JPH0848018A - 湿式リトグラフ印刷用のレーザー結像可能印刷部材 - Google Patents

湿式リトグラフ印刷用のレーザー結像可能印刷部材

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JPH0848018A
JPH0848018A JP7088395A JP8839595A JPH0848018A JP H0848018 A JPH0848018 A JP H0848018A JP 7088395 A JP7088395 A JP 7088395A JP 8839595 A JP8839595 A JP 8839595A JP H0848018 A JPH0848018 A JP H0848018A
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    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1033—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials by laser or spark ablation

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 従来の砂目金属版に対して、アブレーション
的なレーザー結像の利点を増強することができるリトグ
ラフ印刷部材及び結像方法を提供する。 【構成】 リトグラフ印刷部材は、レーザー結像放射線
をアブレーション的に吸収するインク受容第１層１０
０、該第１層の下層の洗浄溶剤に部分的に溶ける保護層
１０２及び該保護層の下層の親水性金属基体１０４から
なる。該リトグラフ印刷部材にレーザー出力を照射し、
該レーザー出力によるアブレーションによってイメージ
を現すパターンにて第１層１００を除去し、次に洗浄溶
剤に晒して該パターン内の保護層１０２を除去して、親
水性金属基体１０４を露出させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、デジタル印刷装置及び
方法に関し、特に、デジタル方式で制御されたレーザー
出力を用いるオンプレスあるいはオフプレスにて結像さ
れる、いわゆる「湿式」リトグラフ印刷版構造体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】記録材料上に印刷されたイメージを導入
する伝統的な技術は、凸版印刷、フレキソ印刷、グラビ
ア印刷及びオフセットリトグラフを含む。これらの印刷
方法のすべては、イメージのパターンにてインクを転写
するために、通常、ロータリプレスの版胴上に装填され
たあるいは一体にされた印刷部材を必要とする。凸版印
刷及びフレキソ印刷において、イメージパターンは、イ
ンクを受容して圧縮により記録媒体上にインクを転写す
る隆起した領域の形態にて、印刷部材上に再現される。
弾性表面を利用するフレキソ印刷系は、相溶性基体の幅
広い多様性及び流体インクの流れ可能性により、より幅
広い受容を得ている。隆起した表面系との対照におい
て、グラビア印刷シリンダは、記録媒体上にデポジット
するためのインクを受け入れる壁の列すなわちくぼみを
含む。過多のインクは、ドクターブレードあるいは同様
の装置によって、該シリンダと該記録媒体とが接触する
前に、該シリンダから除去されなければならない。
【０００３】オフセットリトグラフの場合、イメージ
は、インク受容（親油性）及びインク剥離（疎油性）表
面領域のパターンとして、版上又はマット上に存在す
る。乾式印刷装置において、該版は、単にインクづけさ
れ、イメージは記録材料上に転写される。該版は、ま
ず、ブランケットシリンダと呼ばれる従順な中間表面と
接触し、次いで、紙又は他の記録媒体にイメージを塗布
する。典型的なシートフィードプレス装置において、記
録媒体は、圧縮シリンダにピン止めされており、ブラン
ケットシリンダとの接触点に運ばれる。
【０００４】湿式リトグラフ装置において、非イメージ
領域は親水性であり、必要なインク剥離性は、インク付
けの前あるいはインク付けと共に、版への湿化（あるい
は「噴出」）溶液の初期塗布により与えられる。インク
剥離噴出溶液は、インクが非イメージ領域に接着するこ
とを防止するが、イメージ領域の親油性には影響を与え
ない。
【０００５】仮に、プレスが１色以上のカラーにて印刷
するべきものであれば、各色に対応する個々独立の印刷
版が必要となる。かような版のそれぞれは、通常、以下
に述べるような写真製版製作によって製作される。異な
る色について適合する版を準備することに加えて、オペ
レータは、該版を正確にプレスの版胴上に載置しなけれ
ばならず、また異なる版胴によって印刷された色成分
が、印刷されたコピー上に位置決めされるように、該胴
の位置を調整しなければならない。プレス上の特定の色
に関連する版胴の各セットは、通常は、印刷ステーショ
ンと呼ばれる。
【０００６】最も慣用的なプレスにおいて、印刷ステー
ションは、真っすぐすなわち「直線」形状に配置されて
いる。かようなステーションのそれぞれは、典型的に
は、圧縮胴、ブランケットシリンダ、版胴及び必要なイ
ンク（また、湿式装置の場合には湿化）アセンブリを含
む。記録材料は、印刷ステーションの間に連続的に移さ
れ、合成マルチカラーイメージを製作するために、該材
料に各ステーションにより異なるカラーインクが塗布さ
れる。米国特許第４，９３６，２１１号明細書に記載さ
れているような別の形状は、各印刷ステーションを通過
した記録材料のシートを運ぶ中央圧縮シリンダを再配置
し、各印刷ステーションへの記録媒体の機械的な移送の
必要性を排除する。
【０００７】いずれのタイプのプレスでも、記録媒体
は、材料のカットシートあるいは連続ウェブの形態で、
印刷ステーションに供給される。プレス上の印刷ステー
ションの数は、印刷されるべきドキュメントのタイプに
依存する。大量のテキストあるいは単色線画をコピーす
るためには、単一のステーションで十分である。より複
雑な単色イメージのフルトーンを表現するためには、２
つのステーションが同じカラーあるいは陰影の異なる密
度を塗布する「ダブルトーン」アプローチを用いること
が慣例である。フルカラープレスは、選択されたカラー
モデルに従ってインクを塗布する。該カラーモデルは、
最も一般的には、シアン、マゼンダ、イエロー及びブラ
ック（（「ＣＭＹＫ」モデル）に基づく。したがって、
ＣＭＹＫモデルは、最小４つの印刷ステーションを要求
する。特定のカラーを強調すべき場合には、もっと多く
の印刷ステーションが要求されるであろう。プレスは、
印刷されたドキュメントの種々の部分にスポットラッカ
ーを塗布するために、別のステーションを含むこともで
きる。また２面印刷を得るために記録材料を反転させる
１以上の「両面印刷」アセンブリを備えていてもよい。
【０００８】オフセットプレス用の版は、通常、写真製
版的に製作される。典型的なネガとして作用する減法退
色カラー写真法を用いる湿式版を準備するために、原画
を撮影して写真ネガを製作する。このネガは、フォトポ
リマーで被覆された水受容性アノード化（テクスチャー
ド）表面を有するアルミニウム版上に置かれる。ネガを
通して光あるいは他の放射線を暴露することで、（原画
のダーク領域あるいは印刷された領域に対応して）放射
線を受け入れるコーティング領域は、耐久性のある親油
性状態に凝固する。次いで、版は、アルミニウム版の親
水性表面を暴露することで、コーティングの凝固してい
ない領域（すなわち、原画の非イメージ領域あるいバッ
クグラウンド領域に対応する、放射線を受け入れていな
い領域）を除去する現像工程に供される。慣用の湿式版
もまた、典型的には、アルミニウム基体へのフォトポリ
マーの良好な係止を与えるプライマー層を含む。
【０００９】同様の写真製版工程は、典型的に、適当な
安定性の基体（例えば、下塗りされたアルミニウムシー
ト）上に被覆された感光性層上に被覆された親油性（例
えば、シリコン）表面層を含む乾式版を作るために用い
られる。化学線の暴露によって、感光性層は、表面層と
の結合を破壊する状態にまで凝固する。暴露後、暴露さ
れていない領域での感光性層のフォトレスポンスを不活
性化するように処置が施され、さらにこれら暴露されて
いない領域への表面層の係止を改良する。現像液内での
暴露された版の浸漬は、放射線を受け入れている版表面
のこれらの浸漬部分での表面層の溶解及び除去を結果的
に生じる。こうして、インク受容性で凝固された感光性
層を露出する。
【００１０】乾式印刷は、少数の機械的なアセンブリを
必要とし、消耗品の消費を抑えるけれども、大容量のオ
フセット印刷の大部分は、現在、湿式工程においてなさ
れている。上述したように、典型的な湿式印刷版は、硬
化可能な親油性フォトポリマーで被覆された水受容性ア
ルミニウム表面に基づいている。かような版は、インク
付け及び転写ローラーに時期尚早な摩耗を引き起こすも
のとして、批判されているけれども（米国特許第４，０
５４，０９４号明細書第１欄第５７〜６３行参照）、そ
れでもなお、これらの版の耐性及び製造容易性ゆえに、
長期にわたり稼働するような印刷業においては、最も標
準的なものとなっている。実際、型及びインクローラー
は、一般には版と直接接触せず、代わりに、版の表面上
に吸着された噴出溶液の層と接触する。該接触層は、摩
耗傾向を和らげる実質的な潤滑効果を与える。
【００１１】親水性であるが、組織化されていない磨か
れた状態で脆弱なアルミニウム層に、印刷設備内の噴出
溶液を反復的に受け入れるために十分な耐性を与えるた
めに、特別の処理を要求する。この目的のために、微細
な研磨剤の使用によって表面をさらに粗くするように補
助される場合には、数種の化学的あるいは電気的な技術
を用いることもできる。例えば、電気研磨は、電解層内
の２つの対向するアルミニウム版（あるいは１つの版及
び適当な対の電極）の浸漬を含み、該アルミニウム版の
間を交流電流が流れる。この工程の結果は、微細に穿孔
された表面形状となり、水を容易に吸着する。米国特許
第４，０８７，３４１号明細書（以下、’３４１号特許
と称す）参照。
【００１２】組織化されたすなわち砂目表面もまた、一
般に「アノード化」と呼ばれる制御された酸化工程によ
り製作することができる。アノード化されたアルミニウ
ム版は、変更を加えられていないベース層及び該ベース
層を被覆する多孔性「アノード」酸化アルミニウムコー
ティングからなる。該コーティングは、容易に水を受容
する。しかしながら、さらなる処理をしなければ、該酸
化コーティングは、化学反応により湿潤性を失うであろ
う。したがって、アノード化された版は、典型的には、
版表面の親水性特性を安定化させるシリケート溶液ある
いは他の適当な試薬（例えば、リン酸塩）に暴露され
る。シリケート処理の場合には、該表面は、最も重要な
ことであるが水分子を含む一定の大きさ及び形状の分子
に対する高い親和性を伴うモレキュラーシーブ特性を呈
する。さらに、処理された表面は、上に積層するフォト
ポリマー層に対する不粘着性も促進する。アノード処理
及びシリケート処理工程は、米国特許第３，１８１，４
６１号明細書（以下、’４６１号特許と称す）及び第
３，９０２，９７６号明細書（以下、’９７６号特許と
称す）に記載されている。
【００１３】テクスチャードクロム表面もまた、実質的
な親水性特性を現出し、湿式リトグラフ版内のアルミニ
ウムの代わりに用いることができる。かような表面は、
例えば、米国特許第４，５９６，７６０号明細書（以
下、’７６０号特許と称す）に記載されているような電
着により製作することができる。本願において、「テク
スチャード」とは、親水性特性を強調するような金属版
の表面形状のすべての変更を含む意味である。
【００１４】クロム及び安定化されたアルミニウム砂目
表面は、印刷中に良好な耐性を現出するけれども、これ
ら表面の親水性特性もまた吸湿性を与える。水分の過度
の吸着は、結果的に親水性特性を減少させるかあるいは
除去するかもしれない進行中の化学反応を助長する。こ
のため、もし、かような表面を有する版を貯蔵すべき場
合には、典型的には、まず、「ガンミング（アラビアゴ
ム溶液の塗布）」として知られる工程において、水溶性
ポリマーの保護コーティングを受け入れる。一方、下記
に記載するように、親水性が失われる容易性は、金属ベ
ースリトグラフ版のデジタル制御されたポイントバイポ
イント結像用のベースを与える。
【００１５】伝統的な写真製版工程での電気的な選択の
要求は、時間、費用、設備要求及び環境コンプライアン
ス測定から生じる。オンープレスで利用することができ
る最近開発されたコンピュータ制御された結像装置は、
印刷されるべきイメージを示すパターンにて、ブランク
版のインク受容性を変える。かような結像装置は、１以
上のレーザー源あるいは非レーザー源により作られた電
磁放射パルス源、インクジェット装置及びスパーク放出
装置を含む。該電磁放射パルス源は、版ブランク上に化
学変化を引き起こす（こうして、写真ネガの必要性を排
除する）。該インクジェット装置は、インク剥離性スポ
ットあるいはインク受容性スポットを版ブランク上に直
接デポジットする。該スパーク放出装置において、版ブ
ランクに接触するかあるいは近接しているが離隔してい
る電極が、版ブランクの形状を物理的に変えるための電
気スパークを発生して、所望のイメージを集合的に形成
する「ドット」を製作する（米国特許第４，９１１，０
７５号明細書参照）。
【００１６】例えば、米国特許第４，９４７，７５０号
明細書（以下、’７５０号特許と称す）及び同第４，９
５８，５６３号明細書に記載されているように、砂目を
付けたアルミニウムあるいはクロム表面を強烈に加熱す
ることにより、該表面を親水性から疎水性、親油性状態
に転移させる。したがって、かような表面を支持する印
刷中の版を加熱するために選択的に暴露することによ
り、所望のイメージに対応するインク受容性イメージポ
イントのパターンを版表面上に製作することが可能とな
る。暴露されていない表面領域は、親水性のままである
ので、結果的に、化学処理工程の必要性なしに印刷する
ために直接用いられるであろう完全に結像されたリトグ
ラフ版を得る。かような版のための適当な加熱ポイント
源は、スパーク放出設備及びレーザー設備を含む。
【００１７】現実に、レーザー設備の容易な入手可能性
及び該設備のデジタル制御に対する柔順性ゆえに、レー
ザーベース結像装置の開発に顕著な努力が払われてい
る。初期の例では、版ブランクから離れた材料をエッチ
ングして凹刻印刷パターンあるいは凸版印刷パターンを
形成するために、レーザーを利用していた。米国特許第
３，５０６，７７９号明細書及び同第４，３４７，７８
５号明細書参照。このアプローチは、後になって、たと
えば、親油性の積層する下の層を現すために親水性表面
の除去によって、リトグラフ版の製作に拡大された。米
国特許第４，０５４，０９４号明細書（以下、’０９４
号特許と称す）参照。これらの装置は、一般に、高価で
速度が遅い高出力レーザーを要求する。
【００１８】親水性版を結像するための他のレーザーベ
ース装置は、ポリエステル等の親油性基体から、親水性
である無機カルコゲニド層（米国特許第４，２１４，２
４９号明細書参照）あるいは有機高分子層（米国特許出
願第０８／０６２，４３１号（以下、’４３１号出願と
称す）及び同第０８／１２５，３１９号明細書参照）の
除去により、作動する。再度、除去可能な親水性表面コ
ーティングの使用は、親水性基体に基づく伝統的な構成
に優るものとして、’０９４号特許において特徴つけら
れているが、それでもなお、慣用の印刷の主流とはなっ
ていない。
【００１９】砂目にされた金属版の親水性構造が容易に
破壊されるならば、エッチングあるいはアブレーション
によって作動するレーザーベース結像装置は、一般に、
親水性特性の選択的な破壊によってのみ、かような版と
ともに利用することができる。これは、金属が直接的に
転写される上述の’７５０号特許の場合であり、さら
に、積層する上層の高分子を砂目にされた表面まで、溶
解あるいはスラグ状にして、形状を充填して、親油性表
面にまで転換するために、レーザーが用いられる’０９
４号特許及び米国特許第４，０６３，９４９号明細書の
場合である。結果的に慣用のフォトポリマーベース構造
と等しい版となる下に積層されている砂目親水性金属層
を現すため、上に積層する親油性高分子層のレーザーア
ブレーションは、我々の知る限りにおいて、これまで可
能ではなかった。’０９４号特許に記載されているよう
に、高分子が部分的に溶解し、金属表面砂目を詰まらせ
て疎水性を与えたり、または’７５０号特許に記載され
ているように、完全な高分子アブレーションを確実に行
うために十分なパワーレベルにてレーザーが作動される
場合に、そのエネルギーが物理的に表面を転換して疎水
性を与える、かのいずれかであった。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明は、伝統的な砂目
金属版に対して、アブレーション的なレーザー結像技術
の利点を拡大させる。ここで用いられている「版」とい
う語彙は、インク及び／又は噴出溶液に対する異なる親
和性を現出する領域によって規定されたイメージを記録
することができる印刷部材あるいは表面を意味する。適
当な形状は、印刷プレスの版胴上に載置されている伝統
的な平面状あるいは曲面状リトグラフ版を含むが、シー
ムレスシリンダ（例えば、版胴の回転表面）、無端ベル
トあるいは他の装置をも含むことができる。
【００２１】本発明によれば、リトグラフ印刷構造体
は、砂目金属基体、接着を促進するプライマーとして作
用することができる保護層、及びアブレーション可能な
親油性表面層を含む。作用において、結像レーザーから
のイメージ幅パルスは、表面層と相互に影響し合って、
表面層のアブレーションを引き起こし、おそらく、下に
積層している保護層にまでいくらかの損傷を加える。次
いで、結像された版は、溶剤に晒される。該溶剤は、暴
露された保護層を削除するが、表面層あるいは該表面層
の下の暴露されていない保護層には損傷を与えない。保
護層のみを直接的に除去し且つ親水性金属層を除去しな
いレーザーを用いることによって、親水性金属層の表面
構造は十分に保護される。該溶剤の作用は、この構造に
は損傷を与えない。
【００２２】伝統的な化学処理のために、あらかじめレ
ーザーが用いられて、感光性ブランクを暴露しているけ
れども（米国特許第３，５０６，７７９号明細書及び同
第４，０２０，７６２号明細書参照）、本発明は、水等
の環境に対して無毒であり且つ簡便に塗布された単一の
溶剤を利用することができる。同時に、本発明は、版構
造体の頂部にあって無機的あるいは高分子的な性質の親
水性層を利用する他のレーザーベースアプローチとは異
なり、現行の印刷慣例と矛盾しない金属親水性基体の利
点を奏する。
【００２３】一方、かような高分子ベース親水性材料を
サンドイッチされた保護層として使用することで、暴露
された保護層を溶解し且つ除去する必要性を排除するこ
とにより、さらに本発明の利便性を増すことができる。
結像された後、例えば暴露された保護層等すべての結像
された領域が親水性となるであろうから、かような構造
体は速やかに印刷するために使用することができる。長
期印刷工程の場合には、この層は、繰り返された減衰応
力の下で分解され始めるべきであり、単にバルク噴出溶
液内に可溶性になり、下層の親水性金属層を現す。一方
の親水性層が単に他方に変化するに過ぎないので、版の
印刷特性が影響を受けることはない。
【００２４】本発明の版は、アブレーションによって除
去された部分がインクをインクを受容する「イメージ」
領域ではなく、代わりにインクを排除するために噴出溶
液を吸着する「バックグラウンド」領域であるので、慣
用の写真暴露版に関連する言葉で言えばポジティブに作
用している。かような版は、「間接書き込み」版とも呼
ばれる。
【００２５】
【実施例】以下、添付図面を参照しながら、本発明を詳
細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
【００２６】１．結像装置 本発明の印刷部材とともに用いるために適当な結像装置
は、少なくとも１つのレーザー装置を含む。該レーザー
装置は、版感受性の最大領域、すなわちｌａｍｂｄａ
maxが版が最も強く吸収する波長領域に非常に近接して
いる領域にて放射する。近赤外領域に放射するレーザー
の詳細は、’４３１号出願（全体の記載は本願に参照と
して取り込まれている）に十分に記述されている。電磁
スペクトルの領域以外に放射するレーザーは、当業者に
公知である。
【００２７】適当な結像形状もまた、上記’４３１号出
願に詳細に記述されている。簡単に言えば、レーザー出
力は、レンズあるいは他のビームガイド成分を介して、
直接的に版表面に与えられるか、あるいは、光ファイバ
ーケーブルを用いる離隔位置にあるレーザーからブラン
ク印刷版の表面まで伝達される。コントローラ及び関連
する位置決めハードウェアは、ビーム出力を版表面に関
して正確な方向に維持し、該表面全体に出力を走査し、
該版の選択されたポイントあるいは領域に隣接する位置
にてレーザーを賦活する。コントローラは、版上にコピ
ーされている原画あるいは絵に対応するイメージ信号の
入力に応答して、該原画の正確なネガイメージあるいは
ポジイメージを製作する。該イメージ信号は、コンピュ
ータ上にビットマップデータファイルとして貯蔵され
る。かようなファイルは、ラスターイメージプロセッサ
ー（ＲＩＰ）あるいは他の適当な手段によって生成され
る。例えば、ＲＩＰは、印刷版上に転写されるべく要求
された特性のすべてを規定するページ記述言語(page de
scription language)内に、あるいはページ記述言語と
１以上のイメージデータファイルとの組み合わせとし
て、入力データを受け入れることができる。ビットマッ
プは、カラーの色相並びにスクリーン周波数及び角度を
規定するために構築される。
【００２８】結像装置は、製版機としてそれだけで機能
するようにそれ自身上で操作することも、あるいは直接
リトグラフ印刷プレス内に組み入れることもできる。後
者の場合、印刷は、ブランク版へのイメージの塗布後、
速やかに開始されるので、プレスセットアップタイムを
大幅に減少することができる。結像装置は、ドラムの内
側シリンダ表面又は外側シリンダ表面に載置されたリト
グラフ版ブランクを有する平台レコーダーとして、ある
いはドラムレコーダーとして形状化されてもよい。明ら
かに、外側ドラム設計は、リトグラフプレス上にそのま
ま用いるために、より好ましい。この場合、印刷シリン
ダ自身は、レコーダあるいはプロッターのドラム成分を
構築する。
【００２９】ドラム形状において、レーザービーム及び
版の間の必要な相対運動は、ドラム（及びドラム上に載
置された版）を軸について回転させることによって、ま
た該回転軸に平行にビームを移動させることによって達
成され、こうして、イメージが軸方向に「成長する」よ
うに、版を円周方向に走査することができる。あるい
は、版を横切る各パス後に、ビームをドラム軸に平行に
移動し、版上のイメージが円周方向に「成長する」よう
に、角度を増加することもできる。どちらの場合にも、
ビームによる完全な走査の後、原画あるいは絵に（ポジ
ティブにあるいはネガティブに）対応するイメージは、
版の表面に塗布される。
【００３０】平台形状の場合には、ビームは版のいずれ
かの軸を横切って引かれ、各パス後に、他の軸に沿って
表示される。もちろん、ビームと版との間の必要な相対
移動は、ビームの移動よりもむしろ（または加えて）、
版の移動によって作られる。
【００３１】ビームが走査されている態様にかかわら
ず、複数のレーザー及び該レーザーの出力を単一の書き
込み列まで案内するために、一般に（オンプレスの場合
に）好ましく用いることができる。次いで、書き込み列
は、版を横切るか又は版に沿った各パスの完成後に、該
列から出射するビームの数によって且つ所望の解像度
（すなわち、単位長さ当たりのイメージポイントの数）
によって規定された距離を表示する。（例えば、高速モ
ータの使用によって）非常に迅速な版移動を達成するた
めに設計されており、こうして高速レーザーパルスを利
用することができるオフプレスの場合には、結像源とし
て、単一のレーザーを周期的に利用することができる。
【００３２】２．リトグラフ印刷版 まず、図１を参照すれば、本発明によるリトグラフ版の
実施例が示されている。図１に示された版は、放射線吸
収表面層１００、保護層１０２、及び親水性金属基体１
０４を含む。これらの層を、以下に詳細に説明する。
【００３３】ａ．表面層１００ 層１００の主な特徴は、（’４３１号出願に記載されて
いる近赤外装置等）市販されている実際のレーザー結像
設備を用いるアブレーションに対する脆弱性、及び十分
なインク受容性且つリトグラフ印刷版のイメージすなわ
ちインク運搬部分として機能するための疎水性特性にあ
る。さらに、アブレーションによって、層１００は、環
境的及び毒性学的に無害である副産物を産出し、また、
印刷の苛酷な条件に耐え得る実質的な耐性を現出する。
該耐性は、部分的に、適用重量に依存する。
【００３４】アブレージョンに対する脆弱性は、一般的
に、結像レーザーが放射する波長領域内への強い吸着可
能性から生じる。吸着は、関心ある(interest)波長領域
内で固有に吸着する重合系を用いることによって、ある
いは吸着成分を分散あるいは溶解する重合コーティング
を用いることによって、強めることができる。
【００３５】ニトロセルロースをベースとする材料
は、’４３１号出願に記載されているような選択的に吸
収する化合物との共働により、近赤外領域内で強く吸収
するように作られる。したがって、該材料は、本出願に
記載されている結像装置とともに用いることが有用であ
る。適当なニトロセルロースコーティングは、熱硬化性
を有し、下記表１のように作られてもよい。
【００３６】
【表１】 利用されたニトロセルロースは、Wilmington, DEの Aqu
alon Co.,から提供されている３０％イソプロパノール
液５〜６Sec RS ニトロセルロースである。Cymel 303
は、American Cyanamid Corp.から提供されているヘキ
サメトキシメチルメラミンである。
【００３７】赤外線吸収化合物は、このベース組成物に
加えられて、分散される。ベース組成物及びNaCure 253
0に他の７種類の化合物のいずれかを下記表２に示す割
合にて配合した実施例１〜７を下記表２に示す。いずれ
も、有用な吸収層を製作することができる。
【００３８】
【表２】 NaCure 2530は、Norwalk, CT.のKing Industriesから提
供されているアミンブロックトｐ−トルエンスルホン酸
のイソプロパノール／メタノール混合溶液である。Vulc
an XC-72は、Waltham, MA.のSpecial Blacks Division
of Cabot Corp.から提供されている導電性カーボンブラ
ック顔料である。ポリピロールは、Melbourne, FL.のPo
lymer Technics, Inc.から入手されるものでよい。１，
４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタブトキ
シー２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニン及び２，３−ナフ
タロシアニンンは、Milwaukee, WI.のAldrich Chemical
Co.から入手できる。ニグロシンベースNG-1は、Harris
burg, PA.のN H Laboratories, INC.から粉末として提
供されている。IR-810は、Rochester, NY.のEastmanFin
e ChemicalsによりIR-810の商標で販売されている２，
３，４，６−テトラヒドロ−１，２−ジメチル−６−
（（１−オキソ−２，３−ビス（２，４，６−トリメチ
ルフェニル）−７（１Ｈ）−インドリジニリデン）−エ
チリデン）−キノリニウム トリフルオロメタンサルフ
ォネートである。Project 900 NP（商標）は、英国 Ma
nchesterのICI Colours & Fine Chemicalsから市販され
ているＩＲ吸収剤である。
【００３９】ベース組成物へのＩＲ吸収剤及び分散剤の
添加に続いて、ブロックトＰＴＳＡ触媒が添加され、完
成した組成物を形成する。
【００４０】あるいは、有機発色団又は金属キレート発
色団を顔料の代わりに用いることができる。かような材
料は、凝固した際に、層１００として機能するような材
料中に、望ましくは可溶性であるかあるいは容易に分散
される。ＩＲ吸収染料は、種々のフタロシアニン及びナ
フタロシアニン化合物を含む。シアニン化合物として
は、例えば米国特許第４，４４６，２２３号、同第５，
１０８，８７３号、同第５，０３５，９７７号、同第
５，０３４，３０３号、同第５，０１９，４８０号、同
第４，９７３，５７２号、同第４，９５０，６３９号、
同第４，９５０，６４０号、同第４，９４８，７７６
号、同第４，９４８，７７７号及び同第４，９４８，７
７８号明細書に記載されている。ＩＲ吸収金属キレート
化合物としては、例えば、米国特許第４，８９２，５８
４号（特に、開示された化合物の水溶性ゆえに、水性組
成物が好ましい）、同第４，９１２，０８３号、同第
５，０３６，０４０号、同第５，０２４，９２３号、同
第４，９１３，８４６号、同第４，７９１，０２３号、
同第４，９２１，３１７号、同第４，７６７，５７１
号、同第４，６７５，３５７号に記載されている。さら
に有用な化合物は、米国特許第４，９２３，６３８号明
細書に記載されている置換インドフェノール化合物であ
る。
【００４１】紫外線領域で吸収する発色団は、ベンゾイ
ン、ピレン、ベンゾフェノン及びベンゾトリアゾールを
含む。可視スペクトル全領域で吸収する発色団もまた、
容易に得ることができる。ドイツGottingen D-3400のLa
mbda Physik GmbHから発行されているBrackmanのLambda
chrome Laser Dyes (1986)参照。実際、適当な発色団
は、実用タイプのレーザーを用いる結像を達成するため
に見出される。発色団は、吸収層内でレーザーエネルギ
ーを凝縮して、該層並びに部分的に下に積層する保護層
の破壊、分裂及び可能な消滅を引き起こす。
【００４２】表面層１００を形成するために、ニトロセ
ルロース以外の重合系を容易に用いることもできる。下
記表３に、かような別の系を表す２つの実施例８及び９
を示す。
【００４３】
【表３】 Ucar Vinyl VMCHは、Danbury, CT.のUnion Carbide Che
micals & Plastics Co.,から提供されているヒドロキシ
−官能ビニルターポリマーである。Saran F-310は、Mid
land, MI.のDow Chemical Co.,から提供されているビニ
リデンジクロライドーアクリロニトリル コポリマーで
ある。
【００４４】ｂ．保護層１０２ 層１０２は、（’７５０号特許に記載されているよう
に、親水性表面を撥水性表面に転換することができる）
レーザー放射線からの熱崩壊及び貯蔵により生じる環境
崩壊の両者に対して、基体１０４を保護しなければなら
ない。よって、層１０２は、基体１０４に良好に接着
し、且つ基体１０４に到達するであろうレーザー放射線
を塗布厚にて吸収すべきである。もちろん層１０２は、
表面層１００にも良好に接着すべきである。したがっ
て、該層１０２の機能は、接着剤という語彙において、
１つの版層を別の層に係止するプライマー層と類似して
いる。
【００４５】一般に、これらの基準を満足する重合材料
は、例えばヒドロキシル基あるいはカルボキシル基と共
働するように変更された種々のセルロース等のヒドロキ
シル基あるいはカルボキシル基等の暴露された極性部分
を伴う領域を有する材料、ゼラチンあるいはカゼイン等
のタンパク質材料、及びポリビニルアルコールを含む。
【００４６】アブレーションに続いて、層１０２の暴露
された領域は、溶剤の作用下にて消失して下に積層する
親水性層を現すか、あるいは本質的な親水性挙動を介し
て結像工程に付与する。前者の場合、溶剤は容易に廃棄
することができるように環境安全性でなければならず、
さらに後述するように層１０２との制限された相溶性の
みを現出しなければならない。該溶剤としては、水が理
想的である。
【００４７】結像された版を水に晒すことによって除去
されるか、あるいは版上に残って噴出溶液を吸収するか
または減成して親水性基体１０４を暴露させることがで
きる有用な水溶性の親水性層は、米国特許第４，４２
７，７６５号（以下、’７６５号特許と称す）に従っ
て、リン又は硫黄を含む酸官能基を有する水溶性有機ポ
リマーと少なくとも二価の金属カチオンの塩との反応に
よって得られる生成物を含む。’７６５号特許（本願に
参照として全体が取り込まれている）に開示されている
有用な例は、ポリビニルホスホン酸、ポリビニルメチル
ホスホン酸、ポリビニルアルコールのリン酸エステル、
ポリビニルスルホン酸、ポリビニルベンゼンスルホン
酸、ポリビニルアルコールの硫酸エステル、及びスルホ
ン化脂肪族アルデヒドとの反応によって形成されたポリ
ビニルアルコールのアセタールを含む。さらに有用な例
としては、（ポリビニルアルコールに加えて）ポリビニ
ルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキ
シメチルセルロースあるいはヒドロキシエチルセルロー
ス等のセルロースエーテル、カゼイン及びゼラチン等、
米国特許第４，０６３，９４９号明細書（本願に参照と
して全体が取り込まれている）に記載された水溶性高分
子を挙げることができる。
【００４８】一般に、噴出溶液の反復塗布に耐えること
ができ、よって印刷中に実質的には減成しない有用な水
不溶性親水性コーティングとしては、米国特許第３，９
７１，６６０号明細書（全体が参照として本願に取り込
まれている）に記載されたポリビニルアルコールと加水
分解されたテトラエチルオルソシリケートとの架橋重合
反応生成物を挙げることができる。
【００４９】ｃ．親水性金属基体１０４ 好ましい親水性金属基体は、アノード化あるいは電着等
のテクスチャー処理が施されているアルミニウム又はク
ロムをベースとする金属基体を含む。これらの材料は、
容易に入手可能であり、廉価で、実務者にとってなじみ
深いものである。しかしながら、経済的にはあまり望ま
しくないけれども、テクスチャー処理中に、親水性を与
えられた銅あるいはスチール等の他の材料を用いること
もできる。典型的には、基体１０４の厚さは、印刷中の
耐性の必要性によって決定される。過度の厚さは、単に
不必要なコストを加えるだけであり、版製作中の作業を
より複雑にする。
【００５０】適当な基体は、上述の’４６１号特許、’
９７６号特許及び’３４１号特許に記載された親水性ア
ルミニウム材料、及び上述の’７６０号特許に記載され
た親水性電着クロム表面を含む。該４つの特許は、すべ
て、記載全体が本願に参照として取り込まれている。基
体１０４として好ましい厚さは、０．００４〜０．０２
インチの範囲であり、特に、０．００５〜０．０１２イ
ンチの厚さが好ましい。
【００５１】３．結像技術 作動中、本願の版は、イメージを現すパターンにて、版
全体にわたって走査される結像レーザーの出力に選択的
に暴露されている。レーザー出力は、少なくとも表面層
１００を除去し、こうして、版上にイメージ特性すなわ
ち電位イメージ特性の列を直接、製作する。
【００５２】さて、図２を参照すれば、本発明の結像工
程が詳細に示されている。結像放射線は、完全に表面層
１００及び少なくともいくらかの保護層１０２を除去
し、保護層材料の残留プラグ１１０を残す。しかしなが
ら、結像パルスは到達せず、基体１０４には何らの損傷
も与えられない。
【００５３】一実施例において、レーザー結像された版
は、プラグ１１０を除去する洗浄溶剤の作用に晒され、
こうして、基体１０４の表面１１２を露出する。しかし
ながら、イメージ特性を規定する境界壁１１４の完全性
を維持することが重要であるので、保護層１０２に関し
て過度の溶解パワーを有する洗浄剤の使用を避けること
が重要である。強すぎる溶剤作用は、壁１１４を侵食
し、イメージ特性の周縁を取り囲む層１０２によって与
えられた下に積層する支持体を消去して、イメージのシ
ャープさを減成し又は版寿命を減少させる。
【００５４】例えば、層１０２として使用するために適
当な感水性材料（例えばポリビニルアルコール）は、ア
ルコール（例えば、エチレングリコール、プロピレング
リコール又はベンジルアルコール）あるいはグリコール
エーテル等の１以上の補助溶剤と混合している水に対す
る少ない脆弱性をしばしば現出する。こうしてアンダー
カットが阻止されて、壁１１４に損傷を与える材料なし
に、かような混合物をプラグ１１０の洗浄に用いること
ができる。同時に、カゼインあるいはゼラチン等のアル
カリ可溶性材料を、酸性又は中性ｐＨにｐＨ緩衝された
水性溶液で洗浄することができ、壁１１４への損傷を避
ける。実際、典型的な噴出溶液はｐＨ４．５に緩衝され
ており、補助溶剤を含む傾向にあるので、結像された版
を洗浄するために有効に用いることができる。
【００５５】第２の実施例において、層１０２は、それ
自身親水性であり、洗浄工程の必要性を除去することが
できる。この実施例において、版は、レーザー暴露後速
やかに湿式印刷に用いられ、層１０２の残留プラグ１１
０は、使用中、徐々に溶解除去される。かような溶解
は、印刷工程の完全性に影響を与えない。プラグ１１０
からの材料は、コンベヤ形態ローラーによって、噴出溶
液のバルク源の後方に運搬され、さらに噴出溶液ととも
に印刷中の基体上で消失する。同時に、版からの該プラ
グ及び噴出溶液の除去は、下に積層する親水性表面１１
２を単に露出する。親水性作用が失われたり又は妥協し
たりするポイントはない。
【００５６】したがって、有利な印刷版構造及び結像技
術を開発したことがわかるであろう。ここで用いられて
いる語彙及び表現は、説明のために用いられいるもので
あって、本発明を何ら制限するものではない。特許請求
の範囲に記載された本発明の範囲内において、種々の変
更が加えられてもよいことに注意されたい。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、吸収的アブレーション可能な頂部層、
保護層、及び砂目金属基体を有するリトグラフ版の拡大
断面図である。
【図２】図２は、図１の版をレーザー源によって結像す
る機構を示す。
【符号の説明】
１００：表面層 １０２：保護層 １０４：基体 １１０：残留プラグ １１２：基体表面 １１４：境界壁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ケネス・アール・カシディー アメリカ合衆国ニューハンプシャー州 03045，ゴフスタウン，ファースト・アベ ニュー 27

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 レーザー放射線により直接的に結像可能
    なリトグラフ印刷部材であって、 ａ）結像放射線をアブレーション的に吸収することを特
    徴とするインク受容第１層、 ｂ）該第１層の下に積層されていて、洗浄溶剤に少なく
    とも部分的に溶ける第２層、及び ｃ）親水性金属基体を備えることを特徴とするリトグラ
    フ印刷部材。
  2. 【請求項２】 レーザー放射線により直接的に結像可能
    なリトグラフ印刷部材であって、 ａ）結像放射線をアブレーション的に吸収することを特
    徴とする受容第１層、 ｂ）該第１層の下に積層されていて、結像放射線をアブ
    レーション的に吸収することを特徴としない重合親水性
    第２層、 ｃ）親水性金属基体を備えることを特徴とするリトグラ
    フ印刷部材。
  3. 【請求項３】 請求項１又は２のリトグラフ印刷部材で
    あって、前記第２層が、 ａ）少なくとも部分的に水溶性である、 ｂ）補助溶剤と化合した水に、少なくとも部分的に可溶
    性である、 ｃ）アルコール及びグリコールエーテルからなる群より
    選択された補助溶剤と化合した水に、少なくとも部分的
    に可溶性である、 ｄ）酸性ｐＨあるいは中性ｐＨにｐＨ緩衝された水に、
    少なくとも部分的に可溶性である、 ｅ）結像レーザー放射線に対する暴露によって前記基体
    が損傷することを防止するために十分な厚さで与えられ
    る、あるいは ｆ）ポリビニルアルコール及び加水分解されたテトラエ
    チルオルソシリケートの架橋重合反応生成物である、の
    一つを特徴とするリトグラフ印刷部材。
  4. 【請求項４】 請求項１又は２のリトグラフ印刷部材で
    あって、前記第２層が、重合体及び／又は前記第１層を
    前記基体に係止するプライマーであることを特徴とする
    リトグラフ印刷部材。
  5. 【請求項５】 請求項１のリトグラフ印刷部材であっ
    て、前記基体が、テクスチャード表面形態を有するアル
    ミニウム又はクロムであることを特徴とするリトグラフ
    印刷部材。
  6. 【請求項６】 請求項１又は２のリトグラフ印刷部材で
    あって、前記第１層が、 ａ）近赤外線、 ｂ）紫外線、又は ｃ）可視線の一つを吸収する物質を備えることを特徴と
    するリトグラフ印刷部材。
  7. 【請求項７】 請求項１のリトグラフ印刷部材であっ
    て、 ａ）前記第２層が親水性である、 ｂ）前記第２層が、結像放射線をアブレーション的に吸
    収することを特徴としない、 ｃ）前記第２層が、ポリビニルホスホン酸、ポリビニル
    メチルホスホン酸、ポリビニルアルコールのリン酸エス
    テル、ポリビニルスルホン酸、ポリビニルベンゼンスル
    ホン酸、ポリビニルアルコールの硫酸エステル、及びス
    ルホン化脂肪族アルデヒドとの反応によって形成された
    ポリビニルアルコールのアセタールからなる群より選択
    される、 ｄ）前記インク受容第１層が、ニトロセルロース化合物
    を含む、あるいは ｅ）前記第２層が、ポリビニルピロリドン、セルロース
    エーテル、カゼイン及びゼラチンからなる群より選択さ
    れるのいずれかを特徴とするリトグラフ印刷部材。
  8. 【請求項８】 リトグラフ印刷部材に結像する方法であ
    って、 ａ）以下を備えるリトグラフ印刷部材を設ける工程、 i)レーザー放射線によりレーザーアブレーション可能な
    インク受容第１層、 ii)該第１層の下に積層されていて、洗浄溶剤に少なく
    とも部分的に可溶性である第２層、及び iii)親水性金属基体、 ｂ）少なくとも１つのレーザー源を該印刷部材に対向し
    て離隔支持する工程、 ｃ）該少なくとも１つのレーザー源のレーザー出力を案
    内して、該印刷部材上に焦点合わせする工程、 ｄ）レーザー出力による印刷部材の走査を有効とするた
    めに、案内手段及び支持手段の間の相対運動を引き起こ
    す工程、及び ｅ）該走査中、イメージを表すパターンにて、印刷部材
    をレーザー出力に選択的に暴露させ、少なくとも第１層
    を除去し、こうしてイメージ特性の列を版上に直接製作
    する工程を備えることを特徴とする結像方法。
  9. 【請求項９】 請求項８の結像方法であって、前記印刷
    部材の第２層が親水性であることを特徴とする結像方
    法。
  10. 【請求項１０】 請求項８の結像方法であって、さら
    に、前記印刷部材を洗浄溶剤に晒して、イメージ特性内
    にある第２層の部分を除去する工程を備えることを特徴
    とする結像方法。
  11. 【請求項１１】 請求項８の結像方法であって、前記洗
    浄溶剤が、アルコール及びグリコールエーテルからなる
    群より選択することができる補助溶剤を含有する水であ
    り、該水が酸性ｐＨあるいは中性ｐＨにｐＨ緩衝されて
    いることを特徴とする結像方法。
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