JPH08310195A - マルチビーム作画・記録装置 - Google Patents

マルチビーム作画・記録装置

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JPH08310195A
JPH08310195A JP14275095A JP14275095A JPH08310195A JP H08310195 A JPH08310195 A JP H08310195A JP 14275095 A JP14275095 A JP 14275095A JP 14275095 A JP14275095 A JP 14275095A JP H08310195 A JPH08310195 A JP H08310195A
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JP
Japan
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leds
image
led
light
image forming
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Pending
Application number
JP14275095A
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English (en)
Inventor
Tamihiro Miyoshi
民博 三好
Toshifumi Kaneuma
利文 金馬
Takashi Okuyama
隆志 奥山
Koichi Maruyama
晃一 丸山
Tetsuya Nakamura
哲也 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pentax Corp
Original Assignee
Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
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Publication date
Application filed by Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd filed Critical Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
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Publication of JPH08310195A publication Critical patent/JPH08310195A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 機械的な機構によるビームの偏向を行うこと
なく、高精度・高精細な画像を高速に記録することので
きる、マルチビーム作画・記録装置を提供すること。 【構成】 射出光のピーク波長が400nm〜550nmの間にあ
る、2次元に配列された複数のLED(42)と、前記
複数のLEDから射出された光を感光材料(3)の表面
で結像させる縮小光学系(44、45)とを有する構成
とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、複数のビームを用い
て、精密な画像、例えばプリント基板を作成するため
の、露光焼き付け用のマスクに回路パターン、を描画す
るためのマルチビーム作画・記録装置に関する。
【0002】
【従来の技術】精密な画像を描画するプロッタとして、
光源としてレーザ光を用い、偏向走査光学系により主走
査をおこないつつ結像面を移動して副走査を行って2次
元の画像を描画するレーザプロッタが従来より知られて
いる。しかしレーザプロッタは高速で回転または揺動す
るミラーを用いて偏向走査を行っており、高精度化が難
しく、精度を上げるためにはコストがかかるものであっ
た。さらに、光源として半導体レーザを用いた場合に
は、発熱量が大きい、非点収差が発生しその補正のため
に光学部品を追加する必要があるといった問題があっ
た。また、高速で結像面を走査するレーザビームを正確
に変調するための駆動回路も必要であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の事情に鑑み、本
発明は、機械的な機構によるビームの偏向を行うことな
く、高精度・高精細な画像を高速に記録することのでき
る、マルチビーム作画・記録装置を提供することを目的
としている。
【0004】
【課題を解決するための手段】このため、本発明のマル
チビーム作画・記録装置は、射出光のピーク波長が400n
m〜550nmの間にある、2次元に配列された複数のLED
と、前記複数のLEDから射出された光を感光材料の表
面で結像させる縮小光学系と、を有する構成とした。
【0005】また、前記複数の複数のLEDはユニット
化されており、前記感光材料を所定の第1の方向に駆動
する第1駆動手段と、前記ユニット化された複数のLE
Dを前記感光材料の受光面と平行で前記第1の方向と直
交する方向へ駆動する第2駆動手段とをさらに備える構
成とすることができる。
【0006】
【実施例】図1は、本実施例のマルチビーム作画・記録
装置100の外観を示す斜視図である。本実施例の作画
・記録装置100は、プリント基板を作成するための、
露光焼き付け用のマスクに回路パターンを作画するため
の装置である。マルチビーム作画・記録装置100は、
装置本体ベース1に、回路パターンが作画される感光フ
ィルム3を載置するための感光材搭載テーブル2が設け
られている。テーブル2は、その下面がY方向に延びる
一対のレール2Rに沿ってガイドされた状態で、ボール
ねじ2Bを図示しないテーブル駆動用モータにより回転
させることによって、図中Y方向に往復移動可能となっ
ている。
【0007】描画光束は光照射ユニット4から、所定の
領域内で2次元配列された複数本のビームとして、射出
される。光照射ユニット4は、光学系搭載ステージ5S
に載置された光学ベース5に固定されている。光学ベー
ス5は、X方向に延びる一対のガイドレール5Rにガイ
ドされてX方向に移動可能となっており、光学系駆動モ
ータ5Mによってボールねじ5Bを回転させることによ
り、光照射ユニット4はX方向に移動される。光照射ユ
ニット4には、装置本体ベース1に設けられた位置検出
用リニアスケール5Kを検出するスケール検出ヘッド5
Dが設けられており、光学系駆動モータ5Mはスケール
検出ヘッド5Dの検出信号に基づいてフィードバック制
御されている。なお、図示していないが、感光材搭載テ
ーブル2には、図示しないテーブル位置検出用スケール
を検出するテーブル位置検出ヘッドが設けられており、
テーブル駆動用モータはテーブル位置検出ヘッドの出力
信号にもとづいてフィードバック制御されている。
【0008】図2は、光照射ユニット4の構成の概略を
示す側面図である。光照射ユニット4は、ユニット内の
プリント基板41に取り付けられた複数のLED(発光
ダイオード)42、複数のLED42に1対1に対応し
てアパーチャが形成されたアパーチャパネル43、アパ
ーチャを透過したビームを感光フィルム3の表面で結像
させるための第1レンズ群44、および第2レンズ群4
5からなる縮小光学系を有している。本実施例において
は、感光フィルム3としては、波長400nm〜570nmにおい
て分光感度を有するいわゆるオルソ系の感光材料を用い
ている。また、LED42としては、ピーク波長が450n
mのいわゆる青色LEDを用いている。
【0009】図3は、LED42およびアパーチャパネ
ル43に形成されたアパーチャの配置を説明するため
の、アパーチャパネル43を光照射ユニット4の上面側
から見た図である。なお、LED42の位置は破線で示
している。また、図4は、感光フィルム3上に結像した
点像のパターンを示している。本実施例では第1群およ
び第2群のレンズ44、45により1/25倍の像が感
光フィルム3に投影される。
【0010】プリント基板の回路パターンを作画する装
置は、精密な描画性能を有する必要があり、従って高い
解像度が要求される。しかし、LEDを光源とする場
合、LED自体の物理的な大きさにより、光源の配置の
密度が制限されることになる。本実施例の作画・記録装
置に用いられるLEDはプリント基板41に平行な平面
上で、最大3.8mmの直径を有している。これを互いに
接触しないよう配置するため、図3、図4に示すよう
に、ビームは離散的に配置されたアパーチャから射出さ
れて、離散的な点像を感光フィルム3表面に形成する。
また、感光フィルム3に投影される点像の大きさ、およ
び位置の精度を上げるため、アパーチャパネル43に、
LED42に1対1対応したアパーチャを形成し、アパ
ーチャパネル43の像を感光フィルム3上に投影してい
る。
【0011】本実施例においては、テーブルの移動とL
ED42の発光のタイミングを制御することにより、あ
るライン(X方向に沿ったライン)に注目した場合に、
図5に示すように、全てのビームの像が近接した状態で
一列に並ぶようになっている。
【0012】本実施例の作画・記録装置100において
は、2048個のLED42が、2次元に配列されてい
る。図3に示すように、Y方向には32個のLED42
が並べられている(以下、Y方向に並んだLED42を
Y列のLED42と呼ぶ)。同様にY方向に配列された
LED42の列がX方向に64列配置される。X方向の
一つのラインに注目すると、64個のLED42はX方
向に沿って一直線に並んでいる(以下、X方向に一直線
に並んだLEDをX行のLEDと呼ぶ)。Y列のLED
は、図3のY1〜Y32に示されるように、アパーチャ
APの直径分だけ順にずれた位置に配置され、アパーチ
ャAPも同様な配置で形成されている。アパーチャAP
の径は、Y列の先頭のLEDY1と隣の列の先頭のLE
DY33とのX方向における距離をY列のLEDの数で
割った値と等しく設定されている。即ち、Y列には32
個のLEDが配置されており、Y1とY33との距離は
4mmとなっている。従って、アパーチャAPの径は0.125
mmとなっている。
【0013】ここで、テーブル2をY方向に移動しつつ
光照射ユニット4からビームを照射させる場合を考え
る。LEDY1を含む行の各LEDから射出されたビー
ムにより感光フィルム3上に形成される像に注目する。
Y1、Y33、Y65、・・・から射出されたビームは
感光フィルム3上で、一列に離散的に並んだ点像を形成
する(この点像が並ぶ行を図4にラインL1として示
す)。次に、テーブルが移動し、ラインL1がY2を含
む行のLEDから照射されるビーム位置に対応した位置
に達すると、ラインL1上に前回形成された離散的な点
像に隣接してY2、Y34、・・・に対応した像が形成
される。以降同様にして、順次隣接した像が同一ライン
上に形成され、最後にY32を含む行のLEDY32、
Y64、・・・に対応した点像が同一ラインL1上に形
成されると、結果として、図5に示したように、204
8個の点像が隣接して同一ライン上に形成されることに
なる。従って、離散的に2次元配列された像の、Y方向
のピッチ分だけテーブル2(したがって感光フィルム
3)が移動した時点で露光を行うことにより、感光フィ
ルム3上の各ラインに順次点像が補間されて、最終的に
は各ラインがそれぞれ2048個のドットで構成される
ようになる。
【0014】感光フィルム3への作画は次のようにして
行われる。まずY方向にテーブル2を移動しつつ上述の
作画処理を行って、感光フィルム3の表面に、Y方向に
延びた帯状に画像を形成する。感光フィルム3の端部ま
で画像形成が行われると、光学系搭載ステージ5SをX
方向に移動する。光学系搭載ステージ5Sの移動後にテ
ーブル2を前回とは逆方向に移動することにより、同様
にして、感光フィルム3にY方向に延びた帯状の画像を
形成する。尚、光学系搭載ステージ5Sは、互いに隣接
する帯状の画像がオーバーラップすることなく、また、
間に画像が形成されない空白部分が入ることのないよ
う、LEDの配列により定まる所定の長さ分だけ正確に
X方向に移動される。
【0015】図6は、本実施例の作画・記録装置100
の作画処理を行うための制御系を説明するブロック図で
ある。作画データはメモリ13にビットマップとして記
憶されており、所定のクロック信号に同期して、LED
アレイ42Aの各LED42の配列に対応したデータ
が、LED駆動回路12に入力され、LED駆動回路1
2は各LED42を、入力信号に対応した所定の強度の
パルス状の電流により駆動し、発光させる。LEDアレ
イ42Aの駆動と共に、テーブル2および光学ベース5
の移動もCPU10により制御される。本実施例の作画
・記録装置100においては、CPU10は光学系駆動
モータ5Mを駆動させて光学ベース5に搭載された光照
射ユニット4のX方向における位置決めを行い、次にテ
ーブル移動用モータ2Mを駆動してテーブル2をY方向
に移動させながらLEDアレイ42Aを発光させる。な
お、光学系駆動モータ5Mおよびテーブル移動用モータ
2Mに駆動中は、スケール検出ヘッド5Dおよび2Dの
出力がCPU10に入力されており、光学系駆動モータ
5Mおよびテーブル移動用モータ2Mはフィードバック
制御されている。
【0016】
【発明の効果】ピーク波長が450nm近傍のLEDを用い
たため、従来より知られている感光材料(400nm〜550nm
で分光感度を有する材料)を用いて作画を行うことがで
きる。また、複数のLEDを光源として用いたため、出
力制御、点灯制御を高速に行うことができる。さらに、
LEDアレイを光源としているために機械的な偏向手段
を用いる必要が無く、高精度に作画を行うことができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本実施例のマルチビーム作画・記録装置10
0の外観を示す斜視図である。
【図2】 光照射ユニット4の構成の概略を示す側面図
である。
【図3】 アパーチャパネル43を光照射ユニット4の
上面側から見た図である。
【図4】 感光フィルム3上に結像した点像のパターン
を示す図である。
【図5】 全ての点像が近接した状態で一列に並んだ状
態を示す図である。
【図6】 作画処理を行うための制御系のブロック図で
ある。
【符号の説明】
1 作画・記録装置本体 2 感光材搭載用テーブル 2B ボールねじ 2R ガイドレール 2M テーブル駆動用モータ 2D スケール検出ヘッド 3 感光フィルム 4 光照射ユニット 5 光学ベース 5S 光学系搭載ステージ 5B ボールねじ 5R ガイドレール 5D スケール検出ヘッド 5K 位置検出用リニアスケール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丸山 晃一 東京都板橋区前野町2丁目36番9号 旭光 学工業株式会社内 (72)発明者 中村 哲也 東京都板橋区前野町2丁目36番9号 旭光 学工業株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】射出光のピーク波長が400nm〜550nmの間に
    ある、2次元に配列された複数の発光ダイオードと、 前記複数の発光ダイオードから射出された光を感光材料
    の表面で結像させる縮小光学系と、を有するマルチビー
    ム作画・記録装置。
  2. 【請求項2】前記複数の複数の発光ダイオードはユニッ
    ト化されており、前記感光材料を所定の第1の方向に駆
    動する第1駆動手段と、前記ユニット化された複数の発
    光ダイオードを前記感光材料の受光面と平行で前記第1
    の方向と直交する方向へ駆動する第2駆動手段とをさら
    に備えたことを特徴とする、請求項1のマルチビーム作
    画・記録装置。
JP14275095A 1995-05-17 1995-05-17 マルチビーム作画・記録装置 Pending JPH08310195A (ja)

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JP14275095A JPH08310195A (ja) 1995-05-17 1995-05-17 マルチビーム作画・記録装置

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