JPH08297194A - 水素除去システム - Google Patents
水素除去システムInfo
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- JPH08297194A JPH08297194A JP7102209A JP10220995A JPH08297194A JP H08297194 A JPH08297194 A JP H08297194A JP 7102209 A JP7102209 A JP 7102209A JP 10220995 A JP10220995 A JP 10220995A JP H08297194 A JPH08297194 A JP H08297194A
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- pipe
- hydrogen removing
- gas
- pressure
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/30—Nuclear fission reactors
Landscapes
- Structure Of Emergency Protection For Nuclear Reactors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】格納容器内の水素ガス濃度を低減させる水素除
去装置の水素除去効率を向上させる。 【構成】格納容器1内に、水素及び酸素を含む気体を通
過させて水素と酸素を再結合させる触媒式水素除去装置
11と、この触媒式水素除去装置11に格納容器内雰囲
気気体を送りこむブロア18とを設置する。原子炉内の
原子炉冷却材が異常減少するような事象発生時に加圧さ
れる格納容器スプレイ冷却配管16を流れる冷却水の一
部をブロア18に導く配管17を設け、導かれた冷却水
の水圧をブロア18の駆動源とする。
去装置の水素除去効率を向上させる。 【構成】格納容器1内に、水素及び酸素を含む気体を通
過させて水素と酸素を再結合させる触媒式水素除去装置
11と、この触媒式水素除去装置11に格納容器内雰囲
気気体を送りこむブロア18とを設置する。原子炉内の
原子炉冷却材が異常減少するような事象発生時に加圧さ
れる格納容器スプレイ冷却配管16を流れる冷却水の一
部をブロア18に導く配管17を設け、導かれた冷却水
の水圧をブロア18の駆動源とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、触媒式可燃性ガス濃度
低減装置を用いた水素除去装置に係り、特に軽水炉型原
子力発電所における圧力抑制型格納容器の水素除去装置
に関する。
低減装置を用いた水素除去装置に係り、特に軽水炉型原
子力発電所における圧力抑制型格納容器の水素除去装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】原子力発電プラントにおいて原子炉一次
系配管等が万一破損した場合、原子炉を冷却するための
冷却材は配管破損箇所から原子炉格納容器内ドライウェ
ル部分に蒸気として放出され、原子炉(圧力容器)内の
冷却材が減少する。一方、ドライウェル部分に蒸気とし
て放出された冷却材により、ドライウェル内の圧力・温
度が急激に上昇する。
系配管等が万一破損した場合、原子炉を冷却するための
冷却材は配管破損箇所から原子炉格納容器内ドライウェ
ル部分に蒸気として放出され、原子炉(圧力容器)内の
冷却材が減少する。一方、ドライウェル部分に蒸気とし
て放出された冷却材により、ドライウェル内の圧力・温
度が急激に上昇する。
【0003】冷却材減少の状態が長期的な場合、軽水炉
型原子力発電所の原子炉内では冷却材である水が放射線
分解され、水素ガスと酸素ガスが発生する。更に、燃料
被覆管のジルコニウムとの間で反応が行われ、水素ガス
が発生する。これらのガスは配管破断個所から格納容器
内に放出される。
型原子力発電所の原子炉内では冷却材である水が放射線
分解され、水素ガスと酸素ガスが発生する。更に、燃料
被覆管のジルコニウムとの間で反応が行われ、水素ガス
が発生する。これらのガスは配管破断個所から格納容器
内に放出される。
【0004】このままの状態が続いて水素ガス濃度が4
vol%かつ酸素ガス濃度が5vol%を越えた場合は、気体
は可燃状態となりそのまま放置し続けると爆発の危険性
が生じる。
vol%かつ酸素ガス濃度が5vol%を越えた場合は、気体
は可燃状態となりそのまま放置し続けると爆発の危険性
が生じる。
【0005】したがって、軽水炉型原子力発電所ではそ
の対策として、格納容器から水素ガスを含む気体を送風
手段、例えばブロアで格納容器外へ取り出し、電気ヒ−
タで昇温させて水素と酸素とを水に再結合させ、残りの
気体をク−ラで冷却してから格納容器に戻す加熱式再結
合器を用いた水素除去システムを使用している。
の対策として、格納容器から水素ガスを含む気体を送風
手段、例えばブロアで格納容器外へ取り出し、電気ヒ−
タで昇温させて水素と酸素とを水に再結合させ、残りの
気体をク−ラで冷却してから格納容器に戻す加熱式再結
合器を用いた水素除去システムを使用している。
【0006】また、大型の格納容器を有する原子力発電
所では、イグナイタと呼ばれる強制点火方式を採用して
いる。
所では、イグナイタと呼ばれる強制点火方式を採用して
いる。
【0007】あるいは、格納容器内に不活性ガスである
窒素を注入する格納容器雰囲気希釈(CAD)方式などが
ある。
窒素を注入する格納容器雰囲気希釈(CAD)方式などが
ある。
【0008】以上に述べた従来型では、ブロアやヒ−タ
等の強制駆動力や電気を使用しているが、近時、駆動動
力源や電気等を用いない静的な装置として触媒式の再結
合器が開発されている。この装置は鋼製の箱の中に触媒
型水素反応材をペレットタイプにしたものをカ−トリッ
ジにまとめ、カ−トリッジ間を気体の流路にして水素と
酸素を再結合させるものである。特開昭58−1359
91号公報には格納容器内に水素の酸化触媒を配置する
例が開示され、特開平6−130170号公報には格納
容器内に触媒型水素反応材からなる水素ガス濃度低減材
を配置する例が開示されている。
等の強制駆動力や電気を使用しているが、近時、駆動動
力源や電気等を用いない静的な装置として触媒式の再結
合器が開発されている。この装置は鋼製の箱の中に触媒
型水素反応材をペレットタイプにしたものをカ−トリッ
ジにまとめ、カ−トリッジ間を気体の流路にして水素と
酸素を再結合させるものである。特開昭58−1359
91号公報には格納容器内に水素の酸化触媒を配置する
例が開示され、特開平6−130170号公報には格納
容器内に触媒型水素反応材からなる水素ガス濃度低減材
を配置する例が開示されている。
【0009】また、特開平4−104096号公報に
は、格納容器内の上部に薄板状の水素吸着物質を吊り下
げて水素ガスを吸着し、水素ガス濃度を低減させるもの
が開示されているし、特開平4−34395号公報に
は、格納容器ドライウェルやサプレッションチャンバ
(圧力抑制室)などに粉末状水素吸蔵金属を収容した水
素吸着装置を設置する例が開示されている。
は、格納容器内の上部に薄板状の水素吸着物質を吊り下
げて水素ガスを吸着し、水素ガス濃度を低減させるもの
が開示されているし、特開平4−34395号公報に
は、格納容器ドライウェルやサプレッションチャンバ
(圧力抑制室)などに粉末状水素吸蔵金属を収容した水
素吸着装置を設置する例が開示されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】電気ヒ−タで加熱し再
結合させる加熱式再結合器を用いている従来型の水素除
去システムでは、水素ガスと酸素ガスを再結合させるた
めに約700℃まで加熱し温度を制御している。この温
度は原子力発電設備のなかで最も高温となる場所の内の
一つであり、電気ヒ−タ、冷却装置等の設備が必要とな
りコストの問題から望ましいとは言えない。
結合させる加熱式再結合器を用いている従来型の水素除
去システムでは、水素ガスと酸素ガスを再結合させるた
めに約700℃まで加熱し温度を制御している。この温
度は原子力発電設備のなかで最も高温となる場所の内の
一つであり、電気ヒ−タ、冷却装置等の設備が必要とな
りコストの問題から望ましいとは言えない。
【0011】また、上記特開昭58−135991号公
報、特開平6−130170号公報、特開平4−104
096号公報及び特開平4−34395号公報に記載さ
れたものは、触媒式水素除去装置や水素吸着装置への気
体の循環は、格納容器内の雰囲気温度と壁との温度差に
よる格納容器内雰囲気気体の自然循環や格納容器冷却ス
プレイの影響による強制循環に依存しており、積極的に
格納容器内の雰囲気気体をそれら触媒式水素除去装置や
水素吸着装置へ循環させるものはない。触媒式水素除去
装置へ積極的に格納容器内の雰囲気気体を送りこむ送風
手段の設置により、更なる水素除去率向上の余地がある
と考えられる。
報、特開平6−130170号公報、特開平4−104
096号公報及び特開平4−34395号公報に記載さ
れたものは、触媒式水素除去装置や水素吸着装置への気
体の循環は、格納容器内の雰囲気温度と壁との温度差に
よる格納容器内雰囲気気体の自然循環や格納容器冷却ス
プレイの影響による強制循環に依存しており、積極的に
格納容器内の雰囲気気体をそれら触媒式水素除去装置や
水素吸着装置へ循環させるものはない。触媒式水素除去
装置へ積極的に格納容器内の雰囲気気体を送りこむ送風
手段の設置により、更なる水素除去率向上の余地がある
と考えられる。
【0012】本発明の目的は、コストを増大させること
なしに、水素除去率を向上させるにある。
なしに、水素除去率を向上させるにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的は、以下のよう
にして達成することができる。
にして達成することができる。
【0014】《水素除去装置が格納容器の内側に設置さ
れる場合》 (1)水素除去手段として触媒を用いて水素と酸素を再結
合させる触媒式水素除去手段を設け、この水素除去手段
の下側から送風できるように送風手段を設置する。送風
手段の駆動源としては、冷却材減少時に加圧される格納
容器内配管中の水圧を利用するのがよい。冷却材が減少
する事象が発生すると、該配管が加圧され配管中の水の
一部が送風手段の駆動部に送られ、この水の圧力により
送風手段が駆動される。冷却材減少時に加圧される格納
容器内配管には、残留熱除去系の一部である格納容器ス
プレイ冷却系配管がある。
れる場合》 (1)水素除去手段として触媒を用いて水素と酸素を再結
合させる触媒式水素除去手段を設け、この水素除去手段
の下側から送風できるように送風手段を設置する。送風
手段の駆動源としては、冷却材減少時に加圧される格納
容器内配管中の水圧を利用するのがよい。冷却材が減少
する事象が発生すると、該配管が加圧され配管中の水の
一部が送風手段の駆動部に送られ、この水の圧力により
送風手段が駆動される。冷却材減少時に加圧される格納
容器内配管には、残留熱除去系の一部である格納容器ス
プレイ冷却系配管がある。
【0015】(2)また、送風手段を格納容器スプレイの
影響を避けるためケーシングに収納しておくのが望まし
い。このケーシングにはケーシング外の気体を送風手段
に導く吸気口を設け、送風手段の吹き出し側正面部は送
風手段の送風によりパネル状のふた(吹き出し口ケーシ
ング)が倒れて気体の流れる通路を確保し、さらに該吹
き出し口ケーシングも倒れた状態で送風手段から送り出
された気体を水素除去装置へ導く形状となるようにして
おくとよい。
影響を避けるためケーシングに収納しておくのが望まし
い。このケーシングにはケーシング外の気体を送風手段
に導く吸気口を設け、送風手段の吹き出し側正面部は送
風手段の送風によりパネル状のふた(吹き出し口ケーシ
ング)が倒れて気体の流れる通路を確保し、さらに該吹
き出し口ケーシングも倒れた状態で送風手段から送り出
された気体を水素除去装置へ導く形状となるようにして
おくとよい。
【0016】触媒式水素除去手段の代りに、従来知られ
ているイグナイタを用いたものとしてもよい。
ているイグナイタを用いたものとしてもよい。
【0017】《水素除去装置が格納容器の外側に設置さ
れる場合》 (3)従来型の加熱式再結合器を用いた可燃性ガス濃度制
御系と同様に、ドライウェル空間部を前記格納容器の外
部を経由して圧力抑制室に連通する配管を設置し、その
配管に送風手段により該配管を経て強制的にドライウェ
ル内気体の供給を受ける触媒式水素除去手段を設置す
る。
れる場合》 (3)従来型の加熱式再結合器を用いた可燃性ガス濃度制
御系と同様に、ドライウェル空間部を前記格納容器の外
部を経由して圧力抑制室に連通する配管を設置し、その
配管に送風手段により該配管を経て強制的にドライウェ
ル内気体の供給を受ける触媒式水素除去手段を設置す
る。
【0018】(4)触媒式水素除去手段と圧力抑制室を結
ぶ配管には、該配管を通る気体を冷却する冷却装置を設
置するのが望ましい。
ぶ配管には、該配管を通る気体を冷却する冷却装置を設
置するのが望ましい。
【0019】(5)上記(3)に記載の手段において、ドラ
イウェル内部の気体を水素除去手段に送りこむ配管を二
重配管構造にし、外側の配管内をドライウェルからの気
体が通り、内側の配管を水素除去手段で発生する水蒸気
及び未反応の気体が通ってドライウェルもしくは圧力抑
制室へ戻される構造とする。
イウェル内部の気体を水素除去手段に送りこむ配管を二
重配管構造にし、外側の配管内をドライウェルからの気
体が通り、内側の配管を水素除去手段で発生する水蒸気
及び未反応の気体が通ってドライウェルもしくは圧力抑
制室へ戻される構造とする。
【0020】(6)上記(3)に記載の手段において、水素
除去手段と圧力抑制室を連通する配管が格納容器壁を通
過する部分の、格納容器壁と配管外周の間を断熱材を用
いて保護し、さらに前記圧力抑制室内に入った前記配管
の末端開口を、前記圧力抑制プ−ル水面もしくは圧力抑
制プ−ル水中に設置する。
除去手段と圧力抑制室を連通する配管が格納容器壁を通
過する部分の、格納容器壁と配管外周の間を断熱材を用
いて保護し、さらに前記圧力抑制室内に入った前記配管
の末端開口を、前記圧力抑制プ−ル水面もしくは圧力抑
制プ−ル水中に設置する。
【0021】
【作用】本発明における作用は、下記のとおりである。
【0022】《水素除去装置が格納容器の内側に設置さ
れる場合》 (a)触媒式水素除去手段に、送風手段により強制的に格
納容器内雰囲気気体を送りこむことで触媒式水素除去手
段を通過する気体量、ひいては水素量が増加し、水素除
去効率が向上して触媒量と除去面積を低減できる。。
れる場合》 (a)触媒式水素除去手段に、送風手段により強制的に格
納容器内雰囲気気体を送りこむことで触媒式水素除去手
段を通過する気体量、ひいては水素量が増加し、水素除
去効率が向上して触媒量と除去面積を低減できる。。
【0023】また、冷却材減少時に加圧される配管中の
水の圧力を駆動源とする送風手段を設置することで、触
媒式水素除去装置の持つ静的特性を維持しつつ、水素除
去効率を向上させることが可能であると同時に、弁等の
機械的動作を要しないので、それらの機構に起因する作
動不良やメンテナンスが不要である。
水の圧力を駆動源とする送風手段を設置することで、触
媒式水素除去装置の持つ静的特性を維持しつつ、水素除
去効率を向上させることが可能であると同時に、弁等の
機械的動作を要しないので、それらの機構に起因する作
動不良やメンテナンスが不要である。
【0024】(b)送風手段から触媒式水素除去手段へ気
体を誘導するような吹き出し口ケーシングを設置するこ
とで、簡単な装置でより効率的に送風を行い水素除去効
率を向上させることができる。
体を誘導するような吹き出し口ケーシングを設置するこ
とで、簡単な装置でより効率的に送風を行い水素除去効
率を向上させることができる。
【0025】(c)さらに、触媒式水素除去手段に代えて
従来型のイグナイタを用いる場合も、送風手段により強
制的に格納容器内雰囲気気体を送りこむことで、水素除
去効率が向上する。
従来型のイグナイタを用いる場合も、送風手段により強
制的に格納容器内雰囲気気体を送りこむことで、水素除
去効率が向上する。
【0026】《水素除去装置を格納容器の外側に設置す
る場合》 (d)従来型の加熱式再結合器の代わりに、触媒式水素除
去手段を採用することで、従来技術を利用できると共に
水素ガス及び酸素ガスを約700℃の高温にまで加熱せ
ずとも再結合が可能となるため、電気ヒ−タが不要とな
り、水素除去装置を軽量化できる。
る場合》 (d)従来型の加熱式再結合器の代わりに、触媒式水素除
去手段を採用することで、従来技術を利用できると共に
水素ガス及び酸素ガスを約700℃の高温にまで加熱せ
ずとも再結合が可能となるため、電気ヒ−タが不要とな
り、水素除去装置を軽量化できる。
【0027】(e)さらに、ドライウェル空間内の気体を
触媒式水素除去手段に取り込む配管において、外側配管
をドライウェルからの水素ガスを含んだ気体が通り、内
側配管を水素除去手段で発生した水蒸気及び未反応の気
体が通る二重構造の配管にしたり、あるいは水素除去手
段で生成した水蒸気及び未反応の気体を圧力抑制室へ送
る配管が格納容器壁を通過する箇所で、該配管外周と格
納容器壁の間に断熱材を配置し、さらに圧力抑制室内部
に入った配管は圧力抑制プ−ル水表面もしくは圧力抑制
プ−ル水中に設置することで、冷却装置が不要となり、
残留熱除去系から冷却水を引いてくる配管も不要とな
る。
触媒式水素除去手段に取り込む配管において、外側配管
をドライウェルからの水素ガスを含んだ気体が通り、内
側配管を水素除去手段で発生した水蒸気及び未反応の気
体が通る二重構造の配管にしたり、あるいは水素除去手
段で生成した水蒸気及び未反応の気体を圧力抑制室へ送
る配管が格納容器壁を通過する箇所で、該配管外周と格
納容器壁の間に断熱材を配置し、さらに圧力抑制室内部
に入った配管は圧力抑制プ−ル水表面もしくは圧力抑制
プ−ル水中に設置することで、冷却装置が不要となり、
残留熱除去系から冷却水を引いてくる配管も不要とな
る。
【0028】(f)触媒式水素除去手段に被処理気体を送
りこむ送風手段を設置することで、水素除去効率は大幅
に改善され触媒量及び除去面積を低減できる。
りこむ送風手段を設置することで、水素除去効率は大幅
に改善され触媒量及び除去面積を低減できる。
【0029】
【実施例】本発明の実施例を図1〜4に基づいて説明す
る。
る。
【0030】まず、本発明の第一実施例について説明す
る。図1は第一実施例の系統概略図である。図1に示す
ように、格納容器1に内在する原子炉圧力容器2から、
原子炉一次系配管3が上部ドライウェル4を水平方向に
貫通しており、この原子炉一次系配管3には格納容器1
内で隔離弁5が取り付けられている。
る。図1は第一実施例の系統概略図である。図1に示す
ように、格納容器1に内在する原子炉圧力容器2から、
原子炉一次系配管3が上部ドライウェル4を水平方向に
貫通しており、この原子炉一次系配管3には格納容器1
内で隔離弁5が取り付けられている。
【0031】格納容器1の上部ドライウェル4からペネ
6を通って二次格納施設(原子炉建屋)7内に引かれて
いる配管8は内側配管8iと外側配管8oを組み合わせ
た二重管となっており、格納容器1の壁をペネ6で通過
して二次格納施設7内に入る。二次格納施設7内に入っ
たところで外側配管8o−1と内側配管8i−1に分か
れてそれぞれ隔離弁9,12が接続され、その後再び二
重管となって二次格納施設7の壁を通過する。二次格納
施設7の外側に出たところでまた外側配管8o−2と内
側配管8i−2に分かれ、外側配管8o−2には送風手
段である電動のブロア10の吸い込み側が、内側配管8
i−2には触媒式水素除去手段11の出側が、それぞれ
接続されている。ブロア10の出側と触媒式水素除去手
段11の入り側は外側配管8o−3で接続されている。
なお、上部ドライウェル4内では、二重管である配管8
の内側配管が外側配管よりもドライウェル内に突出した
構造となっている。
6を通って二次格納施設(原子炉建屋)7内に引かれて
いる配管8は内側配管8iと外側配管8oを組み合わせ
た二重管となっており、格納容器1の壁をペネ6で通過
して二次格納施設7内に入る。二次格納施設7内に入っ
たところで外側配管8o−1と内側配管8i−1に分か
れてそれぞれ隔離弁9,12が接続され、その後再び二
重管となって二次格納施設7の壁を通過する。二次格納
施設7の外側に出たところでまた外側配管8o−2と内
側配管8i−2に分かれ、外側配管8o−2には送風手
段である電動のブロア10の吸い込み側が、内側配管8
i−2には触媒式水素除去手段11の出側が、それぞれ
接続されている。ブロア10の出側と触媒式水素除去手
段11の入り側は外側配管8o−3で接続されている。
なお、上部ドライウェル4内では、二重管である配管8
の内側配管が外側配管よりもドライウェル内に突出した
構造となっている。
【0032】従来の加熱式再結合器を用いた水素除去シ
ステムでは、水素ガスと酸素ガスを再結合させるために
電気ヒ−タを用いて約700℃にまで加熱し温度を制御
しているが、本実施例では加熱式再結合器の代わりに触
媒式水素除去手段11を用いており、この触媒式水素除
去手段11の場合は、常温においても機能するため従来
型のような電気ヒ−タが不要となりコスト低減につなが
る。また、ブロア10によって強制的に水素を含んだ気
体が触媒式水素除去手段11に送風されるので、水素除
去効率が向上し触媒量及び除去面積の低減が可能にな
る。
ステムでは、水素ガスと酸素ガスを再結合させるために
電気ヒ−タを用いて約700℃にまで加熱し温度を制御
しているが、本実施例では加熱式再結合器の代わりに触
媒式水素除去手段11を用いており、この触媒式水素除
去手段11の場合は、常温においても機能するため従来
型のような電気ヒ−タが不要となりコスト低減につなが
る。また、ブロア10によって強制的に水素を含んだ気
体が触媒式水素除去手段11に送風されるので、水素除
去効率が向上し触媒量及び除去面積の低減が可能にな
る。
【0033】また、従来型水素除去システムにおいて
は、生成された水蒸気を冷却するため冷却器を用い、冷
却水として圧力抑制室13内の圧力抑制プ−ル水14の
一部を利用している。第一実施例では図1に示すよう
に、上部ドライウェル4とブロア10を結ぶ配管8を二
重構造にすること、及び触媒式水素除去手段11で発生
する気体がそれほど高温にならないことから、二重管で
ある配管8の外側配管8o−1を通して上部ドライウェ
ル4内の気体を触媒式水素除去手段11に引き込み、内
側配管8i−1を通して触媒式水素除去手段11で生成
された水蒸気を上部ドライウェル4内に戻している。こ
のように構成することで、生成された水蒸気を冷却する
ための冷却器を取り除き、水素除去システムを簡略化し
ており、また、圧力抑制室13と水素除去装置11出側
を結ぶ配管を設けていないことで、配管8が格納容器1
の壁を貫通する個所を低減できる。
は、生成された水蒸気を冷却するため冷却器を用い、冷
却水として圧力抑制室13内の圧力抑制プ−ル水14の
一部を利用している。第一実施例では図1に示すよう
に、上部ドライウェル4とブロア10を結ぶ配管8を二
重構造にすること、及び触媒式水素除去手段11で発生
する気体がそれほど高温にならないことから、二重管で
ある配管8の外側配管8o−1を通して上部ドライウェ
ル4内の気体を触媒式水素除去手段11に引き込み、内
側配管8i−1を通して触媒式水素除去手段11で生成
された水蒸気を上部ドライウェル4内に戻している。こ
のように構成することで、生成された水蒸気を冷却する
ための冷却器を取り除き、水素除去システムを簡略化し
ており、また、圧力抑制室13と水素除去装置11出側
を結ぶ配管を設けていないことで、配管8が格納容器1
の壁を貫通する個所を低減できる。
【0034】次に、本発明の第二実施例を説明する。図
2は第二実施例の系統概略図である。第一実施例の水素
除去システムに比べ、配管8は二重構造とはなっていな
い。本実施例においても、前記第1の実施例と同様、二
次格納施設7内(格納容器1外)に隔離弁9,12が、
二次格納施設7外に電動のブロア10,触媒式水素除去
手段11が、それぞれ配置されている。隔離弁9入り側
がペネA6を通る配管8aでドライウェル4内と連通さ
れ、隔離弁9出側が配管8bでブロア10入り側に接続
されている。ブロア10出側が配管8cで触媒式水素除
去手段11の入り側に接続され、触媒式水素除去手段1
1の出側が配管8dで隔離弁12入り側に接続されてい
る。隔離弁12の出側は格納容器1の壁に設けられたペ
ネ15を通る配管8eで圧力抑制室13の水面下部分と
連通されている。ペネ15を通る配管8eは断熱材を介
して格納容器1の壁に接するように構造されている。
2は第二実施例の系統概略図である。第一実施例の水素
除去システムに比べ、配管8は二重構造とはなっていな
い。本実施例においても、前記第1の実施例と同様、二
次格納施設7内(格納容器1外)に隔離弁9,12が、
二次格納施設7外に電動のブロア10,触媒式水素除去
手段11が、それぞれ配置されている。隔離弁9入り側
がペネA6を通る配管8aでドライウェル4内と連通さ
れ、隔離弁9出側が配管8bでブロア10入り側に接続
されている。ブロア10出側が配管8cで触媒式水素除
去手段11の入り側に接続され、触媒式水素除去手段1
1の出側が配管8dで隔離弁12入り側に接続されてい
る。隔離弁12の出側は格納容器1の壁に設けられたペ
ネ15を通る配管8eで圧力抑制室13の水面下部分と
連通されている。ペネ15を通る配管8eは断熱材を介
して格納容器1の壁に接するように構造されている。
【0035】本実施例においては、ブロア10によって
ドライウェル内のガスが触媒式水素除去手段11に送ら
れ、触媒式水素除去装置A11からでた水蒸気及び未反
応気体は配管8d,隔離弁12,配管8eを通して圧力
抑制室13へ導かれる。その際、格納容器1のペネ15
部分は断熱材によって配管8eの熱から保護されてい
る。さらに、圧力抑制室13内に入った配管8eは圧力
抑制プ−ル14水表面もしくは圧力抑制プ−ル14水中
に設置する。本実施例では、圧力抑制プ−ル14中に配
管8eの開口端を設置することで、触媒式水素除去手段
11から配管8eを経て送られてきた水蒸気及び未反応
の気体を冷却でき、第一実施例同様、水素除去システム
を単純化することが可能である。本実施例では、配管8
eの開口端を圧力抑制プ−ル14水中に設置している
が、プール水表面に近接した位置に開口端を設けるなら
ば、必ずしも水中に開口端を設けなくてもよい。
ドライウェル内のガスが触媒式水素除去手段11に送ら
れ、触媒式水素除去装置A11からでた水蒸気及び未反
応気体は配管8d,隔離弁12,配管8eを通して圧力
抑制室13へ導かれる。その際、格納容器1のペネ15
部分は断熱材によって配管8eの熱から保護されてい
る。さらに、圧力抑制室13内に入った配管8eは圧力
抑制プ−ル14水表面もしくは圧力抑制プ−ル14水中
に設置する。本実施例では、圧力抑制プ−ル14中に配
管8eの開口端を設置することで、触媒式水素除去手段
11から配管8eを経て送られてきた水蒸気及び未反応
の気体を冷却でき、第一実施例同様、水素除去システム
を単純化することが可能である。本実施例では、配管8
eの開口端を圧力抑制プ−ル14水中に設置している
が、プール水表面に近接した位置に開口端を設けるなら
ば、必ずしも水中に開口端を設けなくてもよい。
【0036】第二の実施例において、二次格納施設7の
そとで配管8dに冷却装置(図示せず)を設け、配管8
d内を流れる気体を冷却するようにすれば、ペネ15に
断熱材を設けることも配管8eの末端を圧力抑制プ−ル
14水中に設置することも必要無くなる。
そとで配管8dに冷却装置(図示せず)を設け、配管8
d内を流れる気体を冷却するようにすれば、ペネ15に
断熱材を設けることも配管8eの末端を圧力抑制プ−ル
14水中に設置することも必要無くなる。
【0037】なお、上記第一、第二の実施例において
は、ブロア10の吹き出し口と触媒式水素除去手段11
の被処理気体入り側が配管で接続されているが、ブロア
10と触媒式水素除去手段11を密閉区画内に配置して
おけば、ブロア10の吹き出し口と触媒式水素除去手段
11の被処理気体入り側を必ずしも連結しておく必要は
なく、ブロア10から吹き出された気体が触媒式水素除
去手段11の被処理気体入り側に流入するような位置関
係に両者を配置しておけばよい。このように、両者を離
しておくことにより、据付け時の作業が簡略になり、か
つ触媒の点検交換、ブロア10の点検保守等が容易にな
る。
は、ブロア10の吹き出し口と触媒式水素除去手段11
の被処理気体入り側が配管で接続されているが、ブロア
10と触媒式水素除去手段11を密閉区画内に配置して
おけば、ブロア10の吹き出し口と触媒式水素除去手段
11の被処理気体入り側を必ずしも連結しておく必要は
なく、ブロア10から吹き出された気体が触媒式水素除
去手段11の被処理気体入り側に流入するような位置関
係に両者を配置しておけばよい。このように、両者を離
しておくことにより、据付け時の作業が簡略になり、か
つ触媒の点検交換、ブロア10の点検保守等が容易にな
る。
【0038】次に本発明の第三実施例を説明する。図3
は第三実施例の模式断面図である。第一、第二の各実施
例は、触媒式水素除去手段11を格納容器1の外側かつ
二次格納施設の外側に設置した場合であるが、第三実施
例は触媒式水素除去手段11を格納容器1の内部に設置
した例であり、送風手段であるブロア18と、このブロ
ア18の吐出側に隣接配置されて水素を除去する触媒式
水素除去手段11がともに格納容器1内部に設置されて
いる。ブロア18の周囲はケーシング20で囲まれ、格
納容器スプレイによりブロア18の作動に支障を来すこ
とがないようにしてある。触媒式水素除去手段11は被
処理気体が下方から入って上方に抜けるように配置さ
れ、かつその被処理気体入り側はブロア18の吹き出し
口に接続され、両者は一体となっている。さらに、ブロ
ア18のまわりは格納容器スプレイの影響を避けるた
め、ケーシングで囲まれ、このケーシングには格納容器
内雰囲気気体をブロア18にとりいれるための吸気口
(図示せず)が設けられている。
は第三実施例の模式断面図である。第一、第二の各実施
例は、触媒式水素除去手段11を格納容器1の外側かつ
二次格納施設の外側に設置した場合であるが、第三実施
例は触媒式水素除去手段11を格納容器1の内部に設置
した例であり、送風手段であるブロア18と、このブロ
ア18の吐出側に隣接配置されて水素を除去する触媒式
水素除去手段11がともに格納容器1内部に設置されて
いる。ブロア18の周囲はケーシング20で囲まれ、格
納容器スプレイによりブロア18の作動に支障を来すこ
とがないようにしてある。触媒式水素除去手段11は被
処理気体が下方から入って上方に抜けるように配置さ
れ、かつその被処理気体入り側はブロア18の吹き出し
口に接続され、両者は一体となっている。さらに、ブロ
ア18のまわりは格納容器スプレイの影響を避けるた
め、ケーシングで囲まれ、このケーシングには格納容器
内雰囲気気体をブロア18にとりいれるための吸気口
(図示せず)が設けられている。
【0039】また、触媒式水素除去手段11気体出側の
配管は図示を省略してあるが、図1に示すようにドライ
ウェル4上部に開口させても良いし、図2に示すように
圧力抑制水内に開口させてもよい。
配管は図示を省略してあるが、図1に示すようにドライ
ウェル4上部に開口させても良いし、図2に示すように
圧力抑制水内に開口させてもよい。
【0040】軽水冷却原子炉では、残留熱除去系の機能
の一つとして、原子炉圧力容器2内の冷却材が減少する
ような事象が発生した時に格納容器1を冷却することを
目的とする格納容器冷却スプレイ配管16が設けられて
おり、この格納容器冷却スプレイ配管16内の水は通常
は加圧されていないが、原子炉圧力容器2内の冷却材が
減少するような事象が発生した時には加圧されて格納容
器1内に冷却水をスプレイするようになっている。本実
施例では、この格納容器冷却スプレイ配管16に加圧導
入される冷却水の一部を、格納容器冷却スプレイ配管1
6から分岐した配管17によってブロア18に導き、こ
の冷却水の水圧を駆動源としてブロア18を運転するよ
うになっている。格納容器冷却スプレイ配管16とブロ
ア18を結ぶ配管17には弁が設けられておらず、格納
容器冷却スプレイ配管16が加圧されると、弁の開閉操
作などの動作を行うことなく自動的にブロア18の運転
が開始される。
の一つとして、原子炉圧力容器2内の冷却材が減少する
ような事象が発生した時に格納容器1を冷却することを
目的とする格納容器冷却スプレイ配管16が設けられて
おり、この格納容器冷却スプレイ配管16内の水は通常
は加圧されていないが、原子炉圧力容器2内の冷却材が
減少するような事象が発生した時には加圧されて格納容
器1内に冷却水をスプレイするようになっている。本実
施例では、この格納容器冷却スプレイ配管16に加圧導
入される冷却水の一部を、格納容器冷却スプレイ配管1
6から分岐した配管17によってブロア18に導き、こ
の冷却水の水圧を駆動源としてブロア18を運転するよ
うになっている。格納容器冷却スプレイ配管16とブロ
ア18を結ぶ配管17には弁が設けられておらず、格納
容器冷却スプレイ配管16が加圧されると、弁の開閉操
作などの動作を行うことなく自動的にブロア18の運転
が開始される。
【0041】本実施例では、触媒式水素除去手段11へ
格納容器1内の気体を送り込むブロア18に、水素が発
生するような事象つまり原子炉内の冷却材が減少すると
きに自動的に加圧される配管系の水圧を駆動源として採
用することで、動的機器あるいはその他の電気的補助シ
ステムを必要としないで触媒式水素除去手段11に気体
を送風できることから、触媒式水素除去手段11の静的
特性(起動に動的操作を要しないという特性)を維持し
たまま、水素除去効率を向上させることができ、触媒量
及び除去面積の低減が可能となる。さらに、触媒式水素
除去システムを格納容器1内部に設置した場合は格納容
器1外部に配管8を導設する必要がなくなるため、ペネ
6、15の削減が可能になる。
格納容器1内の気体を送り込むブロア18に、水素が発
生するような事象つまり原子炉内の冷却材が減少すると
きに自動的に加圧される配管系の水圧を駆動源として採
用することで、動的機器あるいはその他の電気的補助シ
ステムを必要としないで触媒式水素除去手段11に気体
を送風できることから、触媒式水素除去手段11の静的
特性(起動に動的操作を要しないという特性)を維持し
たまま、水素除去効率を向上させることができ、触媒量
及び除去面積の低減が可能となる。さらに、触媒式水素
除去システムを格納容器1内部に設置した場合は格納容
器1外部に配管8を導設する必要がなくなるため、ペネ
6、15の削減が可能になる。
【0042】なお、上記第三の実施例では、触媒式水素
除去手段11はブロア18の吹き出し口に接して配置さ
れ、両者が一体に組み合わされているが、必ずしも両者
を常時一体に組み立てておく必要はない。例えば、図4
に示すように、触媒式水素除去手段11の気体取り入れ
口をブロア18の吹き出し口から離して配置し、ケーシ
ング20のブロア18の吹き出し口に対応する部分に、
ブロア18の吹き出し風圧で吹き出し方向に垂直な軸の
まわりに回転して倒れる吹き出し口ケーシング19を設
けておく。吹き出し口ケーシング19の形状を、倒れた
時にブロア18の吹き出し口周囲のケーシング20と触
媒式水素除去手段11の気体取り入れ口を結ぶ気体流路
を形成する形状としておけばよい。気体流路の両側面に
当る部分は図示の形状とし、流路の前面及び背面に当る
部分は、吹き出し口ケーシング19回転時にブロア18
のケーシング20と触媒式水素除去手段11に干渉する
部分を切り欠いておき、切欠きに相当する部分をブロア
18と触媒式水素除去手段11にそれぞれ延長して設け
ておく。このように、ブロア18が駆動される事象が発
生したときにのみ、吹き出し口ケーシング19がブロア
18の吹き出し口と触媒式水素除去手段11の気体取り
入れ口を結ぶ気体流路を形成するようにすれば、平常時
はそのスペースを通路として利用できるし、人が格納容
器1内部に立ち入ることができるようになったときも容
易に吹き出し口ケーシング19をもとの状態に戻してま
た通路を確保することが可能である。
除去手段11はブロア18の吹き出し口に接して配置さ
れ、両者が一体に組み合わされているが、必ずしも両者
を常時一体に組み立てておく必要はない。例えば、図4
に示すように、触媒式水素除去手段11の気体取り入れ
口をブロア18の吹き出し口から離して配置し、ケーシ
ング20のブロア18の吹き出し口に対応する部分に、
ブロア18の吹き出し風圧で吹き出し方向に垂直な軸の
まわりに回転して倒れる吹き出し口ケーシング19を設
けておく。吹き出し口ケーシング19の形状を、倒れた
時にブロア18の吹き出し口周囲のケーシング20と触
媒式水素除去手段11の気体取り入れ口を結ぶ気体流路
を形成する形状としておけばよい。気体流路の両側面に
当る部分は図示の形状とし、流路の前面及び背面に当る
部分は、吹き出し口ケーシング19回転時にブロア18
のケーシング20と触媒式水素除去手段11に干渉する
部分を切り欠いておき、切欠きに相当する部分をブロア
18と触媒式水素除去手段11にそれぞれ延長して設け
ておく。このように、ブロア18が駆動される事象が発
生したときにのみ、吹き出し口ケーシング19がブロア
18の吹き出し口と触媒式水素除去手段11の気体取り
入れ口を結ぶ気体流路を形成するようにすれば、平常時
はそのスペースを通路として利用できるし、人が格納容
器1内部に立ち入ることができるようになったときも容
易に吹き出し口ケーシング19をもとの状態に戻してま
た通路を確保することが可能である。
【0043】また、上記第二、第三の実施例の場合のよ
うに、水素除去手段が格納容器内に設置されている場合
に、触媒式水素除去手段に代えてイグナイタを用いても
よい。この場合は、再結合後の水蒸気もしくはイグナイ
タを通過した気体が格納容器壁に設けられたペネを通過
することもないから、再結合後の水蒸気もしくはイグナ
イタを通過した気体を冷却する冷却器を設ける必要もな
い。
うに、水素除去手段が格納容器内に設置されている場合
に、触媒式水素除去手段に代えてイグナイタを用いても
よい。この場合は、再結合後の水蒸気もしくはイグナイ
タを通過した気体が格納容器壁に設けられたペネを通過
することもないから、再結合後の水蒸気もしくはイグナ
イタを通過した気体を冷却する冷却器を設ける必要もな
い。
【0044】
【発明の効果】本発明によれば、水素除去手段に被処理
気体を送りこむ送風手段を設置することで水素除去効率
が向上し、触媒量及び除去面積の低減が可能である。ま
た、触媒式水素除去手段を格納容器の中に設置し送風手
段として原子炉内冷却材の異常減少時に加圧される配管
内の冷却水で駆動される水圧駆動式送風手段を設けるこ
とで、触媒式水素除去手段の静的特性を維持したまま、
水素除去効率を上げることが可能となる。
気体を送りこむ送風手段を設置することで水素除去効率
が向上し、触媒量及び除去面積の低減が可能である。ま
た、触媒式水素除去手段を格納容器の中に設置し送風手
段として原子炉内冷却材の異常減少時に加圧される配管
内の冷却水で駆動される水圧駆動式送風手段を設けるこ
とで、触媒式水素除去手段の静的特性を維持したまま、
水素除去効率を上げることが可能となる。
【0045】また、触媒式水素除去手段と送風手段を格
納容器内に設置すると、格納容器外部へ格納容器内の気
体を循環させる気体流路を設ける必要がないので、気体
流路が格納容器を貫通する個所に設けなければならない
ペネの数を減少させることができる。
納容器内に設置すると、格納容器外部へ格納容器内の気
体を循環させる気体流路を設ける必要がないので、気体
流路が格納容器を貫通する個所に設けなければならない
ペネの数を減少させることができる。
【0046】さらに、水素除去手段に被処理気体を送り
こむ送風手段を設置することで、水素除去手段を通過し
た気体を強制的に圧力抑制プールの水中あるいは水面近
傍に導くことが可能となり、冷却手段を格別に設けるこ
となく再結合後の高温の気体を圧力抑制プール水を利用
して冷却できる。
こむ送風手段を設置することで、水素除去手段を通過し
た気体を強制的に圧力抑制プールの水中あるいは水面近
傍に導くことが可能となり、冷却手段を格別に設けるこ
となく再結合後の高温の気体を圧力抑制プール水を利用
して冷却できる。
【図1】本発明の第一実施例の系統概略図である。
【図2】本発明の第二実施例の系統概略図である。
【図3】本発明の第三実施例の模式断面図である。
【図4】図3に示す実施例の一部を変更した例を示す模
式断面図である。
式断面図である。
1 格納容器 2 圧力容器 3 原子炉一次系配管 4 ドライウェル 5 隔離弁 6 ペネ 7 二次格納施設 8 配管 9 隔離弁 10 ブロア 11 触媒式水素除去装置 12 隔離弁 13 圧力抑制室 14 圧力抑制プ
−ル 15 ペネ 16 格納容器冷
却スプレイ 17 配管 18 ブロア 19 吹き出し口ケーシング 20 ケーシング
−ル 15 ペネ 16 格納容器冷
却スプレイ 17 配管 18 ブロア 19 吹き出し口ケーシング 20 ケーシング
Claims (10)
- 【請求項1】 原子炉圧力容器を内包する上部ドライウ
ェルと、圧力抑制プ−ル水が貯溜される圧力抑制室とを
含んでなる格納容器内の水素ガスを除去する水素除去装
置において、前記格納容器内に開口部を有する気体流路
に接続された送風手段と触媒式水素除去手段とが前記格
納容器内に設置され、前記送風手段の吹き出し側が前記
触媒式水素除去手段に接続され、又は前記送風手段の吹
き出し側が前記触媒式水素除去手段の近傍になるよう配
置されたことを特徴とする水素除去装置。 - 【請求項2】 前記送風手段が、原子炉圧力容器内の冷
却材が異常減少する事象発生時に加圧される配管系に接
続され、該配管系内の水の圧力を駆動源として回転する
ものであることを特徴とする請求項1に記載の水素除去
装置。 - 【請求項3】 原子炉圧力容器内の冷却材が異常減少す
る事象発生時に加圧される配管系が、残留熱除去系の一
部である格納容器スプレイ冷却系であることを特徴とす
る請求項2に記載の水素除去装置。 - 【請求項4】 前記水圧駆動式送風手段をおおうケーシ
ングが設置され、該水圧駆動式送風手段の吹き出し口に
吹き出し方向に垂直な軸の周囲に回転可能な吹き出し口
ケーシングが設置され、該吹き出し口ケーシングは前記
軸の周囲に回転した状態で前記水圧駆動式送風手段の吹
き出し口と前記触媒式水素除去手段の気体取り入れ口を
結ぶ気体流路を形成する形状としてあり、通常時は前記
軸の周囲に回転していない状態に配置されていることを
特徴とする請求項2または3に記載の水素除去装置。 - 【請求項5】 水素除去手段として前記触媒式水素除去
手段に代えて、イグナイタが用いてあることを特徴とす
る請求項1〜4のいずれかに記載の水素除去装置。 - 【請求項6】 圧力容器を内包する上部ドライウェルと
圧力抑制プ−ル水が貯溜される圧力抑制室とを含んでな
る格納容器内の水素ガスを除去する水素除去装置におい
て、前記格納容器の外側から前記上部ドライウェル内部
まで配設され該上部ドライウェル内部に開口する第1の
配管と、前記格納容器の外側から前記圧力抑制室内部ま
で配設され該圧力抑制室内部に開口する第2の配管と、
前記格納容器の外側に配置され前記第1の配管に吸い込
み側を接続させた送風手段と、前記格納容器の外側に配
置され前記第2の配管に気体出側を接続させた触媒式水
素除去手段とを含んでなり、前記送風手段の吹き出し側
が前記触媒式水素除去手段気体入り側に接続され、ある
いは前記送風手段の吹き出し側が前記水素除去手段気体
入り側の近傍になるように配置されているとともに前記
送風手段及び前記水素除去手段が密閉された同じ区画の
なかに収容されていることを特徴とする水素除去装置。 - 【請求項7】 冷却手段が、前記格納容器外の水素除去
手段と圧力抑制室とを結んで配置された前記第2の配管
に介装されていることを特徴とする請求項6に記載の水
素除去装置。 - 【請求項8】 前記第1、第2の配管が、第1の配管が
外管をなし、第2の配管が内管をなす二重管を形成して
いることを特徴とする請求項6または7に記載の水素除
去装置。 - 【請求項9】 前記第2の配管が前記格納容器壁を通過
するに部分に設けられたペネが前記格納容器壁と断熱材
を介して接するよう構成され、前記圧力抑制室内部の前
記第2の配管の開口部が、前記圧力抑制プ−ル水面もし
くは前記圧力抑制プ−ル水中に位置していることを特徴
とする水素除去装置。 - 【請求項10】 前記送風手段が、電動のブロアである
ことを特徴とする請求項6乃至9記載の水素除去装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7102209A JPH08297194A (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | 水素除去システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7102209A JPH08297194A (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | 水素除去システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08297194A true JPH08297194A (ja) | 1996-11-12 |
Family
ID=14321278
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7102209A Pending JPH08297194A (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | 水素除去システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08297194A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11166996A (ja) * | 1997-12-04 | 1999-06-22 | Toshiba Corp | 原子炉格納容器の水素除去装置 |
US6902709B1 (en) | 1999-06-09 | 2005-06-07 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Hydrogen removing apparatus |
JP2013083470A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd | 原子力プラントの水素処理設備 |
-
1995
- 1995-04-26 JP JP7102209A patent/JPH08297194A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11166996A (ja) * | 1997-12-04 | 1999-06-22 | Toshiba Corp | 原子炉格納容器の水素除去装置 |
US6902709B1 (en) | 1999-06-09 | 2005-06-07 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Hydrogen removing apparatus |
JP2013083470A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd | 原子力プラントの水素処理設備 |
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