JPH08314152A

JPH08314152A - レジスト処理装置

Info

Publication number: JPH08314152A
Application number: JP7148062A
Authority: JP
Inventors: Takayuki Toshima; 孝之戸島; Yuji Kakazu; 勇二嘉数
Original assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Kyushu Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Kyushu Ltd
Priority date: 1995-05-23
Filing date: 1995-05-23
Publication date: 1996-11-29
Anticipated expiration: 2015-06-05
Also published as: JP3048318B2

Abstract

(57)【要約】【目的】濾材に添着された酸成分の消費のバラツキを
抑えることにより、フィルタ部の有効寿命が長いレジス
ト処理装置を提供すること。【構成】例えばリン酸を添着してなるシート体をプリ
−ツ状に折り曲げた第１の濾材７０と第２の濾材７１と
を、一方の濾材の山側部分Ａと他方の濾材の谷側部分Ｂ
とを重ね、折り曲げた面を通気するように配置して第１
のフィルタ部６１を構成し、このフィルタ部６１を介し
て外気を取り入れる。濾材は山側部分Ａは谷側部分Ｂよ
りも酸成分の消費量が多いが、第１の濾材７０と第２の
濾材７１とを、酸成分の消費量の多い部分と少ない部分
とが上下に重なるように設けることにより、消費量のバ
ラツキを低減し、濾材を有効に使うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体ウエハや
液晶ディスプレイ基板に対してレジスト処理を行うため
のレジスト処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に半導体製造におけるフォトレジス
ト処理工程にあっては、半導体ウエハ（以下「ウエハ」
という。）上に形成された例えばＳｉＯ₂などの薄膜上
にレジストを塗布し、レジスト膜を所定のパターンで露
光した後現像してマスクパターンを形成している。

【０００３】ところで近年の急激なデバイスの集積化に
伴いフォトリソグラフィ技術についても改良がなされて
いる。例えばＤＲＡＭの場合、４ＭのＤＲＡＭのパター
ンについては、０．７〜０．８μｍ程度の線幅が要求さ
れており、露光の光源としてはｇ線やｉ線などが用いら
れると共にレジスト材料としてはノボラック系の樹脂が
用いられている。

【０００４】しかしながら次世代のデバイス、例えば１
６Ｍ、６４Ｍあるいはそれ以上の容量のＤＲＡＭに対応
するためには光源波長の短波長化を進めることが必要で
あり、例えばエキシマレーザ光などの紫外線などが有力
視されている。しかしながらこのような短波長の光に対
してノボラック系の樹脂の光吸収率が相当大きいことか
らレジスト形状の垂直性が悪く、このためレジスト材料
の研究が活発に行われている。

【０００５】そこで最近において化学増幅型のレジスト
材料が提案され検討されている。この化学増幅型のレジ
スト材料は、露光することにより感光剤から酸が生成
し、この酸が加熱処理により拡散して触媒として作用
し、レジスト材料の主成分であるベース樹脂を分解した
り分子構造を変えて現像液に対して可溶化あるいは不溶
化するものである。

【０００６】従ってこの種のレジスト膜を用いれば、触
媒１分子が複数の化学反応に寄与するため、照射光のみ
で現像液に対する溶解速度を変化させていた従来のレジ
スト膜に比べて原理的に光感度が高く、また短波長領域
における光透過率が高いため露光波長が短いエキシマレ
ーザ光を用いても膜厚方向の光強度分布を緩和すること
ができ、この結果０．３μｍレベルの線幅に対しても対
応することが可能である。

【０００７】従来フォトレジスト処理を行うために、塗
布、現像の各工程を一括したレジスト処理装置である塗
布、現像装置が使用されており、化学増幅型のレジスト
膜にパタ−ンを形成するためにもこの装置が適用され
る。この装置は、例えば図５に示すように、例えば塗
布、現像装置本体１内に、例えばウエハとレジストとの
密着性を高めるための疎水化処理（アドヒージョン処
理）部（図示せず）、ウエハ上にレジスト膜を塗布する
ための塗布部１１、レジストが塗布されたウエハを加熱
処理する加熱処理部１２、及び露光後のウエハを現像す
る現像部（図示せず）などがウエハの搬送アーム１３の
搬送路の両側にて当該搬送路に沿って設けられ、搬送ア
ームにより搬入されたウエハが疎水化処理部、塗布部１
１、加熱処理部１２を経た後、外部の露光装置により露
光され、次いで再び搬送アーム１３により搬送されたウ
エハが現像部にて現像されるように構成されている。

【０００８】ここでレジスト膜を露光した後、加熱・現
像処理する工程において、パタ−ンの平面形状及び深さ
方向の形状が劣化するという現象が生じており、この理
由の一つとして、空気中に含まれている微量なアンモニ
ア、あるいは壁の塗料や疎水化処理に用いられるＨＭＤ
Ｓ（ヘキサメチルジシラサン）から発生するアミンなど
の、装置本体１内に通常４〜５０ｐｐｂの濃度で存在す
るアルカリ成分がレジスト膜の表面付近の酸と接触し
て、既述した酸による触媒反応を抑制していることが考
えられる。

【０００９】このため塗布、現像装置本体１の上面側に
形成された空気取り入れ口１５に、例えばリン酸が添着
された炭素繊維よりなるシ−ト体をプリ−ツ状（蛇腹
状）に折り曲げて構成されたフィルタ１６を、折り曲げ
た面を通気するように設けると共に、このフィルタ１６
の下に吸引手段１７を設け、装置外部の空気をフィルタ
１６を介して装置本体内部に取入れ、この際空気中に含
まれるアンモニアやアミンなどのアルカリ成分をリン酸
により中和して除去する試みがなされている。このよう
ないわばケミカルフィルタを用いれば、装置本体１内の
アルカリ成分の濃度を酸による触媒反応を抑制しない程
度の濃度例えば１ｐｐｂ以下になることが確認されてい
る。

【００１０】

【発明が解決しようとしている課題】ところで上述の塗
布、現像装置では、フィルタ１６は折り曲げて構成され
ているため、通気方向に対して山側部分Ａと谷側部分Ｂ
とが形成されるが、本発明者は、山側部分Ａのリン酸の
消費量が谷側部分Ｂの消費量よりも多いことを把握し
た。この理由については、山側部分Ａの方が谷側部分Ｂ
よりも空気の吸引によって生じる風の衝撃力が強く、フ
ィルタ１６と接触するアルカリ成分の量が多いため、フ
ィルタ１６に添着されているリン酸の消費量も多くなる
と考えられる。このため山側部分Ａ以外の個所では、リ
ン酸が残存しているにもかかわらず、山側部分Ａのリン
酸がほぼ消費された段階でフィルタ１６の使用寿命がき
てしまい、一部が機能しないために全体を交換しなけれ
ばならず無駄な使い方をしているという問題があり、予
定としている使用寿命つまりリン酸が一律に消費した場
合の使用寿命よりもかなり早い時期に交換する必要があ
る。

【００１１】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的は、濾材に添着された酸成分の
消費のバラツキを抑えて濾材を有効に使うことができ、
フィルタ部の有効寿命を長くすることのできるレジスト
処理装置を提供することにある。

【００１２】

【発明を解決するための手段】請求項１の発明は、レジ
スト膜が塗布され、露光された被処理体を、被処理体の
搬入出口及び空気取り入れ口を備えたカバ−体内にて現
像し、前記レジスト膜は、露光により酸が生成して露光
部分が変質する化学増幅型のレジスト膜であるレジスト
処理装置において、前記空気取り入れ口に設けられ、前
記カバ−体の外の空気に含まれるアルカリ成分を除去す
るために酸成分を添着してなるシート体を用いたフィル
タ部と、前記カバ−体の外の空気を前記フィルタ部を介
してカバ−体の中に吸引する吸引手段と、を有し、前記
フィルタ部は、各々複数の山側部分と谷側部分とを形成
するようにプリ−ツ状に折り曲げた第１の濾材及び第２
の濾材を、一方の濾材の山側部分と他方の濾材の谷側部
分とが対向するように重ね、折り曲げた面を通気するよ
うに設けてなることを特徴とする。

【００１３】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、レジスト膜は化学増幅型のレジストであることを特
徴とする。

【００１４】

【作用】レジストが塗布された被処理体は、露光装置に
搬送されて露光され、これによりレジスト膜の露光部分
に酸が発生する。次いで被処理体は例えば加熱処理部に
て加熱処理されるが、このとき前記酸が拡散して露光部
分が現像液に対して可溶性あるいは不溶性となる。

【００１５】ここでレジスト処理装置本体の全体がカバ
−体で覆われており、外部の空気はフィルタ部を通って
装置本体内に取り込まれるが、フィルタ部には酸成分が
添着され、プリ−ツ状に形成された濾材が設けられてい
るので、空気中のアルカリ成分例えばアンモニアやアミ
ン成分が当該酸成分と反応して除去される。この際濾材
では、プリ−ツの山側部分では谷側部分よりも空気の風
圧が大きくなり、添着されている酸成分の消費量が多い
が、フィルタ部は第１及び第２の一方の山側部分と他方
の濾材の谷側部分とを重ねるように設けて構成したの
で、酸成分の消費量の多い部分と少ない部分とが重なる
ことになる。この結果フィルタ部全体としてみれば酸性
分の消費量のばらつきが抑えられ、外気中のアルカリ成
分の除去効率が高くなり、フィルタ部の有効寿命が長く
なる。

【００１６】

【実施例】図１、図２及び図３は本発明の実施例に係る
レジスト処理装置である塗布、現像装置の縦断正面図、
概観斜視図及び内部を示す略解平面図である。この実施
例では塗布、現像装置本体（レジスト処理装置本体）２
の前後に被処理体であるウエハＷの搬出入ユニット部２
１、２２が夫々連設されて塗布、現像装置が構成されて
いる。前記搬入出ユニット部２１、２２は、例えばＸ、
Ｙ、Ｚ、θ方向に移動自在な搬送アーム２１ａ、２２ａ
やウエハキャリアｃの載置ステージ２３などが設けられ
ている。

【００１７】前記塗布、現像装置本体２の中央には、図
３に示すように前後に伸びる例えばガイドレールよりな
るウエハの搬送路３１が形成されており、この搬送路３
には、ウエハＷを搬送するための搬送アーム３が設けら
れている。前記搬送路３１の両側には、疎水化（アドヒ
ージョン）処理部４、塗布部５１、加熱処理（ベーク）
部５２、冷却部５３及び現像部５４などが配設されてい
る。

【００１８】前記疎水化処理部４は、例えばＨＭＤＳの
蒸気を供給してウエハ表面を疎水化し、これによりウエ
ハ表面へのレジスト膜の密着性を向上させるためのもの
である。前記塗布部５１は、例えばポリビニルフェノー
ルなどのポリマーをアルキル基などでブロックした化学
増幅型の液状のレジスト材をウエハ表面に滴下して、例
えばウエハをスピンさせることによりウエハ表面全体に
均一に塗布するように構成される。

【００１９】前記加熱処理部５２は、ウエハを所定温度
に加熱処理する加熱板などから構成され、ウエハ表面に
塗布されたレジスト材に含まれる溶剤を蒸発させ、ある
いは露光後のレジスト膜を加熱して露光時に発生した酸
を拡散させるためのものである。加熱処理部５２は他の
処理部に比べて処理時間が長いので、スループットを向
上させるために例えば複数配設されている。前記冷却部
５３は、疎水化処理されたウエハを塗布部５１に搬送す
る前に所定温度に冷却するためのものである。前記現像
部５４は、露光後、加熱処理部５２を経たウエハに対し
て例えばアルカリ性の現像液により現像を行うためのも
のである。

【００２０】これら各処理部のレイアウトは適宜設計さ
れるが、例えば搬送路３１の片側あるいは両側にて複数
段の棚を構成して各棚に各処理部を割り当てれば、省ス
ペースにして高スループットを図ることができる。なお
この例では塗布、現像装置本体２の上部に電源系統２４
が配置されている。

【００２１】そして前記塗布、現像装置本体２は、全体
がカバー体６で覆われており、このカバー体６の上面側
には空気取り入れ口６０が形成されると共に、前後に
は、即ち搬入出ユニット部２１、２２との境界部には、
ウエハの搬入出口２５、２６（図２では見えない）が形
成されている。ただし全体がカバー体６で覆われている
とは、外部との間に多少隙間があってもよいが、後述の
ようにウエハを取りまく雰囲気がフィルタユニット部か
ら吸引された空気雰囲気となるように構成されていれば
よい。またこの実施例では搬入出ユニット部２１、２２
についてもウエハの搬入出口を除いてカバー体６で覆わ
れている。このカバー体６は一体ものである必要はな
く、メンテナンスや運搬の容易性などを考慮して別体も
のを組み合わせたものであってもよい。

【００２２】前記カバー体６の空気取り入れ口６０に
は、例えば図２に示すように前後方向に３個のフィルタ
ユニット部７が設けられており、このフィルタユニット
部７は、上から順に第１のフィルタ部６１、例えばファ
ンよりなる吸引手段６２及び第２のフィルタ部６３を積
層して構成される。第１のフィルタ部６１は、空気中に
含まれるアンモニアやアミンなどのアルカリ成分を、レ
ジスト膜中に生成した酸の触媒作用を妨げない程度の極
めて低い濃度例えば１ｐｐｂ以下に抑えるためのもので
ある。

【００２３】この第１のフィルタ部６１は、図４
（ａ），（ｂ）に示すように、濾材を外気の通気方向に
対して、複数段例えば２段積層して構成され、これら濾
材は酸成分例えばリン酸が添着されたシート体を複数の
山側部分Ａと谷側部分Ｂとを交互に形成するようにプリ
−ツ状（蛇腹状）に折り曲げて構成されている。上側に
配置された第１の濾材７０と下側に配置された第２の濾
材７１とは、各々折り曲げた面を通気すると共に、第１
の濾材７０の山側部分Ａと第２の濾材７１の谷側部分Ｂ
とが例えば隙間Ｓを介して互いに対向するように、濾材
７０、７１の側周部を例えばシール層７２ａを介して支
持枠７２に取り付けて構成されている。

【００２４】第１及び第２の濾材７０、７１は、例えば
同じ大きさに作られており、各濾材７０（７１）の通気
方向の長さＬ１及び折り曲げ間隔Ｌ２が例えば夫々７０
ｍｍ及び４ｍｍに、また隙間の長さＬ３が例えば０〜５
ｍｍに設定されている。７３はスリットであり、また支
持枠７２の吸引手段６２側にはガスケット７４が取り付
けられている。前記シ−ト体は、例えば活性炭繊維ある
いはオレフィン系繊維などの材質からなる繊維網状体を
酸溶液例えばリン酸溶液に浸漬した後、微細孔中に侵入
したリン酸溶液の一部を遠心分離機によりはじき飛ば
し、その後プレスしてプレ−ト化したものである。

【００２５】前記第２のフィルタ部６３は、空気中に含
まれるパーティクルを除去するためのものであり、濾材
の材質としてグラスファイバよりなるシート体を用いた
点、濾材を１段構成としている点、及びシート体にはリ
ン酸を添着していない点を除けば第１のフィルタ部６１
とほぼ同じ構成である。

【００２６】フィルタ部６１、６３に用いられるガスケ
ットの材質としては、アンモニアの発生が少ないものが
望ましく、例えばシリコンゴムやＰＶＣなどが好適であ
る。これらの材質は超純水に浸漬してアンモニアの溶出
量を測定したところ１ｃｍ²当り２０ｎｇ／ｃｍ²以下
の溶出量であり、従って空気中ではアンモニアの発生が
実質的には起こらないと考えられる。なおこの実施例で
はフィルタユニット部７は、塗布、現像装置本体２のみ
ならず搬入出ユニット部２１、２２の上部にも取り付け
られている。

【００２７】次に上述実施例の作用について述べる。先
ず処理前のウエハが一方の搬入出ユニット部２１及び塗
布、現像装置本体２内の搬送アーム３を介して疎水化処
理部４に受け渡され、疎水化処理が行われる。続いてこ
のウエハは冷却部５３にて冷却された後塗布部５１にて
化学増幅型のレジスト材料が表面に塗布され、次に加熱
処理部５２にて加熱処理される。

【００２８】こうして表面にレジスト膜が形成されたウ
エハは、他方の搬入出ユニット部２２を介して別途設け
られた図示しない露光装置により露光され、当該搬入出
ユニット部２２を介して塗布、現像装置本体２内の加熱
処理部５２に戻される。化学増幅型のレジスト膜は露光
された部分に酸が発生し、加熱処理部５２にて加熱処理
されることにより酸が拡散して酸触媒反応が起こり、こ
の結果例えばポリマーをブロックしていたアルキル基な
どが外れてアルカリ性溶液に対して可溶化となる。

【００２９】このようなレジスト処理が行われている
間、外気（例えばクリ−ンル−ムの中の空気）は、吸引
手段６２によりフィルタユニット部７から塗布、現像装
置本体２内に吸引される。ここでこの外気には、壁の塗
料などから発生したアンモニアやアミンなどのアルカリ
成分が微量ながら含まれていることが多いが、このアル
カリ成分は第１のフィルタ部６１を通過するときに濾材
７０、７１に添着されたリン酸と中和反応を起こして除
去される。

【００３０】ここで第１のフィルタ部６１におけるアル
カリ成分の除去について述べる。即ちシ−ト体は既述の
ように構成されるが、繊維網状体をリン酸溶液に浸漬す
ると、微細孔にリン酸溶液が侵入し、これを遠心分離機
により処理すると、微細孔内のリン酸溶液がはじき飛ば
されて空洞が形成され、その内壁面にリン酸溶液の分子
が吸着した状態となる。更にこの繊維網状体をプレスす
ることにより微細孔の密度が高まり、しかも繊維網状体
の微細孔は形状が揃っており、また規則正しく配列され
ているので比表面積が大きい。そして濾材７０、７１は
シ−ト体をプリ−ツ状に折り曲げて構成されるため、外
表面積が大きい。

【００３１】従って外気が第１のフィルタ部１６を通過
する際、外気は外表面積即ち接触面積が大きい第１の濾
材７０と確実に接触し、微細孔内に浸透していく。この
際アルカリ成分は、比表面積の大きい微細孔に吸着して
いるリン酸と確実に接触して下記の（１）式に示す中和
反応（ここではアンモニアを例に示してある）を起こ
し、除去される。ＮＨ₃＋Ｈ₃ＰＯ₄ → （ＮＨ₄）Ｈ₂ＰＯ₄ ・・・（１）こうして外気中のアルカリ成分は、第１の濾材７０を通
過したときに除去され、例えばアンモニア濃度が０．１
ＰＰｂオ−ダの極めて低い濃度になる。そして第１の濾
材７０におけるリン酸の消費が進み、アルカリ成分が十
分に除去されずに第１の濾材７０を通り抜けてしまった
分については第２の濾材７１にて除去され、こうして第
１のフィルタ部１６を通過した後の空気中の例えばアン
モニア濃度が０．１ＰＰｂオ−ダの濃度になる。

【００３２】このため塗布、現像装置内においては、レ
ジスト膜中の酸の中和が抑えられるので、露光された部
分が確実に変質例えばアルカリ可溶化し、この結果アル
カリ性の現像液によりウエハ表面を現像することにより
所定のパターンが高い精度で得られる。また外気に含ま
れるパーティクルは第２のフィルタ部６３にて確実に除
去され、装置内はパーティクルの少ないクリーンな状態
が保持される。そしてこの実施例ではレジスト膜が塗布
された後搬入出口から搬出されるまでの間アルカリ成分
濃度の極めて低い雰囲気内に置かれるので、レジスト膜
表面部へのアルカリ成分の吸着が抑えられ、従ってこの
点からも上記の酸に対する悪影響が小さい。

【００３３】ここで「発明が解決しようとしている課
題」の項で述べたように、濾材７０（７１）の山側部分
におけるリン酸の消費速度は谷側部分における消費速度
よりも速い。このことは山側部分は空気がまともにあた
り風圧が強いが、谷側部分は上流両サイドにシ−ト面が
存在するので山側部分よりも風圧が弱く、外気アンモニ
ア濃度も低下することに起因すると考えられる。

【００３４】従って第１の濾材７０では、先ず山側部分
におけるリン酸がほとんど消費され、その後遅れて第１
の濾材７０の谷側部分におけるリン酸もほとんど消費さ
れる。ところで第１の濾材７０の山側部分の下流側には
第２の濾材７１の谷側部分が対向し、また第１の濾材７
０の谷側部分の下流側には第２の濾材７１の山側部分が
対向しているため、第２の濾材７１では、先ず第１の濾
材７０の山側部分で除去されなかったアルカリ成分によ
り谷側部分のリン酸の消費が始まり、その後遅れて、第
１の濾材７０の谷側部分で除去されなかったアルカリ成
分により山側部分のリン酸の消費が始まる。

【００３５】こうして第１の濾材７０の山側部分の寿命
がきた後、リン酸の除去は第２の濾材７１にて行なわれ
ることになるが、第２の濾材７１では、リン酸の実質的
消費の開始時期は谷側部分が山側部分よりも早く、谷側
部分の消費速度は山側部分の消費速度よりも遅い為、谷
側部分及び山側部分の間で寿命になる時期の差が小さく
なる。即ち第１のフィルタ部１６全体としてみれば、リ
ン酸の消費量のばらつきが抑えられ、有効な使い方をす
ることができる。

【００３６】仮に第１の濾材７０のみを使用し、寿命が
きたら第２の濾材７１に交換する場合を考えると、いず
れについても、山側部分のリン酸を消費しきった時点
で、他の部分はリン酸が残っていて機能しているにもか
かわらず交換しなければならないが、上述実施例の場合
には、第１及び第２の濾材７０、７１のリン酸をほとん
ど使い切ってしまうため、有効な使い方ができ、長い有
効寿命を得ることができる。

【００３７】以上において化学増幅型のレジスト材料と
しては種々のものを用いることができる。そして例えば
レジスト材料としてＩＸ−６０［商品名日本合成ゴム
（株）製］を用い、露光後のウエハを、アンモニア濃度
が１ＰＰｂ前後及び１０ＰＰｂ前後の雰囲気に夫々塗
布、現像装置内に滞在する時間に相当する時間放置した
ところ、前者の場合パターンの線幅±０．３％の合格基
準をクリアしたが後者の場合パターンが大幅に崩れた。
従ってこのレジスト材料においてはアンモニア濃度が１
ＰＰｂ以下であればよいが、０．７ＰＰｂ以下であれば
更に好ましい。

【００３８】以上において本発明では、前記第１のフィ
ルタ部６１としては、上述実施例のものに限られず、濾
材を３段以上積層してもよいし、例えばゼオライトや活
性炭などの粒状体群を濾材として用いてもよいし、濾材
に添着する酸成分としてはリン酸以外の例えばスルホン
酸などであってもよい。ただし濾材についてはパーティ
クルの発生が少ない点で繊維状のものが好ましい。

【００３９】またフィルタユニット部７を介して塗布現
像装置本体２内に空気を吸引するためには、吸引手段６
２の位置は上述実施例に限定されるものではないが、実
施例のように第１のフィルタ部６１と第２のフィルタ部
６２との間に配置すれば、装置本体２内の風速を例えば
０．２〜０．４ｍ／ｓの好適な大きさにすることができ
る。

【００４０】そしてまた本発明は、塗布装置と現像装置
とが分離されているものに対しても適用することがで
き、更には塗布、現像装置と露光部とが例えば搬送路を
介して連結されている場合には、これら全体をカバー体
で覆ってこのカバー体にフィルタユニット部を設けても
よい。なお被処理体としてはウエハ以外の例えばＬＣＤ
用のガラス基板などであってもよい。

【００４１】

【発明の効果】本発明によれば、酸成分が添着された濾
材をプリ−ツ状に折り曲げ、前記折り曲げた面を通気す
るように複数段重ね、互いに隣接する濾材を一方の濾材
のプリ−ツの山側部分と他方の濾材の谷側部分とを重ね
るように設けてフィルタ部を構成し、このフィルタ部を
介して外気を取り入れるようにしたので、フィルタ部の
酸成分の消費量のばらつきが抑えられ、これにより濾材
が有効に使用され、有効寿命が長くなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例を示す縦断正面図である。

【図２】本発明の実施例を示す概観斜視図である。

【図３】本発明の実施例に係る塗布、現像装置の内部を
示す略解平面図である。

【図４】フィルタ部の一部を示す、（ａ）は斜視図、
（ｂ）は断面図である。

【図５】従来のレジスト処理装置を示す縦断断面図であ
る。

【符号の説明】

２塗布、現像装置本体３搬送ア−ム４疎水化処理部４１密閉容器５１塗布部５２加熱処理部５４現像部６カバー体６１第１のフィルタ部６２吸引手段６３第２のフィルタ部７フィルタユニット部７０第１の濾材７１第２の濾材

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６９Ｚ５６９Ｂ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レジスト膜が塗布され露光された被処理
体を、被処理体の搬入出口及び空気取り入れ口を備えた
カバー体内にて現像するレジスト処理装置において、前記空気取り入れ口に設けられ、前記カバ−体の外の空
気に含まれるアルカリ成分を除去するために酸成分を添
着してなるシート体を用いたフィルタ部と、前記カバ−体の外の空気を前記フィルタ部を介してカバ
−体の中に吸引する吸引手段と、を有し、前記フィルタ部は、各々複数の山側部分と谷側部分とを
形成するようにプリ−ツ状に折り曲げた第１の濾材及び
第２の濾材を、一方の濾材の山側部分と他方の濾材の谷
側部分とが対向するように重ね、折り曲げた面を通気す
るように設けてなることを特徴とするレジスト処理装
置。
【請求項２】レジスト膜は化学増幅型のレジストであ
ることを特徴とする請求項１記載のレジスト処理装置。