JPH0839812A - 改良された接着特性を有するインクジェット印刷ヘッドフォトレジスト層 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 耐久性が改善されたインクジェット印刷ヘッ
ドの提供。 【構成】 インクジェット印刷ヘッドは、印刷ヘッドの
上板と下板との間にあってインキ通路を含むフォトレジ
スト層に、ある種のリン化合物を存在させることよりな
り、上記構成によりその耐久性が改善される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の分野】本発明はインクジェット印刷ヘッド、よ
り特定すると印刷ヘッドの上板及び下板への接着が改良
された樹脂層に関する。インクジェット印刷ヘッドは上
板と下板、そして液体通路及び放出オリフィスを形成す
る乾燥フィルムフォトレジスト中間層を有するサンドイ
ッチ構造である。上板はインクノズルを含み、そして通
常は貴金属、ガラス又はプラスチックで作られている。
下板は通常シリコンウェーハのような熱に安定な基板で
あり、マイクロ回路を備えている。マイクロ抵抗器が基
板に取り付けられ、インクノズルと整列してフォトレジ
スト層の液体通路の中に突き出ている。コンピューター
のコマンドが発せられると、抵抗器は近くのインキを過
熱し、水蒸気の泡を作り、これがインキの小滴をノズル
から押し出す。

【０００２】乾燥フィルムフォトレジスト層は多くの厳
しい必要条件を満たさなければならない。それはインキ
通路を形成するために必要な微細な解像力にまで像形成
されうるものでなければならない。この層は寸法が安定
（例えば膨潤しない）であること、そして通常ｐＨが高
くそして有機成分を含む熱い水性インキの化学作用に耐
えることができなければならない。その上、数百万回の
発火周期の間に、この層はしばしば結合しにくい材料
（例えば金）で作られている上板及び下板に、剥離をひ
き起こしがちな応力の存在にもかかわらず、強固に結合
した状態でなければならない。

【０００３】種々のフォトレジスト材料が印刷ヘッド構
造の厳しい必要条件を満たすために提案されている。例
えば、１９９３年１０月２６日に公開された日本特許願
５−２７８２２2 はビス−フェノールＡエポキシモノマ
ーの半アクリロイルエステル、光開始剤及びこの目的に
とって特に有用であるといわれているポリマーバインダ
ーを含む乾燥フォトレジストフィルムを開示している。
アクリル及びメラミンモノマー、光開始剤、及び水ベー
ス型現像のための酸性官能基を持つアクリルバインダー
を含む、E. I. du Pont de Nemours and Companyが販売
するフォトレジスト材料であるVacrel^R ハンダマスク材
料もこの目的に使用されている。これらの乾燥フィルム
フォトレジストが有用であることは証明されているが、
インクジェット印刷ヘッドの使用期間をさらに延ばすた
めに望まれる耐久性を達成するため、なおいっそうの改
良が望まれている。

【０００４】

【発明の概要】インクジェット印刷ヘッドに使用する乾
燥フィルムフォトレジストにある種のリン化合物を添加
することにより印刷ヘッドの耐久性が改良されることを
見出した。従って本発明は、上板、インキ通路を形成す
る中間フォトレジスト層、及び下板を持つインクジェッ
ト印刷ヘッドにおいて、印刷ヘッドの耐久性がフォトレ
ジスト層に式

【化２】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂及びＲ₃は炭素原子数６〜１０の置換
された又は置換されていないアリール基であり、そして
Ｘは酸素又は硫黄である）のリン化合物を存在させるこ
とにより改良される印刷ヘッドを提供する。

【０００５】〔発明の詳述〕印刷ヘッドの設計の細部は
製造者によりいろいろであるが、一般に印刷ヘッドは上
板、中間フォトレジスト層、及び下板からなる。中間フ
ォトレジスト層は乾燥フィルムであり、製造工程の間に
像形成され、次いでフォトレジストの未露光部分は除か
れてインキ通路が形成される。このフォトレジスト層は
長期使用する間、上層と下層に強固に結合した状態であ
り、そして水性型で通常有機成分を含むインキによる化
学作用又は膨潤に耐性であることが必要不可欠である。

【０００６】下板 下板はマイクロ抵抗器又はインキを放出する圧力を作り
出すために使用される他の要素、例えば発熱用要素又は
圧電素子を取り付けるプラットホームの役割をする。下
板は通常シリコン、ガラス、セラミック、プラスチック
又は金属で作られる。下板に取り付けられた回路をイン
キの作用から保護するためにスパッタコートした「不動
態化」層を使用することができる。例えば、Ｓｉ₃Ｎ₄及
びＳｉＣの不動態化層は米国特許４,８０９,４２８に記
述されている。この目的に有用なその他の無機酸化物又
は無機窒化物材料はＳｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、Ａｌ₂Ｏ₃、ガ
ラス、ＢＮなどである。下板はまたインキ抵抗性を付与
するため金属保護層で被覆できるが、不動態化層がある
場合もない場合もある。Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｍ
ｏ、Ｗ、Ｎｂなどのような耐食性金属、又はステンレス
鋼又は新金属（novel metals）のような合金をこの目的
に選ぶことができる。金、パラジウム又は白金のような
貴金属を選んでもよいが、フォトレジスト層に結合しに
くい。

【０００７】フォトレジスト層 フォトレジスト層は下板に液体形態で塗布し次いで乾燥
するか、又は好ましくは乾燥フィルムとして施用するこ
とができる。フォトレジスト層はモノマー、バインダ
ー、光開始剤、及び本発明によるリン化合物を含む。光
重合体材料を改質するためにその他の添加剤を存在させ
ることができる。特に好ましい複合物は米国特許４,９
３７,１７２に開示されており、この開示は参照により
本明細書に組み入れるものであるが、この複合物はビス
フェノールＡエポキシの半アクリロイルエステルである
モノマー、光開始剤系、及び巨大分子エラストマー性水
不溶性バインダーからなる。

【０００８】リン化合物 フォトレジスト層に含まれるリン化合物は式

【化３】 （式中Ｒ₁、Ｒ₂及びＲ₃は炭素原子数６〜１０の置換さ
れた又は置換されていないアリール基、好ましくはフェ
ニル又は置換されたフェニルであり、そしてＸは酸素又
は硫黄である）を有する。代表的な置換基は、クロリ
ド、ブロミド、ヨージド、ニトリル、ヒドロキシ、アル
キル及びアルコキシである。

【０００９】本発明の実施において選ぶことができる代
表的な化合物はトリフェニルホスフィン、トリクレシル
ホスフィン、トリフェニルホスフェート、トリフェニル
ホスフィンスルフィド、トリエチルホスフィンオキシ
ド、トリメチルホスフィン、トリス（クロロメチル）ホ
スフィン、トリス（トリクロロメチル）ホスフィン、ト
リペンチルホスフェート、トリエチルホスフェート、ト
リメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、及び
トリフェニルホスファイトを含む。このリン化合物はフ
ォトレジスト層の全重量に基づいて０.０１〜２重量
％、好ましくは０.０５〜０.５重量％の量で存在する。
これらのリン化合物を含むフォトレジスト層は印刷ヘッ
ドの上板及び下板への耐久性のある結合、改良された貯
蔵寿命及びすぐれた耐インキ性を示す。

【００１０】モノマー 本発明の実施においては感光性レジスト組成物に使用さ
れる慣用的なモノマーを選ぶことができる。選ばれるモ
ノマーは活性光線露光により重合可能な少なくとも２つ
のエチレン性不飽和基を含む。過剰量の三官能アクリレ
ートモノマーは過度に柔軟性を減少させることがあるの
で使用を避けるべきである。

【００１１】単一のモノマーとして、又は他のものと組
み合わせて使用することができる適切なモノマーはアル
コールのアクリレート又はメタクリレート誘導体、イソ
シアネート、エステル、エポキシドなどを含む。その例
はジエチレングリコールジアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールト
リアクリレート、ポリオキシエチル化及びポリオキシプ
ロピル化トリメチロールプロパントリアクリレート及び
トリメタクリレート及び米国特許3,380,831に開示され
たものと同様の化合物、テトラクロロビスフェノールＡ
のジ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピ
ル）エーテル、テトラクロロビスフェノールＡのジ−
（２−メタクリルオキシエチル）エーテル、テトラブロ
モビスフェノールＡのジ−（３−メタクリルオキシ−２
−ヒドロキシプロピル）エーテル、テトラブロモビスフ
ェノールＡのジ−（２−メタクリルオキシエチル）エー
テル、トリエチレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ポリカプロラク
トンジアクリレート、及びSartomer, West Chester,PA
が販売しているような芳香族ウレタンオリゴマー性ジ
（メタ）アクリレートである。

【００１２】特に好ましい種類のコモノマーはヘキサメ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリ
レート、ポリオキシプロピル化トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリトリトールトリ−及びテ
トラアクリレート、ビスフェノールＡ・ジアクリレー
ト、ビスフェノールＡのジ−（３−アクリルオキシ−２
−ヒドロキシプロピル）エーテル、テトラブロモビスフ
ェノールＡのジ−（３−アクリルオキシ−２−ヒドロキ
シプロピル）エーテル、又はそれらのメタクリレート類
似体、並びにSartomerが販売しているような脂肪族ウレ
タンジアクリレート、及びSartomer, West Chester, PA
から入手できる芳香族ウレタンジアクリレートである。
モノマーは通常フォトレジスト層の全重量の５〜５０重
量％、好ましくは２０〜４０重量％を占める。

【００１３】バインダー 単一のバインダーとして、又は他のものと組み合わせて
使用することができる適当なバインダーは下記のものを
含む：ポリアクリレート及びアルファ−アルキルポリア
クリレートエステル（例えば、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリエチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレ
ート及びポリヘキシルメタクリレート）；イソボルニル
アクリレートのコポリマー及びターポリマー、ヒドロキ
シエチルメタクリレート、及びブタンジアクリレート；
グリシジルエーテルの上述のモノマーとのコポリマー；
ポリビニルエステル（例えば、ポリビニルアセテート、
ポリビニルアセテート／アクリレート、ポリビニルアセ
テート／メタクリレート及び加水分解されたポリビニル
アセテート）；エチレン／ビニルアセテートコポリマ
ー；ポリスチレンポリマー及びコポリマー；飽和及び不
飽和ポリウレタン；合成ゴム（例えば、ブタジエン／ア
クリロニトリル、アクリロニトリル／ブタジエン／スチ
レン及び／又はブロモスチレン、メチルメタクリレート
／アクリロニトリル／ブタジエンスチレンコポリマー、
２−クロロブタジエン／１,３−ポリマー、スチレン／
ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレ
ンブロックコポリマー）；ポリブロモスチレン；平均分
子量が約４,０００〜１,０００,０００のポリグリコー
ルのポリエチレンオキシド；エポキシド（例えば、アク
リレート又はメタクリレート基を含むエポキシド）；コ
ポリエステル、例えばｎが２〜１０の整数である式ＨＯ
(ＣＨ₂)_nＯＨのポリメチレングリコールと、（１）ヘキ
サヒドロテレフタル酸、セバチン酸及びテレフタル酸、
（２）テレフタル酸、イソフタル酸及びセバチン酸、
（３）テレフタル酸及びセバチン酸、（４）テレフタル
酸及びイソフタル酸との反応生成物から製造されるコポ
リエステル、及び（５）前記グリコールと、（ｉ）テレ
フタル酸、イソフタル酸及びセバチン酸及び（ii）テレ
フタル酸、イソフタル酸、セバチン酸及びアジピン酸と
から合成されるコポリエステルの混合物；ナイロン又は
ポリアミド、例えば、Ｎ−メトキシメチルポリヘキサメ
チレンアジパミド；セルロースエステル、例えば、セル
ロースアセテート、セルロースアセテートスクシネート
及びセルロースアセテートブチレート；セルロースエー
テル、例えば、メチルセルロース、エチルセルロース及
びベンジルセルロース；ポリカーボネート；ポリビニル
アセタール、例えば、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルホルマール；ポリホルムアルデヒド。この組成物は米
国特許4,937,172に開示されたものと同様な予め調製し
た巨大分子エラストマー性ポリマーバインダーを含むこ
ともできる。バインダーは通常フォトレジストの全重量
の１５〜５０重量％、好ましくは２０〜４０重量％を占
める。

【００１４】光開始剤 本発明の実施においては慣用的な光開始剤、又は光開始
剤系を使用することができる。開始剤は活性光線により
活性化されると直接遊離基を与える。一般的にはスペク
トル反応を近紫外、可視及び近赤外スペクトル領域まで
拡げるために、増感剤を存在させてもよい。

【００１５】リン含有化合物と組み合わせて使用する場
合、感度を改善する増感剤はBaum等、米国特許3,652,27
5に開示されたビス（ｐ−ジアルキルアミノベンジリデ
ン）ケトン、及びDueber、米国特許4,162,162に開示さ
れたアリーリデンアリールケトンを含む。リン含有化合
物と組み合わせて使用する場合、感度を改善するいくつ
かのその他の開始剤は光重合体組成物中で連鎖移動剤と
して作用する水素供与化合物を含み、これには２−メル
カプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾチア
ゾール、４−メチル−４Ｈ−１,２,４−トリアゾール−
３−チオールなど、並びにMacLachlan，米国特許3,390,
996のカラム１２、１８〜５８行に開示された種々の化
合物が含まれる。ビイミダゾール型開始剤及びＮ−ビニ
ルカルバゾールの両方を含む系に使用するための適当な
水素供与化合物は５−クロロ−２−メルカプトベンゾチ
アゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、１Ｈ−
１,２,４−トリアゾール−３−チオール、６−エトキシ
−２−メルカプトベンゾチアゾール、４−メチル−４Ｈ
−１,２,４−トリアゾール−３−チオール、１−ドデカ
ンチオール、及びそれらの混合物である。

【００１６】単独で又はリン含有化合物と組み合わせて
感度を改善する好ましい光開始剤系は連鎖移動剤又は水
素供与体と組み合わせた２,４,５−トリフェニルイミダ
ゾリル二量体、例えば米国特許3,479,185; 3,784,557;
4,311,783及び4,622,286に開示されたものを含む。好ま
しいヘキサアリールビイミダゾール（ＨＡＢＩ）はフェ
ニル基の他の位置が置換されていないか又はクロロ、メ
チル又はメトキシで置換されている２−オルト−クロロ
置換ヘキサフェニルビイミダゾールである。もっとも好
ましい開始剤はオルト−Ｃｌ−ＨＡＢＩ、すなわち１,
１′−ビイミダゾール、２,２′−ビス（オルト−クロ
ロフェニル）−４,４′,５,５′−テトラフェニル−イ
ミダゾール二量体である。

【００１７】ローズベンガル／２−ジブチルアミノエタ
ノールのような酸化還元系を含む多数の遊離基を発生す
る化合物を有利に選ぶことができる。光開始剤と併用し
て有用な増感剤はメチレンブルー及び米国特許3,554,75
3; 3,563,750; 3,563,751; 3,647,467; 3,652,275; 4,1
62,162; 4,268,667; 4,351,893; 4,454,218; 4,535,052
及び4,565,769に開示されたものを含む。

【００１８】リン含有化合物と組み合わせて使用する場
合、感度を改善する特に好ましい種類の光開始剤及び光
増感剤はベンゾフェノン、ミヒラーケトン、エチルミヒ
ラーケトン、ｐ−ジアルキルアミノベンズアルデヒド、
ｐ−ジアルキルアミノ安息香酸のアルキルエステル、多
核キノン、チオキサントン、ヘキサアリールビイミダゾ
ール、シクロヘキサジエノン、ベンゾイン、ベンゾイン
ジアルキルエーテル、又はそれらの組合せであり、この
場合アルキルは１〜４つの炭素原子を含む。光開始剤、
又は光開始剤系は通常フォトレジスト層の全重量の０.
５〜１０重量％、好ましくは２〜５重量％を占める。

【００１９】添加剤 感光組成物に混合される慣用的な添加剤を含有させるこ
とができる。例えば、フォトレジストは熱重合防止剤例
えばｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン並びにアル
キル及びアリール置換されたヒドロキノン及びキノン、
第三ブチルカテコール、ピロガロール、樹脂酸銅、ナフ
チルアミン、ベータ−ナフトール、塩化第一銅、２,６
−ジ−第三ブチル−ｐ−クレゾール、フェノチアジン、
ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ｐ−ト
ルキノン及びクロルアニルを含むことができる。又、米
国特許４,１６８,９８２に開示されたニトロソ化合物も
熱重合防止剤として有用である。種々の染料及び顔料は
レジスト像の可視性を増すために添加することができる
が、但し染料又は着色剤がフォトレジスト層にインキ通
路を作るために使用する活性光線に対して透明であるこ
とを条件とする。

【００２０】厚さ 樹脂層の厚さは設計の要件により広範囲に変えることが
できる。例えば、米国特許４,９７０,５３２は２０〜２
００ミクロンにわたる厚さを開示している。しかしなが
ら、所望の厚さからの変動は各ノズルからの一致したイ
ンキ滴の量を保つため最小にしなければならない。米国
特許４,９９４,８２６は最大の許容度は樹脂層の厚さの
＋／−５％と述べている。乾燥フィルムフォトレジスト
材料は液状レジストに比べて大容量における一貫した厚
さをもたらし、また、スピンキャスト液状レジストに付
随する一定のウェーハ間品質保証プログラムにかかる費
用を無くする。

【００２１】ネガ樹脂層又はレジスト材料は約１.５〜
５のアスペクト比が可能である(すなわち、１０ミクロ
ンの通路は約５０ミクロンもの厚さのフィルムから作る
ことができる）。より狭い通路は比例してより薄いフィ
ルムを用いて作ることができる。そのような解像度はい
くつかの要因、例えば選ばれた光源、フォトレジスト材
料の光化学、硬化したフォトポリマーの第一の基板への
接着、及び現像液の適当な選択を含む現像工程の選択に
依存する。樹脂層は通常、下にあるマイクロ抵抗器と位
置を合わせた標的を通して活性光線により像形成され
る。下板に対し垂直な通路壁を得るため平行光線が一般
に使用される。通路壁は活性成分の選択及び均衡によ
り、下より上をより薄く又はより厚くすることができ
る。

【００２２】現像工程は露光及び未露光材料の溶解性の
差を利用する。この溶解性の差は現像液の選択により最
大にすることができる。未露光レジストの現像剤中での
溶解性は適度である必要がある。塗布又は剥離に使用す
る溶剤は、現像溶剤として使用する場合、一般的に攻撃
的過ぎる。現像液が過度に攻撃的である場合、光硬化し
たレジスト又は樹脂層は膨潤し、基板から剥離し、そし
て現像ラチチュードを減少させる傾向がある。現像工程
の間にかけられる過度の応力は像形成されたレジスト又
は樹脂層の微細な特徴を基板から取り去り、そして明白
な解像度の喪失をひき起こすことがある。

【００２３】上板 次に上板が現像されたフォトレジスト層に結合、好まし
くは積層される。上板は貴金属の支持板及び表面層を備
えてもよい。支持板のいくつかの例を挙げるとガラス、
セラミック、金属、プラスチック、アクリル樹脂のよう
な熱可塑性樹脂、ポリエチレンなどがある。貴金属の例
には金、白金、パラジウム及びイリジウムが含まれる。

【００２４】工程 種々の印刷ヘッド製造工程はこれらの一般的な段階の各
々をいかに行うかの点で異なる。１つの実施態様におい
ては、貴金属の表面を付した上板を、印刷されたマイク
ロ回路を持つ下板の表面上の形状と適当に位置を合わ
せ、像形成させ、樹脂層を現像し、次いで熱と圧力を用
いて樹脂層又はレジスト表面と結合させる。熱硬化、冷
却および切断後、上板及び下板へのレジストの接着が改
良された１つ又はそれより多くのインクジェット印刷ヘ
ッドができあがる。

【００２５】

【実施例】下記の実施例(部及びパーセンテージは重量
で示す)は本発明を例示するものであって、限定するも
のではない。別記しない限り、すべてのコーティングは
ポリエチレンテレフタレート支持フィルムに施し、そし
て片側つや消し又は透明なポリエチレンで被覆した。

【００２６】 用語 Ebecryl^R 7600樹脂 芳香族ウレタンアクリレート(官能価2.2)、Radcure製 イェローチップス 担体中の黄色染料 シアンチップス 担体中の青色染料 Paraloid^R BTA 717樹脂 メチルメタクリレート／ブタジエン／スチレンターポ リマー、Rohm and Haas製 Evalcite^R 2051樹脂 ポリメチルメタクリレート（分子量150,00０)、 Du Pont製 エチルミヒラーケトン ４,４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン ＴＭＣＨ (４−メチル−４−トリクロロメチル−２,５−シクロヘキ サジエノン） ＬＣＶ ロイコクリスタルバイオレット ＴＤＭＡ トリエチレングリコールジメタクリレート(SR-205)、 Sartomer製 Ebecryl^R 3903樹脂 半アクリル酸化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、 Radcure製 ＴＰＰ トリフェニルホスフィン、Aldrich Co.製 ＴＭＰＴＡ トリメチロールプロパントリアクリレート ＴＭＰＴＭＡ トリメチロールプロパントリメタクリレート ｏ−Ｃｌ−ＨＡＢＩ ２,２′−ビス（クロロフェニル）−４,４′,５,５′−テ トラフェニルビイミダゾール

【００２７】試料は次の試験法により試験した。 上板への接着 光重合体フィルムを回路要素及び不動態化層を有するシ
リコンウェーハ基板上に積層した。フィルムはアートワ
ークを通して露光し、次いでｎ−メチルピロリドン及び
ジエチレングリコールの混合物を用いて現像した。フィ
ルムを紫外線硬化させ、そして硬化したフィルムの上に
上板を積層した。サンドイッチ構造物を２２０℃で３０
〜６０分間ベークした。Instron Corp.（Springfield,
NJ）製のInstron装置を用いて上板を剥がし、剥離力を
測定した。

【００２８】耐インキ性 光重合体フィルムを回路要素及び不動態化層を有するシ
リコンウェーハ基板上に積層した。フィルムはアートワ
ークを通して露光し、次いでｎ−メチルピロリドン及び
ジエチレングリコールの混合物を用いて現像した。フィ
ルムを紫外線硬化させ、そして硬化したフィルムの上に
上板を積層した。サンドイッチ構造物を２２０℃で３０
〜６０分間ベークした。Instron Corp.（Springfield,
NJ）製のInstron装置を用いて上板を剥がし、剥離力を
測定した。試料をインキに７０℃で３週間浸漬し、そし
て上板を除くのに要する剥離力を上述のInstron装置を
用いて測定した。

【００２９】実施例１ 試料Ａ及びＢを次の組成物を２４ミクロンの厚さのポリ
エチレンテレフタレート基板上にコートして作製した。

【００３０】

【表１】

【００３１】ＴＰＰを含む試料Ｂの感度は８０mJで１
０.５であり、これに対して対照試料Ａのそれは８であ
った。試料Ｂでは現像後幅１５ミクロンのＬ字線が基板
表面に接着しており、これに対して対照では幅２０ミク
ロンのＬ字線が基板に接着しているのみであった。次
に、試料の接着性及び耐インキ性を前述したように試験
した。紫外線露光後試料をベーキングすると接着性は増
加し、その結果解像度は改善された。シリコンウェーハ
基板に積層した試料を１４８.９℃（３００°Ｆ）の炉
に１０分間入れた場合、試料Ｂは良好に現像され、そし
て試料Ａ（対照）は現像されなかった。

【００３２】実施例２ 次の組成物を２４ミクロンの厚さのポリエチレンテレフ
タレート基板にコートして４つの試料を作製した。

【００３３】

【表２】 すべての試料はポリエチレンテレフタレート基板に良好
に接着をしたが、解像度についてはＴＰＰを含む試料
Ｂ、Ｃ及びＤは対照試料Ａより良好であった。

【００３４】実施例３ 次のアセトン中２５〜４０％固体溶液の組成物を厚さ２
４ミクロンのポリエチレンテレフタレート基板にコート
して２つの試料を作製した。

【００３５】

【表３】

【００３６】試料の接着性及び耐インキ性につき、先に
概説したように試験した。新鮮な対照試料Ａは５０ミク
ロンの間隔を解像したが、エージング後４０％低下し、
はなはだしい残渣が認められた。ＴＰＰを含む試料Ｂは
新鮮なものもエージング後のものも６０ミクロンの間隔
を解像した。新鮮な試料及びエージング後の試料に残渣
は認められなかった。熱循環の後、対照試料Ａは試料Ｂ
より７８％大きい剥離を示した。試料Ｂにおける光重合
体層のポリイミドフィルムへの接着（E. I. duPont de
Nemours and Company, Wilmington, DE）は硬化後にお
いて対照試料Ａのそれより３５％良好であった。耐イン
キ性試験を実施した後、試料Ｂの接着性は対照試料Ａよ
り４０％良好であることが判明した。

【００３７】実施例４ 次のアセトン中２５〜４０％固体溶液の組成物を厚さ２
４ミクロンのポリエチレンテレフタレート基板にコート
して５つの試料を作製した。

【００３８】

【表４】

【００３９】リン化合物を含む試料は２５mJ露光でより
高い感度を示した。試料を４０℃、相対湿度７０％の環
境オーブン中で３０日間エージングした。エージングし
た試料をシリコンウェーハ上に積層し、紫外線に露光し
そしてトリクロロエタンを使用して現像した。リン含有
試料はきれいに現像されたが、対照試料ははなはだしい
残渣が認められた。これらのリン含有試料は良好な耐イ
ンキ性能を示すことが期待される。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 上板、インキ通路を形成する中間フォト
   レジスト層、及び下板を有するインクジェット印刷ヘッ
   ドにおいて、前記印刷ヘッドの耐久性がフォトレジスト
   層に式 【化１】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂及びＲ₃は炭素原子数６〜１０の置換
   された又は置換されていないアリール基であり、そして
   Ｘは酸素又は硫黄である）のリン化合物を存在させるこ
   とにより改善されることを特徴とする印刷ヘッド。
2. 【請求項２】 リン化合物がフォトレジスト層の全重量
   に基づいて、約０.０１〜２重量％の量で存在する請求
   項１記載の印刷ヘッド。
3. 【請求項３】 Ｒ基の少なくとも１つがクロリド、ブロ
   ミド、ヨージド、ニトリル、ヒドロキシ、アルキル又は
   アルコキシ基を含む置換されたフェニル基である請求項
   １記載の印刷ヘッド。
4. 【請求項４】 リン化合物がトリフェニルホスフィン、
   トリクレシルホスフィン、トリフェニルホスフェート、
   トリフェニルホスフィンスルフィド、トリエチルホスフ
   ィンオキシド、トリメチルホスフィン、トリス（クロロ
   メチル）ホスフィン、トリス（トリクロロメチル）ホス
   フィン、トリペンチルホスフェート、トリエチルホスフ
   ェート、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファ
   イト、及びトリフェニルホスファイトからなる群より選
   ばれる請求項１記載の印刷ヘッド。
5. 【請求項５】 リン化合物がフォトレジスト層の全重量
   に基づいて、約０.０５〜０.５重量％の量で存在する請
   求項４記載の印刷ヘッド。
6. 【請求項６】 フォトレジスト層が１５〜５０重量％の
   バインダー、５〜５０重量％のモノマー、及び０.５〜
   １０％の光開始剤を含む請求項５記載の印刷ヘッド。
7. 【請求項７】 フォトレジスト層がビス−フェノールＡ
   エポキシモノマーの半アクリルオイルエステルを含む請
   求項６記載の印刷ヘッド。
8. 【請求項８】 フォトレジスト層が巨大分子エラストマ
   ー性水不溶性バインダーを含む請求項６記載の印刷ヘッ
   ド。