JPH083599A - 高嵩密度粒状洗剤組成物の製造方法 - Google Patents

高嵩密度粒状洗剤組成物の製造方法

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JPH083599A
JPH083599A JP16314494A JP16314494A JPH083599A JP H083599 A JPH083599 A JP H083599A JP 16314494 A JP16314494 A JP 16314494A JP 16314494 A JP16314494 A JP 16314494A JP H083599 A JPH083599 A JP H083599A
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surfactant
stage
granulator
cleaning agent
stirring
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JP16314494A
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Takashi Inotsuka
隆 猪塚
Yoshiko Shinjiyou
佳子 新條
Tsutomu Ishikawa
努 石川
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 界面活性剤と少なくとも1種の無機ビルダー
粉体とを出発原料として造粒するに際し、撹拌造粒機を
直列に多段配置した多段造粒系を用い、この多段造粒系
に界面活性剤および粉体状無機ビルダーを分割して添加
し、各段の前記造粒機内の平均滞留時間を0.5〜60
秒、撹拌翼の先端速度を8〜40m/sとして多段造粒
して高嵩密度粒状洗剤組成物を製造する。 【効果】 高濃度に界面活性剤を含んだ高嵩密度洗剤組
成物を撹拌造粒機により製造する際に問題となる洗剤粒
子の溶解性を改善することができ、また、界面活性剤ペ
ースト等のペースト等ないし液状の出発原料を多段の造
粒機に分割添加することにより、被処理物の造粒機への
付着を防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高濃度に界面活性剤を
含有し、溶解性に優れた高嵩密度粒状洗剤組成物の製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】撹拌造粒を用いて高嵩密度洗剤を製造す
る例としては、特開昭61−69897号公報および特
開昭61−69900号公報に洗剤の噴霧乾燥粒子を粉
砕した後、横型および縦型ミキサー内で表面改質剤の存
在下に撹拌造粒を行う方法が示されている。一般に撹拌
造粒では混合度が不足し洗剤粒子の溶解性の低下が懸念
されるが、ここでは噴霧乾燥粒子を用いることで界面活
性剤成分の分散性を向上して、溶解性を良好にしている
ものと推測される。しかし、噴霧乾燥工程を用いること
は省エネの点から好ましくない。
【0003】噴霧乾燥工程を経ずに洗剤を製造する例と
しては、特開平2−86700号公報に活性剤ペースト
と乾燥洗浄性ビルダーを混合してドウを形成後、−25
〜20℃の温度で造粒を行う方法が示されているが、こ
こでは造粒機への付着が懸念されるため高温での造粒は
困難であり、所定温度まで冷却する余分な工程が必要と
なる。
【0004】2段の造粒機を用いる粒状洗剤の製造法と
して、特開平2−173099号公報、特開平2−28
6799号公報に高速ミキサーと中速ミキサーとを2段
に組み合わせて連続的に高嵩密度粒状洗剤を製造するこ
とが開示されているが、この方法では特に2段目の中速
ミキサーの滞留時間が1〜10分と長く、生産性の低下
が懸念される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、撹拌造粒機
を用いて高嵩密度粒状洗剤組成物を製造するに際し、そ
の洗剤粒子の溶解性を改善することを目的とする。本発
明は、また、造粒時に懸念される造粒機付着を抑制する
ことにより、効率的に高嵩密度粒状洗剤組成物を製造す
ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の高嵩密度粒状洗
剤組成物の製造方法は、界面活性剤と少なくとも1種の
無機ビルダー粉体とを出発原料として造粒するに際し、
撹拌造粒機または混合造粒機を直列に多段配置した多段
造粒系を用い、この多段造粒系に界面活性剤および粉体
状無機ビルダーを添加し、各段の前記造粒機内の平均滞
留時間を0.5〜60秒として多段造粒することを特徴
とし、これにより洗剤粒子の溶解性が改善される。
【0007】また、界面活性剤および/または出発原料
として用いられる他のペースト状ないし液状物質を、一
段目の造粒機に全量添加するのではなく、界面活性剤お
よび/または他のペースト状ないし液状物質を、各段の
造粒機に分割して添加することが好ましく、これにより
出発原料の造粒機への付着が防止される。
【0008】
【発明の実施態様】本発明では、出願原料として界面活
性剤と少なくとも1種の無機ビルダー粉体とを用いる。
本発明で用いられる界面活性剤の種類としては、陰イオ
ン界面活性剤、非イオン界面活性剤、またはそれらの組
合わせが用いられる。陰イオン界面活性剤としては、硫
酸エステル塩、スルホン酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩
等が使用でき、例えば以下のものを用いることができ、
硫酸エステル塩型、スルホン酸塩型のものが好適であ
る。
【0009】(1)平均炭素数10〜18のアルキル基
またはアルケニル基を有する直鎖または分岐鎖アルキル
ベンゼンスルホン酸塩。 (2)平均炭素数10〜18のアルキル基またはアルケ
ニル基を有する高級アルコール硫酸エステル塩。
【0010】(3)飽和または不飽和のアルコール残基
の平均炭素数が10〜18で1分子内に平均0.5〜8
モルのエチレンオキサイドを付加した高級アルコールエ
トキシレート硫酸塩。 (4)平均炭素数10〜18のα−オレフィンスルホン
酸塩。
【0011】(5)飽和または不飽和の脂肪酸残基の平
均炭素数が10〜18、エステルのアルキル基の炭素数
が1〜5のα−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩。 (6)飽和または不飽和の平均炭素数10〜22の脂肪
酸のアルキル金属塩。界面活性剤ペースト中の非イオン
界面活性剤としては、以下のものが例示される。 (1)以下の化1で示される脂肪酸ポリオキシアルキレ
ンアルキルエーテル。
【0012】
【化1】 (R1 CO:炭素数6〜20の飽和または不飽和の脂肪
酸残基 AO:炭素数2〜4のオキシアルキレン基あるいはそれ
らの混合したオキシアレキレン基 n:オキシアルキレンの平均付加モル数を示し3〜30
であり、混合付加の場合の付加形式ではランダム付加で
もブロック付加でもよい R2 :炭素数1〜5の低級アルキル基)
【0013】(2)飽和または不飽和の直鎖または分岐
鎖のアルコールの炭素鎖長8〜18、オキシエチレンの
平均付加モル数3〜30のポリオキシエチレンアルキル
エーテル。
【0014】(3)飽和または不飽和の直鎖または分岐
鎖のアルコールの炭素鎖長8〜18、オキシエチレンの
平均付加モル数3〜30、オキシプロピレンの平均付加
モル数2〜30のポリオキシエチレンポリオキシプロピ
レンアルキルエーテル。
【0015】界面活性剤は、固体状または有効成分濃度
(水以外の成分濃度)が50〜90重量%のペーストが
好適であり、50%未満では製品の水分が多くなりす
ぎ、90%を超えると粘度が高すぎて輸送が困難となる
可能性がある。固体状のものを用いる場合は、原材料中
の活性剤濃度は80%以上が好ましい。
【0016】界面活性剤は陰イオン界面活性剤と非イオ
ン界面活性剤とを組み合わせることにより単独で用いる
よりも粘度が減少し、取扱いが容易となる。特に、α−
スルホ脂肪酸アルキルエステル塩と、オキシエチレン基
が15モル以下付加の非イオン界面活性剤の組合せが好
ましい。
【0017】無機ビルダー粉体としては、アルカリビル
ダー、結晶性アルミノ珪酸塩、層状シリケートが代表的
である。アルカリビルダーとしては、炭酸または炭酸水
素とカリウムとの塩、炭酸または炭酸水素とナトリウム
との塩、珪酸塩等が挙げられる。さらに、必要に応じ、
亜硫酸ソーダ、シリカ系粉末、粘土系粉末、有機系およ
び無機系の各種キレートビルダーおよび蛍光剤等を同時
に用いることも可能である。
【0018】本発明で用いられる多段造粒系は、撹拌造
粒機を好ましくは2段または3段に配置して構成され、
出発原料は2または3段の造粒機で順次処理されること
により、目的とする嵩密度、平均粒径にまで造粒され
る。造粒機は同種のものを組み合わせても異種のものを
組み合わせてもよい。
【0019】また、造粒機としては、撹拌翼の先端速度
が8〜40m/sの高速連続式撹拌造粒機が好ましく、
撹拌造粒機としては、シュギミキサー(パウレックス社
製)、タービュライザー(ホソカワミクロン社製)、連
続式レーディゲミキサー、連続式ハイスピードミキサー
(深江工業社製)等が挙げられ、同種または異種の組合
せでも可能である。
【0020】本発明では、上記の如き多段造粒系に対し
て、出発原料である界面活性剤および無機ビルダー粉体
を投入して各段の造粒機により造粒する。ここで、界面
活性剤は出発原料の10〜70重量%の量で投入、添加
することが好ましく、より好ましくは20〜55重量%
である。この量が70重量%を超えると、造粒に際して
のバインダー成分が過多となるため粒子形態をとどめな
くなり、一方、10重量%未満では洗剤としての性能が
低下する。
【0021】また、無機ビルダー粉体は、出発原料の3
0〜90重量%の量投入・添加することが好適であり、
好ましくは45〜80重量%である。さらに、界面活性
剤は、その全量を一段目の造粒機に投入してもよいが、
分割して各段の造粒機にそれぞれ投入、添加することも
できる。このように、各段の造粒機に界面活性剤を分割
して添加することにより、造粒機内での処理物が、造粒
機の内面やパドル等に付着することが効果的に防止で
き、特に高濃度で界面活性剤を含む界面活性剤ペースト
を使用する場合のように、造粒機内への付着が生じやす
い場合に有効である。
【0022】分割比は、界面活性剤濃度、付着性の程度
に応じて適宜決定することが可能であるが、2段造粒の
場合は、1段目/2段目=85/15〜50/50(重
量比)の範囲が好適である。一方、3段造粒の場合は、
1段目/2段目/3段目=70/20/10〜40/3
0/30(重量比)の範囲が好適である。
【0023】2段目以降に出発原料の60%以上を添加
すると、2段目以降の付着を生じる場合があり、したが
って2段目以降には50%以下が好ましく、40%以下
がさらに好ましい。また、ビルダー類については、2段
目以降にビルダーの20%以下を添加することが好まし
く、15%以下がさらに好ましい。
【0024】また、界面活性剤および無機ビルダー粉体
に加えて他のペースト状ないし液状物を出発原料として
用いる場合は、この他のペースト状ないし液状物を分割
添加することによっても同様の効果が得られる。このと
き、界面活性剤は分割添加でも一括添加でもよいが前者
が望ましい。他のペースト状物ないし液状物としては、
ポリエチレングリコール水溶液、カルボキシメチルセル
ロース水溶液などが例示される。
【0025】各段の造粒機内における被処理物の平均滞
留時間は0.5〜60秒であり、好ましくは3〜60秒
さらに好ましくは3〜30秒とする。平均滞留時間が
0.5秒未満であると造粒が不十分となり溶解性の低下
が懸念され、一方、60秒を超えると粒径の不均一が生
じる。
【0026】また、造粒後に粉砕助剤と共に粉砕機また
は解砕機を用いて整粒を行うこともできる。この際用い
られる装置としてはフィッツミル(細川ミクロン社
製)、スピードミル等が挙げらる。粉砕助剤としてはゼ
オライト、炭酸ナトリウム、シリカ系微粉体が用いられ
る。造粒または整粒後に流動性改良剤として、粒径10
μm以下の微粉体ゼオライト等の無機化合物を添加する
ことも可能である。
【0027】さらに、本発明の高嵩密度粒状洗剤粒子に
対して、洗浄性向上剤であるキレートビルダー、酵素等
を粉体ブレンドすることも可能である。ここで用いるキ
レートビルダーとしては、粉体ゼオライト、層状シリケ
ート、マレイン酸ナトリウム−アクリル酸の共重合体、
β−アラニジン酢酸ナトリウム等が挙げられる。また、
発塵抑制のために非イオン界面活性剤またはその水溶液
等の噴霧や賦香のための香料の噴霧等の処理を行うこと
も可能である。
【0028】本発明により得られる高嵩密度粒状洗剤組
成物は、多段造粒あるいはそれに続く整粒処理により、
平均粒径200〜1000μm、好ましくは300〜7
00μm、嵩密度0.5g/cc以上、好ましくは0.
7〜1.0g/ccの造粒物として得ることができる。
【0029】
【発明の効果】本発明によれば、撹拌造粒機を用いた多
段造粒系を用いて平均滞留時間を制御して造粒すること
により、高濃度に界面活性剤を含んだ高嵩密度洗剤組成
物を撹拌造粒機を用いて製造する際に問題となる洗剤粒
子の溶解性を改善することができる。また、界面活性剤
ペースト等のペースト等ないし液状の出発原料を多段の
造粒機に分割添加することにより、被処理物の造粒機へ
の付着を防止できる。
【0030】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより詳細に説
明するが、これに先立って実施例で採用した評価方法を
説明する。
【0031】[溶解性測定法]試料5gを5℃、100
0ccの水中に添加し、250rpmで8分間撹拌を行
った後、ナイロン布を濾布とし、濾過後の残渣物につい
て105℃、24hr乾燥後の重量を測定し、次の数1
により求めた値を溶解残渣として溶解性の指標とした。
【0032】
【数1】溶解残渣(%)=[乾燥後重量(g)/5
(g)]×100
【0033】実施例1〜6 表1および表2に示す組成ならびに条件に従って、界面
活性剤ペースト(70℃で定量フィード)とビルダーを
用いて撹拌粒操作を行い、得られた造粒物を平均粒径2
μmのゼオライトと共にフィッツミル(ホソカワミクロ
ン社製)を用いて、スクリーン径1.5mmの条件で粉
砕を行い平均粒径300〜700μm、嵩密度0.6〜
0.9g/ccの洗剤粒子を得た。造粒機内面及びパド
ルに付着した固形物をかき取り、付着量を調べた結果お
よび溶解残渣の値を表5に示した。
【0034】比較例1〜3 表3および表4に示す組成及び装置条件に従って、界面
活性剤ペーストとビルダーを用いて撹拌造粒操作を行
い、得られた造粒物を平均粒径2μmのゼオライトと共
にフィッツミル(ホソカワミクロン社製)を用いて、ス
クリーン径1.5mmの条件で粉砕を行い平均粒径40
0〜600μm、嵩密度0.70〜0.80g/ccの
洗剤粒子を得た。
【0035】造粒機内面及びパドルに付着した固形物を
かき取り、付着量を調べた結果および溶解残渣の値を表
5に示した。以上、実施例及び比較例から明らかなよう
に本発明の製法によれば、溶解性が改善され、あるいは
更に造粒機の付着低減が図れ、高嵩密度洗剤組成物の安
定な生産が可能となる。
【0036】
【表1】 表1:洗剤粒子の組成 実 施 例 1 2 3 4 5 6 組成(wt%) 界面活性剤ペースト 52.0 33.6 33.6 33.6 33.6 28.0 AI換算量 α-SF-Na*1 (30.0) (12.0) (12.0) (12.0) (12.0) (27.7) AOS-K ( − ) (10.0) (10.0) (10.0) (10.0) ( − ) ノニオンA*2 (10.0) ( − ) ( − ) ( − ) ( − ) ( − ) ノニオンB*3 ( − ) ( 7.0) ( 7.0) ( 7.0) ( 7.0) ( − ) 蛍光剤*4 ( 0.5) ( 0.5) ( 0.5) ( 0.5) ( 0.5) ( − ) ビルダー類 炭酸カリウム 19.7 12.0 12.0 12.0 12.0 12.0 炭酸ナトリウム 13.0 27.4 27.4 27.4 27.4 28.0 ゼオライト 13.3 25.0 25.0 25.0 25.0 25.0 (内、粉砕助剤分) ( 8.0) ( 8.0) ( 8.0) ( 8.0) ( 8.0) ( 8.0) 亜硫酸ナトリウム 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 添加水 − − − − − 5.0 計 100 100 100 100 100 100 *1)α−SF−Na:脂肪酸残基の炭素数14/16=2/8のα−スルホ 脂肪酸メチルエステルナトリウム *2)ノニオンA:脂肪酸(C18)ポリオキシエチレンメチルエステル(EO p=15),EOp:エチレンオキサイドの平均付加モル数 *3)ポリオキシエチレンアルキル(C16)エーテル(EOp=10) *4)蛍光剤種類:4,4′−ビス(4−アミノ−6−モルホリノ−1,3, 5−トリアジニルアミノ)スチルベンジスルホン酸(ホワイテックスSA):4 ,4′−ビス(2−スルホスチリル)ビフェニルジナトリウム(チノパールCB S−X)=4:1の混合物
【0037】
【表2】 表2:洗剤粒子の製造装置条件 実 施 例 1 2 3 4 5 6 撹拌造粒機使用段数 2 2 2 2 3 2 造粒機種類*51段目 A A A A B A 造粒機種類*52段目 A A A B A A 造粒機種類*53段目 − − − − A − 撹拌翼の先端速度1段目 15 20 8 35 13 15 撹拌翼の先端速度2段目 15 10 8 15 25 10 撹拌翼の先端速度3段目 − − − − 25 − 滞留時間(秒)1段目 5 3 5 4 1 4 滞留時間(秒)2段目 5 10 55 8 3 5 滞留時間(秒)3段目 − − − − 3 − 各段液添加量比 100/0 100/0 75/25 67/33 40/30/30 67/33 各段ビルダー添加量比 100/0 100/0 100/0 90/10 80/10/10 95/5 *5)造粒機種類:A タービュライザー B 連続時レーディゲミキサー
【0038】
【表3】 表3:洗剤粒子の組成 比 較 例 1 2 3 組成(wt%) 界面活性剤ペースト 52.0 52.0 33.6 AI換算量 α-SF-Na*1 (30.0) (30.0) (12.0) AOS-K ( − ) ( − ) (10.0) ノニオンA*2 (10.0) (10.0) ( − ) ノニオンB*3 ( − ) ( − ) ( 7.0) 蛍光剤*4 ( 0.5) ( 0.5) ( 0.5) ビルダー類 炭酸カリウム 19.7 19.7 12.0 炭酸ナトリウム 13.0 13.0 27.4 ゼオライト 13.3 13.3 25.0 (内、粉砕助剤分) ( 8.0) ( 8.0) ( 8.0) 亜硫酸ナトリウム 2.0 2.0 2.0 添加水 − − − 計 100 100 100 *1)α−SF−Na:脂肪酸残基の炭素数14/16=2/8のα−スルホ 脂肪酸メチルエステルナトリウム *2)ノニオンA:脂肪酸(C18)ポリオキシエチレンメチルエステル(EO p=15),EOp:エチレンオキサイドの平均付加モル数 *3)ポリオキシエチレンアルキル(C16)エーテル(EOp=10) *4)蛍光剤種類:4,4′−ビス(4−アミノ−6−モルホリノ−1,3, 5−トリアジニルアミノ)スチルベンジスルホン酸(ホワイテックスSA):4 ,4′−ビス(2−スルホスチリル)ビフェニルジナトリウム(チノパールCB S−X)=4:1の混合物
【0039】
【表4】
【0040】
【表5】 表5:評価結果 実 施 例 比 較 例 1 2 3 4 5 6 1 2 3 1段目付着量(g) 39.1 31.0 5.2 3.8 1.0 5.3 40.0 39.5 31.3 2段目付着量(g) 0 0 1.8 2.0 1.9 1.3 − − − 3段目付着量(g) − − − − 1.5 − − − − 溶解残渣(%) 3.1 0 0.1 0.4 0 0 30.2 21.5 10.2

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 界面活性剤と少なくとも1種の無機ビル
    ダー粉体とを出発原料として造粒するに際し、撹拌造粒
    機を直列に多段配置した多段造粒系を用い、この多段造
    粒系に界面活性剤および粉体状無機ビルダーを添加し、
    各段の前記造粒機内の平均滞留時間を0.5〜60秒と
    して多段造粒することを特徴とする高嵩密度粒状洗剤組
    成物の製造方法。
  2. 【請求項2】 界面活性剤および/または出発原料とし
    て用いられる他のペースト状ないし液状物質を、各段の
    撹拌造粒機に分割して添加する請求項1に記載の高嵩密
    度粒状洗剤組成物の製造方法。
  3. 【請求項3】 撹拌造粒機の撹拌翼の先端速度が8〜4
    0m/sである請求項1または2に記載の高嵩密度粒状
    洗剤組成物の製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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