0.72モル)をH5IO6122g(0.53 モル)に加え、ヨウ素400g(1.57モル)を10℃で30分間撹拌しなが ら20%オレウム2750ml中に溶解した。室温で12時間撹拌後、この溶液を ゆっくりと氷中に注ぐ。生じた沈澱を濾過し、その後、20%重亜硫酸ナトリウ ム溶液で洗浄した後、水酸化ナトリウム溶液に溶解し、次いで、濾紙で濾過する 。HClで酸性化後、濾過および乾燥させた白色結晶170gを得る。 2)3−ヨード−5−ニトロ安息香酸のメチルエステルの製造 1)で得られた化合物180g(0.614モル)でメタノール1800mlお よび98%H2SO410mlに溶解したものを、還流下で24時間維持する。メタ ノールを3分の2まで蒸発させた後、得られた溶液を冷却し、沈澱してきたエス テルを濾過する。生成物をエーテル2000mlに溶解した後、エーテル相をH2 O 1000mlで洗浄し、その後、MgSO4で乾燥して、蒸発乾固させる。白 色結晶181gを得る。 3)5,5’−ジメトキシカルボニル−3,3’−ジニトロビフェニルの製造 段階2)で得られた化合物86g(0.28モル)を、220℃にする。銅8 6gを加えた後、温度を徐々に270℃まで上げ、再び銅20gを加える。混合 物をこの温度で1時間維持した後、冷却する。CH2Cl2で抽出し、セライトで 濾過後、有機相を蒸発乾固する。 残ったペーストを石油エーテル2×500mlで洗浄し、次いで、エーテル中に 取る。生じた茶色の沈澱を濾去し、次に、シリカクロマトグラフィーにより精製 する。蒸発濃縮後、茶色結晶20gを得る。 4)5,5’−ジカルボキシ−3,3’−ジニトロビフェニルの製造 3)で得られた化合物14g(0.038モル)を、25%NaOH水溶液1 00ml中還流下で18時間維持する。 生じた溶液を冷却し;凝固後、生成した沈澱を酢酸エチルで抽出し、H2Oで 洗浄する。蒸発濃縮し、エーテルで洗浄後、白色結晶12gを得る。 5)3,3’−ジニトロ−5,5’−ビス(N−ヒドロキシエチル−N−2,3, 4−トリヒドロキシブチル)カルバモイルビフェニルの製造 4)で得られた化合物1.66g(0.005モル)を、SOCl260mlお よびジメチルホルムアミド0.1mlの溶液に加える。溶液を還流下で5時間維持 する。 SOCl2の蒸留後、得られたペーストをCH2Cl2に溶解し、ジメチルアセト アミド20mlに溶解したN−2−ヒドロキシエチル−N−2,3,4−トリヒドロ キシブチルアミン3.3g(0.02モル)およびトリエチルアミン2.8ml(0 .02モル)を含有する溶液に5℃で滴下して注ぐ。添加後、混合物を60℃で 1時間、次いで、室温で12時間撹拌する。トリエチルアミンヒドロクロリドの 濾過後、溶媒を蒸発させる。生じたペーストをH+/OH-樹脂に通し、次いでシ リカのクロマトグラフィーにより精製する。溶媒を蒸発させ、H+樹脂に通した 後、白色結晶3.1gを得る。 収率=100% TLC(CH2Cl260/MeOH 40)Rf:0.5 6)3,3’−ジアミノ−5,5’−ビス[N−2−ヒドロキシエチル−N−( 2,3,4−トリヒドロキシブチル)カルバモイル] −2,2’,4,4’, 6,6’−ヘキサヨードビフェニルの製造 a)ニトロ基の還元: 500mlオートクレーブの中でメタノール60mlに溶かした5)で得られた化 合物1.3g(0.002モル)を10%水性Pd/C1gの存在下、60℃水素 圧6×105Paで5時間攪拌する。触媒を濾過後、この溶液を下記段階に使用 する。 TLC(CH2Cl240/MeOH 60):Rf=0.15 b)IClでのヨウ素化 70%ICl溶液4.35ml(0.024モル)を段階a)で得られた溶液に滴 下して加える。添加完了したら、反応混合物を80℃で18時間維持し、次いで 、 室温で12時間放置する。生じた茶色溶液を蒸発濃縮し、その後、ヨウ素化をM eOH2Oml中70%ICl 1.45mlを用いて繰り返す。80℃で10時間 後、溶媒を蒸発させ、ペーストをアセトンで洗浄する。生成物をエーテルに取り 、次いで乾燥させる。白色結晶2.1gを得る。 収率=80% TLC(CH2Cl270/MeOH 30):Rf=0.3 7)3,3’−ジアミノ−5,5’−ビス[N−アセトキシエチル−N−(2,3, 4−トリアセトキシブチル)カルバモイル]−2,2’,4,4’,6,6’−ヘキ サヨードビフェニルの製造 無水酢酸64.6mlをピリジン300mlに溶かした6)で得られた化合物42 g(0.0317モル)に5℃で滴下して加えた。室温で4時間撹拌後、粗反応 生成物を5NHC1750mlで酸性化した氷冷水に注ぐ。生成した沈澱を濾去し 、その後、CH2Cl2に取る。有機相を水で洗浄し、次いでMgSO4で乾燥す る。蒸発濃縮し、SiO2/溶出液ACOEtで精製後、エーテルで洗浄し、乾 燥させた白色結晶20gが得られる。 収率:38% ヨウ素純度:99% TLC(ACOEt):Rf=0.8 8)3,3’−ビス[(2−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−5−イル)カ ルボニルアミノ]−5,5’−ビス−[(N−アセトキシエチル−N−(2,3, 4−トリアセトキシブチル)カルバモイル)]−2,2’,4,4’,6,6’−ヘ キサヨードビフェニルの製造 a)4−(2−ジメチル−1−ジオキソラン−1−3−イル)カルボン酸の塩化 物の製造 塩化オキサリル1.15ml(0.02モル)をピリジン0.05mlおよびエーテ ル12ml中4−(2−ジメチルジオキソラン−1−3−イル)カルボン酸のカリ ウム塩2.2g(0.012モル)に加える。0℃で2時間、次いで室温で18時 間撹拌後、溶液を蒸発乾固させる。 b)a)で得られた化合物を、7)で得られた化合物2.7g(0.002モル) の溶液にゆっくりと加える。35℃で16時間後、溶液をEt2Oに注ぐ。濾過 後、白色結晶が得られる(3g)。 収率:93% TLC(ACOEt):Rf=0.75 9)3,3’−ビス[(2−3−ジヒドロキシ)プロピオニル]−アミノ−5,5 ’−ビス[N−2−ヒドロキシエチル−N−(2,3,4−トリヒドロキシブチル )]カルバモイル−2,2’,4,4’,6,6’−ヘキサヨードビフェニルの製造 8)で得られた化合物23g(0.012モル)を、MeOH300ml中K2C O33.4gの存在下、室温で18時間撹拌する。蒸発濃縮後、残渣を2N HC l150ml中、25℃で12時間撹拌する。H+樹脂、次いでOH-樹脂で無機物 を除去し、更に蒸発濃縮後、粗生成物14g(78%)を得る。シリカで精製後 、純粋な化合物8g(60%)を得る。 TLC CH2Cl250/MeOH 50:Rf=0.1 ヨウ素純度%:99%実施例2 3,3’−ビス(アセチルアミノ)−5,5’−ビス[(N−2,3,4−トリヒ ドロキシブチル−N,2,3−ジヒドロキシプロピル]カルバモイル−2,2’,4 ,4’,6,6’−ヘキサヨードビフェニル(化合物3)の製造 1)5,5’−ジカルボキシ−3,3’−ジアミノビフェニルの製造 実施例1の4)で得られた化合物28.6g(0.086モル)をpH6.4で H2O 350cm3に懸濁する。Pd/C 3gを加え、混合物全体を80℃、5× 105パスカルの圧力下で4時間水素化する。セライトによるPd/Cの濾過後 、得られた溶液をpH6に戻すと、アミノ酸が沈澱する。 濾過後、クリーム色固体17gが得られる。 収率:78% TLC CH2Cl2/MeOH/NH3:55/30/10 Rf=0.8 2)5,5’−ジカルボキシ−3,3’−ジアミノ−2,2’,4,4’,6,6’− ヘキ サヨードビフェニルの製造 1)で得られた化合物14.5g(0.053モル)を70%IClの10当量 、H2O 150cm3、メタノール600cm3および濃HC12.5cm3に懸濁する 。混合物全体を80℃で72時間維持する。反応混合物を出来る限り濃縮する。 得られた茶色油状物をH2O 750cm3中で24時間撹拌する。生じた茶色沈澱 を濾過する。 粗製重量:46.5g 収率:68% TLC(エタノール):Rf=0.7 3)3,3’−ビス(ジアセチルアミノ)−5,5’−ジカルボキシ−2,2’,4 ,4’,6,6’−ヘキサヨードビフェニルの製造 2)で得られた化合物8.8g(0.086モル)をDMAC 150cm3および アセチルクロリド6.1cm3(10当量)に溶解し、45℃で撹拌しながら56時 間維持する。 わずかに濃縮した反応混合物を氷冷H2Oの200cm3に注ぐ。沈澱を濾過後、 クリーム色固体10gが得られる。 収率:97% TLC(エタノール):Rf=0.45 4)3,3’−ビス(ジアセチルアミノ)−5,5’−ジ(クロロホルミル)−2 ,2’,4,4’,6,6’−ヘキサヨードビフェニルの製造 3)で得られた化合物9.3g(0.0078モル)を塩化チオニル100cm3 に溶解し、還流で16時間維持する。塩化チオニルを蒸発後、ペンタン中で撹拌 することにより、生成物が結晶化する。 得られた重量:9.3g 収率:97% TLC(エタノール):Rf=0.8 5)3,3’−ビス(アセチルアミノ)−5,5’−ビス[N−2,3,4−トリヒ ドロキシブチル−N,2,3−ジヒドロキシプロピル)]カルバモイル−2,2’, 4,4’,6,6’−ヘキサヨードビフェニルの製造 4)で得られた化合物8.7gをDMAC00cm3に溶解する。 トリエチルアミン4cm3(4当量)並びにN−2,3−ジヒドロキシプロピルー N−2,3,4−トリヒドロキシブチルアミン5.5g(4当量)を加える。 混合物全体を70℃で4時間維持する(HPCLで監視)。反応媒質を濃縮後 、粗生成物をH2O 100cm3に取り、2N NaOHを加えてpH10.5に し、50℃で5時間維持する。H+/OH-樹脂で無機物を除去し、次いでシリカ クロマトグラフィーで精製後、純粋な化合物3.5gを得る。 TLC:CH2Cl2 50/MeOH 50:Rf=0.1 ヨウ素純度%:98%実施例3 3,3’−ビス[(2−ヒドロキシメチル−3−ヒドロキシ)プロピオニル] アミノ−5,5’−ビス[N−(2−ヒドロキシエチル)−N−(2,3,4−ト リヒドロキシブチル)カルバモイル−2,2’,4,4’,6,6’−ヘキサヨード ビフェニル(化合物No.2)の製造 1)3,3’−ビス[(2−イソプロピル−1,3−ジオキサン−5−イル) ルボニル]アミノ−5,5’−ビス[N−(2−アセトキシエチル)−N−(2, 3,4−トリアセトキシブチル)カルバモイル−2,2’,4,4’,6,ヘ キサヨー ドビフェニルの製造 a)2−イソプロピル−1,3−ジオキサニル−5−カルボン酸の塩化物の製造 2−イソプロピル−1,3−ジオキサニル−5−カルボン酸70g(0.385 モル)をDMAC 400mlの溶液に少しづつ加える。混合物を0℃にし、次い でSOCl231.2ml(0.423モル)を数滴づつ流す。添加が完了したら、 混合物を室温で5時間放置する。 b)実施例1の化合物80g(0.0482モル)をa)で得られた溶液に少し づつ加える。45℃で24時間後、溶液を水で沈澱させる。濾過後、得られた沈 澱をCH2Cl2に取る。有機相をH2Oで洗浄し、次いでMgSO4で乾燥させる 。蒸発濃縮し、SiO2で精製後、結晶70gを得る。 収率=73% TLC(AcOEt):Rf=0.85 2)3,3’−ビス[(2−ヒドロキシメチル−3−ヒドロキシ)−プロピオニ ル]アミノ−5,5’−ビス[N−(2−ヒドロキシエチル)−N−(2,3,4 −トリヒドロキシブチル)カルバモイル−2,2’,4,4’,6,6’−ヘキサヨ ードビフェニルの製造 1)で得られた化合物70g(0.0355モル)をMeOH900ml中K2C O39gの存在下、室温で18時間撹拌する。蒸発濃縮後、残渣をHC1400m l中で25℃で12時間撹拌する。 H+樹脂、次いでOH-樹脂で無機物を除去し、蒸発濃縮後、白色結晶41g( 76%)を得る。 TLC(CH2Cl250/MeOH 50):Rf=0.2 ヨウ素純度%:97.5%実施例4 3,3’−ビス[2−ヒドロキシプロピオニルアミノ]−5,5’−ビス[N− (2,3−ジヒドロキシプロピル)−N−(2,3,4−トリヒドロキシブチル) カルバモイル]−2,2’,4,4’,6,6’−ヘキサヨードビフェニル(化合物 No.5)の製造 1)3,3’−ジニトロ−5,5’−ビス(N−2,3−ジヒドロキシプロピルー N−2,3,4−トリヒドロキシブチル)カルバモイルビフェニルの製造 実施例1の4)で得られた化合物12.5g(0.0376モル)をSOCl2 100mlおよびDMF0.1mlの溶液に加える。その溶液を還流で5時間維持す る。SOCl2を蒸留後、生じたペーストをCH2Cl2に溶解し、DMAC 8 0mlに溶かしたN−2,3−プロパンジオール−N−2,3,4−トリヒドロキシ ブチルアミン20.5g(0.105モル)およびトリエチルアミン14.6ml( 0.105モル)を含有する溶液に20℃で数滴づつ注ぐ。添加後、混合物を室 温で4時間撹拌する。トリエチルアミンヒドロクロリドの濾過後、溶媒を蒸発さ せる。生じたペーストをH+樹脂に通して精製する。溶媒を蒸発濃縮後、茶色油 状物33gを得る。 収率=100% TLC(CH2Cl2/60:MeOH/40):Rf=0.15 2)3,3’−ジアミノ−5,5’−ビス[N−2,3−ジヒドロキシプロピル− N−(2,3,4−トリヒドロキシブチル)カルバモイル]−2,2’,4,4’,6 ,6’−ヘキサヨードビフェニルの製造 a)ニトロ基の還元: 1000mlオートクレーブの中でMeOH800mlに溶かした1)で得られた 化合物21g(0.0306モル)を10%水性Pd/C12gの存在下、30 ℃ 106Paの水素圧で5時間撹拌する。触媒を濾過後、その溶液を、次の段階に 使用する。 TLC(CH2Cl2/15:MeOH/85):Rf=0.15 b)IClでのヨウ素化: 70%ICl溶液54ml(0.3モル)を段階a)で得られた溶液に滴下して 加える。添加が完了したら、反応混合物を室温で12時間放置する。溶液をエー テル2000mlに注ぎ、生じた沈澱を濾過し、次いでエーテルで洗浄する。乾燥 後、得られる生成物をMeOH 500ml中70%ICl 54ml(0.3モル )で再びヨウ素化する。50℃で12時間後、上記と同じ処理を溶液に施す。得 られる沈澱を、再びMeOH300ml中ICl 27ml(0.15モル)で3回 ヨウ素化する。 50℃で12時間後、上記と同じ処理を溶液に施す。クリーム色の結晶を得る 。 重量=19g − 収率=45% TLC(CH2Cl2/60:MeOH/40):Rf=0.25 3)3,3’−ジアミノ−5,5’−ビス[(N−2,3−ジアセトキシプロピル −N−2,3,4−トリアセトキシブチル)カルバモイル]−2,2’,4,4’,6 ,6’−ヘキサヨードビフェニルの製造 無水酢酸30mlをピリジン110mlに溶かした2)で得られた化合物19g( 0.0137モル)に5℃で滴下して加える。室温で12時間撹拌後、粗反応生 成物を、5N HCl 150mlで酸性化した氷冷水に注ぐ。生成した沈澱を濾 去し、次いでCH2Cl2に取る。有機相をH2Oで洗浄し、次いでMgSO4で乾 燥する。蒸発濃縮し、SiO2、溶出液AcOEtで精製後、黄色結晶11gを 得る。 収率=46% ヨウ素純度=98.2% TLC(ACOEt):Rf=0.8 4)3,3’−ビス[2−アセトキシプロピオニルアミノ]−5,5’−ビス[N −2,3−ジアセトキシプロピル−N−(2,3,4−トリアセトキシブチル)カ ルバモイル]−2,2’,4,4’,6,6’−ヘキサヨードビフェニルの製造 a)2−アセトキシプロピオン酸の塩化物の製造 塩化チオニル40mlをイソプロピルエーテル60mlに溶かした2−アセトキシ プロピオニルカルボン酸50g(0.378モル)に滴下して加える。6時間還 流後、溶液を蒸発濃縮させ、その後、残渣を減圧下で蒸留する。白色液体が得ら れる。 収率=60% 重量=30g b)アシル化: a)で得られた化合物5.5g(0.036モル)をDMAC 40mlに溶かし た3)で得られた化合物11g(0.006モル)の溶液にゆっくりと加える。 40℃で16時間後、溶液を氷冷水に注ぐ。生成物を濾過し、CH2Cl2に取 り、H2Oで洗浄し、その後、MgSO4で乾燥する。蒸発濃縮し、SiO2、溶 出液AcOEtで精製後、黄色結晶3gが得られる。 収率=35% TLC(AcOEt):Rf=0.7 5)3,3’−ビス[2−ヒドロキシプロピオニルアミノ]−5,5’−ビス−[ N−(2,3−ジヒドロキシプロピル)−N−(2,3,4−トリヒドロキシブチ ル)カルバモイル]−2,2’,4,4’,6,6’−ヘキサヨードフェニルの製造 4)で得られた化合物3g(0.0015モル)をMeOH6Oml中K2CO3 500mgの存在下、室温で12時間撹拌する。蒸発させ、H+樹脂に通して無機 物を除去し、次いで蒸発濃縮して、生成物1gを得る。 収率=70% TLC(CH2Cl250/MeOH 50)Rf=0.3実施例5 3,3’−ビス[(2−ヒドロキシメチル−3−ヒドロキシプロピオニル)ア ミノ]−5,5’−ビス[N−メチル−N−(2,3,4−トリヒドロキシブチル )カルバモイル]−2,2’,4,4’,6,6’−ヘキサヨードビフェニル(化合 物No.6)の製造 1)3,3’−ジニトロ−5,5’−ビス(N−メチル−N−2,3,4−トリヒド ロキシブチル)カルバモイルビフェニルの製造 実施例1の4)で得られた化合物80g(0.241モル)をSOCl2600 mlおよびDMF0.1mlの溶液に加える。その溶液を還流で5時間維持する。S OCl2を蒸留後、得られるペーストをCH2Cl2に溶解し、DMAC500ml に溶かしたN−メチル−2,3,4−トリヒドロキシブチルアミン78g(0.5 78モル)およびトリエチルアミン80ml(0.578モル)を含有する溶液に 20℃で滴下して注ぐ。添加後、混合物を室温で4時間撹拌する。トリエチルア ミンヒドロクロリドの濾過後、溶媒を蒸発させる。生じたペーストをH+樹脂に 通して精製する。溶媒を蒸発させた後、茶色油状物150gが得られる。 収率=100% TLC(CH2Cl2/75:MeOH/50):Rf=0.3 2)3,3’−ジアミノ−5,5’−ビス[N−メチル−N−(2,3,4−トリヒ ドロキシブチル)カルバモイル]−2,2’,4,4’,6,6’−ヘキサヨードビ フェニルの製造 a)ニトロ基の還元 1000mlオ−トクレーブの中でメタノール700ml中上記1)で得られた化 合物20g(0.0353モル)を10%水性Pd/C 10gの存在下、30 ℃106Paの水素圧で5時間撹拌する。触媒を濾過後、その溶液を、次の段階 に使用する。 TLC(CH2Cl2/40:MeOH/60):Rf=0.4 b)IClでのヨウ素化 10%ICl溶液62ml(0.353モル)を段階a)で得られた溶液に滴下 して加える。添加が完了したら、反応混合物を室温で12時間放置する。溶液を エーテル2000mlに注ぎ、生じる沈澱を濾過し、次いでエーテルで洗浄する。 乾燥後、得られる生成物をMeOH 300ml中70%ICl31ml(0.17 モル)で再びヨウ素化する。50℃で12時間後、上記と同じ処理を溶液に施す 。クリーム色結晶が得られる。 重量=21g 収率=55% TLC(CH2Cl2/70:MeOH/3O):Rf=0.4 3)3,3’−ジアミノ−5,5’−ビス[N−メチル−N−(2,3,4−トリア セトキシブチル)カルバモイル]−2,2’,4,4’,6,6’−ヘキサヨードビ フェニルの製造 無水酢酸17.8mlをピリジン68mlに溶かした2)で得られた化合物11.4 g(0.009モル)に5℃で滴下して加える。室温で12時間撹拌後、粗反応 生成物を、5N HCl 75mlで酸性化した氷冷水に注ぐ。生成した沈澱を 濾去し、次いでCH2Cl2に取る。有機相をH2Oで洗浄し、次いでMgSO4で 乾燥する。蒸発濃縮し、SiO2、溶出液AcOEtにより精製後、白色結晶9 gを得る。 収率=66% ヨウ素純度=98% TLC (ACOEt):Rf=0.8 4)3,3’−ビス[(2−イソプロピル−1,3−ジオキサン−5−イル)カル ボニルアミノ]−5,5’−ビス[N−メチル−N−(2,3,4−トリアセトキ シブチル)カルバモイル]−2,2’,4,4’,6,6’−ヘキサヨードビフェニ ルの製造 a)2−イソプロピル−1,3−ジオキサン−5−イルカルボン酸の塩化物の製 造 2−イソプロピル−1,3−ジオキサン−5−イルカルボン酸1.8g(10. 5×10-3モル)をDMAC10mlに溶解する。混合物を0℃にし、その後 、SOCl2の0.85ml(12×10-3モル)を滴下して加える。添加後、混 合物を室温で5時間放置する。 b)アシル化: 3)で得られた化合物2g(1.32×10-3モル)をa)で得られた溶液に 加える。45℃で12時間後、溶液をH2Oに注ぐ。濾過後、生成物をCH2Cl2 に取り、H2Oで洗浄し、その後、MgSO4で乾燥する。蒸発濃縮し、SiO2 、溶 出液AcOEtにより精製後、結晶1gが得られる。 収率=50% ヨウ素純度=98.5% TLC(AcOEt):Rf=0.85 5)3,3’−ビス[(2−ヒドロキシメチル)3−ヒドロキシプロピオニルア ミノ]−5,5’−ビス[(N−メチル−N−(2,3,4−トリヒドロキシブチ ル)カルバモイル]−2,2’,4,4’,6,6’−ヘキサヨードビフェニルの製 4)で得られた化合物6g(0.00328モル)をメタノール70ml中K2 CO30.6gの存在下、室温で12時間攪拌する。蒸発濃縮後、残渣を室温で1 2時間5N HCl 40ml中で撹拌する。H+樹脂、次いでOH-樹脂に通し て無機物を除去し、次いで蒸発濃縮して、白色結晶3.75gを得る。 収率=78% ヨウ素純度:98.7% TLC (CH2Cl2/50:MeOH/50)Rf=0.2
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AU,BB,BG,BR,BY,CA, CZ,FI,HU,JP,KP,KR,KZ,LK,M G,MN,MW,NO,NZ,PL,RO,RU,SD ,SK,UA,US,VN

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.一般式: 式中、R1およびR2は、互いに同一かまたは異なって、式: の基を表し、R3およびR4は、互いに同一かまたは異なって、式 の基を表し、 ここで、R5とR6、およびR7とR8は、互いに同一かまたは異なって、水素原子 、直鎖状または分枝状C1−C6アルキル、直鎖状または分枝状C1−C6ヒドロキ シまたはポリヒドロキシアルキルを表すが、所望により更に1またはそれ以上の C1−C6アルコキシ、直鎖状または分枝状(C1−C6)アルコキシ(C1−C6) アルキルまたは直鎖状または分枝状(C1−C6)ヒドロキシまたはポリヒドロキ シアルコキシ(C1−C6)アルキルを含有しており、該置換基R1、R2、R3お よびR4は計少なくとも10のヒドロキシルを含んでなるものである、で示され るポリヨウ素化化合物類。 を表す、請求の範囲第1項記載の式(I)のポリヨウ素化化合物類。 を表し、R7は、前記請求の範囲第1項の定義と同じである、請求の範囲第1項 記載の式(I)のポリヨウ素化化合物類。 4.式中、R1およびR2が同一であって、 を表し、R3およびR4が同一であって、前記請求の範囲第1項の定義と同じであ る、請求の範囲第1項記載の式(I)のポリヨウ素化化合物類。 5.式中、 請求の範囲第1ないし5項のいずれか1項記載の式(I)のポリヨウ素化化合物 類。 Xは、塩素、臭素およびヨウ素から選択され、R’1およびR’2は、−CO2R を表し、Rは、C1−C6アルキルであって、R’3およびR’4は、−NO2を表 す、の化合物を、適当な溶媒中、金属触媒の存在下でカップリングさせて、式( IV) 5およびR6は、前記請求の範囲第1項の定義と同じである、 のアミンでアミド化し; c)ニトロ基をアミノ基に還元し; d)常用の条件下でヨウ素化し; e)所望により常用の保護基を用いてヒドロキシルを保護し; f)芳香族アミノ基を式R’8−COCl、R’8は、ヒドロキシル基が保護さ れている前記請求の範囲第1項で定義した、ヒドロキシル基が保護されているR8 に相当する、の酸クロライドでアシル化し;そして g)所望により、アミド基を式Z−R7、Zは、Cl、BrおよびIから選択 される不安定な基であり、R7は、前記請求の範囲第1項の定義と同じである、 の試薬でアルキル化し、そして保護したヒドロキシルを脱保護するか、または h)保護したヒドロキシルを脱保護し、所望により、アミド基を式Z−R7、 Zは、Cl、BrおよびIから選択される不安定な基であり、R7は、前記請求 の範囲第1項の定義と同じである、の試薬でアルキル化するか、のいずれかの、 工程を含んで成る、請求の範囲第1項記載の式(I)の化合物の製法。 7.下記工程: a)式(II)および(III)のベンゼン誘導体、 Xは、塩素、臭素およびヨウ素から選択され、R’1およびR’2は、−CO2R を表し、ここでRは、HまたはC1−C6アルキルであって、R’3およびR’4は 、NO2を表す、 をカップリングさせて、式(IV) 式中、R’1、R’2、R’3およびR’4は、前記定義のとおりである、 の化合物を得; b)ニトロ基をアミノ基に還元し; c)常用の条件下でヨウ素化し; d)−CO2RをCOClに塩素化し、その後、 e)芳香族アミノ基を式R’8COCl、R’8は、前記請求の範囲第1項で定 義したR8を表す、の酸クロライドでアシル化するか、または d’)芳香族アミノ基を式R’8COCl、R’8は、前記請求の範囲第1項で 定義したR8を表し、ヒドロキシル基は、予め保護されている、の酸クロライド でアシル化し、その後 e’)−CO2RをCOClに塩素化するか、のいずれかであり、そして 5およびR6は、前記請求の範囲第1項の定義と同じである、 のアミンでアミド化する、 を含んで成る、請求の範囲第1項記載の式(I)の化合物の製法。 8.請求の範囲第1ないし6項のいずれか1項に記載の化合物を少なくとも1 つ含んで成る、X線による放射線医学用造影剤。 9.該化合物の水性溶液から成る、請求の範囲第8項記載の造影剤。
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