JPH083140A - イミダゾール系化合物及びそれらを含有する有害生物防除剤 - Google Patents
イミダゾール系化合物及びそれらを含有する有害生物防除剤Info
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- JPH083140A JPH083140A JP5351198A JP35119893A JPH083140A JP H083140 A JPH083140 A JP H083140A JP 5351198 A JP5351198 A JP 5351198A JP 35119893 A JP35119893 A JP 35119893A JP H083140 A JPH083140 A JP H083140A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 新規なイミダゾール系化合物、それらの製造
方法、それらの中間体及びそれらを有効成分として含有
する有害生物防除剤を提供する。 【構成】 一般式： ｛式中、Ｒ1 はシアノ基、２−チアゾリン−２−イル基
又は−C(＝S)NR5R6 基、Ｒ2 及びＲ3 は水素原子、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、チオシアナート基、ト
リメチルシリル基など、Ｒ4 は置換されてもよいアルキ
ル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されて
もよいフェニル基、置換されてもよいチエニル基、置換
されてもよいフリル基などを示す｝で表わされるイミダ
ゾール系化合物。
方法、それらの中間体及びそれらを有効成分として含有
する有害生物防除剤を提供する。 【構成】 一般式： ｛式中、Ｒ1 はシアノ基、２−チアゾリン−２−イル基
又は−C(＝S)NR5R6 基、Ｒ2 及びＲ3 は水素原子、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、チオシアナート基、ト
リメチルシリル基など、Ｒ4 は置換されてもよいアルキ
ル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されて
もよいフェニル基、置換されてもよいチエニル基、置換
されてもよいフリル基などを示す｝で表わされるイミダ
ゾール系化合物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本願の発明は、新規なイミダゾー
ル系化合物、それらの製造方法、それらの中間体及びそ
れらを有効成分として含有する有害生物防除剤に関す
る。
ル系化合物、それらの製造方法、それらの中間体及びそ
れらを有効成分として含有する有害生物防除剤に関す
る。
【０００２】
【発明の開示】本発明者達は種々の置換イミダゾール系
化合物について、その化学構造と有害生物に対する活性
とを詳細に検討し、イミダゾール環の１位又は３位の窒
素原子がスルホニル基で結合し、更に２位の炭素原子が
シアノ基、２−チアゾリン−２−イル基又はチオカルバ
モイル基で結合しているイミダゾール系化合物が有害生
物防除剤として有用であるとの知見を得て、本発明を完
成した。
化合物について、その化学構造と有害生物に対する活性
とを詳細に検討し、イミダゾール環の１位又は３位の窒
素原子がスルホニル基で結合し、更に２位の炭素原子が
シアノ基、２−チアゾリン−２−イル基又はチオカルバ
モイル基で結合しているイミダゾール系化合物が有害生
物防除剤として有用であるとの知見を得て、本発明を完
成した。
【０００３】すなわち、本願第１の発明は下記一般式
（Ｉ）で表わされる新規なイミダゾール系化合物であ
る。 一般式（Ｉ）：
（Ｉ）で表わされる新規なイミダゾール系化合物であ
る。 一般式（Ｉ）：
【化８】 ｛式中、Ｒ1 はシアノ基、
【化９】 又は−C(＝S)NR5R6 基〔Ｒ5 及びＲ6 は水素原子、アル
キル基、置換されてもよいフェニル基、又は−C(＝O)R7
基（Ｒ7 は置換されてもよいアルキル基又は置換されて
もよいフェニル基である）である〕であり、Ｒ2 及びＲ
3 は水素原子；ハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；チ
オシアナート基；トリメチルシリル基；置換されてもよ
いアルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置
換されてもよいアルケニル基；置換されてもよいアルキ
ニル基；置換されてもよいアルコキシ基；置換されても
よいフェノキシ基；置換されてもよいフェニル基；置換
されてもよいナフチル基；置換されてもよい５〜６員の
芳香族複素環基；−SOn R8基〔Ｒ8 は置換されてもよい
アルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置換
されてもよいアルケニル基；置換されてもよいアルキニ
ル基；置換されてもよいフェニル基；置換されてもよい
ピリジル基；−NR9R10基（Ｒ9 及びＲ10はアルキル基で
ある);又は置換されてもよいナフチル基であり、ｎは０
〜２の整数である〕；又は−C(＝W1)-(W2)l R11 基（Ｗ
1 は酸素原子又は硫黄原子であり、Ｗ2は酸素原子、硫
黄原子又は−NH−であり、ｌは０〜１の整数であり、Ｒ
11は置換されてもよいアルキル基；又は置換されてもよ
いフェニル基である）であり、Ｒ4 は置換されてもよい
アルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置換
されてもよいフェニル基；置換されてもよいチエニル
基；置換されてもよいフリル基；又は−NR12R13 基（Ｒ
12及びＲ13はそれぞれ水素原子；置換されてもよいアル
キル基；又は置換されてもよいアルケニル基であるか、
又は互いに隣接している窒素原子と共に５〜７員の飽和
複素環を形成し、但しＲ12とＲ13が同時に水素原子であ
る場合を除く。) であり、但し(1) Ｒ2 とＲ3 が同時に
ハロゲン原子である場合を除き、(2) Ｒ1 がシアノ基で
あり、Ｒ2 がフェニル基、４−メチルフェニル基、４−
メトキシフェニル基又は４−エチルフェニル基であり、
Ｒ3 が塩素原子であり、かつＲ4 がジメチルアミノ基で
ある組合せの場合を除く｝。
キル基、置換されてもよいフェニル基、又は−C(＝O)R7
基（Ｒ7 は置換されてもよいアルキル基又は置換されて
もよいフェニル基である）である〕であり、Ｒ2 及びＲ
3 は水素原子；ハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；チ
オシアナート基；トリメチルシリル基；置換されてもよ
いアルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置
換されてもよいアルケニル基；置換されてもよいアルキ
ニル基；置換されてもよいアルコキシ基；置換されても
よいフェノキシ基；置換されてもよいフェニル基；置換
されてもよいナフチル基；置換されてもよい５〜６員の
芳香族複素環基；−SOn R8基〔Ｒ8 は置換されてもよい
アルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置換
されてもよいアルケニル基；置換されてもよいアルキニ
ル基；置換されてもよいフェニル基；置換されてもよい
ピリジル基；−NR9R10基（Ｒ9 及びＲ10はアルキル基で
ある);又は置換されてもよいナフチル基であり、ｎは０
〜２の整数である〕；又は−C(＝W1)-(W2)l R11 基（Ｗ
1 は酸素原子又は硫黄原子であり、Ｗ2は酸素原子、硫
黄原子又は−NH−であり、ｌは０〜１の整数であり、Ｒ
11は置換されてもよいアルキル基；又は置換されてもよ
いフェニル基である）であり、Ｒ4 は置換されてもよい
アルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置換
されてもよいフェニル基；置換されてもよいチエニル
基；置換されてもよいフリル基；又は−NR12R13 基（Ｒ
12及びＲ13はそれぞれ水素原子；置換されてもよいアル
キル基；又は置換されてもよいアルケニル基であるか、
又は互いに隣接している窒素原子と共に５〜７員の飽和
複素環を形成し、但しＲ12とＲ13が同時に水素原子であ
る場合を除く。) であり、但し(1) Ｒ2 とＲ3 が同時に
ハロゲン原子である場合を除き、(2) Ｒ1 がシアノ基で
あり、Ｒ2 がフェニル基、４−メチルフェニル基、４−
メトキシフェニル基又は４−エチルフェニル基であり、
Ｒ3 が塩素原子であり、かつＲ4 がジメチルアミノ基で
ある組合せの場合を除く｝。
【０００４】前記一般式（Ｉ）中、Ｒ2 〜Ｒ13に含まれ
るアルキル部分としては炭素数が１〜１２のものであれ
ばよく、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
イソプロピル基、ｎ−ブチル基、 sec−ブチル基、イソ
ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基
などが挙げられる。Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ8 で表わさ
れるシクロアルキル基としては炭素数が３〜７のもので
あればよく、例えばシクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げら
れる。Ｒ2 、Ｒ3、Ｒ8 、Ｒ12及びＲ13に含まれるアル
ケニル基としては、炭素数が２〜１２のものであればよ
く、例えばアリル基、ゲラニル基などが挙げられる。Ｒ
2 、Ｒ3 及びＲ8 に含まれるアルキニル基としては炭素
数が２〜１２のものであればよく、例えば２−プロピニ
ル基などが挙げられる。Ｒ2 及びＲ3 で表わされる置換
されてもよい５〜６員の芳香族複素環基としては、その
環内に酸素原子、硫黄原子及び窒素原子よりなる群から
選ばれた少くとも１つのヘテロ原子を含むものであれば
よく例えば置換されてもよいチエニル基、置換されても
よいフリル基、置換されてもよいチアゾリル基、置換さ
れてもよいピリジル基などが挙げられる。前記一般式
（Ｉ）中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ11、Ｒ12
及びＲ13で表わされる置換されてもよいアルキル基；Ｒ
2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ8 で表わされる置換されてもよい
シクロアルキル基; Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ8 、Ｒ12及びＲ13で
表わされる置換されてもよいアルケニル基；Ｒ2 、Ｒ3
及び Ｒ8 で表わされる置換されてもよいアルキニル
基; 並びにＲ2 及びＲ3 で表わされる置換されてもよい
アルコキシ基の置換基としてはハロゲン原子；ハロゲン
原子で置換されてもよいアルコキシ基；ハロゲン原子で
置換されてもよいアルキルチオ基；ハロゲン原子で置換
されてもよいフェニル基; ハロゲン原子で置換されても
よいアルキル基で置換されたフェニル基；水酸基などが
挙げられ、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6、Ｒ7 、Ｒ8
及びＲ11で表わされる置換されてもよいフェニル基；Ｒ
2 及びＲ3で表わされる置換されてもよいフェノキシ
基；Ｒ8 で表わされる置換されてもよいピリジル基；Ｒ
2 、Ｒ3 及びＲ8 で表わされる置換されてもよいナフチ
ル基；Ｒ4 で表わされる置換されてもよいチエニル基；
Ｒ4 で表わされる置換されてもよいフリル基；並びにＲ
2 及びＲ3 で表わされる置換されてもよい５〜６員の芳
香族複素環基の置換基としては、ハロゲン原子；ニトロ
基; シアノ基；ハロゲン原子で置換されてもよいアルキ
ル基；アルコキシアルキル基；ハロゲン原子で置換され
てもよいアルコキシ基；ハロゲン原子で置換されてもよ
いメチレンジオキシ基；−NR14 R15基（Ｒ14及びＲ15は
水素原子、ハロゲン原子で置換されてもよいアルキル基
又はアルカノイル基である）；−SOm R16 基（Ｒ16はハ
ロゲン原子で置換されてもよいアルキル基であり、ｍは
０〜２の整数である）などが挙げられる。上記置換基の
個数は０〜５が望ましい。前記Ｒ2 〜Ｒ8 及びＲ11〜Ｒ
16に含まれるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原
子、弗素原子、沃素原子が挙げられる。前記Ｒ14〜Ｒ16
及び後記Ｒ17に含まれるアルキル部分としては、前述の
Ｒ2 〜Ｒ13に含まれるアルキル部分と同様のものであれ
ばよい。また、Ｒ12とＲ13は隣接している窒素原子と共
に、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含んでもよい５
〜７員の飽和複素環を形成してもよく、例えばピペリジ
ン環、ピロリジン環、モルフォリン環、チオモルフォリ
ン環などが挙げられる。
るアルキル部分としては炭素数が１〜１２のものであれ
ばよく、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
イソプロピル基、ｎ−ブチル基、 sec−ブチル基、イソ
ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基
などが挙げられる。Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ8 で表わさ
れるシクロアルキル基としては炭素数が３〜７のもので
あればよく、例えばシクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げら
れる。Ｒ2 、Ｒ3、Ｒ8 、Ｒ12及びＲ13に含まれるアル
ケニル基としては、炭素数が２〜１２のものであればよ
く、例えばアリル基、ゲラニル基などが挙げられる。Ｒ
2 、Ｒ3 及びＲ8 に含まれるアルキニル基としては炭素
数が２〜１２のものであればよく、例えば２−プロピニ
ル基などが挙げられる。Ｒ2 及びＲ3 で表わされる置換
されてもよい５〜６員の芳香族複素環基としては、その
環内に酸素原子、硫黄原子及び窒素原子よりなる群から
選ばれた少くとも１つのヘテロ原子を含むものであれば
よく例えば置換されてもよいチエニル基、置換されても
よいフリル基、置換されてもよいチアゾリル基、置換さ
れてもよいピリジル基などが挙げられる。前記一般式
（Ｉ）中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ11、Ｒ12
及びＲ13で表わされる置換されてもよいアルキル基；Ｒ
2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ8 で表わされる置換されてもよい
シクロアルキル基; Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ8 、Ｒ12及びＲ13で
表わされる置換されてもよいアルケニル基；Ｒ2 、Ｒ3
及び Ｒ8 で表わされる置換されてもよいアルキニル
基; 並びにＲ2 及びＲ3 で表わされる置換されてもよい
アルコキシ基の置換基としてはハロゲン原子；ハロゲン
原子で置換されてもよいアルコキシ基；ハロゲン原子で
置換されてもよいアルキルチオ基；ハロゲン原子で置換
されてもよいフェニル基; ハロゲン原子で置換されても
よいアルキル基で置換されたフェニル基；水酸基などが
挙げられ、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6、Ｒ7 、Ｒ8
及びＲ11で表わされる置換されてもよいフェニル基；Ｒ
2 及びＲ3で表わされる置換されてもよいフェノキシ
基；Ｒ8 で表わされる置換されてもよいピリジル基；Ｒ
2 、Ｒ3 及びＲ8 で表わされる置換されてもよいナフチ
ル基；Ｒ4 で表わされる置換されてもよいチエニル基；
Ｒ4 で表わされる置換されてもよいフリル基；並びにＲ
2 及びＲ3 で表わされる置換されてもよい５〜６員の芳
香族複素環基の置換基としては、ハロゲン原子；ニトロ
基; シアノ基；ハロゲン原子で置換されてもよいアルキ
ル基；アルコキシアルキル基；ハロゲン原子で置換され
てもよいアルコキシ基；ハロゲン原子で置換されてもよ
いメチレンジオキシ基；−NR14 R15基（Ｒ14及びＲ15は
水素原子、ハロゲン原子で置換されてもよいアルキル基
又はアルカノイル基である）；−SOm R16 基（Ｒ16はハ
ロゲン原子で置換されてもよいアルキル基であり、ｍは
０〜２の整数である）などが挙げられる。上記置換基の
個数は０〜５が望ましい。前記Ｒ2 〜Ｒ8 及びＲ11〜Ｒ
16に含まれるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原
子、弗素原子、沃素原子が挙げられる。前記Ｒ14〜Ｒ16
及び後記Ｒ17に含まれるアルキル部分としては、前述の
Ｒ2 〜Ｒ13に含まれるアルキル部分と同様のものであれ
ばよい。また、Ｒ12とＲ13は隣接している窒素原子と共
に、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含んでもよい５
〜７員の飽和複素環を形成してもよく、例えばピペリジ
ン環、ピロリジン環、モルフォリン環、チオモルフォリ
ン環などが挙げられる。
【０００５】前記一般式（Ｉ）で表わされるイミダゾー
ル系化合物中、望ましい態様を下記する。 (1) Ｒ1 がシアノ基又は−C(＝S)NHR5基（Ｒ5 は水素原
子又は−C(＝O)R7基であり、Ｒ7 はアルキル基である）
であり、より望ましくはシアノ基である。 (2) Ｒ2 及びＲ3 が水素原子；ハロゲン原子；ニトロ
基；シアノ基；アルキル基；ハロゲン原子で置換された
アルキル基；ハロゲン原子で置換されてもよいアルコキ
シ基で置換されたアルキル基；フェニル基で置換された
アルキル基；アルキル基で置換されたフェニル基で置換
されたアルキル基；ハロゲン原子で置換されたフェニル
基で置換されたアルキル基；水酸基で置換されたアルキ
ル基；シクロアルキル基；ハロゲン原子で置換されても
よいアルケニル基；ハロゲン原子で置換されてもよいア
ルコキシ基；フェニル基；ハロゲン原子で置換されたフ
ェニル基；ハロゲン原子で置換されてもよいアルキル基
で置換されたフェニル基；ハロゲン原子で置換されても
よいアルコキシ基で置換されたフェニル基；チエニル
基；ハロゲン原子で置換されたチエニル基；ピリジル
基；フリル基；−S(O)n R8基〔Ｒ8 はフェニル基で置換
されてもよいアルキル基；ハロゲン原子で置換されても
よいフェニル基；ハロゲン原子で置換されたアルキル基
で置換されてもよいピリジル基；アルケニル基又は−NR
9R10基（Ｒ9 及びＲ10はアルキル基である）であり、ｎ
は０〜２の整数である〕；又は−C(＝O)−(NH)l R
11 （Ｒ11はハロゲン原子で置換されてもよいアルキル
基；又はハロゲン原子で置換されてもよいフェニル基で
あり、ｌは０〜１の整数である）であり、（但し、Ｒ2
とＲ3 が同時にハロゲン原子である場合を除く）より望
ましくはＲ2 がアルキル基；ハロゲン原子で置換された
アルキル基；ハロゲン原子で置換されてもよいフェニル
基で置換されたアルキル基；ハロゲン原子で置換されて
もよいアルケニル基；アルキルチオ基；フェニル基；又
はハロゲン原子で置換されたフェニル基であり、Ｒ3 が
ハロゲン原子であり、更により望ましくはＲ2 がメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、３−クロロ
−ｎ−プロピル基、４−クロロ−ｎ−ブチル基、アリル
（allyl)基、エチルチオ基、フェニル基、２−クロロフ
ェニル基、２−フルオロフェニル基、ベンジル基又は２
−フルオロベンジル基であり、Ｒ3 が塩素原子又は臭素
原子である。 (3) Ｒ4 が−N(CH3)2 基である。
ル系化合物中、望ましい態様を下記する。 (1) Ｒ1 がシアノ基又は−C(＝S)NHR5基（Ｒ5 は水素原
子又は−C(＝O)R7基であり、Ｒ7 はアルキル基である）
であり、より望ましくはシアノ基である。 (2) Ｒ2 及びＲ3 が水素原子；ハロゲン原子；ニトロ
基；シアノ基；アルキル基；ハロゲン原子で置換された
アルキル基；ハロゲン原子で置換されてもよいアルコキ
シ基で置換されたアルキル基；フェニル基で置換された
アルキル基；アルキル基で置換されたフェニル基で置換
されたアルキル基；ハロゲン原子で置換されたフェニル
基で置換されたアルキル基；水酸基で置換されたアルキ
ル基；シクロアルキル基；ハロゲン原子で置換されても
よいアルケニル基；ハロゲン原子で置換されてもよいア
ルコキシ基；フェニル基；ハロゲン原子で置換されたフ
ェニル基；ハロゲン原子で置換されてもよいアルキル基
で置換されたフェニル基；ハロゲン原子で置換されても
よいアルコキシ基で置換されたフェニル基；チエニル
基；ハロゲン原子で置換されたチエニル基；ピリジル
基；フリル基；−S(O)n R8基〔Ｒ8 はフェニル基で置換
されてもよいアルキル基；ハロゲン原子で置換されても
よいフェニル基；ハロゲン原子で置換されたアルキル基
で置換されてもよいピリジル基；アルケニル基又は−NR
9R10基（Ｒ9 及びＲ10はアルキル基である）であり、ｎ
は０〜２の整数である〕；又は−C(＝O)−(NH)l R
11 （Ｒ11はハロゲン原子で置換されてもよいアルキル
基；又はハロゲン原子で置換されてもよいフェニル基で
あり、ｌは０〜１の整数である）であり、（但し、Ｒ2
とＲ3 が同時にハロゲン原子である場合を除く）より望
ましくはＲ2 がアルキル基；ハロゲン原子で置換された
アルキル基；ハロゲン原子で置換されてもよいフェニル
基で置換されたアルキル基；ハロゲン原子で置換されて
もよいアルケニル基；アルキルチオ基；フェニル基；又
はハロゲン原子で置換されたフェニル基であり、Ｒ3 が
ハロゲン原子であり、更により望ましくはＲ2 がメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、３−クロロ
−ｎ−プロピル基、４−クロロ−ｎ−ブチル基、アリル
（allyl)基、エチルチオ基、フェニル基、２−クロロフ
ェニル基、２−フルオロフェニル基、ベンジル基又は２
−フルオロベンジル基であり、Ｒ3 が塩素原子又は臭素
原子である。 (3) Ｒ4 が−N(CH3)2 基である。
【０００６】前記一般式（Ｉ）で表わされる新規なイミ
ダゾール系化合物は、本願第２の発明である次の〔Ａ〕
のような方法によって製造することができる。
ダゾール系化合物は、本願第２の発明である次の〔Ａ〕
のような方法によって製造することができる。
【化１０】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 は前述の通りであ
り、Ｙはハロゲン原子である。） 上記本発明の製法は、通常、反応温度１０〜１５０℃及
び反応時間１〜４８時間で行なわれる。
り、Ｙはハロゲン原子である。） 上記本発明の製法は、通常、反応温度１０〜１５０℃及
び反応時間１〜４８時間で行なわれる。
【０００７】前記一般式（Ｉ）においてＲ1 がシアノ基
である下記一般式（Ｉ−２）で表わされる化合物は、次
のような方法でも製造することができる。
である下記一般式（Ｉ−２）で表わされる化合物は、次
のような方法でも製造することができる。
【化１１】 前記一般式（Ｉ−２）においてＲ3 が−SR8 基である場
合、前記反応〔Ｂ〕工程−２において、Ｒ3 −Ｉの代わ
りに R8SSR8 を使用することも出来る。（式中、Ｒ2 、
Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ8 及びＹは前述の通りである。）
合、前記反応〔Ｂ〕工程−２において、Ｒ3 −Ｉの代わ
りに R8SSR8 を使用することも出来る。（式中、Ｒ2 、
Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ8 及びＹは前述の通りである。）
【０００８】前記一般式（Ｉ）において、Ｒ1 がシアノ
基であり、Ｒ3 が水素原子、塩素原子又は臭素原子であ
る下記一般式（Ｉ−４）で表わされる化合物は例えば次
のような方法でも製造することができる。
基であり、Ｒ3 が水素原子、塩素原子又は臭素原子であ
る下記一般式（Ｉ−４）で表わされる化合物は例えば次
のような方法でも製造することができる。
【化１２】 前記一般式（Ｉ−４）においてＲ2 が−SR8 基である場
合、前記反応〔Ｃ〕工程−２において、R2−Y'の代わり
に R8SSR8 を使用することも出来、また、Ｒ2が−CH(O
H)−R17 基（Ｒ17はアルキル基又は置換されていてもよ
いフェニル基である) である場合、前記反応〔Ｃ〕工程
−２において、R2−Y'の代わりにR17CHOを使用すること
もできる。（式中、Ｚは水素原子、塩素原子又は臭素原
子であり、Ｙ' は塩素原子、臭素原子又は沃素原子であ
り、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ8 及びＹは前述の通りである。）
合、前記反応〔Ｃ〕工程−２において、R2−Y'の代わり
に R8SSR8 を使用することも出来、また、Ｒ2が−CH(O
H)−R17 基（Ｒ17はアルキル基又は置換されていてもよ
いフェニル基である) である場合、前記反応〔Ｃ〕工程
−２において、R2−Y'の代わりにR17CHOを使用すること
もできる。（式中、Ｚは水素原子、塩素原子又は臭素原
子であり、Ｙ' は塩素原子、臭素原子又は沃素原子であ
り、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ8 及びＹは前述の通りである。）
【０００９】前記一般式（Ｉ）において、Ｒ1 が−C(＝
S)NH2 基である下記一般式（Ｉ−６）で表わされる化合
物及びＲ1 が−C(＝S)NHC(＝O)R7基である下記一般式
（Ｉ−７）で表わされる化合物は例えば次のような方法
でも製造することができる。
S)NH2 基である下記一般式（Ｉ−６）で表わされる化合
物及びＲ1 が−C(＝S)NHC(＝O)R7基である下記一般式
（Ｉ−７）で表わされる化合物は例えば次のような方法
でも製造することができる。
【化１３】 （式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ7 及びＹは前述の通りで
ある。）
ある。）
【００１０】上記反応〔Ａ〕及び〔Ｂ〕〜〔Ｄ〕の工程
−１は必要に応じて、溶媒及び酸受容体の存在下で行な
われる。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類：クロロホ
ルム、四塩化炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、ト
リクロロエタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサンなどの
環状又は非環状脂肪族炭化水素類: ジエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類：ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
などのケトン類: アセトニトリル、プロピオニトリルな
どのニトリル類：ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非
プロトン性極性溶媒などが挙げられる。酸受容体として
は、無機塩基、有機塩基のいずれでもよく、無機塩基と
しては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの
ようなアルカリ金属水酸化物；無水炭酸カリウム、無水
炭酸カルシウムのようなアルカリ金属又はアルカリ土類
金属の炭酸塩；水素化ナトリウムのようなアルカリ金属
水素化物；金属ナトリウムのようなアルカリ金属などが
挙げられ、また有機塩基としてはトリエチルアミンなど
が挙げられる。前記反応は適当な触媒の存在下でも行う
ことが出来る。この触媒として、例えば４級アンモニウ
ム塩誘導体のような相間移動触媒が挙げられる。前記一
般式（III ）におけるＹで表わされるハロゲン原子とし
ては、塩素原子、臭素原子、沃素原子、弗素原子が挙げ
られ、塩素原子が望ましい。
−１は必要に応じて、溶媒及び酸受容体の存在下で行な
われる。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類：クロロホ
ルム、四塩化炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、ト
リクロロエタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサンなどの
環状又は非環状脂肪族炭化水素類: ジエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類：ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
などのケトン類: アセトニトリル、プロピオニトリルな
どのニトリル類：ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非
プロトン性極性溶媒などが挙げられる。酸受容体として
は、無機塩基、有機塩基のいずれでもよく、無機塩基と
しては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの
ようなアルカリ金属水酸化物；無水炭酸カリウム、無水
炭酸カルシウムのようなアルカリ金属又はアルカリ土類
金属の炭酸塩；水素化ナトリウムのようなアルカリ金属
水素化物；金属ナトリウムのようなアルカリ金属などが
挙げられ、また有機塩基としてはトリエチルアミンなど
が挙げられる。前記反応は適当な触媒の存在下でも行う
ことが出来る。この触媒として、例えば４級アンモニウ
ム塩誘導体のような相間移動触媒が挙げられる。前記一
般式（III ）におけるＹで表わされるハロゲン原子とし
ては、塩素原子、臭素原子、沃素原子、弗素原子が挙げ
られ、塩素原子が望ましい。
【００１１】前記反応式において、一般式（Ｉ）で表わ
される化合物の中間体として有用な、一般式（II）で表
わされる新規な化合物は本願第３の発明である。一般式
（II）で表わされる中間体化合物中、図１〜２に示され
る（II−３）、（II−４）、（II−５）、（II−６）、
（II−７）及び（II−８）で表わされる化合物は、同図
に示した工程によって製造することができる。図１中Ｒ
2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は前述の通りであり、また図２
中Ｒ2 、Ｒ3、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 及びＹは前述の通りで
あり、Ｘは CF3基又はCCl3基である。
される化合物の中間体として有用な、一般式（II）で表
わされる新規な化合物は本願第３の発明である。一般式
（II）で表わされる中間体化合物中、図１〜２に示され
る（II−３）、（II−４）、（II−５）、（II−６）、
（II−７）及び（II−８）で表わされる化合物は、同図
に示した工程によって製造することができる。図１中Ｒ
2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は前述の通りであり、また図２
中Ｒ2 、Ｒ3、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 及びＹは前述の通りで
あり、Ｘは CF3基又はCCl3基である。
【００１２】前記一般式（II−１）で表わされる中間体
化合物は、図３〜５に示した工程でも合成することがで
き、また前記（II−８）で表わされる化合物中、一般
式：
化合物は、図３〜５に示した工程でも合成することがで
き、また前記（II−８）で表わされる化合物中、一般
式：
【化１４】 で表わされる化合物は図３に示した工程でも合成するこ
とができる。図３中Ｒ2 は前述の通りであり、また図４
中Ｒ2 及びＹは前述の通りであり、Ｒａはアルキル基で
あり、Ｑは保護基であり、さらに図５中Ｒ2 、Ｙ及びＱ
は前述の通りである。なお図４中、Ｑで表わされる保護
基としては例えば−SO2Rb 基（Rbはジアルキルアミノ
基；アルキル基；又はアルキル基で置換されてもよいフ
ェニル基である）、又は−CH（−Rc) −Rd基〔Rcは水素
原子；又はメチル基であり、Rdはアルコキシ基；アルキ
ル基或いはアルコキシ基で置換されてもよいフェニル
基；又は−OCH2CH2Si(CH3)3 基である〕が挙げられる。
図４及び前記Ra〜Rd中に含まれるアルキル部分は、前述
のR2〜R13 に含まれるアルキル部分と同様のものであれ
ば良い。
とができる。図３中Ｒ2 は前述の通りであり、また図４
中Ｒ2 及びＹは前述の通りであり、Ｒａはアルキル基で
あり、Ｑは保護基であり、さらに図５中Ｒ2 、Ｙ及びＱ
は前述の通りである。なお図４中、Ｑで表わされる保護
基としては例えば−SO2Rb 基（Rbはジアルキルアミノ
基；アルキル基；又はアルキル基で置換されてもよいフ
ェニル基である）、又は−CH（−Rc) −Rd基〔Rcは水素
原子；又はメチル基であり、Rdはアルコキシ基；アルキ
ル基或いはアルコキシ基で置換されてもよいフェニル
基；又は−OCH2CH2Si(CH3)3 基である〕が挙げられる。
図４及び前記Ra〜Rd中に含まれるアルキル部分は、前述
のR2〜R13 に含まれるアルキル部分と同様のものであれ
ば良い。
【００１３】図３〜５に示した反応工程中、一般式
（II−１）及び／又は（II−９）で表わされる中間体化
合物の原料物質である一般式（ア）及び（イ）で表わさ
れる化合物は、例えば図６〜７に示した工程で合成する
ことができる。図６中、Ｒ2 は前述の通りであり、Ａ1
はハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシル基又はアルカ
ノイルオキシ基であり、Ａ2 は−C(＝O)−NH2 基、−C
(＝NH)−NH2 基又は−C(＝NH）−A3基であり、Ａ3 はア
ルコキシ基又はアルキルチオ基であり、Ａ4 はホルミル
基である。図６中、一般式（ウ）及び（エ）で表わされ
る化合物中に含まれるカルボニル基はアセタール、チオ
アセタール、環状アセタール、環状チオアセタールなど
の潜在的な形態であってもよく、Ａ4 で表わされるホル
ミル基はアセタール、ヘミアセタールの様な潜在的な形
態であってもよい。図７中、Ｒ2 、Ａ1 、Ａ2 及びＡ4
は前述の通りであり、Ａ2 は−C(＝O)−NH2 基、−C(＝
NH）−NH2 基又は−C(＝NH）−A3基であり、Ａ3 はアル
コキシ基又は アルキルチオ基である。
（II−１）及び／又は（II−９）で表わされる中間体化
合物の原料物質である一般式（ア）及び（イ）で表わさ
れる化合物は、例えば図６〜７に示した工程で合成する
ことができる。図６中、Ｒ2 は前述の通りであり、Ａ1
はハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシル基又はアルカ
ノイルオキシ基であり、Ａ2 は−C(＝O)−NH2 基、−C
(＝NH)−NH2 基又は−C(＝NH）−A3基であり、Ａ3 はア
ルコキシ基又はアルキルチオ基であり、Ａ4 はホルミル
基である。図６中、一般式（ウ）及び（エ）で表わされ
る化合物中に含まれるカルボニル基はアセタール、チオ
アセタール、環状アセタール、環状チオアセタールなど
の潜在的な形態であってもよく、Ａ4 で表わされるホル
ミル基はアセタール、ヘミアセタールの様な潜在的な形
態であってもよい。図７中、Ｒ2 、Ａ1 、Ａ2 及びＡ4
は前述の通りであり、Ａ2 は−C(＝O)−NH2 基、−C(＝
NH）−NH2 基又は−C(＝NH）−A3基であり、Ａ3 はアル
コキシ基又は アルキルチオ基である。
【００１４】なお、図１〜７においてそれぞれの反応
は、必要に応じて溶媒、酸受容体、アルカリ受容体など
の存在下で行なわれてもよく、それらの種類や量を含
め、各反応の反応温度、反応時間などの反応条件は、通
常同様の反応における反応条件から適宜選択できる。
は、必要に応じて溶媒、酸受容体、アルカリ受容体など
の存在下で行なわれてもよく、それらの種類や量を含
め、各反応の反応温度、反応時間などの反応条件は、通
常同様の反応における反応条件から適宜選択できる。
【００１５】前記一般式（II）で表わされる、本願第３
の発明化合物である中間体の代表例を第１表に挙げる。
の発明化合物である中間体の代表例を第１表に挙げる。
【００１６】
【表１】
【００１７】
【表２】
【００１８】
【表３】
【００１９】
【表４】
【００２０】
【表５】
【００２１】
【表６】
【００２２】
【表７】
【００２３】前記一般式（II）で表わされる化合物には
Ｒ2 及びＲ3 が相異なる場合、下記一般式（II−ａ）及
び（II−ｂ）
Ｒ2 及びＲ3 が相異なる場合、下記一般式（II−ａ）及
び（II−ｂ）
【化１５】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は前述の通りである。）で
表される互変異性体が存在する。従って一般式（II）で
表される化合物を出発原料として用いて一般式（Ｉ）で
表される本発明化合物を製造した場合、
表される互変異性体が存在する。従って一般式（II）で
表される化合物を出発原料として用いて一般式（Ｉ）で
表される本発明化合物を製造した場合、
【化１６】 が得られる。Ｒ2 及びＲ3 が相異なる場合、（Ｉ−ａ）
及び（Ｉ−ｂ）は互いに異性体である。前記反応〔Ｂ〕
〜〔Ｄ〕中の一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−５）、（Ｉ−
６）、（Ｉ−７）及び図１中の（Ｉ−８）の化合物並び
に、前記一般式（ＩＶ）〜（ＸＶ）で表される化合物に
ついても上記と同様なことがいえる。
及び（Ｉ−ｂ）は互いに異性体である。前記反応〔Ｂ〕
〜〔Ｄ〕中の一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−５）、（Ｉ−
６）、（Ｉ−７）及び図１中の（Ｉ−８）の化合物並び
に、前記一般式（ＩＶ）〜（ＸＶ）で表される化合物に
ついても上記と同様なことがいえる。
【００２４】前記一般式（Ｉ−ａ）又は（Ｉ−ｂ）で表
される化合物は、具体的には、例えば下記〔Ｅ−１〕〜
〔Ｅ−３〕で示される方法により得ることが出来る。 〔Ｅ−１〕 クロマトグラフィーによる方法；シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー、分取高速液体クロマトグラフィー、フ
ラッシュクロマトグラフィーなどにより前記一般式（Ｉ
−ａ）及び（Ｉ−ｂ）からなる異性体混合物から各々を
分離することが出来る。シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーの場合、例えば、展開溶媒としてｎ−ヘキサン、
四塩化炭素、塩化メチレン、クロロホルム、酢酸エチル
又はこれらの混合溶媒を用いることが出来る。 〔Ｅ−２〕 再結晶による方法；再結晶溶媒として、例えば四塩化炭
素、塩化メチレン、クロロホルム、 1,2−ジクロロエタ
ン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、アセトン又はこれらの混合溶媒を用いることにより
前記一般式（Ｉ−ａ）及び（Ｉ−ｂ）からなる異性体混
合物から各々を分離することが出来る。 〔Ｅ−３〕 分解による方法；０〜８０℃（好ましくは室温〜５０
℃）及び１〜４８時間（好ましくは５〜２４時間）の条
件で選択的加水分解反応を行ない、前記一般式（Ｉ−
ａ）及び（Ｉ−ｂ）からなる異性体混合物から一方を分
離することが出来る。なお上記〔Ｅ−１〕〜〔Ｅ−３〕
で使用する異性体混合物としては、あらかじめ前記反応
〔Ａ〕において反応条件例えば溶媒及び酸受容体の種類
並びに使用量、さらには反応温度及び反応時間などを適
宜選択し、その結果両異性体の混合割合の差を出来るだ
け大きくしたものを使用する方が好ましい。
される化合物は、具体的には、例えば下記〔Ｅ−１〕〜
〔Ｅ−３〕で示される方法により得ることが出来る。 〔Ｅ−１〕 クロマトグラフィーによる方法；シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー、分取高速液体クロマトグラフィー、フ
ラッシュクロマトグラフィーなどにより前記一般式（Ｉ
−ａ）及び（Ｉ−ｂ）からなる異性体混合物から各々を
分離することが出来る。シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーの場合、例えば、展開溶媒としてｎ−ヘキサン、
四塩化炭素、塩化メチレン、クロロホルム、酢酸エチル
又はこれらの混合溶媒を用いることが出来る。 〔Ｅ−２〕 再結晶による方法；再結晶溶媒として、例えば四塩化炭
素、塩化メチレン、クロロホルム、 1,2−ジクロロエタ
ン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、アセトン又はこれらの混合溶媒を用いることにより
前記一般式（Ｉ−ａ）及び（Ｉ−ｂ）からなる異性体混
合物から各々を分離することが出来る。 〔Ｅ−３〕 分解による方法；０〜８０℃（好ましくは室温〜５０
℃）及び１〜４８時間（好ましくは５〜２４時間）の条
件で選択的加水分解反応を行ない、前記一般式（Ｉ−
ａ）及び（Ｉ−ｂ）からなる異性体混合物から一方を分
離することが出来る。なお上記〔Ｅ−１〕〜〔Ｅ−３〕
で使用する異性体混合物としては、あらかじめ前記反応
〔Ａ〕において反応条件例えば溶媒及び酸受容体の種類
並びに使用量、さらには反応温度及び反応時間などを適
宜選択し、その結果両異性体の混合割合の差を出来るだ
け大きくしたものを使用する方が好ましい。
【００２５】また上記〔Ｅ−１〕〜〔Ｅ−３〕で分離し
た前記一般式（Ｉ−ｂ）の化合物においてＲ1 がシアノ
基のものから−C(＝S)NH2 基又は−C(＝S)NHC(＝O)R7基
のものを得る場合、例えば次のような方法により得るこ
とができる。
た前記一般式（Ｉ−ｂ）の化合物においてＲ1 がシアノ
基のものから−C(＝S)NH2 基又は−C(＝S)NHC(＝O)R7基
のものを得る場合、例えば次のような方法により得るこ
とができる。
【化１７】 （式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ7 は前述の通りであ
る。）
る。）
【００２６】次に本願第２の発明である製法の具体的態
様を含め、本願第１の発明化合物及び／又は本願第３の
発明化合物の具体的合成例を記載する。
様を含め、本願第１の発明化合物及び／又は本願第３の
発明化合物の具体的合成例を記載する。
【００２７】合成例１ ２−シアノ−１−ジメチルスル
ファモイルイミダゾール (化合物No.1) の合成 〔１〕 J. Org. Chem. 45,4038 〜4040(1980)の方法に
準じて、１−ジエトキシメチルイミダゾールより、２−
ホルミル−１−ジエトキシメチルイミダゾールを油状物
として得た。次いで水中、塩酸ヒドロキシルアミン−酢
酸ナトリウムと反応させて得られるイミダゾール−２−
アルドキシムを、無水酢酸で脱水して２−シアノイミダ
ゾール（融点１７６℃）を得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た２−シアノイミダゾール
３０ｇ、無水炭酸カリウム53.4ｇ、アセトニトリル 600
ml を室温で混合し、還流温度で２時間反応させた後、
冷却し、ジメチルスルファモイルクロリド55.6ｇを加
え、再び還流温度で２時間反応させた。反応終了後、反
応物を水中投入し、塩化メチレンにより抽出し、水洗後
無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。溶媒を留去して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展
開溶媒：塩化メチレン）で精製して融点７４〜７６℃の
目的物28.0ｇを得た。
ファモイルイミダゾール (化合物No.1) の合成 〔１〕 J. Org. Chem. 45,4038 〜4040(1980)の方法に
準じて、１−ジエトキシメチルイミダゾールより、２−
ホルミル−１−ジエトキシメチルイミダゾールを油状物
として得た。次いで水中、塩酸ヒドロキシルアミン−酢
酸ナトリウムと反応させて得られるイミダゾール−２−
アルドキシムを、無水酢酸で脱水して２−シアノイミダ
ゾール（融点１７６℃）を得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た２−シアノイミダゾール
３０ｇ、無水炭酸カリウム53.4ｇ、アセトニトリル 600
ml を室温で混合し、還流温度で２時間反応させた後、
冷却し、ジメチルスルファモイルクロリド55.6ｇを加
え、再び還流温度で２時間反応させた。反応終了後、反
応物を水中投入し、塩化メチレンにより抽出し、水洗後
無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。溶媒を留去して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展
開溶媒：塩化メチレン）で精製して融点７４〜７６℃の
目的物28.0ｇを得た。
【００２８】合成例２ ２−シアノ−１−ジメチルスル
ファモイル−５−フェニルチオイミダゾール（化合物N
o. 10−b)の合成 四ツ口フラスコに窒素雰囲気下で２−シアノ−１−ジメ
チルスルファモイルイミダゾール（化合物No.1）12.0ｇ
及び乾燥テトラヒドロフラン 240mlを仕込みドライアイ
ス−アセトンにより−７５℃以下に温度を保ちながら、
1.6 Ｍのｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（アルドリッ
チ製）41.3 ml を徐々に滴下した。滴下終了後、１５分
間同温度に保ち、次いでジフェニルジスルフィド17.0ｇ
のテトラヒドロフラン溶液３０ ml を−７０℃以下で滴
下した。滴下終了後１晩攪拌下室温まで徐々にもどし反
応を終了した。反応終了後、反応混合物を水中投入し、
酢酸エチル５００ ml で抽出し、この酢酸エチル層を水
洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、酢
酸エチルを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製分離して融
点１０６〜１０７℃の目的物 4.3ｇを得た。
ファモイル−５−フェニルチオイミダゾール（化合物N
o. 10−b)の合成 四ツ口フラスコに窒素雰囲気下で２−シアノ−１−ジメ
チルスルファモイルイミダゾール（化合物No.1）12.0ｇ
及び乾燥テトラヒドロフラン 240mlを仕込みドライアイ
ス−アセトンにより−７５℃以下に温度を保ちながら、
1.6 Ｍのｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（アルドリッ
チ製）41.3 ml を徐々に滴下した。滴下終了後、１５分
間同温度に保ち、次いでジフェニルジスルフィド17.0ｇ
のテトラヒドロフラン溶液３０ ml を−７０℃以下で滴
下した。滴下終了後１晩攪拌下室温まで徐々にもどし反
応を終了した。反応終了後、反応混合物を水中投入し、
酢酸エチル５００ ml で抽出し、この酢酸エチル層を水
洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、酢
酸エチルを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製分離して融
点１０６〜１０７℃の目的物 4.3ｇを得た。
【００２９】合成例３ ４−クロロ−２−シアノ−１−
ジメチルスルファモイル−５−ｎ−プロピルイミダゾー
ル（化合物No.16-b)の合成 〔１〕 前記合成例２のジフェニルジスルフィドに代え
てヨウ化ｎ−プロピル15.3ｇを用いるほかは同様に行
い、融点５１−５２℃の２−シアノ−１−ジメチルスル
ファモイル−５−ｎ−プロピルイミダゾール（化合物N
o.3−ｂ） 4.8ｇを得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た２−シアノ−１−ジメチ
ルスルファモイル−５−ｎ−プロピルイミダゾール 4.8
ｇ、ピリジン４０ ml 及び塩化ピリジニウム11.4ｇを混
合し、９０℃で４時間攪拌し、反応を終了した。反応終
了後、反応混合物よりピリジンを留去して、酢酸エチル
で抽出し、水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。乾燥後、酢酸エチルを留去し残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル＋ｎ−ヘ
キサン）で精製分離して融点５２〜５４℃の２−シアノ
−４(5) −ｎ−プロピルイミダゾール（中間体No.55 ）
2.46ｇを得た。 〔３〕 前記工程〔２〕で得た２−シアノ−４(5) −ｎ
−プロピルイミダゾール2.35ｇ、クロロホルム８０ ml
及びＮ−クロロコハク酸イミド 2.6ｇを混合し還流下４
時間反応した。反応終了後、反応混合物に水２００ ml
を加え分液し、更に水洗した後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。乾燥後、クロロホルムを留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチ
ル／ｎ−ヘキサン＝１／１）で精製分離して融点１０７
〜１０９℃の４(5) −クロロ−２−シアノ−５(4）−ｎ
−プロピルイミダゾール（中間体No.14 ）2.2 ｇを得
た。 〔４〕 前記工程〔３〕で得た４(5) −クロロ−２−シ
アノ−５(4）−ｎ−プロピルイミダゾール 2.0ｇ、アセ
トニトリル３０ ml 、無水炭酸カリウム1.95ｇ及びジメ
チルスルファモイルクロライド1.86ｇを混合しゆっくり
昇温し、還流温度で１時間保持し反応を終了した。反応
終了後、反応混合物よりアセトニトリルを留去し、水１
００ ml を投入し、塩化メチレン50 ml で抽出し、水洗
した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、塩化
メチレンを留去し、残渣を１晩室温で放置後分析したと
ころ、２種の異性体混合生成物のうち一方は分解して原
料に戻ったことがわかった。残った一方の異性体を含む
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：塩化メチレン）で精製分離して融点６４〜６６℃の
４−クロロ−２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル
−５−ｎ−プロピルイミダゾール（化合物No. 16−ｂ）
１．１ｇを得た。
ジメチルスルファモイル−５−ｎ−プロピルイミダゾー
ル（化合物No.16-b)の合成 〔１〕 前記合成例２のジフェニルジスルフィドに代え
てヨウ化ｎ−プロピル15.3ｇを用いるほかは同様に行
い、融点５１−５２℃の２−シアノ−１−ジメチルスル
ファモイル−５−ｎ−プロピルイミダゾール（化合物N
o.3−ｂ） 4.8ｇを得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た２−シアノ−１−ジメチ
ルスルファモイル−５−ｎ−プロピルイミダゾール 4.8
ｇ、ピリジン４０ ml 及び塩化ピリジニウム11.4ｇを混
合し、９０℃で４時間攪拌し、反応を終了した。反応終
了後、反応混合物よりピリジンを留去して、酢酸エチル
で抽出し、水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。乾燥後、酢酸エチルを留去し残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル＋ｎ−ヘ
キサン）で精製分離して融点５２〜５４℃の２−シアノ
−４(5) −ｎ−プロピルイミダゾール（中間体No.55 ）
2.46ｇを得た。 〔３〕 前記工程〔２〕で得た２−シアノ−４(5) −ｎ
−プロピルイミダゾール2.35ｇ、クロロホルム８０ ml
及びＮ−クロロコハク酸イミド 2.6ｇを混合し還流下４
時間反応した。反応終了後、反応混合物に水２００ ml
を加え分液し、更に水洗した後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。乾燥後、クロロホルムを留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチ
ル／ｎ−ヘキサン＝１／１）で精製分離して融点１０７
〜１０９℃の４(5) −クロロ−２−シアノ−５(4）−ｎ
−プロピルイミダゾール（中間体No.14 ）2.2 ｇを得
た。 〔４〕 前記工程〔３〕で得た４(5) −クロロ−２−シ
アノ−５(4）−ｎ−プロピルイミダゾール 2.0ｇ、アセ
トニトリル３０ ml 、無水炭酸カリウム1.95ｇ及びジメ
チルスルファモイルクロライド1.86ｇを混合しゆっくり
昇温し、還流温度で１時間保持し反応を終了した。反応
終了後、反応混合物よりアセトニトリルを留去し、水１
００ ml を投入し、塩化メチレン50 ml で抽出し、水洗
した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、塩化
メチレンを留去し、残渣を１晩室温で放置後分析したと
ころ、２種の異性体混合生成物のうち一方は分解して原
料に戻ったことがわかった。残った一方の異性体を含む
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：塩化メチレン）で精製分離して融点６４〜６６℃の
４−クロロ−２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル
−５−ｎ−プロピルイミダゾール（化合物No. 16−ｂ）
１．１ｇを得た。
【００３０】合成例４ ２−シアノ−１−ジメチルスル
ファモイル−4(5)−フェニルイミダゾール（化合物No.
4）の合成 〔１〕 4(5)−フェニルイミダゾール 23.04ｇをアセト
ン３２０ ml に溶解し、無水炭酸カリウム 12.14ｇを加
え、２時間加熱還流した。次いで冷却した後、ジメチル
スルファモイルクロライド 25.25ｇを含むアセトン溶液
４５ ml を滴下し、滴下終了後 4.5時間加熱還流して反
応を終了した。反応終了後、反応物を冷却し固体をろ過
によって除去し、溶媒を減圧下留去した後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）
で精製して融点９６〜１００℃の１−ジメチルスルファ
モイル−4(5)−フェニルイミダゾール17.8ｇを得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た１−ジメチルスルファモ
イル−4(5)−フェニルイミダゾール１７ｇをテトラヒド
ロフラン２９０ ml に溶解し、窒素雰囲気下で−７０℃
に冷却し、1.6 M ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液５１
ml を３０分を要して滴下した。滴下終了後−７０℃で
３０分攪拌した後、 N,N−ジメチルホルムアミド６ｇを
含むテトラヒドロフラン溶液１２ ml を滴下し、滴下終
了後室温までゆっくり温度を上げながら１５時間攪拌下
反応させた。反応終了後、反応物を氷水中に投入し、酢
酸エチルで抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキ
サン＝１／２）で精製して融点８６〜８９℃の１−ジメ
チルスルファモイル−２−ホルミル−4(5)−フェニルイ
ミダゾール12.8ｇを得た。 〔３〕 前記工程〔２〕で得た１−ジメチルスルファモ
イル−２−ホルミル−4(5)−フェニルイミダゾール 11.
16ｇとヒドロキシルアミン塩酸塩5.56ｇとをピリジン１
２０ ml に溶解し、室温で無水酢酸２４ ml を滴下し
た。滴下終了後徐々に温度を上げて１００℃で１２時間
反応させた。反応終了後、反応物中の溶媒を減圧下留去
した後、残留物に水１２５ ml を加え、析出した固体を
ろ別した。この粗生成物を酢酸エチルに溶解し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチ
ル）で精製して、融点２０３〜２０５℃の２−シアノ−
4(5)−フェニルイミダゾール5.55ｇを得た。 〔４〕 前記工程〔３〕で得た２−シアノ−4(5)−フェ
ニルイミダゾール 1.7ｇをアセトン８８ ml に溶解し、
無水炭酸カリウム 1.7ｇを加え、２時間加熱還流した。
冷却した後ジメチルスルファモイルクロライド 1.7ｇを
含むアセトン溶液６mlを滴下し、滴下終了後２時間加熱
還流して反応を終了した。反応終了後、反応物を冷却し
固体をろ過によって除去し、溶媒を減圧下留去した後、
残留物を酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して、目的
物である融点１０１〜１０２℃の２−シアノ−１−ジメ
チルスルファモイル−4(5)−フェニルイミダゾール２ｇ
を得た。
ファモイル−4(5)−フェニルイミダゾール（化合物No.
4）の合成 〔１〕 4(5)−フェニルイミダゾール 23.04ｇをアセト
ン３２０ ml に溶解し、無水炭酸カリウム 12.14ｇを加
え、２時間加熱還流した。次いで冷却した後、ジメチル
スルファモイルクロライド 25.25ｇを含むアセトン溶液
４５ ml を滴下し、滴下終了後 4.5時間加熱還流して反
応を終了した。反応終了後、反応物を冷却し固体をろ過
によって除去し、溶媒を減圧下留去した後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）
で精製して融点９６〜１００℃の１−ジメチルスルファ
モイル−4(5)−フェニルイミダゾール17.8ｇを得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た１−ジメチルスルファモ
イル−4(5)−フェニルイミダゾール１７ｇをテトラヒド
ロフラン２９０ ml に溶解し、窒素雰囲気下で−７０℃
に冷却し、1.6 M ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液５１
ml を３０分を要して滴下した。滴下終了後−７０℃で
３０分攪拌した後、 N,N−ジメチルホルムアミド６ｇを
含むテトラヒドロフラン溶液１２ ml を滴下し、滴下終
了後室温までゆっくり温度を上げながら１５時間攪拌下
反応させた。反応終了後、反応物を氷水中に投入し、酢
酸エチルで抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキ
サン＝１／２）で精製して融点８６〜８９℃の１−ジメ
チルスルファモイル−２−ホルミル−4(5)−フェニルイ
ミダゾール12.8ｇを得た。 〔３〕 前記工程〔２〕で得た１−ジメチルスルファモ
イル−２−ホルミル−4(5)−フェニルイミダゾール 11.
16ｇとヒドロキシルアミン塩酸塩5.56ｇとをピリジン１
２０ ml に溶解し、室温で無水酢酸２４ ml を滴下し
た。滴下終了後徐々に温度を上げて１００℃で１２時間
反応させた。反応終了後、反応物中の溶媒を減圧下留去
した後、残留物に水１２５ ml を加え、析出した固体を
ろ別した。この粗生成物を酢酸エチルに溶解し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチ
ル）で精製して、融点２０３〜２０５℃の２−シアノ−
4(5)−フェニルイミダゾール5.55ｇを得た。 〔４〕 前記工程〔３〕で得た２−シアノ−4(5)−フェ
ニルイミダゾール 1.7ｇをアセトン８８ ml に溶解し、
無水炭酸カリウム 1.7ｇを加え、２時間加熱還流した。
冷却した後ジメチルスルファモイルクロライド 1.7ｇを
含むアセトン溶液６mlを滴下し、滴下終了後２時間加熱
還流して反応を終了した。反応終了後、反応物を冷却し
固体をろ過によって除去し、溶媒を減圧下留去した後、
残留物を酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して、目的
物である融点１０１〜１０２℃の２−シアノ−１−ジメ
チルスルファモイル−4(5)−フェニルイミダゾール２ｇ
を得た。
【００３１】合成例５ 4(5)−クロロ−２−シアノ−１
−ジメチルスルファモイル−5(4)−フェニルイミダゾー
ル（化合物No.17 ）及び４−クロロ−２−シアノ−１−
ジメチルスルファモイル−５−フェニルイミダゾール
（化合物No. 17−ｂ）の合成 〔１〕 ２−シアノ−4(5)−フェニルイミダゾール 1.3
52ｇをクロロホルム１００ ml に溶解し、Ｎ−クロロコ
ハク酸イミド 1.175ｇを加え、４時間加熱還流下で反応
させた。反応終了後、反応物を水中に投入し、クロロホ
ルムで抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、溶媒を減圧下留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製
して、融点１４９〜１５１℃の4(5)−クロロ−２−シア
ノ−5(4)−フェニルイミダゾール（中間体No.15）1.28
ｇを得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た4(5)−クロロ−２−シア
ノ−5(4)−フェニルイミダゾール0.43ｇをアセトン６ m
l に溶解し、無水炭酸カリウム0.29ｇ及びジメチルスル
ファモイルクロライド0.36ｇを加え、３０分間加熱還流
下反応させた。反応終了後、反応物を水中に投入し、酢
酸エチルで抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精
製して目的物である融点１０６〜１０９℃の4(5)−クロ
ロ−２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−5(4)−
フェニルイミダゾール（化合物No.17 ） 0.5ｇを得た。
NMR スペクトルにより分析した結果、上記の化合物はほ
ぼ等割合の４−クロロ−２−シアノ−１−ジメチルスル
ファモイル−５−フェニルイミダゾールと５−クロロ−
２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−４−フェニ
ルイミダゾールとの異性体混合物であった。 〔３〕 前記工程〔２〕と同様な方法で得たこれらの異
性体混合物 2.9ｇを室温で２４時間放置した後、塩化メ
チレンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製して融点１０９〜１１２℃の４−クロロ−
２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−５−フェニ
ルイミダゾール（化合物No. 17−ｂ）1.15ｇを得た。ま
たこの精製分離により4(5)−クロロ−２−シアノ−5(4)
−フェニル−イミダゾール 0.7ｇも得られた。
−ジメチルスルファモイル−5(4)−フェニルイミダゾー
ル（化合物No.17 ）及び４−クロロ−２−シアノ−１−
ジメチルスルファモイル−５−フェニルイミダゾール
（化合物No. 17−ｂ）の合成 〔１〕 ２−シアノ−4(5)−フェニルイミダゾール 1.3
52ｇをクロロホルム１００ ml に溶解し、Ｎ−クロロコ
ハク酸イミド 1.175ｇを加え、４時間加熱還流下で反応
させた。反応終了後、反応物を水中に投入し、クロロホ
ルムで抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、溶媒を減圧下留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製
して、融点１４９〜１５１℃の4(5)−クロロ−２−シア
ノ−5(4)−フェニルイミダゾール（中間体No.15）1.28
ｇを得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た4(5)−クロロ−２−シア
ノ−5(4)−フェニルイミダゾール0.43ｇをアセトン６ m
l に溶解し、無水炭酸カリウム0.29ｇ及びジメチルスル
ファモイルクロライド0.36ｇを加え、３０分間加熱還流
下反応させた。反応終了後、反応物を水中に投入し、酢
酸エチルで抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精
製して目的物である融点１０６〜１０９℃の4(5)−クロ
ロ−２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−5(4)−
フェニルイミダゾール（化合物No.17 ） 0.5ｇを得た。
NMR スペクトルにより分析した結果、上記の化合物はほ
ぼ等割合の４−クロロ−２−シアノ−１−ジメチルスル
ファモイル−５−フェニルイミダゾールと５−クロロ−
２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−４−フェニ
ルイミダゾールとの異性体混合物であった。 〔３〕 前記工程〔２〕と同様な方法で得たこれらの異
性体混合物 2.9ｇを室温で２４時間放置した後、塩化メ
チレンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製して融点１０９〜１１２℃の４−クロロ−
２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−５−フェニ
ルイミダゾール（化合物No. 17−ｂ）1.15ｇを得た。ま
たこの精製分離により4(5)−クロロ−２−シアノ−5(4)
−フェニル−イミダゾール 0.7ｇも得られた。
【００３２】合成例６ 4(5)−クロロ−２−シアノ−１
−ジメチルスルファモイル−5(4)−（４−メチルフェニ
ル）イミダゾール（化合物No.18 ）及び４−クロロ−２
−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−５−（４−メ
チルフェニル）イミダゾール（化合物No. 18−ｂ）の合
成 合成例４〔１〕〜〔４〕及び合成例５〔１〕〜〔２〕に
記載の方法に準じて、4(5)−（４−メチルフェニル）イ
ミダゾールより４−クロロ−２−シアノ−１−ジメチル
スルファモイル−５−（４−メチルフェニル）イミダゾ
ールと５−クロロ−２−シアノ−１−ジメチルスルファ
モイル−４−（４−メチルフェニル）イミダゾールとの
割合が６：４の異性体混合物（融点１０１〜１０８℃、
化合物No.18 ）を得た。この異性体混合物0.75ｇを４０
℃で８時間反応させた後、塩化メチレンを展開溶媒とし
てシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して融点
１３３〜１３４℃の４−クロロ−２−シアノ−１−ジメ
チルスルファモイル−５−（４−メチルフェニル）イミ
ダゾール（化合物No. 18−ｂ）0.45ｇを得た。またこの
精製分離により、4(5)−クロロ−２−シアノ−5(4)−
（４−メチルフェニル）イミダゾール（中間体No.12 、
融点１２４〜１２９℃）0.15ｇも得られた。
−ジメチルスルファモイル−5(4)−（４−メチルフェニ
ル）イミダゾール（化合物No.18 ）及び４−クロロ−２
−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−５−（４−メ
チルフェニル）イミダゾール（化合物No. 18−ｂ）の合
成 合成例４〔１〕〜〔４〕及び合成例５〔１〕〜〔２〕に
記載の方法に準じて、4(5)−（４−メチルフェニル）イ
ミダゾールより４−クロロ−２−シアノ−１−ジメチル
スルファモイル−５−（４−メチルフェニル）イミダゾ
ールと５−クロロ−２−シアノ−１−ジメチルスルファ
モイル−４−（４−メチルフェニル）イミダゾールとの
割合が６：４の異性体混合物（融点１０１〜１０８℃、
化合物No.18 ）を得た。この異性体混合物0.75ｇを４０
℃で８時間反応させた後、塩化メチレンを展開溶媒とし
てシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して融点
１３３〜１３４℃の４−クロロ−２−シアノ−１−ジメ
チルスルファモイル−５−（４−メチルフェニル）イミ
ダゾール（化合物No. 18−ｂ）0.45ｇを得た。またこの
精製分離により、4(5)−クロロ−２−シアノ−5(4)−
（４−メチルフェニル）イミダゾール（中間体No.12 、
融点１２４〜１２９℃）0.15ｇも得られた。
【００３３】合成例７ 4(5)−クロロ−5(4)−（４−ク
ロロフェニル）−２−シアノ−１−ジメチルスルファモ
イルイミダゾール（化合物No.23 ）、４−クロロ−５−
（４−クロロフェニル）−２−シアノ−１−ジメチルス
ルファモイルイミダゾール（化合物No. 23−ｂ）及び５
−クロロ−４−（４−クロロフェニル）−２−シアノ−
１−ジメチルスルファモイルイミダゾール（化合物No.
23−ａ）の合成 合成例４〔１〕〜〔４〕及び合成例５〔１〕〜〔２〕に
記載の方法に準じて4(5)−（４−クロロフェニル）イミ
ダゾールより、４−クロロ−５−（４−クロロフェニ
ル）−２−シアノ−１−ジメチルスルファモイルイミダ
ゾールと５−クロロ−４−（４−クロロフェニル）−２
−シアノ−１−ジメチルスルファモイルイミダゾールと
の混合物0.80ｇ（化合物No.23 、融点１０８℃）を得
た。この異性体混合物を塩化メチレンを展開溶媒として
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。第２
分画の溶出液を濃縮し、塩化メチレンで再結晶したとこ
ろ融点１１７〜１２０℃の４−クロロ−５−（４−クロ
ロフェニル）−２−シアノ−１−ジメチルスルファモイ
ルイミダゾール（化合物No. 23−ｂ）0.16ｇが得られ
た。なお、第１分画の溶出液も同様に濃縮し、塩化メチ
レンで再結晶し、融点１３３〜１３８℃の５−クロロ−
４−（４−クロロフェニル）−２−シアノ−１−ジメチ
ルスルファモイルイミダゾール（化合物No. 23−ａ）0.
50ｇを得た。
ロロフェニル）−２−シアノ−１−ジメチルスルファモ
イルイミダゾール（化合物No.23 ）、４−クロロ−５−
（４−クロロフェニル）−２−シアノ−１−ジメチルス
ルファモイルイミダゾール（化合物No. 23−ｂ）及び５
−クロロ−４−（４−クロロフェニル）−２−シアノ−
１−ジメチルスルファモイルイミダゾール（化合物No.
23−ａ）の合成 合成例４〔１〕〜〔４〕及び合成例５〔１〕〜〔２〕に
記載の方法に準じて4(5)−（４−クロロフェニル）イミ
ダゾールより、４−クロロ−５−（４−クロロフェニ
ル）−２−シアノ−１−ジメチルスルファモイルイミダ
ゾールと５−クロロ−４−（４−クロロフェニル）−２
−シアノ−１−ジメチルスルファモイルイミダゾールと
の混合物0.80ｇ（化合物No.23 、融点１０８℃）を得
た。この異性体混合物を塩化メチレンを展開溶媒として
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。第２
分画の溶出液を濃縮し、塩化メチレンで再結晶したとこ
ろ融点１１７〜１２０℃の４−クロロ−５−（４−クロ
ロフェニル）−２−シアノ−１−ジメチルスルファモイ
ルイミダゾール（化合物No. 23−ｂ）0.16ｇが得られ
た。なお、第１分画の溶出液も同様に濃縮し、塩化メチ
レンで再結晶し、融点１３３〜１３８℃の５−クロロ−
４−（４−クロロフェニル）−２−シアノ−１−ジメチ
ルスルファモイルイミダゾール（化合物No. 23−ａ）0.
50ｇを得た。
【００３４】合成例８ １−ジメチルスルファモイル−
4(5)−フェニル−２−チオカルバモイルイミダゾール
（化合物No.49 ）の合成 ２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−4(5)−フェ
ニルイミダゾール（化合物No.4） 1.0ｇをジオキサン３
０ ml に溶解し、トリエチルアミン0.36ｇを加え、攪拌
しながら４０〜５０℃に加温し、硫化水素ガスを１時間
２５分間導入した。その後４０〜５０℃で更に５０分反
応させた。反応終了後、冷却し水中に投入し、酢酸エチ
ルで抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、溶媒を減圧下留去した後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝
１／３）で精製して、目的物である融点１５５〜１７５
℃の１−ジメチルスルファモイル−4(5)−フェニル−２
−チオカルバモイルイミダゾール 0.8ｇを得た。また少
量の4(5)−フェニル−２−チオカルバモイルイミダゾー
ルの結晶も得られた。
4(5)−フェニル−２−チオカルバモイルイミダゾール
（化合物No.49 ）の合成 ２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−4(5)−フェ
ニルイミダゾール（化合物No.4） 1.0ｇをジオキサン３
０ ml に溶解し、トリエチルアミン0.36ｇを加え、攪拌
しながら４０〜５０℃に加温し、硫化水素ガスを１時間
２５分間導入した。その後４０〜５０℃で更に５０分反
応させた。反応終了後、冷却し水中に投入し、酢酸エチ
ルで抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、溶媒を減圧下留去した後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝
１／３）で精製して、目的物である融点１５５〜１７５
℃の１−ジメチルスルファモイル−4(5)−フェニル−２
−チオカルバモイルイミダゾール 0.8ｇを得た。また少
量の4(5)−フェニル−２−チオカルバモイルイミダゾー
ルの結晶も得られた。
【００３５】合成例９ ２−シアノ−１−イソプロピル
スルホニル−4(5)−フェニルイミダゾール（化合物No.1
01）の合成 ２−シアノ−4(5)−フェニルイミダゾール 1.0ｇ、無水
炭酸カリウム0.98ｇ及びアセトニトリル３０ ml を室温
で混合し、還流温度で２時間反応させた後、冷却し、イ
ソプロピルスルホニルクロリド 1.0ｇのアセトニトリル
５ ml の溶液を加え再び還流温度で１．５時間反応させ
た。反応終了後、反応物を水中投入し、塩化メチレンで
抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、次いで溶媒を減圧下に留去し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製し
て、融点８０〜８３℃の目的物 1.4ｇを得た。
スルホニル−4(5)−フェニルイミダゾール（化合物No.1
01）の合成 ２−シアノ−4(5)−フェニルイミダゾール 1.0ｇ、無水
炭酸カリウム0.98ｇ及びアセトニトリル３０ ml を室温
で混合し、還流温度で２時間反応させた後、冷却し、イ
ソプロピルスルホニルクロリド 1.0ｇのアセトニトリル
５ ml の溶液を加え再び還流温度で１．５時間反応させ
た。反応終了後、反応物を水中投入し、塩化メチレンで
抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、次いで溶媒を減圧下に留去し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製し
て、融点８０〜８３℃の目的物 1.4ｇを得た。
【００３６】合成例１０ 4(5)−（２−チエニル）−２
−シアノ−１−ジメチルスルファモイルイミダゾール
（化合物No.6）の合成 〔１〕 ２−（ブロモアセチル）チオフェン２５ｇをホ
ルムアミド１５０ ml に加え、１８０〜１９０℃で２時
間反応させた。反応終了後、反応物を水中投入し、濃塩
酸を加えて酸性にし、次いで塩化メチレンで洗浄した。
水層をアンモニア水で中和し、塩化メチレンで抽出し、
抽出層を水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去し、１１ｇの4(5)−（２−チエニル）イミダ
ゾールを得た。 〔２〕 アセトニトリル２００ ml にジメチルスルファ
モイルクロリド11.6ｇ、無水炭酸カリウム11.1ｇ及び前
記工程〔１〕で得た4(5)−（２−チエニル）イミダゾー
ル１１ｇを加え、攪拌下に２時間反応させた。反応終了
後、反応物を水中投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出
層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧
下に留去して、4(5)−（２−チエニル）−１−ジメチル
スルファモイルイミダゾール14.5ｇを得た。 〔３〕 前記工程〔２〕で得た4(5)−（２−チエニル）
−１−ジメチルスルファモイルイミダゾール 9.5ｇを無
水テトラヒドロフラン 120 ml に溶解し、窒素雰囲気
下、−７８℃で 1.6Ｍのｎ- ブチルリチウムヘキサン溶
液26.2 ml を滴下し、同温度で１５分間攪拌した。次い
でそこに N,N−ジメチルホルムアミド 5.4ｇを溶解させ
たテトラヒドロフラン溶液２０ ml を滴下し、滴下後徐
々に室温に戻し反応を終了した。反応終了後、反応物を
水中投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して、
5.4ｇの4(5)−（２−チエニル）−２−ホルミル−１−
ジメチルスルファモイルイミダゾールを得た。 〔４〕 ヒドロキシルアミン塩酸塩 2.6ｇ及び前記工程
〔３〕で得た4(5)−（２−チエニル）−２−ホルミル−
１−ジメチルスルファモイルイミダゾール 5.4ｇをピリ
ジン５４ ml に溶解し、室温で１５分間攪拌した。次い
でそこに無水酢酸１０ ml を徐々に加え、６０〜７０℃
で２時間反応させた。反応終了後、反応物を水中投入
し、酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／
ヘキサン＝２／１）で精製して融点１９５〜２０３℃の
4(5)−（２−チエニル）−２−シアノイミダゾール（中
間体No.47 ） 1.2ｇを得た。 〔５〕 アセトニトリル５０ ml にジメチルスルファモ
イルクロライド 1.1ｇ、無水炭酸カリウム 1.0ｇ及び前
記工程〔４〕で得た4(5)−（２−チエニル）−２−シア
ノイミダゾール 1.2ｇを加え、２時間還流させた。反応
終了後、反応物を水中投入し、酢酸エチルで抽出した。
抽出層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下に
留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：塩化メチレン）で精製し、融点１４５〜１５０℃の
目的物 1.3ｇを得た。
−シアノ−１−ジメチルスルファモイルイミダゾール
（化合物No.6）の合成 〔１〕 ２−（ブロモアセチル）チオフェン２５ｇをホ
ルムアミド１５０ ml に加え、１８０〜１９０℃で２時
間反応させた。反応終了後、反応物を水中投入し、濃塩
酸を加えて酸性にし、次いで塩化メチレンで洗浄した。
水層をアンモニア水で中和し、塩化メチレンで抽出し、
抽出層を水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去し、１１ｇの4(5)−（２−チエニル）イミダ
ゾールを得た。 〔２〕 アセトニトリル２００ ml にジメチルスルファ
モイルクロリド11.6ｇ、無水炭酸カリウム11.1ｇ及び前
記工程〔１〕で得た4(5)−（２−チエニル）イミダゾー
ル１１ｇを加え、攪拌下に２時間反応させた。反応終了
後、反応物を水中投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出
層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧
下に留去して、4(5)−（２−チエニル）−１−ジメチル
スルファモイルイミダゾール14.5ｇを得た。 〔３〕 前記工程〔２〕で得た4(5)−（２−チエニル）
−１−ジメチルスルファモイルイミダゾール 9.5ｇを無
水テトラヒドロフラン 120 ml に溶解し、窒素雰囲気
下、−７８℃で 1.6Ｍのｎ- ブチルリチウムヘキサン溶
液26.2 ml を滴下し、同温度で１５分間攪拌した。次い
でそこに N,N−ジメチルホルムアミド 5.4ｇを溶解させ
たテトラヒドロフラン溶液２０ ml を滴下し、滴下後徐
々に室温に戻し反応を終了した。反応終了後、反応物を
水中投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して、
5.4ｇの4(5)−（２−チエニル）−２−ホルミル−１−
ジメチルスルファモイルイミダゾールを得た。 〔４〕 ヒドロキシルアミン塩酸塩 2.6ｇ及び前記工程
〔３〕で得た4(5)−（２−チエニル）−２−ホルミル−
１−ジメチルスルファモイルイミダゾール 5.4ｇをピリ
ジン５４ ml に溶解し、室温で１５分間攪拌した。次い
でそこに無水酢酸１０ ml を徐々に加え、６０〜７０℃
で２時間反応させた。反応終了後、反応物を水中投入
し、酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／
ヘキサン＝２／１）で精製して融点１９５〜２０３℃の
4(5)−（２−チエニル）−２−シアノイミダゾール（中
間体No.47 ） 1.2ｇを得た。 〔５〕 アセトニトリル５０ ml にジメチルスルファモ
イルクロライド 1.1ｇ、無水炭酸カリウム 1.0ｇ及び前
記工程〔４〕で得た4(5)−（２−チエニル）−２−シア
ノイミダゾール 1.2ｇを加え、２時間還流させた。反応
終了後、反応物を水中投入し、酢酸エチルで抽出した。
抽出層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下に
留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：塩化メチレン）で精製し、融点１４５〜１５０℃の
目的物 1.3ｇを得た。
【００３７】合成例１１ 4(5)−クロロ−２−シアノ−
１−ジメチルスルファモイル−5(4)−イソプロピルイミ
ダゾール（化合物No.125）及び４−クロロ−２−シアノ
−１−ジメチルスルファモイル−５−イソプロピルイミ
ダゾール（化合物No.125−ｂ）の合成 〔１〕 ホルムアミド３６０ｇを１８０℃に加熱し攪拌
しながら１−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン
（Lipshutz and Morey, J. Org. Chem.,1983, 48,3745
に記載の方法に従って製造した）１０２ｇを３０分を要
して滴下した。滴下終了後、１８０℃で１時間反応させ
た。反応終了後、反応混合物を冷却し、氷水中に投入
し、塩酸でpH＝１とした後、塩化メチレンで洗浄した。
水層をアンモニア水でpH＝４〜５とし、活性炭５ｇを加
え、１時間攪拌した。活性炭をろ過して除去し、ろ液を
アンモニア水でpH＝８とした後、塩化メチレンで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去
し、4(5)−イソプロピルイミダゾール１３ｇを得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た4(5)−イソプロピルイミ
ダゾール11.8ｇをアセトニトリル３００ ml に溶解し、
無水炭酸カリウム１８ｇを加え、３０分間加熱還流し
た。次いで冷却した後、ジメチルスルファモイルクロラ
イド１７ｇを滴下し、滴下終了後５時間加熱還流して反
応を終了した。反応終了後、反応混合物を冷却し、水中
投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メ
チレン）で精製して１−ジメチルスルファモイル−4(5)
−イソプロピルイミダゾール１３ｇを得た。 〔３〕 前記工程〔２〕で得た１−ジメチルスルファモ
イル4(5)−イソプロピルイミダゾール１３ｇをテトラヒ
ドロフラン２００ ml に溶解し、窒素気流下で−７０℃
に冷却し、 1.6M ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液３８
ml を１５分を要して滴下した。滴下終了後−７０℃で
３０分攪拌した後、 N,N−ジメチルホルムアミド 5.6ｇ
を滴下し、滴下終了後室温までゆっくり温度を上げなが
ら１５時間攪拌下反応させた。反応終了後、反応物を氷
水中に投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去
し、１−ジメチルスルファモイル−２−ホルミル−4(5)
−イソプロピルイミダゾール〔1HNMR:CCl4中TMS 基準
（主要ピークのみを記載）、δ値（ppm) 9.68(1H,S) 、
7.18(1H,S)、2.98(6H,S)、1.27(6H,d 6HZ ) 〕８．６ｇ
を得た。 〔４〕 前記工程〔３〕で得た１−ジメチルスルファモ
イル−２−ホルミル−4(5)−イソプロピルイミダゾール
8.5ｇとヒドロキシルアミン塩酸塩 4.8ｇとをピリジン
１００ ml に溶解し、室温で無水酢酸１０ ml を滴下し
た。滴下終了後、徐々に温度を上げて８０〜９０℃で５
時間反応させた。反応終了後、反応混合物中の溶媒を減
圧下留去した後、残留物に水を加え、酢酸エチルで抽出
した。抽出層を希塩酸で洗い、水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、融点８８〜９１℃
の２−シアノ−4(5)−イソプロピルイミダゾール（中間
体No.61 ）2.35ｇを得た。 〔５〕 前記工程〔４〕で得た２−シアノ−4(5)−イソ
プロピルイミダゾール２ｇをメタノール８０ ml に溶解
し、Ｎ−クロロコハク酸イミド 2.1ｇを加え、室温で２
０時間攪拌した後、４０℃に加温して８時間反応させ
た。反応終了後、反応混合物中のメタノールを減圧下留
去し、残留物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出
層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧
下留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：塩化メチレン）で精製して、融点８４〜８
７℃の4(5)−クロロ−２−シアノ−5(4)−イソプロピル
イミダゾール（中間体No.62 ）1.67ｇを得た。 〔６〕 前記工程〔５〕で得た4(5)−クロロ−２−シア
ノ−5(4)−イソプロピルイミダゾール 1.6ｇをアセトニ
トリル３０ ml に溶解し、無水炭酸カリウム1.56ｇを加
え、３０分間加熱還流した。次いで冷却した後、ジメチ
ルスルファモイルクロライド1.49ｇを滴下し、滴下終了
後１５分間加熱還流して反応を終了した。反応終了後、
反応混合物を冷却し、水中に投入し、酢酸エチルで抽出
し、抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶
媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製して、4(5)−ク
ロロ−２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−5(4)
−イソプロピルイミダゾール（化合物No.125） 2.1ｇを
得た。NMR スペクトルにより分析した結果、上記の化合
物は４−クロロ−２−シアノ−１−ジメチルスルファモ
イル−５−イソプロピルイミダゾールと５−クロロ−２
−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−４−イソプロ
ピルイミダゾールとの異性体混合物であり、その割合は
約２：１であった。 〔７〕 前記工程〔６〕で得たこれらの異性体混合物
2.1ｇを室温で５日間放置した後、塩化メチレンを展開
溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
して、融点７５〜８２℃（分解）の４−クロロ−２−シ
アノ−１−ジメチルスルファモイル−５−イソプロピル
イミダゾール（化合物No.125−b)１ｇを得た。またこの
精製分離により4(5)−クロロ−２−シアノ−5(4)−イソ
プロピルイミダゾールも得られた。
１−ジメチルスルファモイル−5(4)−イソプロピルイミ
ダゾール（化合物No.125）及び４−クロロ−２−シアノ
−１−ジメチルスルファモイル−５−イソプロピルイミ
ダゾール（化合物No.125−ｂ）の合成 〔１〕 ホルムアミド３６０ｇを１８０℃に加熱し攪拌
しながら１−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン
（Lipshutz and Morey, J. Org. Chem.,1983, 48,3745
に記載の方法に従って製造した）１０２ｇを３０分を要
して滴下した。滴下終了後、１８０℃で１時間反応させ
た。反応終了後、反応混合物を冷却し、氷水中に投入
し、塩酸でpH＝１とした後、塩化メチレンで洗浄した。
水層をアンモニア水でpH＝４〜５とし、活性炭５ｇを加
え、１時間攪拌した。活性炭をろ過して除去し、ろ液を
アンモニア水でpH＝８とした後、塩化メチレンで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去
し、4(5)−イソプロピルイミダゾール１３ｇを得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た4(5)−イソプロピルイミ
ダゾール11.8ｇをアセトニトリル３００ ml に溶解し、
無水炭酸カリウム１８ｇを加え、３０分間加熱還流し
た。次いで冷却した後、ジメチルスルファモイルクロラ
イド１７ｇを滴下し、滴下終了後５時間加熱還流して反
応を終了した。反応終了後、反応混合物を冷却し、水中
投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メ
チレン）で精製して１−ジメチルスルファモイル−4(5)
−イソプロピルイミダゾール１３ｇを得た。 〔３〕 前記工程〔２〕で得た１−ジメチルスルファモ
イル4(5)−イソプロピルイミダゾール１３ｇをテトラヒ
ドロフラン２００ ml に溶解し、窒素気流下で−７０℃
に冷却し、 1.6M ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液３８
ml を１５分を要して滴下した。滴下終了後−７０℃で
３０分攪拌した後、 N,N−ジメチルホルムアミド 5.6ｇ
を滴下し、滴下終了後室温までゆっくり温度を上げなが
ら１５時間攪拌下反応させた。反応終了後、反応物を氷
水中に投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去
し、１−ジメチルスルファモイル−２−ホルミル−4(5)
−イソプロピルイミダゾール〔1HNMR:CCl4中TMS 基準
（主要ピークのみを記載）、δ値（ppm) 9.68(1H,S) 、
7.18(1H,S)、2.98(6H,S)、1.27(6H,d 6HZ ) 〕８．６ｇ
を得た。 〔４〕 前記工程〔３〕で得た１−ジメチルスルファモ
イル−２−ホルミル−4(5)−イソプロピルイミダゾール
8.5ｇとヒドロキシルアミン塩酸塩 4.8ｇとをピリジン
１００ ml に溶解し、室温で無水酢酸１０ ml を滴下し
た。滴下終了後、徐々に温度を上げて８０〜９０℃で５
時間反応させた。反応終了後、反応混合物中の溶媒を減
圧下留去した後、残留物に水を加え、酢酸エチルで抽出
した。抽出層を希塩酸で洗い、水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、融点８８〜９１℃
の２−シアノ−4(5)−イソプロピルイミダゾール（中間
体No.61 ）2.35ｇを得た。 〔５〕 前記工程〔４〕で得た２−シアノ−4(5)−イソ
プロピルイミダゾール２ｇをメタノール８０ ml に溶解
し、Ｎ−クロロコハク酸イミド 2.1ｇを加え、室温で２
０時間攪拌した後、４０℃に加温して８時間反応させ
た。反応終了後、反応混合物中のメタノールを減圧下留
去し、残留物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出
層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧
下留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：塩化メチレン）で精製して、融点８４〜８
７℃の4(5)−クロロ−２−シアノ−5(4)−イソプロピル
イミダゾール（中間体No.62 ）1.67ｇを得た。 〔６〕 前記工程〔５〕で得た4(5)−クロロ−２−シア
ノ−5(4)−イソプロピルイミダゾール 1.6ｇをアセトニ
トリル３０ ml に溶解し、無水炭酸カリウム1.56ｇを加
え、３０分間加熱還流した。次いで冷却した後、ジメチ
ルスルファモイルクロライド1.49ｇを滴下し、滴下終了
後１５分間加熱還流して反応を終了した。反応終了後、
反応混合物を冷却し、水中に投入し、酢酸エチルで抽出
し、抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶
媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製して、4(5)−ク
ロロ−２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−5(4)
−イソプロピルイミダゾール（化合物No.125） 2.1ｇを
得た。NMR スペクトルにより分析した結果、上記の化合
物は４−クロロ−２−シアノ−１−ジメチルスルファモ
イル−５−イソプロピルイミダゾールと５−クロロ−２
−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−４−イソプロ
ピルイミダゾールとの異性体混合物であり、その割合は
約２：１であった。 〔７〕 前記工程〔６〕で得たこれらの異性体混合物
2.1ｇを室温で５日間放置した後、塩化メチレンを展開
溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
して、融点７５〜８２℃（分解）の４−クロロ−２−シ
アノ−１−ジメチルスルファモイル−５−イソプロピル
イミダゾール（化合物No.125−b)１ｇを得た。またこの
精製分離により4(5)−クロロ−２−シアノ−5(4)−イソ
プロピルイミダゾールも得られた。
【００３８】合成例１２ ４−クロロ−１−ジメチルス
ルファモイル−５−ｎ−プロピル−２−チオカルバモイ
ルイミダゾール（化合物No.185-b) の合成 〔１〕 ４，５−ジクロロイミダゾールをクロロメチル
メチルエーテルと反応させて４，５−ジクロロ−１−メ
トキシメチルイミダゾール（ｎD 26.81.5090）を得、こ
のものから合成例１１〔３〕に記載の方法に準じて４，
５−ジクロロ−２−ホルミル−１−メトキシメチルイミ
ダゾール（ｎD 26.8 1.5342 ）を得た。更にこれから合
成例１１〔４〕に記載の方法に準じて４，５−ジクロロ
−２−シアノイミダゾール（融点１８７〜１８９℃）を
得、これより合成例１と同様の方法で融点１００〜１０
３℃の２−シアノ−４，５−ジクロロ−１−ジメチルス
ルファモイルイミダゾールを得た。 〔２〕 四ツ口フラスコ中に窒素雰囲気下で、上記工程
〔１〕で得た２−シアノ−4,5 −ジクロロ−１−ジメチ
ルスルファモイルイミダゾール 6.0ｇ及び乾燥テトラヒ
ドロフラン１８０ ml を仕込み、ドライアイス−アセト
ンにより−７５℃以下に温度を保ちながら 1.6M ｎ−ブ
チルリチウムヘキサン溶液15.3 ml を徐々に滴下した。
滴下終了後１５分同温度に保持した。次いでヨウ化ｎ−
プロピル 5.7ｇのテトラヒドロフラン溶液１５ ml を−
７０℃以下で滴下した。滴下終了後１晩攪拌下室温まで
徐々にもどし反応を終了した。反応終了後、反応混合物
を水中投入し塩化メチレン５００ ml で抽出し、水洗し
た後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。塩化メチレンを留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
２回精製分離（展開溶媒として塩化メチレンを使用した
ものとｎ−ヘキサン−酢酸エチルを使用したもの、各１
回ずつ）して融点６６〜６８℃の４−クロロ−２−シア
ノ−１−ジメチルスルファモイル−５−ｎ−プロピルイ
ミダゾール（化合物No.16-b) 2.8ｇを得た。 〔３〕 四ツ口フラスコ中に前記工程〔２〕で得た４−
クロロ−２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−５
−ｎ−プロピルイミダゾール 2.7ｇ、ジオキサン４０ m
l 、トリエチルアミン 1.0ｇ及びピリジン 0.8ｇを仕込
み、この混合物に２０〜２５℃で硫化水素ガスを原料が
消失するまで約３０分間導入し、反応を終了した。反応
終了後、混合物を水中に投入し、析出した結晶をヌッチ
エにより濾別し乾燥した。この結晶をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製
分離して、融点１６０〜１６２℃の４−クロロ−１−ジ
メチルスルファモイル−５−ｎ−プロピル−２−チオカ
ルバモイルイミダゾール（化合物No.185-b) 2.3ｇを得
た。
ルファモイル−５−ｎ−プロピル−２−チオカルバモイ
ルイミダゾール（化合物No.185-b) の合成 〔１〕 ４，５−ジクロロイミダゾールをクロロメチル
メチルエーテルと反応させて４，５−ジクロロ−１−メ
トキシメチルイミダゾール（ｎD 26.81.5090）を得、こ
のものから合成例１１〔３〕に記載の方法に準じて４，
５−ジクロロ−２−ホルミル−１−メトキシメチルイミ
ダゾール（ｎD 26.8 1.5342 ）を得た。更にこれから合
成例１１〔４〕に記載の方法に準じて４，５−ジクロロ
−２−シアノイミダゾール（融点１８７〜１８９℃）を
得、これより合成例１と同様の方法で融点１００〜１０
３℃の２−シアノ−４，５−ジクロロ−１−ジメチルス
ルファモイルイミダゾールを得た。 〔２〕 四ツ口フラスコ中に窒素雰囲気下で、上記工程
〔１〕で得た２−シアノ−4,5 −ジクロロ−１−ジメチ
ルスルファモイルイミダゾール 6.0ｇ及び乾燥テトラヒ
ドロフラン１８０ ml を仕込み、ドライアイス−アセト
ンにより−７５℃以下に温度を保ちながら 1.6M ｎ−ブ
チルリチウムヘキサン溶液15.3 ml を徐々に滴下した。
滴下終了後１５分同温度に保持した。次いでヨウ化ｎ−
プロピル 5.7ｇのテトラヒドロフラン溶液１５ ml を−
７０℃以下で滴下した。滴下終了後１晩攪拌下室温まで
徐々にもどし反応を終了した。反応終了後、反応混合物
を水中投入し塩化メチレン５００ ml で抽出し、水洗し
た後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。塩化メチレンを留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
２回精製分離（展開溶媒として塩化メチレンを使用した
ものとｎ−ヘキサン−酢酸エチルを使用したもの、各１
回ずつ）して融点６６〜６８℃の４−クロロ−２−シア
ノ−１−ジメチルスルファモイル−５−ｎ−プロピルイ
ミダゾール（化合物No.16-b) 2.8ｇを得た。 〔３〕 四ツ口フラスコ中に前記工程〔２〕で得た４−
クロロ−２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−５
−ｎ−プロピルイミダゾール 2.7ｇ、ジオキサン４０ m
l 、トリエチルアミン 1.0ｇ及びピリジン 0.8ｇを仕込
み、この混合物に２０〜２５℃で硫化水素ガスを原料が
消失するまで約３０分間導入し、反応を終了した。反応
終了後、混合物を水中に投入し、析出した結晶をヌッチ
エにより濾別し乾燥した。この結晶をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製
分離して、融点１６０〜１６２℃の４−クロロ−１−ジ
メチルスルファモイル−５−ｎ−プロピル−２−チオカ
ルバモイルイミダゾール（化合物No.185-b) 2.3ｇを得
た。
【００３９】合成例１３ Ｎ−プロピオニル−４−クロ
ロ−１−ジメチルスルファモイル−５−ｎ−プロピル−
２−チオカルバモイルイミダゾール（化合物No.187-b)
の合成 四ツ口フラスコ中に４−クロロ−１−ジメチルスルファ
モイル−５−ｎ−プロピル−２−チオカルバモイルイミ
ダゾール（化合物No.185-b) 2.0ｇ、アセトン２４ ml
及びピリジン1.12ｇを仕込み、この混合物に０〜５℃で
塩化プロピオニル1.19ｇを滴下した。滴下終了後３０−
３５℃で１時間及び還流下で３０分間攪拌し、反応を終
了した。反応終了後、反応混合物を水中に投入し、酢酸
エチルで抽出し、水洗した後無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。乾燥後酢酸エチルを留去し、残渣を、塩化メチレ
ンを展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製分離し、融点１５０〜１５２℃の目的物1.02ｇ
を得た。
ロ−１−ジメチルスルファモイル−５−ｎ−プロピル−
２−チオカルバモイルイミダゾール（化合物No.187-b)
の合成 四ツ口フラスコ中に４−クロロ−１−ジメチルスルファ
モイル−５−ｎ−プロピル−２−チオカルバモイルイミ
ダゾール（化合物No.185-b) 2.0ｇ、アセトン２４ ml
及びピリジン1.12ｇを仕込み、この混合物に０〜５℃で
塩化プロピオニル1.19ｇを滴下した。滴下終了後３０−
３５℃で１時間及び還流下で３０分間攪拌し、反応を終
了した。反応終了後、反応混合物を水中に投入し、酢酸
エチルで抽出し、水洗した後無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。乾燥後酢酸エチルを留去し、残渣を、塩化メチレ
ンを展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製分離し、融点１５０〜１５２℃の目的物1.02ｇ
を得た。
【００４０】合成例１４ ２−シアノ−１−ジメチルス
ルファモイル− 4,5−ジフェニルチオイミダゾール（化
合物No.141）の合成 〔１〕 合成例２と同様に得た２−シアノ−１−ジメチ
ルスルファモイル−５−フェニルチオイミダゾール（化
合物No. 10−ｂ） 8.0ｇ、メタノール６０ ml 及び７％
塩酸水６０ ml を仕込み４０−５０℃で２時間攪拌下反
応した。反応を終えアンモニアで弱アルカリとし析出結
晶を濾別し乾燥して融点１６６〜１６９℃の２−シアノ
−４(5) −フェニルチオイミダゾール（中間体No. ２
６） 4.2ｇを得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た２−シアノ−4(5)−フェ
ニルチオイミダゾール 4.2ｇ、アセトニトリル８０ ml
及び無水炭酸カリウム 3.1ｇの混合物にジメチルスルフ
ァモイルクロライド 3.4ｇを加え、１時間加熱還流し
た。反応終了後、混合物を冷却し固体をろ過した後、得
られた濾液中の溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製分
離して２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−4
(5)-フェニルチオイミダゾール（化合物No.10 ) ５．８
ｇを得た。 〔３〕 四ツ口フラスコに窒素雰囲気下前記工程〔２〕
で得た２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−4(5)
−フェニルチオイミダゾール 5.8ｇ及び乾燥テトラヒド
ロフラン１５０ ml を仕込み、ドライアイス−アセトン
により−７５℃以下に温度を保ちながら 1.6M ｎ−ブチ
ルリチウムヘキサン溶液（関東化学製）12.9 ml を滴下
した。滴下後、１５分間−７５℃以下で保持した後ジフ
ェニルジスルフィド 5.2ｇのテトラヒドロフラン２０ m
l 溶液を−７０℃以下で滴下し、その後室温までもどし
た。反応終了後、混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗し
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：塩化メチレン）で精製分離して融点９８〜１０１℃
の２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル− 4,5−ジ
フェニルチオイミダゾール 1.7ｇを得た。
ルファモイル− 4,5−ジフェニルチオイミダゾール（化
合物No.141）の合成 〔１〕 合成例２と同様に得た２−シアノ−１−ジメチ
ルスルファモイル−５−フェニルチオイミダゾール（化
合物No. 10−ｂ） 8.0ｇ、メタノール６０ ml 及び７％
塩酸水６０ ml を仕込み４０−５０℃で２時間攪拌下反
応した。反応を終えアンモニアで弱アルカリとし析出結
晶を濾別し乾燥して融点１６６〜１６９℃の２−シアノ
−４(5) −フェニルチオイミダゾール（中間体No. ２
６） 4.2ｇを得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た２−シアノ−4(5)−フェ
ニルチオイミダゾール 4.2ｇ、アセトニトリル８０ ml
及び無水炭酸カリウム 3.1ｇの混合物にジメチルスルフ
ァモイルクロライド 3.4ｇを加え、１時間加熱還流し
た。反応終了後、混合物を冷却し固体をろ過した後、得
られた濾液中の溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製分
離して２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−4
(5)-フェニルチオイミダゾール（化合物No.10 ) ５．８
ｇを得た。 〔３〕 四ツ口フラスコに窒素雰囲気下前記工程〔２〕
で得た２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−4(5)
−フェニルチオイミダゾール 5.8ｇ及び乾燥テトラヒド
ロフラン１５０ ml を仕込み、ドライアイス−アセトン
により−７５℃以下に温度を保ちながら 1.6M ｎ−ブチ
ルリチウムヘキサン溶液（関東化学製）12.9 ml を滴下
した。滴下後、１５分間−７５℃以下で保持した後ジフ
ェニルジスルフィド 5.2ｇのテトラヒドロフラン２０ m
l 溶液を−７０℃以下で滴下し、その後室温までもどし
た。反応終了後、混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗し
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：塩化メチレン）で精製分離して融点９８〜１０１℃
の２−シアノ−１−ジメチルスルファモイル− 4,5−ジ
フェニルチオイミダゾール 1.7ｇを得た。
【００４１】合成例１５ ４−ブロム−２−シアノ−１
−ジメチルスルファモイル−５−ｎ−プロピルイミダゾ
ール（化合物No.157-b) の合成 〔１〕 合成例１と同様の方法で２−シアノ−4,5-ジブ
ロモイミダゾール（融点２００〜２０３℃）より２−シ
アノ− 4,5−ジブロモ−１−ジメチルスルファモイルイ
ミダゾール（融点１１８〜１２０℃）を合成した。 〔２〕 ２００ ml 四ツ口フラスコに窒素気流下、前記
工程〔１〕で得た２−シアノ− 4,5−ジブロモ−１−ジ
メチルスルファモイルイミダゾール５ｇと乾燥テトラヒ
ドロフラン１２０ ml を入れ、混合した。この溶液をド
ライアイス−アセトンで−７５℃以下に保ちながら、同
溶液に 1.6M ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（アルド
リッチ製）を9.6 ml滴下した。次いで１５分間同温度で
保持した後、ヨウ化ｎ−プロピル 3.6ｇと乾燥テトラヒ
ドロフラン１５ ml との混合溶液を−７５℃以下で滴下
し、その後室温になるまで放置した。反応終了後、反応
混合物を酢酸エチルで抽出し水洗した後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を留去し残渣を、塩化メチレン
を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製し、融点９３〜９４℃の目的物 2.1ｇを得た。
−ジメチルスルファモイル−５−ｎ−プロピルイミダゾ
ール（化合物No.157-b) の合成 〔１〕 合成例１と同様の方法で２−シアノ−4,5-ジブ
ロモイミダゾール（融点２００〜２０３℃）より２−シ
アノ− 4,5−ジブロモ−１−ジメチルスルファモイルイ
ミダゾール（融点１１８〜１２０℃）を合成した。 〔２〕 ２００ ml 四ツ口フラスコに窒素気流下、前記
工程〔１〕で得た２−シアノ− 4,5−ジブロモ−１−ジ
メチルスルファモイルイミダゾール５ｇと乾燥テトラヒ
ドロフラン１２０ ml を入れ、混合した。この溶液をド
ライアイス−アセトンで−７５℃以下に保ちながら、同
溶液に 1.6M ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（アルド
リッチ製）を9.6 ml滴下した。次いで１５分間同温度で
保持した後、ヨウ化ｎ−プロピル 3.6ｇと乾燥テトラヒ
ドロフラン１５ ml との混合溶液を−７５℃以下で滴下
し、その後室温になるまで放置した。反応終了後、反応
混合物を酢酸エチルで抽出し水洗した後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を留去し残渣を、塩化メチレン
を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製し、融点９３〜９４℃の目的物 2.1ｇを得た。
【００４２】合成例１６ ２−シアノ−１−ジメチルス
ルファモイル−４−ｎ−プロピル−５−トリフルオロア
セチルイミダゾール（化合物No.182−ａ）の合成 〔１〕 ホルムアミド３６０ｇを１８０℃に加熱し撹拌
しながら１−ヒドロキシ−２−ペンタノン（Lipshutz a
nd Morey, J.Org.Chem.,1983, 48, 3745に記載）９８ｇ
を４０分を要して滴下した。滴下終了後１８０℃で１時
間反応させた。反応終了後、反応混合物を冷却し、氷水
中に投入し、塩酸でpH＝１とした後、塩化メチレンで洗
浄した。水層をアンモニア水でpH＝４〜５とし、活性炭
５ｇを加え、１時間撹拌した。活性炭をろ過して除去
し、ろ液をアンモニア水でpH＝８とした後、塩化メチレ
ンで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧
下留去し、４(5) −ｎ−プロピルイミダゾール３６ｇを
得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た４(5) −ｎ−プロピルイ
ミダゾール33.5ｇをアセトニトリル６００mlに溶解し、
無水炭酸カリウム５０ｇを加え、３０分間加熱還流し
た。次いで冷却した後、ジメチルスルファモイルクロラ
イド47.4ｇを滴下し、滴下終了後５時間加熱還流して反
応を終了した。反応終了後、反応混合物を冷却し、水中
投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メ
チレン）で精製して１−ジメチルスルファモイル−4(5)
−ｎ−プロピルイミダゾール46.5ｇを得た。 〔３〕 前記工程〔２〕で得た１−ジメチルスルファモ
イル−4(5)−ｎ−プロピルイミダゾール４６ｇをテトラ
ヒドロフラン７００ ml に溶解し、窒素気流下で−７０
℃に冷却し、 1.6Ｍ ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液
135.7 ml を１５分を要して滴下した。滴下終了後−７
０℃で３０分撹拌した後、N,N −ジメチルホルムアミド
２０ｇのテトラヒドロフラン２０ ml 溶液を滴下し、滴
下終了後室温までゆっくり温度を上げながら１５時間撹
拌下反応させた。反応終了後、反応物を氷水中に投入
し、塩化メチレンで抽出した。抽出物を水洗し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、１−ジメ
チルスルファモイル−２−ホルミル−4(5)−ｎ−プロピ
ルイミダゾール４７ｇを得た。 〔４〕 前記工程〔３〕で得た１−ジメチルスルファモ
イル−２−ホルミル−4(5)−ｎ−プロピルイミダゾール
４７ｇとヒドロキシルアミン塩酸塩26.7ｇとをピリジン
６００ ml に溶解し、室温で無水酢酸６０ ml を滴下し
た。滴下終了後、徐々に温度を上げて８０〜９０℃で５
時間反応させた。反応終了後、反応混合物中の溶媒を減
圧下留去した後、残留物に水を加え、酢酸エチルで抽出
した。抽出層を希塩酸で洗い、水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、２−シアノ−4(5)
−ｎ−プロピルイミダゾール１５ｇを得た。 〔５〕 前記工程〔４〕で得た２−シアノ−4(5)−ｎ−
プロピルイミダゾール５ｇ、アセトニトリル１００ ml
及び無水炭酸カリウム6.13ｇを混合し３０分間加熱還流
した。次いで冷却した後、ジメチルスルファモイルクロ
ライド 5.8ｇを加え３０分間加熱還流した。反応終了
後、反応混合物を冷却し、水中投入し、酢酸エチルで抽
出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧下留去した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製して２
−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−4(5)−ｎ−プ
ロピルイミダゾール（化合物No.3） 4.5ｇを得た。 〔６〕 前記工程〔５〕で得た２−シアノ−１−ジメチ
ルスルファモイル−4(5)−ｎ−プロピルイミダゾール
2.4ｇをテトラヒドロフラン５０ ml に溶解し、窒素気
流下で−７０℃に冷却し、 1.6Ｍ ｎ−ブチルリチウム
ヘキサン溶液5.7mlを加え、５０分後トリフルオロ酢酸
エチル1.42ｇのテトラヒドロフラン３ ml 溶液を加え、
室温までゆっくり温度を上げながら１５時間反応させ
た。反応終了後、反応混合物を水中投入し塩化メチレン
で抽出した。抽出層を水洗し無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧下留去した後シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／塩化メチレン＝
４０／６０）で２回精製して融点９０〜９２℃の２−シ
アノ−１−ジメチルスルファモイル−４−ｎ−プロピル
−５−トリフルオロアセチルイミダゾール（化合物No.1
82−ａ） 0.9ｇを得た。
ルファモイル−４−ｎ−プロピル−５−トリフルオロア
セチルイミダゾール（化合物No.182−ａ）の合成 〔１〕 ホルムアミド３６０ｇを１８０℃に加熱し撹拌
しながら１−ヒドロキシ−２−ペンタノン（Lipshutz a
nd Morey, J.Org.Chem.,1983, 48, 3745に記載）９８ｇ
を４０分を要して滴下した。滴下終了後１８０℃で１時
間反応させた。反応終了後、反応混合物を冷却し、氷水
中に投入し、塩酸でpH＝１とした後、塩化メチレンで洗
浄した。水層をアンモニア水でpH＝４〜５とし、活性炭
５ｇを加え、１時間撹拌した。活性炭をろ過して除去
し、ろ液をアンモニア水でpH＝８とした後、塩化メチレ
ンで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧
下留去し、４(5) −ｎ−プロピルイミダゾール３６ｇを
得た。 〔２〕 前記工程〔１〕で得た４(5) −ｎ−プロピルイ
ミダゾール33.5ｇをアセトニトリル６００mlに溶解し、
無水炭酸カリウム５０ｇを加え、３０分間加熱還流し
た。次いで冷却した後、ジメチルスルファモイルクロラ
イド47.4ｇを滴下し、滴下終了後５時間加熱還流して反
応を終了した。反応終了後、反応混合物を冷却し、水中
投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メ
チレン）で精製して１−ジメチルスルファモイル−4(5)
−ｎ−プロピルイミダゾール46.5ｇを得た。 〔３〕 前記工程〔２〕で得た１−ジメチルスルファモ
イル−4(5)−ｎ−プロピルイミダゾール４６ｇをテトラ
ヒドロフラン７００ ml に溶解し、窒素気流下で−７０
℃に冷却し、 1.6Ｍ ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液
135.7 ml を１５分を要して滴下した。滴下終了後−７
０℃で３０分撹拌した後、N,N −ジメチルホルムアミド
２０ｇのテトラヒドロフラン２０ ml 溶液を滴下し、滴
下終了後室温までゆっくり温度を上げながら１５時間撹
拌下反応させた。反応終了後、反応物を氷水中に投入
し、塩化メチレンで抽出した。抽出物を水洗し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、１−ジメ
チルスルファモイル−２−ホルミル−4(5)−ｎ−プロピ
ルイミダゾール４７ｇを得た。 〔４〕 前記工程〔３〕で得た１−ジメチルスルファモ
イル−２−ホルミル−4(5)−ｎ−プロピルイミダゾール
４７ｇとヒドロキシルアミン塩酸塩26.7ｇとをピリジン
６００ ml に溶解し、室温で無水酢酸６０ ml を滴下し
た。滴下終了後、徐々に温度を上げて８０〜９０℃で５
時間反応させた。反応終了後、反応混合物中の溶媒を減
圧下留去した後、残留物に水を加え、酢酸エチルで抽出
した。抽出層を希塩酸で洗い、水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、２−シアノ−4(5)
−ｎ−プロピルイミダゾール１５ｇを得た。 〔５〕 前記工程〔４〕で得た２−シアノ−4(5)−ｎ−
プロピルイミダゾール５ｇ、アセトニトリル１００ ml
及び無水炭酸カリウム6.13ｇを混合し３０分間加熱還流
した。次いで冷却した後、ジメチルスルファモイルクロ
ライド 5.8ｇを加え３０分間加熱還流した。反応終了
後、反応混合物を冷却し、水中投入し、酢酸エチルで抽
出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧下留去した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン）で精製して２
−シアノ−１−ジメチルスルファモイル−4(5)−ｎ−プ
ロピルイミダゾール（化合物No.3） 4.5ｇを得た。 〔６〕 前記工程〔５〕で得た２−シアノ−１−ジメチ
ルスルファモイル−4(5)−ｎ−プロピルイミダゾール
2.4ｇをテトラヒドロフラン５０ ml に溶解し、窒素気
流下で−７０℃に冷却し、 1.6Ｍ ｎ−ブチルリチウム
ヘキサン溶液5.7mlを加え、５０分後トリフルオロ酢酸
エチル1.42ｇのテトラヒドロフラン３ ml 溶液を加え、
室温までゆっくり温度を上げながら１５時間反応させ
た。反応終了後、反応混合物を水中投入し塩化メチレン
で抽出した。抽出層を水洗し無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧下留去した後シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／塩化メチレン＝
４０／６０）で２回精製して融点９０〜９２℃の２−シ
アノ−１−ジメチルスルファモイル−４−ｎ−プロピル
−５−トリフルオロアセチルイミダゾール（化合物No.1
82−ａ） 0.9ｇを得た。
【００４３】本願第１の発明化合物の代表例を第２表に
挙げる。
挙げる。
【表８】
【００４４】
【表９】
【００４５】
【表１０】
【００４６】
【表１１】
【００４７】
【表１２】
【００４８】
【表１３】
【００４９】
【表１４】
【００５０】
【表１５】
【００５１】
【表１６】
【００５２】
【表１７】
【００５３】
【表１８】
【００５４】
【表１９】
【００５５】
【表２０】
【００５６】
【表２１】
【００５７】
【表２２】
【００５８】
【表２３】
【００５９】
【表２４】
【００６０】
【表２５】
【００６１】
【表２６】
【００６２】
【表２７】
【００６３】
【表２８】
【００６４】
【表２９】
【００６５】
【表３０】
【００６６】
【表３１】
【００６７】
【表３２】
【００６８】
【表３３】
【００６９】上記第２表に記載されている本発明化合物
のうち、化合物No. の後にａが付記されている化合物は
前記一般式（Ｉ）中、前記一般式（Ｉ−ａ）で示される
化合物であり、ｂが付記されている化合物は、前記一般
式（Ｉ）中、前記一般式（Ｉ−ｂ）で示される化合物で
ある。
のうち、化合物No. の後にａが付記されている化合物は
前記一般式（Ｉ）中、前記一般式（Ｉ−ａ）で示される
化合物であり、ｂが付記されている化合物は、前記一般
式（Ｉ）中、前記一般式（Ｉ−ｂ）で示される化合物で
ある。
【００７０】前記一般式（Ｉ）で表わされる本願第１の
発明化合物は、本願第４の発明である有害生物防除剤の
有効成分として、特に農園芸用有害生物防除剤及び医薬
用抗菌剤として有用である。農園芸用殺菌剤としては、
稲いもち病、稲紋枯病、キュウリ炭そ病、キュウリうど
んこ病、キュウリべと病、トマト疫病、トマト輪紋病、
柑橘類の黒点病、柑橘類のみどりかび病、ナシ黒星病、
リンゴ斑点落葉病、ブトウべと病、各種の灰色かび病、
菌核病、さび病などの病害及びフザリウム菌、ピシウム
菌、リゾクトニア菌、バーティシリウム菌、プラズモデ
ィオホーラ菌などの植物病原菌によって引き起こされる
土壌病害に対し優れた防除効果を示す。特にジャガイモ
やトマトの疫病、キュウリやブドウのべと病、プラズモ
ディオホーラ属菌、アファノマイセス属菌及びピシウム
属菌などによる各種土壌病害など、藻菌類による病害に
対して優れた防除効果を示す。本発明化合物は残効性が
長く優れた予防効果を示すのみならず、優れた治療効果
を有することから感染後の処理による病害防除が可能で
ある。また浸透移行性を有することから、土壌処理によ
る茎葉部の病害防除も可能である。本願第１の発明化合
物は、更に農園芸上有害な昆虫類、ダニ類、線虫類、例
えばウンカ、コナガ、ツマグロヨコバイ、アズキゾウム
シ、ハスモンヨトウ、モモアカアブラムシなどの昆虫
類、ナミハダニ、ニセナミハダニ、ミカンハダニなどの
ダニ類、サツマイモネコブ線虫などの線虫類に対して優
れた防除効果を示す。使用に際しては、従来の農薬製剤
の場合と同様に、補助剤と共に、乳剤、粉剤、水和剤、
液剤、粒剤、懸濁製剤などの種々の形態に製剤すること
ができる。これらの製剤の実際の使用に際しては、その
まま使用するか、または水等の希釈剤で所定濃度に希釈
して使用することができる。ここに言う補助剤として
は、担体、乳化剤、懸濁剤、分散剤、展着剤、浸透剤、
湿潤剤、増粘剤、安定剤などが挙げられ、必要により適
宜添加すればよい。担体としては、固体担体と液体担体
に分けられ、固体担体としては、澱粉、砂糖、セルロー
ス粉、シクロデキストリン、活性炭、大豆粉、小麦粉、
もみがら粉、木粉、魚粉、粉乳などの動植物性粉末、タ
ルク、カオリン、ベントナイト、有機ベントナイト、炭
酸カルシウム、硫酸カルシウム、重炭酸ナトリウム、ゼ
オライト、珪藻土、ホワイトカーボン、クレー、アルミ
ナ、シリカ、硫黄粉末などの鉱物性粉末などが挙げら
れ、液体担体としては、水、大豆油、棉実油などの動植
物油、エチルアルコール、エチレングリコールなどのア
ルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケト
ン類、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル
類、ケロシン、灯油、流動パラフィンなどの脂肪族炭化
水素類、キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチル
ベンゼン、シクロヘキサン、ソルベントナフサなどの芳
香族炭化水素類、クロロホルム、クロロベンゼンなどの
ハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルムアミド等の酸ア
ミド類、酢酸エチルエステル、脂肪酸のグリセリンエス
テルなどのエステル類、アセトニトリルなどのニトリル
類、ジメチルスルホキシドなどの含硫化合物類、Ｎ−メ
チルピロリドン、 N,N−ジメチルホルムアミドなどが挙
げられる。本発明化合物と補助剤との適当な配合重量比
は、一般に 0.05 : 99.95 〜９０：１０、望ましくは0.
2 ： 99.8 〜８０：２０である。本発明化合物の使用濃
度は、対象作物、使用方法、製剤形態、施用量などの違
いによって異なり、一概に規定できないが、茎葉処理の
場合、有効成分当たり普通０．１〜10,000 ppm、望まし
くは、１〜2,000 ppm である。土壌処理の場合には、普
通１０〜100,000 g/ha、望ましくは、 200〜20,000g/ha
である。
発明化合物は、本願第４の発明である有害生物防除剤の
有効成分として、特に農園芸用有害生物防除剤及び医薬
用抗菌剤として有用である。農園芸用殺菌剤としては、
稲いもち病、稲紋枯病、キュウリ炭そ病、キュウリうど
んこ病、キュウリべと病、トマト疫病、トマト輪紋病、
柑橘類の黒点病、柑橘類のみどりかび病、ナシ黒星病、
リンゴ斑点落葉病、ブトウべと病、各種の灰色かび病、
菌核病、さび病などの病害及びフザリウム菌、ピシウム
菌、リゾクトニア菌、バーティシリウム菌、プラズモデ
ィオホーラ菌などの植物病原菌によって引き起こされる
土壌病害に対し優れた防除効果を示す。特にジャガイモ
やトマトの疫病、キュウリやブドウのべと病、プラズモ
ディオホーラ属菌、アファノマイセス属菌及びピシウム
属菌などによる各種土壌病害など、藻菌類による病害に
対して優れた防除効果を示す。本発明化合物は残効性が
長く優れた予防効果を示すのみならず、優れた治療効果
を有することから感染後の処理による病害防除が可能で
ある。また浸透移行性を有することから、土壌処理によ
る茎葉部の病害防除も可能である。本願第１の発明化合
物は、更に農園芸上有害な昆虫類、ダニ類、線虫類、例
えばウンカ、コナガ、ツマグロヨコバイ、アズキゾウム
シ、ハスモンヨトウ、モモアカアブラムシなどの昆虫
類、ナミハダニ、ニセナミハダニ、ミカンハダニなどの
ダニ類、サツマイモネコブ線虫などの線虫類に対して優
れた防除効果を示す。使用に際しては、従来の農薬製剤
の場合と同様に、補助剤と共に、乳剤、粉剤、水和剤、
液剤、粒剤、懸濁製剤などの種々の形態に製剤すること
ができる。これらの製剤の実際の使用に際しては、その
まま使用するか、または水等の希釈剤で所定濃度に希釈
して使用することができる。ここに言う補助剤として
は、担体、乳化剤、懸濁剤、分散剤、展着剤、浸透剤、
湿潤剤、増粘剤、安定剤などが挙げられ、必要により適
宜添加すればよい。担体としては、固体担体と液体担体
に分けられ、固体担体としては、澱粉、砂糖、セルロー
ス粉、シクロデキストリン、活性炭、大豆粉、小麦粉、
もみがら粉、木粉、魚粉、粉乳などの動植物性粉末、タ
ルク、カオリン、ベントナイト、有機ベントナイト、炭
酸カルシウム、硫酸カルシウム、重炭酸ナトリウム、ゼ
オライト、珪藻土、ホワイトカーボン、クレー、アルミ
ナ、シリカ、硫黄粉末などの鉱物性粉末などが挙げら
れ、液体担体としては、水、大豆油、棉実油などの動植
物油、エチルアルコール、エチレングリコールなどのア
ルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケト
ン類、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル
類、ケロシン、灯油、流動パラフィンなどの脂肪族炭化
水素類、キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチル
ベンゼン、シクロヘキサン、ソルベントナフサなどの芳
香族炭化水素類、クロロホルム、クロロベンゼンなどの
ハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルムアミド等の酸ア
ミド類、酢酸エチルエステル、脂肪酸のグリセリンエス
テルなどのエステル類、アセトニトリルなどのニトリル
類、ジメチルスルホキシドなどの含硫化合物類、Ｎ−メ
チルピロリドン、 N,N−ジメチルホルムアミドなどが挙
げられる。本発明化合物と補助剤との適当な配合重量比
は、一般に 0.05 : 99.95 〜９０：１０、望ましくは0.
2 ： 99.8 〜８０：２０である。本発明化合物の使用濃
度は、対象作物、使用方法、製剤形態、施用量などの違
いによって異なり、一概に規定できないが、茎葉処理の
場合、有効成分当たり普通０．１〜10,000 ppm、望まし
くは、１〜2,000 ppm である。土壌処理の場合には、普
通１０〜100,000 g/ha、望ましくは、 200〜20,000g/ha
である。
【００７１】本願第１の発明化合物は必要に応じて他の
農薬、例えば、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、
抗ウイルス剤、誘引剤、除草剤、植物生長調整剤など
と、混用、併用することができ、この場合には一層優れ
た効果を示すこともある。例えば、殺虫剤、殺ダニ剤、
或いは殺線虫剤としては、Ｏ−（４−ブロモ−２−クロ
ロフェニル）Ｏ−エチル Ｓ−プロピル ホスホロチオ
エート、 2,2−ジクロロビニル ジメチル ホスフェー
ト、エチル ３−メチル−４−（メチルチオ）フェニル
イソプロピルホスホロアミデート、Ｏ, Ｏ−ジメチル
Ｏ−４−ニトロ−ｍ−トリルホスホロチオエート、Ｏ
−エチル Ｏ−４−ニトロフェニルフェニルホスホノチ
オエート、Ｏ，Ｏ−ジエチル Ｏ−２−イソプロピル−
６−メチルピリミジン−４−イル ホスホロチオエー
ト、Ｏ，Ｏ−ジメチル Ｏ−（3,5,6−トリクロロ−２
−ピリジル）ホスホロチオエート、Ｏ，Ｓ−ジメチルア
セチルホスホロアミドチオエート、Ｏ−（ 2,4−ジクロ
ロフェニル）Ｏ−エチル Ｓ−プロピル ホスホロジチ
オエートのような有機リン酸エステル系化合物；１−ナ
フチルメチルカーバメート、２−イソプロポキシフェニ
ルメチルカーバメート、２−メチル−２−（メチルチ
オ）プロピオンアルデヒド Ｏ−メチルカルバモイルオ
キシム、 2,3−ジヒドロ− 2,2−ジメチルベンゾフラン
−７−イルメチルカーバメート、ジメチル Ｎ，Ｎ’−
｛チオビス〔（メチルイミノ）カルボニルオキシ〕｝ビ
スエタンイミドチオエート、Ｓ−メチル Ｎ−（メチル
カルバモイルオキシ）チオアセトイミデート、Ｎ，Ｎ−
ジメチル−２−メチルカルバモイルオキシイミノ−２−
（メチルチオ）アセトアミド、２−（エチルチオメチ
ル）フェニル メチルカーバメート、２−ジメチルアミ
ノ− 5,6−ジメチルピリミジン−４−イル ジメチルカ
ーバメート、Ｓ，Ｓ’−２−ジメチルアミノトリメチレ
ンビス（チオカーバメート）のようなカーバメート系化
合物； 2,2,2 −トリクロロ− 1,1−ビス( ４−クロロ
フェニル）エタノール、４−クロロフェニル 2,4, 5
−トリクロロフェニル スルホンのような有機塩素系化
合物；トリシクロヘキシルチン ヒドロキシドのような
有機金属化合物；（ＲＳ）−α−シアノ−３−フェノキ
シベンジル（ＲＳ）−２−(4−クロロフェニル）−３−
メチルブチレート、３−フェノキシベンジル（１ＲＳ）
−シス，トランス−３−（ 2,2−ジクロロビニル）−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシレート、（Ｒ
Ｓ）−α−シアノ−３−フェノキシベンジル（１ＲＳ）
−シス，トランス−３−（ 2,2−ジクロロビニル）−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシレート、（Ｒ
Ｓ）−α−シアノ−３−フェノキシベンジル（１ＲＳ）
−シス−３−（ 2,2−ジブロモビニル）− 2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボキシレート、（ＲＳ）−α−シ
アノ−３−フェノキシベンジル（１ＲＳ）−シス，トラ
ンス−３−（２−クロロ− 3,3,3−トリフルオロプロペ
ニル）− 2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシレー
トのようなピレスロイド系化合物；１−（４−クロロフ
ェニル）−３−（ 2,6−ジフルオロベンゾイル）ウレ
ア、１−〔 3,5−ジクロロ−４−（３−クロロ−５−ト
リフルオロメチル−２−ピリジルオキシ）フェニル〕−
３−（ 2,6−ジフルオロベンゾイル）ウレア、１−（
3,5−ジクロロ−2,4 −ジフルオロフェニル）−３−（
2,6−ジフルオロベンゾイル）ウレアのようなベンゾイ
ルウレア系化合物；２−tert−ブチルイミノ−３−イソ
プロピル−５−フェニル− 3,4,5,6−テトラヒドロ−２
Ｈ− 1,3,5−チアジアジン−４−オン、トランス−５−
（４−クロロフェニル）−Ｎ−シクロヘキシル−４−メ
チル−２−オキソチアゾリジノン−３−カルボキサミ
ド、Ｎ−メチルビス（2,4 −キシリルイミノメチル）ア
ミンのような化合物；イソプロピル（２Ｅ，４Ｅ）−１
１−メトキシ−3,7,１１−トリメチル−2,４−ドデカジ
ノエートのような幼若ホルモン様化合物；また、その他
の化合物として、ジニトロ系化合物、有機硫黄化合物、
尿素系化合物、トリアジン系化合物などが挙げられる。
更に、ＢＴ剤、 昆虫病原ウイルス剤などのような微生物
農薬などと、混用、併用することもできる。
農薬、例えば、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、
抗ウイルス剤、誘引剤、除草剤、植物生長調整剤など
と、混用、併用することができ、この場合には一層優れ
た効果を示すこともある。例えば、殺虫剤、殺ダニ剤、
或いは殺線虫剤としては、Ｏ−（４−ブロモ−２−クロ
ロフェニル）Ｏ−エチル Ｓ−プロピル ホスホロチオ
エート、 2,2−ジクロロビニル ジメチル ホスフェー
ト、エチル ３−メチル−４−（メチルチオ）フェニル
イソプロピルホスホロアミデート、Ｏ, Ｏ−ジメチル
Ｏ−４−ニトロ−ｍ−トリルホスホロチオエート、Ｏ
−エチル Ｏ−４−ニトロフェニルフェニルホスホノチ
オエート、Ｏ，Ｏ−ジエチル Ｏ−２−イソプロピル−
６−メチルピリミジン−４−イル ホスホロチオエー
ト、Ｏ，Ｏ−ジメチル Ｏ−（3,5,6−トリクロロ−２
−ピリジル）ホスホロチオエート、Ｏ，Ｓ−ジメチルア
セチルホスホロアミドチオエート、Ｏ−（ 2,4−ジクロ
ロフェニル）Ｏ−エチル Ｓ−プロピル ホスホロジチ
オエートのような有機リン酸エステル系化合物；１−ナ
フチルメチルカーバメート、２−イソプロポキシフェニ
ルメチルカーバメート、２−メチル−２−（メチルチ
オ）プロピオンアルデヒド Ｏ−メチルカルバモイルオ
キシム、 2,3−ジヒドロ− 2,2−ジメチルベンゾフラン
−７−イルメチルカーバメート、ジメチル Ｎ，Ｎ’−
｛チオビス〔（メチルイミノ）カルボニルオキシ〕｝ビ
スエタンイミドチオエート、Ｓ−メチル Ｎ−（メチル
カルバモイルオキシ）チオアセトイミデート、Ｎ，Ｎ−
ジメチル−２−メチルカルバモイルオキシイミノ−２−
（メチルチオ）アセトアミド、２−（エチルチオメチ
ル）フェニル メチルカーバメート、２−ジメチルアミ
ノ− 5,6−ジメチルピリミジン−４−イル ジメチルカ
ーバメート、Ｓ，Ｓ’−２−ジメチルアミノトリメチレ
ンビス（チオカーバメート）のようなカーバメート系化
合物； 2,2,2 −トリクロロ− 1,1−ビス( ４−クロロ
フェニル）エタノール、４−クロロフェニル 2,4, 5
−トリクロロフェニル スルホンのような有機塩素系化
合物；トリシクロヘキシルチン ヒドロキシドのような
有機金属化合物；（ＲＳ）−α−シアノ−３−フェノキ
シベンジル（ＲＳ）−２−(4−クロロフェニル）−３−
メチルブチレート、３−フェノキシベンジル（１ＲＳ）
−シス，トランス−３−（ 2,2−ジクロロビニル）−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシレート、（Ｒ
Ｓ）−α−シアノ−３−フェノキシベンジル（１ＲＳ）
−シス，トランス−３−（ 2,2−ジクロロビニル）−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシレート、（Ｒ
Ｓ）−α−シアノ−３−フェノキシベンジル（１ＲＳ）
−シス−３−（ 2,2−ジブロモビニル）− 2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボキシレート、（ＲＳ）−α−シ
アノ−３−フェノキシベンジル（１ＲＳ）−シス，トラ
ンス−３−（２−クロロ− 3,3,3−トリフルオロプロペ
ニル）− 2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシレー
トのようなピレスロイド系化合物；１−（４−クロロフ
ェニル）−３−（ 2,6−ジフルオロベンゾイル）ウレ
ア、１−〔 3,5−ジクロロ−４−（３−クロロ−５−ト
リフルオロメチル−２−ピリジルオキシ）フェニル〕−
３−（ 2,6−ジフルオロベンゾイル）ウレア、１−（
3,5−ジクロロ−2,4 −ジフルオロフェニル）−３−（
2,6−ジフルオロベンゾイル）ウレアのようなベンゾイ
ルウレア系化合物；２−tert−ブチルイミノ−３−イソ
プロピル−５−フェニル− 3,4,5,6−テトラヒドロ−２
Ｈ− 1,3,5−チアジアジン−４−オン、トランス−５−
（４−クロロフェニル）−Ｎ−シクロヘキシル−４−メ
チル−２−オキソチアゾリジノン−３−カルボキサミ
ド、Ｎ−メチルビス（2,4 −キシリルイミノメチル）ア
ミンのような化合物；イソプロピル（２Ｅ，４Ｅ）−１
１−メトキシ−3,7,１１−トリメチル−2,４−ドデカジ
ノエートのような幼若ホルモン様化合物；また、その他
の化合物として、ジニトロ系化合物、有機硫黄化合物、
尿素系化合物、トリアジン系化合物などが挙げられる。
更に、ＢＴ剤、 昆虫病原ウイルス剤などのような微生物
農薬などと、混用、併用することもできる。
【００７２】例えば、殺菌剤としては、S-ベンジル
Ｏ，Ｏ−ジイソプロピルホスホロチオエート、Ｏ−エチ
ル Ｓ，Ｓ−ジフェニル ホスホロジチオエート、アル
ミニウム エチルハイドロゲン ホスホネート、Ｏ−2,
6 −ジクロロ−ｐ−トリル Ｏ，Ｏ−ジメチル ホスホ
ロチオエートのような有機リン系化合物； 4,5,6,7−テ
トラクロロフタリド、テトラクロロイソフタロニトリル
のような有機塩素系化合物；マンガニーズ エチレンビ
ス（ジチオカーバメート）の重合物、ジンク エチレン
ビス（ジチオカーバメート）の重合物、ジンクとマンネ
ブの錯化合物、ジジンク ビス（ジメチルジチオカーバ
メート）エチレンビス（ジチオカーバメート）、ジンク
プロピレンビス（ジチオカーバメート）の重合物のよ
うなジチオカーバメート系化合物； 3a,4,7,7a−テトラ
ヒドロ−Ｎ−（トリクロロメタンスルフェニル）フタル
イミド、３a,4,7,7a−テトラヒドロ−Ｎ−（ 1,1,2,2−
テトラクロロエタンスルフェニル）フタルイミド、Ｎ−
（トリクロロメチルスルフェニル）フタルイミドのよう
なＮ−ハロゲノチオアルキル系化合物；３−（ 3,5−ジ
クロロフェニル）−Ｎ−イソプロピル− 2,4−ジオキソ
イミダゾリジン−１−カルボキサミド、（ＲＳ）−３−
（3,5 −ジクロロフェニル）−５−メチル−５−ビニル
− 1,3−オキサゾリジン− 2,4−ジオン、Ｎ−（ 3,5−
ジクロロフェニル）− 1,2−ジメチルシクロプロパン−
１,2−ジカルボキシミドのようなジカルボキシミド系化
合物；メチル １−（ブチルカルバモイル）ベンズイミ
ダゾール−２−イル カーバメート、ジメチル 4,4′
−（ｏ−フェニレン）ビス（３−チオアロファネート）
のようなベンズイミダゾール系化合物；１−（４−クロ
ロフェノキシ）−３,3−ジメチル−１−（１Ｈ− 1,2,4
−トリアゾール−１−イル）ブタノン、１−（ビフェニ
ル−４−イルオキシ）− 3,3−ジメチル−１−（１Ｈ−
1,2,4−トリアゾール−１−イル）ブタン−２−オー
ル、１−〔Ｎ−（４−クロロ−２−トリフルオロメチル
フェニル）−２−プロポキシアセトイミドイル〕イミダ
ゾール、１−〔２−（ 2,4−ジクロロフェニル）−４−
エチル−1,3 −ジオキソラン−２−イルメチル〕−１Ｈ
−1,2,4 −トリアゾール、１−〔２−（2,4−ジクロロ
フェニル）−４−プロピル− 1,3−ジオキソラン−２−
イルメチル〕−１Ｈ− 1,2,4−トリアゾール、１−〔２
−（ 2,4−ジクロロフェニル）ペンチル〕−１Ｈ− 1,
2,4−トリアゾールのようなアゾール系化合物； 2,4′
−ジクロロ−α−（ピリミジン−５−イル）ベンズヒド
リルアルコール、（±）− 2,4′−ジフルオロ−α−
（１Ｈ−1,2,4 −トリアゾール−１−イルメチル）ベン
ズヒドリルアルコールのようなカルビノール系化合物；
３′−イソプロポキシ−ｏ−トルアニリド、α，α，α
−トリフルオロ−３′−イソプロポキシ−ｏ−トルアニ
リドのようなベンズアニリド系化合物；メチル Ｎ−
（２−メトキシアセチル）−Ｎ−（2,6 −キシリル）−
ＤＬ−アラニネートのようなアシルアラニン系化合物；
３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ− 2,6−ジニトロ−４−
α，α，α−トリフルオロトリル）−５−トリフルオロ
メチル−２−ピリジナミンのようなピリジナミン系化合
物；またその他の化合物として、ピペラジン系化合物、
モルフォリン系化合物、アントラキノン系化合物、６−
メチル−１,3−ジチオロ〔4,5−ｂ〕キノキサリン−２
−オンなどのようなキノキサリン系化合物、クロトン酸
系化合物、スルフェン酸系化合物、イソプロピル−3,4
−ジエトキシフェニルカーバメートなどのようなフェニ
ルカーバメート系化合物、尿素系化合物、１−（２−シ
アノ−２−メトキシイミノアセチル）−３−エチル尿素
などのようなシアノアセトアミド系化合物、抗生物質な
どが挙げられる。
Ｏ，Ｏ−ジイソプロピルホスホロチオエート、Ｏ−エチ
ル Ｓ，Ｓ−ジフェニル ホスホロジチオエート、アル
ミニウム エチルハイドロゲン ホスホネート、Ｏ−2,
6 −ジクロロ−ｐ−トリル Ｏ，Ｏ−ジメチル ホスホ
ロチオエートのような有機リン系化合物； 4,5,6,7−テ
トラクロロフタリド、テトラクロロイソフタロニトリル
のような有機塩素系化合物；マンガニーズ エチレンビ
ス（ジチオカーバメート）の重合物、ジンク エチレン
ビス（ジチオカーバメート）の重合物、ジンクとマンネ
ブの錯化合物、ジジンク ビス（ジメチルジチオカーバ
メート）エチレンビス（ジチオカーバメート）、ジンク
プロピレンビス（ジチオカーバメート）の重合物のよ
うなジチオカーバメート系化合物； 3a,4,7,7a−テトラ
ヒドロ−Ｎ−（トリクロロメタンスルフェニル）フタル
イミド、３a,4,7,7a−テトラヒドロ−Ｎ−（ 1,1,2,2−
テトラクロロエタンスルフェニル）フタルイミド、Ｎ−
（トリクロロメチルスルフェニル）フタルイミドのよう
なＮ−ハロゲノチオアルキル系化合物；３−（ 3,5−ジ
クロロフェニル）−Ｎ−イソプロピル− 2,4−ジオキソ
イミダゾリジン−１−カルボキサミド、（ＲＳ）−３−
（3,5 −ジクロロフェニル）−５−メチル−５−ビニル
− 1,3−オキサゾリジン− 2,4−ジオン、Ｎ−（ 3,5−
ジクロロフェニル）− 1,2−ジメチルシクロプロパン−
１,2−ジカルボキシミドのようなジカルボキシミド系化
合物；メチル １−（ブチルカルバモイル）ベンズイミ
ダゾール−２−イル カーバメート、ジメチル 4,4′
−（ｏ−フェニレン）ビス（３−チオアロファネート）
のようなベンズイミダゾール系化合物；１−（４−クロ
ロフェノキシ）−３,3−ジメチル−１−（１Ｈ− 1,2,4
−トリアゾール−１−イル）ブタノン、１−（ビフェニ
ル−４−イルオキシ）− 3,3−ジメチル−１−（１Ｈ−
1,2,4−トリアゾール−１−イル）ブタン−２−オー
ル、１−〔Ｎ−（４−クロロ−２−トリフルオロメチル
フェニル）−２−プロポキシアセトイミドイル〕イミダ
ゾール、１−〔２−（ 2,4−ジクロロフェニル）−４−
エチル−1,3 −ジオキソラン−２−イルメチル〕−１Ｈ
−1,2,4 −トリアゾール、１−〔２−（2,4−ジクロロ
フェニル）−４−プロピル− 1,3−ジオキソラン−２−
イルメチル〕−１Ｈ− 1,2,4−トリアゾール、１−〔２
−（ 2,4−ジクロロフェニル）ペンチル〕−１Ｈ− 1,
2,4−トリアゾールのようなアゾール系化合物； 2,4′
−ジクロロ−α−（ピリミジン−５−イル）ベンズヒド
リルアルコール、（±）− 2,4′−ジフルオロ−α−
（１Ｈ−1,2,4 −トリアゾール−１−イルメチル）ベン
ズヒドリルアルコールのようなカルビノール系化合物；
３′−イソプロポキシ−ｏ−トルアニリド、α，α，α
−トリフルオロ−３′−イソプロポキシ−ｏ−トルアニ
リドのようなベンズアニリド系化合物；メチル Ｎ−
（２−メトキシアセチル）−Ｎ−（2,6 −キシリル）−
ＤＬ−アラニネートのようなアシルアラニン系化合物；
３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ− 2,6−ジニトロ−４−
α，α，α−トリフルオロトリル）−５−トリフルオロ
メチル−２−ピリジナミンのようなピリジナミン系化合
物；またその他の化合物として、ピペラジン系化合物、
モルフォリン系化合物、アントラキノン系化合物、６−
メチル−１,3−ジチオロ〔4,5−ｂ〕キノキサリン−２
−オンなどのようなキノキサリン系化合物、クロトン酸
系化合物、スルフェン酸系化合物、イソプロピル−3,4
−ジエトキシフェニルカーバメートなどのようなフェニ
ルカーバメート系化合物、尿素系化合物、１−（２−シ
アノ−２−メトキシイミノアセチル）−３−エチル尿素
などのようなシアノアセトアミド系化合物、抗生物質な
どが挙げられる。
【００７３】また本願第１の発明化合物は医薬用抗菌剤
としては、スタフィロコッカス属菌やトリコフィトン属
菌に対して有効である。使用に際しては、従来の医薬製
剤の場合と同様に経口又は非経口的に投与できる。経口
の場合は錠剤、顆粒剤、カプセル、シロップ及び水性又
は油性の懸濁剤など胃腸管からの吸収に適した種々の形
態に製剤することができ、また非経口の場合、注射剤、
或いはクリーム、軟膏など経皮吸収に適した種々の形態
に製剤することができる。投与量は病原性細菌又は真菌
に感染した人及び動物の症状、年令などにより適宜変化
する。
としては、スタフィロコッカス属菌やトリコフィトン属
菌に対して有効である。使用に際しては、従来の医薬製
剤の場合と同様に経口又は非経口的に投与できる。経口
の場合は錠剤、顆粒剤、カプセル、シロップ及び水性又
は油性の懸濁剤など胃腸管からの吸収に適した種々の形
態に製剤することができ、また非経口の場合、注射剤、
或いはクリーム、軟膏など経皮吸収に適した種々の形態
に製剤することができる。投与量は病原性細菌又は真菌
に感染した人及び動物の症状、年令などにより適宜変化
する。
【００７４】以下に、本発明に係わる農園芸用有害生物
防除剤、医薬用抗菌剤の試験例を記載する。農園芸用殺
菌剤の評価基準は、特記した場合を除き、下記の評価基
準に従った。評価基準 防除効果は、調査時の供試植物の発病程度を肉眼観察
し、防除指数を下記の５段階で求めた。 〔防除指数〕 〔発病程度〕 ５ ： 病斑が全く認められない ４ ： 病斑面積、病斑数または病斑長が、無処理区の１０％未満 ３ ： 病斑面積、病斑数または病斑長が、無処理区の４０％未満 ２ ： 病斑面積、病斑数または病斑長が、無処理区の７０％未満 １ ： 病斑面積、病斑数または病斑長が、無処理区の７０％以上
防除剤、医薬用抗菌剤の試験例を記載する。農園芸用殺
菌剤の評価基準は、特記した場合を除き、下記の評価基
準に従った。評価基準 防除効果は、調査時の供試植物の発病程度を肉眼観察
し、防除指数を下記の５段階で求めた。 〔防除指数〕 〔発病程度〕 ５ ： 病斑が全く認められない ４ ： 病斑面積、病斑数または病斑長が、無処理区の１０％未満 ３ ： 病斑面積、病斑数または病斑長が、無処理区の４０％未満 ２ ： 病斑面積、病斑数または病斑長が、無処理区の７０％未満 １ ： 病斑面積、病斑数または病斑長が、無処理区の７０％以上
【００７５】試験例１ キュウリうどんこ病予防効果試
験 直径 7.5cmのポリ鉢でキュウリ（品種：四葉）を栽培
し、１葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調
整した薬液１０ ml をスプレーガンを用いて散布した。
２２〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、うどんこ病
菌の分生胞子を振り掛け接種した。接種１０日後に第１
葉の病斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数
を求め、第３表の結果を得た。
験 直径 7.5cmのポリ鉢でキュウリ（品種：四葉）を栽培
し、１葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調
整した薬液１０ ml をスプレーガンを用いて散布した。
２２〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、うどんこ病
菌の分生胞子を振り掛け接種した。接種１０日後に第１
葉の病斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数
を求め、第３表の結果を得た。
【００７６】
【表３４】
【００７７】試験例２ キュウリ炭そ病予防効果試験 直径 7.5cmのポリ鉢でキュウリ（品種：四葉）を栽培
し、２葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調
整した薬液１０ ml をスプレーガンを用いて散布した。
２２〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、炭そ病菌の
胞子懸濁液を噴霧接種した。接種７日後に第１葉の病斑
面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め、
第４表の結果を得た。
し、２葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調
整した薬液１０ ml をスプレーガンを用いて散布した。
２２〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、炭そ病菌の
胞子懸濁液を噴霧接種した。接種７日後に第１葉の病斑
面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め、
第４表の結果を得た。
【００７８】
【表３５】
【００７９】試験例３ キュウリべと病予防効果試験 直径 7.5cmのポリ鉢でキュウリ（品種：四葉）を栽培
し、２葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調
整した薬液１０ ml をスプレーガンを用いて散布した。
２２〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、べと病菌の
胞子懸濁液を噴霧接種した。接種６日後に第１葉の病斑
面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め、
第５表の結果を得た。
し、２葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調
整した薬液１０ ml をスプレーガンを用いて散布した。
２２〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、べと病菌の
胞子懸濁液を噴霧接種した。接種６日後に第１葉の病斑
面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め、
第５表の結果を得た。
【００８０】
【表３６】
【００８１】試験例４ キュウリべと病治療効果試験 直径 7.5cmのポリ鉢でキュウリ（品種：四葉）を栽培
し、２葉期に達した時に、べと病菌の胞子懸濁液を噴霧
接種した。６時間後に各供試化合物を所定濃度に調整し
た薬液１０ ml をスプレーガンを用いて散布した。２２
〜２４℃の恒温室内に６日間保った後、第１葉の病斑面
積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め、第
６表の結果を得た。
し、２葉期に達した時に、べと病菌の胞子懸濁液を噴霧
接種した。６時間後に各供試化合物を所定濃度に調整し
た薬液１０ ml をスプレーガンを用いて散布した。２２
〜２４℃の恒温室内に６日間保った後、第１葉の病斑面
積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め、第
６表の結果を得た。
【００８２】
【表３７】
【００８３】
【表３８】
【００８４】
【表３９】
【００８５】
【表４０】
【００８６】試験例５ キュウリべと病浸透移行性試験 直径 7.5cmのポリ鉢でキュウリ（品種：四葉）を栽培
し、２葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調
整した薬液１５ ml をピペットを用いて土壌表面に灌注
した。２２〜２４℃の恒温室内に２日間保った後、べと
病菌の胞子懸濁液を噴霧接種した。接種６日後に第１葉
の病斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を
求め、第７表の結果を得た。
し、２葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調
整した薬液１５ ml をピペットを用いて土壌表面に灌注
した。２２〜２４℃の恒温室内に２日間保った後、べと
病菌の胞子懸濁液を噴霧接種した。接種６日後に第１葉
の病斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を
求め、第７表の結果を得た。
【００８７】
【表４１】
【００８８】試験例６ トマト疫病予防効果試験 直径 7.5cmのポリ鉢でトマト（品種：ポンテローザ）を
栽培し、４葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度
に調整した薬液１０ ml をスプレーガンを用いて散布し
た。２２〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、疫病菌
の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種した。接種５日後に病斑面
積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め、第
８表の結果を得た。
栽培し、４葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度
に調整した薬液１０ ml をスプレーガンを用いて散布し
た。２２〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、疫病菌
の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種した。接種５日後に病斑面
積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め、第
８表の結果を得た。
【００８９】
【表４２】
【００９０】
【表４３】
【００９１】
【表４４】
【００９２】
【表４５】
【００９３】
【表４６】
【００９４】試験例７ トマト疫病混剤試験 (1) 直径 7.5cmのポリ鉢でトマト（品種：ポンテロー
ザ）を栽培し、４葉期に達した時に、各供試化合物を所
定濃度に調整した薬液１０mlをスプレーガンを用いて散
布した。２２〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、疫
病菌の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種した。接種５日後に病
斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求
め、第９−１表の結果を得た。
ザ）を栽培し、４葉期に達した時に、各供試化合物を所
定濃度に調整した薬液１０mlをスプレーガンを用いて散
布した。２２〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、疫
病菌の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種した。接種５日後に病
斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求
め、第９−１表の結果を得た。
【００９５】
【表４７】
【００９６】トリフルミゾール：１−〔Ｎ−（４−クロ
ロ−２−トリフルオロメチルフェニル）−２−プロポキ
シアセトイミドイル〕イミダゾール キノメチオネート：６−メチル−1,3 −ジチオロ〔4,5
−ｂ〕キノキサリン−２−オン
ロ−２−トリフルオロメチルフェニル）−２−プロポキ
シアセトイミドイル〕イミダゾール キノメチオネート：６−メチル−1,3 −ジチオロ〔4,5
−ｂ〕キノキサリン−２−オン
【００９７】(2) 前記(1) と同様の方法で試験を行な
い第９−２表の結果を得た。
い第９−２表の結果を得た。
【表４８】
【００９８】マンゼブ：亜鉛（ジンク）とマンガニーズ
エチレンビス（ジチオカーバメート）（マンネブ）の錯
化合物 クロロタロニル：テトラクロロイソフタロニトリル
エチレンビス（ジチオカーバメート）（マンネブ）の錯
化合物 クロロタロニル：テトラクロロイソフタロニトリル
【００９９】(3) 前記(1) と同様の方法で試験を行ない
第９−３表の結果を得た。
第９−３表の結果を得た。
【表４９】
【０１００】ベノミル：メチル １−（ブチルカルバモ
イル）ベンズイミダゾール−２−イルカーバメート
イル）ベンズイミダゾール−２−イルカーバメート
【０１０１】(4) 前記(1) と同様の方法で試験を行な
い第９−４表の結果を得た。
い第９−４表の結果を得た。
【表５０】
【０１０２】フルアジナム：３−クロロ−Ｎ−（３−ク
ロロ−2,6 −ジニトロ−４−α，α，α−トリフルオロ
トリル）−５−トリフルオロメチル−２−ピリジナミン
ロロ−2,6 −ジニトロ−４−α，α，α−トリフルオロ
トリル）−５−トリフルオロメチル−２−ピリジナミン
【０１０３】(5) 前記(1) と同様の方法で試験を行な
い第９−５表の結果を得た。
い第９−５表の結果を得た。
【表５１】
【０１０４】(6) 前記(1) と同様の方法で試験を行な
い第９−６表の結果を得た。
い第９−６表の結果を得た。
【表５２】
【０１０５】シモキサニル：１−（２−シアノ−２−メ
トキシイミノアセチル）−３−エチル尿素
トキシイミノアセチル）−３−エチル尿素
【０１０６】試験例８ トマト疫病浸透移行性試験 直径 7.5cmのポリ鉢でトマト（品種：ポンテローザ）を
栽培し、４葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度
に調整した薬液１５ ml をピペットを用いて土壌表面に
灌注した。２２〜２４℃の恒温室内に２日間保った後、
疫病菌の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種した。接種５日後に
病斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求
め、第１０表の結果を得た。
栽培し、４葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度
に調整した薬液１５ ml をピペットを用いて土壌表面に
灌注した。２２〜２４℃の恒温室内に２日間保った後、
疫病菌の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種した。接種５日後に
病斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求
め、第１０表の結果を得た。
【０１０７】
【表５３】
【０１０８】試験例９ イネいもち病予防効果試験 直径 7.5cmのポリ鉢でイネ（品種：中京旭）を栽培し、
４葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調整し
た薬液２０ ml をスプレーガンを用いて散布した。２２
〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、いもち病菌の胞
子懸濁液を噴霧接種した。接種５日後に病斑数を調査
し、前記評価基準に従って防除指数を求め、第11表の結
果を得た。
４葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調整し
た薬液２０ ml をスプレーガンを用いて散布した。２２
〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、いもち病菌の胞
子懸濁液を噴霧接種した。接種５日後に病斑数を調査
し、前記評価基準に従って防除指数を求め、第11表の結
果を得た。
【０１０９】
【表５４】
【０１１０】試験例１０ イネ紋枯病予防効果試験 直径 7.5cmのポリ鉢でイネ（品種：中京旭）を栽培し、
５葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調整し
た薬液２０ ml をスプレーガンを用いて散布した。２２
〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、予め紋枯病菌を
培養しておいた稲藁を葉鞘部に挟んで接種した。温度２
８℃、湿度 １００％の接種室内に５日間保った後、病
斑長を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め、
第１２表の結果を得た。
５葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調整し
た薬液２０ ml をスプレーガンを用いて散布した。２２
〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、予め紋枯病菌を
培養しておいた稲藁を葉鞘部に挟んで接種した。温度２
８℃、湿度 １００％の接種室内に５日間保った後、病
斑長を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め、
第１２表の結果を得た。
【０１１１】
【表５５】
【０１１２】試験例１１ エンバク冠さび病予防効果試
験 直径 7.5cmのポリ鉢でエンバク（品種：前進）を栽培
し、２葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調
整した薬液１０ ml をスプレーガンを用いて散布した。
２２〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、冠さび病菌
の分生胞子を振り掛け接種した。接種１０日後に第２葉
の病斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を
求め、第１３表の結果を得た。
験 直径 7.5cmのポリ鉢でエンバク（品種：前進）を栽培
し、２葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調
整した薬液１０ ml をスプレーガンを用いて散布した。
２２〜２４℃の恒温室内に１昼夜保った後、冠さび病菌
の分生胞子を振り掛け接種した。接種１０日後に第２葉
の病斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を
求め、第１３表の結果を得た。
【０１１３】
【表５６】
【０１１４】試験例１２ カブ根こぶ病防除試験 アブラナ科野菜根こぶ病菌（Plasmodiophora brassica
e ) 汚染土壌を１／14000 ａポットに詰め、各供試化合
物を有効成分で、４kg／10a 及び１kg／10a となるよう
に調整した薬液２０ ml をピペットを用いて土壌表面に
灌注した。処理１日後に土壌を全層混和し、カブ（品
種：金町小カブ）を播種した。これを温室内で生育さ
せ、播種３０日後に根こぶ着生程度を調査し、下記評価
基準に従って防除指数を求め第１４表の結果を得た。
e ) 汚染土壌を１／14000 ａポットに詰め、各供試化合
物を有効成分で、４kg／10a 及び１kg／10a となるよう
に調整した薬液２０ ml をピペットを用いて土壌表面に
灌注した。処理１日後に土壌を全層混和し、カブ（品
種：金町小カブ）を播種した。これを温室内で生育さ
せ、播種３０日後に根こぶ着生程度を調査し、下記評価
基準に従って防除指数を求め第１４表の結果を得た。
【０１１５】
【表５７】
【０１１６】
【表５８】
【０１１７】試験例１３ 抗菌性試験（植物病原菌） １００ppm のストレプトマイシン及び１００ppm の各供
試化合物を含むバレイショ・ブドウ糖寒天培地（ＰＤＡ
培地）上に、前培養したキュウリ綿腐病菌（Pythium
aphanidermatum) のディスク（寒天打抜）を移植した。
２２℃で４８時間培養した後菌叢直径を調査し、下記式
によって菌糸生育阻害率（％）を求め、第１５表の結果
を得た。 菌糸生育阻害率(%) ＝ 100−（処理区の菌叢直径／無処
理区の菌叢直径）X 100
試化合物を含むバレイショ・ブドウ糖寒天培地（ＰＤＡ
培地）上に、前培養したキュウリ綿腐病菌（Pythium
aphanidermatum) のディスク（寒天打抜）を移植した。
２２℃で４８時間培養した後菌叢直径を調査し、下記式
によって菌糸生育阻害率（％）を求め、第１５表の結果
を得た。 菌糸生育阻害率(%) ＝ 100−（処理区の菌叢直径／無処
理区の菌叢直径）X 100
【０１１８】
【表５９】
【０１１９】試験例１４ ナミハダニ殺成虫試験 直径 7.5cmのポリ鉢でインゲンマメ（品種：江戸川菜
豆）を栽培し、初生葉期に達した時に初生葉１枚残して
他の葉を切取った。ナミハダニの成虫（Dicofol及び有
機リン剤抵抗性）約３０頭を接種した後、この苗を各供
試化合物の所定濃度に調整した薬液２０ ml に約１０秒
間浸漬した。風乾後、２６℃の照明付恒温器内に放置
し、放虫２日後に生死を判定し下記式により死虫率
（％）を求め、第１６表の結果を得た。 死虫率（％）＝（死虫数／放虫数）×100
豆）を栽培し、初生葉期に達した時に初生葉１枚残して
他の葉を切取った。ナミハダニの成虫（Dicofol及び有
機リン剤抵抗性）約３０頭を接種した後、この苗を各供
試化合物の所定濃度に調整した薬液２０ ml に約１０秒
間浸漬した。風乾後、２６℃の照明付恒温器内に放置
し、放虫２日後に生死を判定し下記式により死虫率
（％）を求め、第１６表の結果を得た。 死虫率（％）＝（死虫数／放虫数）×100
【０１２０】
【表６０】
【０１２１】試験例１５ ナミハダニ殺卵試験 インゲンマメの初生葉１枚だけを残したものをポリ鉢に
移植し、これにナミハダニの成虫を接種し２４時間産卵
させ、成虫を取り除いた。次いで、各供試化合物の所定
濃度に調整した薬液２０ ml に前記インゲンマメを約１
０秒間浸漬し、風乾後、２６℃の照明付恒温器内に保っ
た。処理５〜７日後に卵の孵化状況を調査し、下記式に
より殺卵率（％）を求め、第１７表の結果を得た。尚、
孵化直後の死亡も殺卵と見なした。 殺卵率（％）＝（殺卵数／産卵数）×100
移植し、これにナミハダニの成虫を接種し２４時間産卵
させ、成虫を取り除いた。次いで、各供試化合物の所定
濃度に調整した薬液２０ ml に前記インゲンマメを約１
０秒間浸漬し、風乾後、２６℃の照明付恒温器内に保っ
た。処理５〜７日後に卵の孵化状況を調査し、下記式に
より殺卵率（％）を求め、第１７表の結果を得た。尚、
孵化直後の死亡も殺卵と見なした。 殺卵率（％）＝（殺卵数／産卵数）×100
【０１２２】
【表６１】
【０１２３】試験例１６ ヒメトビウンカ殺虫試験 各供試化合物の所定濃度に調整した薬液 20ml にイネ幼
苗を約１０秒間浸漬し、風乾した後湿った脱脂綿で根部
を包んで試験管に入れた。次いでこの中へヒメトビウン
カの２〜３令幼虫１０頭を放ち、管口をガーゼでふたを
して、２６℃の照明付恒温器内に保った。放虫５日後に
生死を判定し、前記試験例１４の場合と同様にして死虫
率（％）を求め、第１８表の結果を得た。
苗を約１０秒間浸漬し、風乾した後湿った脱脂綿で根部
を包んで試験管に入れた。次いでこの中へヒメトビウン
カの２〜３令幼虫１０頭を放ち、管口をガーゼでふたを
して、２６℃の照明付恒温器内に保った。放虫５日後に
生死を判定し、前記試験例１４の場合と同様にして死虫
率（％）を求め、第１８表の結果を得た。
【０１２４】
【表６２】
【０１２５】試験例１７ モモアカアブラムシ殺虫試験 各供試化合物の所定濃度に調整した薬液 20ml にキャベ
ツの葉片を約１０秒間浸漬し、風乾した。直径９cmのペ
トリ皿に湿った濾紙を置き、その上に風乾した葉片を置
いた。そこへモモアカアブラムシ無翅胎生雌虫を放ち、
ふたをして２６℃の照明付恒温器内に保った。放虫２日
後に生死を判定し、前記試験例１４の場合と同様にして
死虫率（％）を求め、第１９表の結果を得た。
ツの葉片を約１０秒間浸漬し、風乾した。直径９cmのペ
トリ皿に湿った濾紙を置き、その上に風乾した葉片を置
いた。そこへモモアカアブラムシ無翅胎生雌虫を放ち、
ふたをして２６℃の照明付恒温器内に保った。放虫２日
後に生死を判定し、前記試験例１４の場合と同様にして
死虫率（％）を求め、第１９表の結果を得た。
【０１２６】
【表６３】
【０１２７】試験例１８ ハスモンヨトウ殺虫試験 各供試化合物の所定濃度に調整した薬液 20ml にキャベ
ツの葉片を約１０秒間浸漬し、風乾した。直径９cmのペ
トリ皿に湿った濾紙を置き、その上に風乾した葉片を置
いた。そこへ２〜３令のハスモンヨトウ幼虫を放ち、ふ
たをして２６℃の照明付恒温器内に保った。放虫５日後
に生死を判定し、前記試験例１４の場合と同様にして死
虫率（％）を求め、第２０表の結果を得た。
ツの葉片を約１０秒間浸漬し、風乾した。直径９cmのペ
トリ皿に湿った濾紙を置き、その上に風乾した葉片を置
いた。そこへ２〜３令のハスモンヨトウ幼虫を放ち、ふ
たをして２６℃の照明付恒温器内に保った。放虫５日後
に生死を判定し、前記試験例１４の場合と同様にして死
虫率（％）を求め、第２０表の結果を得た。
【０１２８】
【表６４】
【０１２９】試験例１９ 抗菌性試験（真菌） １０ppm のカナマイシン及び各供試化合物を含むサブロ
ー寒天培地上に、トリコフィトン・メンタグロフィテス
(Trichophyton mentagrophytes) 及びトリコフィトン
・ルブラム (Trichophyton rubrum) を接種し、２８〜
３０℃で５日間培養した後、試験菌生育の有無を調査し
た。トリコフィトン・メンタグロフィテスに有効なもの
は化合物No. ２５、３４、５５−ｂ、 119−ｂ及び 168
−ｂ、トリコフィトン・ルブラムに有効なものは化合物
No. ２３並びに両菌に有効なものは化合物No. ６、26、
120−ｂ、134 及び 169−ｂであった。
ー寒天培地上に、トリコフィトン・メンタグロフィテス
(Trichophyton mentagrophytes) 及びトリコフィトン
・ルブラム (Trichophyton rubrum) を接種し、２８〜
３０℃で５日間培養した後、試験菌生育の有無を調査し
た。トリコフィトン・メンタグロフィテスに有効なもの
は化合物No. ２５、３４、５５−ｂ、 119−ｂ及び 168
−ｂ、トリコフィトン・ルブラムに有効なものは化合物
No. ２３並びに両菌に有効なものは化合物No. ６、26、
120−ｂ、134 及び 169−ｂであった。
【０１３０】試験例２０ 抗菌性試験（細菌） １０ppm の各供試化合物を含むブイヨン寒天培地上に、
スタフィロコッカス・アウレウス ( Staphylococcus
aureus) を接種し、３７℃で16時間培養した後、試験菌
生育の有無を調査した。有効なものは化合物No. １７、
２０−ｂ、２１、２２、２３、２５、２６、２６−ｂ、
２８−ｂ、３３、３４、３７、４１、４２−ａ、４３、
５７−ｂ、６７−ｂ、１０３、１０４、１０５、１０
６、１３４、 168−ｂ、 201−ｂ、 202−ｂ、 203−ｂ
及び 205−ｂであった。
スタフィロコッカス・アウレウス ( Staphylococcus
aureus) を接種し、３７℃で16時間培養した後、試験菌
生育の有無を調査した。有効なものは化合物No. １７、
２０−ｂ、２１、２２、２３、２５、２６、２６−ｂ、
２８−ｂ、３３、３４、３７、４１、４２−ａ、４３、
５７−ｂ、６７−ｂ、１０３、１０４、１０５、１０
６、１３４、 168−ｂ、 201−ｂ、 202−ｂ、 203−ｂ
及び 205−ｂであった。
【０１３１】次に本発明の製剤例を記載するが、本発明
における化合物、製剤量、剤型等は記載例のみに限定さ
れるものではない。 製剤例１ （イ）化合物No.5 ５０重量部 （ロ）カオリン ４０重量部 （ハ）リグニンスルホン酸ソーダ ７重量部 （ニ）ジアルキルスルホサクシネート ３重量部 以上のものを均一に混合して水和剤が得られる。
における化合物、製剤量、剤型等は記載例のみに限定さ
れるものではない。 製剤例１ （イ）化合物No.5 ５０重量部 （ロ）カオリン ４０重量部 （ハ）リグニンスルホン酸ソーダ ７重量部 （ニ）ジアルキルスルホサクシネート ３重量部 以上のものを均一に混合して水和剤が得られる。
【０１３２】製剤例２ （イ）化合物No. 17−ｂ ２０重量部 （ロ）カオリン ７２重量部 （ハ）リグニンスルホン酸ソーダ ４重量部 （ニ）ポリオキシエチレンアルキルアリール（aryl) エーテル ４重量部 以上のものを均一に混合して水和剤が得られる。
【０１３３】製剤例３ （イ）化合物No. 18−ｂ ６重量部 （ロ）ケイ藻土 ８８重量部 （ハ）ジアルキルスルホサクシネート ２重量部 （ニ）ポリオキシエチレンアルキル フェニルエーテルサルフェート ４重量部 以上のものを均一に混合して水和剤が得られる。
【０１３４】製剤例４ （イ）カオリン ７８重量部 （ロ）β−ナフタレンスルホン酸ソーダ ホルマリン縮合物 ２重量部 （ハ）ポリオキシエチレンアルキル アリール（aryl) サルフェート ５重量部 （ニ）含水無晶形二酸化ケイ素 １５重量部 以上の各成分の混合物と、化合物No. 22とを４：１の重
量割合で混合し、水和剤が得られる。
量割合で混合し、水和剤が得られる。
【０１３５】製剤例５ （イ）化合物No. 23 ５重量部 （ロ）タルク ９４．５重量部 （ハ）低級アルコールリン酸エステル ０．５重量部 以上のものを均一に混合して粉剤が得られる。
【０１３６】製剤例６ （イ）化合物No. 26 ２０重量部 （ロ）キシレン ６０重量部 （ハ）ポリオキシエチレンアルキルアリール（aryl) エーテル ２０重量部 以上の各成分を混合、溶解して乳剤が得られる。
【０１３７】製剤例７ （イ）化合物No. 33−ｂ １重量部 （ロ）ベントナイト ６１重量部 （ハ）カオリン ３３重量部 （ニ）リグニンスルホン酸ソーダ ５重量部 以上の各成分に適量の造粒所要水を加え、混合、造粒し
て粒剤が得られる。
て粒剤が得られる。
【０１３８】製剤例８ （イ）化合物No. 16−ｂ ０．２重量部 （ロ）炭酸カルシウム粉 ９８．８重量部 （ハ）低級アルコールリン酸エステル １．０重量部 以上のものを均一に混合して粉剤が得られる。
【０１３９】製剤例９ （イ）化合物No. 17−ｂ １０重量部 （ロ）ケイ藻土 ６９重量部 （ハ）炭酸カルシウム粉末 １５重量部 （ニ）ジアルキルスルホサクシネート １重量部 （ホ）ポリオキシエチレンアルキル フェニルエーテルサルフェート ３重量部 （ヘ）β−ナフタレンスルホン酸ソーダ ホルマリン縮合物 ２重量部 以上のものを均一に混合して水和剤が得られる。
【０１４０】製剤例１０ （イ）化合物No. 151 １０重量部 （ロ）トウモロコシ油 ７７重量部 （ハ）ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 １２重量部 （ニ）有機ベントナイト １重量部 以上のものを均一に混合、粉砕して懸濁製剤が得られ
る。
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 中間体化合物の製造工程図である。
【図２】 中間体化合物の製造工程図である。
【図３】 中間体化合物の製造工程図である。
【図４】 中間体化合物の製造工程図である。
【図５】 中間体化合物の製造工程図である。
【図６】 中間体化合物の製造工程図である。
【図７】 中間体化合物の製造工程図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ０１Ｎ 43/84 １０２ 55/00 Ｄ Ｃ０７Ｄ 233/92 401/04 ２３３ 401/12 ２３３ 405/04 ２３３ 405/14 ２３３ 409/04 ２３３ 409/12 ２３３ // Ａ６１Ｋ 31/415 ＡＤＺ 31/44 Ｃ０７Ｆ 7/08 Ｒ (72)発明者 鈴木 一実 滋賀県草津市西渋川二丁目３番１号 石原 産業株式会社中央研究所内 (72)発明者 伊藤 圭一朗 滋賀県草津市西渋川二丁目３番１号 石原 産業株式会社中央研究所内 (72)発明者 大嶋 武 滋賀県草津市西渋川二丁目３番１号 石原 産業株式会社中央研究所内 (72)発明者 吉村 秀司 滋賀県草津市西渋川二丁目３番１号 石原 産業株式会社中央研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式： 【化１】 ｛式中、Ｒ1 はシアノ基、 【化２】 又は−C(＝S)NR5R6 基〔Ｒ5 及びＲ6 は水素原子、アル
キル基、置換されてもよいフェニル基、又は−C(＝O)R7
基（Ｒ7 は置換されてもよいアルキル基又は置換されて
もよいフェニル基である）である〕であり、Ｒ2 及びＲ
3 は水素原子；ハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；チ
オシアナート基；トリメチルシリル基；置換されてもよ
いアルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置
換されてもよいアルケニル基；置換されてもよいアルキ
ニル基；置換されてもよいアルコキシ基；置換されても
よいフェノキシ基；置換されてもよいフェニル基；置換
されてもよいナフチル基；置換されてもよい５〜６員の
芳香族複素環基；−SOn R8基〔Ｒ8 は置換されてもよい
アルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置換
されてもよいアルケニル基；置換されてもよいアルキニ
ル基；置換されてもよいフェニル基；置換されてもよい
ピリジル基；−NR9R10基（Ｒ9 及びＲ10はアルキル基で
ある);又は置換されてもよいナフチル基であり、ｎは０
〜２の整数である〕；又は−C(＝W1)-(W2)l R11 基（Ｗ
1 は酸素原子又は硫黄原子であり、Ｗ2は酸素原子、硫
黄原子又は−NH−であり、ｌは０〜１の整数であり、Ｒ
11は置換されてもよいアルキル基；又は置換されてもよ
いフェニル基である）であり、Ｒ4 は置換されてもよい
アルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置換
されてもよいフェニル基；置換されてもよいチエニル
基；置換されてもよいフリル基；又は−NR12R13 基（Ｒ
12及びＲ13はそれぞれ水素原子；置換されてもよいアル
キル基；又は置換されてもよいアルケニル基であるか、
又は互いに隣接している窒素原子と共に５〜７員の飽和
複素環を形成し、但しＲ12とＲ13が同時に水素原子であ
る場合を除く。) であり、但し(1) Ｒ2 とＲ3 が同時に
ハロゲン原子である場合を除き、(2) Ｒ1 がシアノ基で
あり、Ｒ2 がフェニル基、４−メチルフェニル基、４−
メトキシフェニル基又は４−エチルフェニル基であり、
Ｒ3 が塩素原子であり、かつＲ4 がジメチルアミノ基で
ある組合せの場合を除く｝で表わされるイミダゾール系
化合物。 - 【請求項２】 請求項１に記載の化合物を有効成分とし
て含有することを特徴とする有害生物防除剤。 - 【請求項３】 一般式： 【化３】 ｛式中、Ｒ1 はシアノ基、 【化４】 又は−C(＝S)NR5R6 基〔Ｒ5 及びＲ6 は水素原子、アル
キル基、置換されてもよいフェニル基、又は−C(＝O)R7
基（Ｒ7 は置換されてもよいアルキル基又は置換されて
もよいフェニル基である）である〕であり、Ｒ2 及びＲ
3 は水素原子；ハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；チ
オシアナート基；トリメチルシリル基；置換されてもよ
いアルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置
換されてもよいアルケニル基；置換されてもよいアルキ
ニル基；置換されてもよいアルコキシ基；置換されても
よいフェノキシ基；置換されてもよいフェニル基；置換
されてもよいナフチル基；置換されてもよい５〜６員の
芳香族複素環基；−SOn R8基〔Ｒ8 は置換されてもよい
アルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置換
されてもよいアルケニル基；置換されてもよいアルキニ
ル基；置換されてもよいフェニル基；置換されてもよい
ピリジル基；−NR9R10基（Ｒ9 及びＲ10はアルキル基で
ある);又は置換されてもよいナフチル基であり、ｎは０
〜２の整数である〕；又は−C(＝W1)-(W2)l R11 基（Ｗ
1 は酸素原子又は硫黄原子であり、Ｗ2は酸素原子、硫
黄原子又は−NH−であり、ｌは０〜１の整数であり、Ｒ
11は置換されてもよいアルキル基；又は置換されてもよ
いフェニル基である）であり、Ｒ4 は置換されてもよい
アルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置換
されてもよいフェニル基；置換されてもよいチエニル
基；置換されてもよいフリル基；又は−NR12R13 基（Ｒ
12及びＲ13はそれぞれ水素原子；置換されてもよいアル
キル基；又は置換されてもよいアルケニル基であるか、
又は互いに隣接している窒素原子と共に５〜７員の飽和
複素環を形成し、但しＲ12とＲ13が同時に水素原子であ
る場合を除く。) であり、但し(1) Ｒ2 とＲ3 が同時に
ハロゲン原子である場合を除き、(2) Ｒ1 がシアノ基で
あり、Ｒ2 がフェニル基、４−メチルフェニル基、４−
メトキシフェニル基又は４−エチルフェニル基であり、
Ｒ3 が塩素原子であり、かつＲ4 がジメチルアミノ基で
ある組合せの場合を除く｝で表わされるイミダゾール系
化合物を製造する方法において、一般式： 【化５】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は前述の通りである）で表
わされる化合物と一般式： Y−SO2R4 （式中、Ｒ4 は前
述の通りであり、Ｙはハロゲン原子である）で表わされ
る化合物とを反応させることを特徴とするイミダゾール
系化合物の製造方法。 - 【請求項４】 一般式： 【化６】 ｛式中、Ｒ1 はシアノ基、 【化７】 又は−C(＝S)NR5R6 基〔Ｒ5 及びＲ6 は水素原子、アル
キル基、置換されてもよいフェニル基、又は−C(＝O)R7
基（Ｒ7 は置換されてもよいアルキル基又は置換されて
もよいフェニル基である）である〕であり、Ｒ2 及びＲ
3 は水素原子；ハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；チ
オシアナート基；トリメチルシリル基；置換されてもよ
いアルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置
換されてもよいアルケニル基；置換されてもよいアルキ
ニル基；置換されてもよいアルコキシ基；置換されても
よいフェノキシ基；置換されてもよいフェニル基；置換
されてもよいナフチル基；置換されてもよい５〜６員の
芳香族複素環基；−SOn R8基〔Ｒ8 は置換されてもよい
アルキル基；置換されてもよいシクロアルキル基；置換
されてもよいアルケニル基；置換されてもよいアルキニ
ル基；置換されてもよいフェニル基；置換されてもよい
ピリジル基；−NR9R10基（Ｒ9 及びＲ10はアルキル基で
ある);又は置換されてもよいナフチル基であり、ｎは０
〜２の整数である〕；又は−C(＝W1)-(W2)l R11 基（Ｗ
1 は酸素原子又は硫黄原子であり、Ｗ2は酸素原子、硫
黄原子又は−NH−であり、ｌは０〜１の整数であり、Ｒ
11は置換されてもよいアルキル基；又は置換されてもよ
いフェニル基である）であり、但し(1) Ｒ2 とＲ3 が同
時にハロゲン原子である場合を除き、(2) Ｒ1 がシアノ
基であり、Ｒ2 がフェニル基、４−メチルフェニル基：
４−メトキシフェニル基又は４−エチルフェニル基であ
り、かつＲ3 が塩素原子である組合せの場合を除く｝で
表わされる中間体としての化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5351198A JP2824734B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | イミダゾール系化合物及びそれらを含有する有害生物防除剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5351198A JP2824734B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | イミダゾール系化合物及びそれらを含有する有害生物防除剤 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63057920A Division JP2606720B2 (ja) | 1987-03-13 | 1988-03-11 | イミダゾール系化合物及びそれらを含有する有害生物防除剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH083140A true JPH083140A (ja) | 1996-01-09 |
| JP2824734B2 JP2824734B2 (ja) | 1998-11-18 |
Family
ID=18415717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5351198A Expired - Lifetime JP2824734B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | イミダゾール系化合物及びそれらを含有する有害生物防除剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2824734B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008120829A (ja) * | 1997-08-19 | 2008-05-29 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 農園芸用殺菌剤組成物および植物病原菌の防除方法 |
-
1993
- 1993-12-28 JP JP5351198A patent/JP2824734B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008120829A (ja) * | 1997-08-19 | 2008-05-29 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 農園芸用殺菌剤組成物および植物病原菌の防除方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2824734B2 (ja) | 1998-11-18 |
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