JPH08288335A - 基板接続方法 - Google Patents

基板接続方法

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JPH08288335A
JPH08288335A JP8669195A JP8669195A JPH08288335A JP H08288335 A JPH08288335 A JP H08288335A JP 8669195 A JP8669195 A JP 8669195A JP 8669195 A JP8669195 A JP 8669195A JP H08288335 A JPH08288335 A JP H08288335A
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JP
Japan
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bumps
substrate
resin layer
bump
layer
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Withdrawn
Application number
JP8669195A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Daiku
博 大工
Shoji Doi
正二 土肥
Satoshi Kawada
諭 川田
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/341Surface mounted components
    • H05K3/3431Leadless components

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 熱膨張係数の異なるチップどうしをバンプを
介して接続する場合、熱サイクルによる変形でバンプど
うしが短絡することがないよう、バンプ間に可動隔壁を
設けた接続法を提供する。 【構成】 隔壁形成層を一方の基板に仮接着してバンプ
マトリックスに対応する窓を開け、該窓内に半田バンプ
を形成する。他方の基板にもバンプマトリックスを形成
しておき、バンプどうしを突き合わせて両基板を接続し
た後、隔壁層を固定していた仮接着層を除去して格子状
の隔壁を開放する。 【効果】 稠密微細なバンプマトリックスにも対応でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体基板と半導体チッ
プを、或いは半導体チップどうしを接続する基板接続方
法に関わり、特に熱膨張係数の違いに起因して生ずるバ
ンプ間の短絡を防止した基板接続方法に関わる。
【0002】バンプを利用する基板小片の接続は、当初
プリント板にICパッケージやベアチップを搭載した
り、チップをパッケージに装着する場合に多用された接
続形態であったが、今日では赤外線検知デバイスに於け
る如く、異種半導体チップを相互に結合するのにも利用
されている。赤外線検知デバイスでは、HgCdTeチ
ップに形成された2次元赤外線センサと、信号処理回路
が形成されたSi基板とがバンプを介して電気的に接続
される。その場合バンプは2次元に配置され、配列ピッ
チがμm単位で設定されるほど稠密なので、高い加工精
度が要求される。
【0003】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】赤外線セ
ンサの場合は、HgCdTeとSiのように熱膨張係数
が異なったチップが接続されるのであるが、この種の装
置では、使用時は液体窒素温度に冷却され、非使用時に
は常温に戻るという熱サイクルが加えられるため、バン
プどうしの突き合わせでずれが生じる。その程度が甚だ
しいと、図5に示すように、基板11及び11'に形成され
たバンプ17が突き合わせ位置からずれて、隣のバンプと
接触するようになる。
【0004】この問題に対処するため、バンプ間に絶縁
隔壁を設けることが試みられている。図2にそのような
接続形態が例示されており、基板11及び基板11'には対
向してバンプ17が配置され、短絡防止用の隔壁14に設け
られた窓18の中で、バンプどうしが突き合わせで接続さ
れる。
【0005】この構造であれば、バンプの位置がずれた
場合にも隣接バンプに接触することは避けられる。しか
しながら、従来はこの構造で隔壁が一方の基板に固定さ
れていたため、隔壁と他方の基板のバンプとの相対な位
置変化が大きく、バンプが隔壁に強く押されるので、変
形して接続不良となる恐れがある。
【0006】この問題は、隔壁をどちらの基板にも固定
せず、自由に動けるようにしておくことで解決する。例
えば特開平6-232203の発明は、この種の可動隔壁を設け
たバンプ接続構造に関わるものであり、発明の効果の一
つにバンプ間の短絡回避が挙げられている。
【0007】この公知発明では別に形成した格子状の隔
壁を一方の基板上に置き、格子孔内に半田のショットを
置いて他方の基板を重ね、これをリフローすることで、
目的とする接続形態を実現している。しかしながら、2
次元赤外線センサのようにバンプのピッチが微細な場合
には、このような方法では可動隔壁の窓を通してバンプ
接続を行うのは極めて困難である。
【0008】本発明の目的は、リソグラフィ技術を利用
して形成する微細ピッチの格子を短絡防止隔壁として形
成する処理法を提供することであり、他の目的は、該微
細隔壁をいずれの基板にも固定されない状態で形成する
製造法を提供することであり、更に他の目的は、このよ
うな微細隔壁を配置してバンプ接続を実現する基板接続
法を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の基板接続方法では、熱膨張係数の異なるチ
ップ又は基板をバンプを介して相互に接続する際に、バ
ンプ間に配置される非固定型の絶縁隔壁を形成する処理
手順として、コンタクト領域を有する一方の基板に、第
1の樹脂層(仮接着層)を被着し、該第1の樹脂層上に第
2の樹脂層(隔壁形成層)を被着し、該第2の樹脂層上に
単層又は複層の感光性レジスト層を被着してパターニン
グし、該レジストパターンを利用して該コンタクト領域
上の該第2の樹脂層に窓を開け、該窓内にバンプを形成
し、該バンプに対向するバンプを備えた他方の基板を、
該バンプどうしが相互に押圧するように接続した後、該
第1の樹脂層(仮接着層)を溶解除去する工程が包含され
る。
【0010】この隔壁形成層である第1の樹脂をポジ型
感光性ポリイミド樹脂とすること、更に、該バンプはイ
ンジウムを主成分とする合金で形成することで、より的
確に本発明の目的を達成することができる。
【0011】
【作用】本発明の要点の一は、図1に示されるように、
隔壁4は当初第2の樹脂層3によって仮に固定された状
態で形成され、バンプ7による基板どうしの接続が実行
された後、樹脂層3が除かれ、隔壁が固定状態から可動
状態に移行する点である。更に他の要点は、この仮固定
状態の格子状隔壁を利用して一方の基板のバンプが自己
整合的に形成される点である。
【0012】これ等を具現する一連の処理は自己整合的
に行われるため、パッド/バンプ/隔壁の相互位置合わ
せが、最初のマスクアライメントだけで済むことにな
り、工程数が低減されるのみならず、稠密微細なバンプ
マトリックスも容易に形成可能となる。更に、隔壁はバ
ンプによる基板間接続が終わった後に可動状態になり、
熱サイクルに起因する変形に対しても自在に追随するよ
うになるので、バンプを変形させることなく短絡を防止
するという目的が達成される。
【0013】
【実施例】図3及び図4に本発明の実施例の工程が示さ
れている。以下、これ等の図面を参照しながら説明す
る。
【0014】例えば赤外光センサ用の信号処理回路が形
成されているSi基板1の表面に、仮接着層としてポジ
型ポリイミド層(低重合度)3aを1μmの厚さに被着し
(図3(a))、続いて隔壁形成層として比較的重合度の高
いポリイミド層4aを10μmの厚さに被着する(図3
(b))。この高重合ポリイミドがネガ型の感光性を備えた
ものであると、後の処理に好都合である。また、2はコ
ンタクト領域である。
【0015】その上にポジ型レジスト5、ネガ型レジス
ト6を塗布し(図3(c))、選択露光と現像処理によって
両レジスト層をパターニングする。これをマスクとし、
アセトンをエッチング液として高重合ポリイミド層4'に
窓9を開ける(図3(d))。窓の配列ピッチは15μm
で、これがバンプマトリックスのピッチとなる。
【0016】ここ迄の処理ではポジ型ポリイミド層は殆
ど溶解しないので、ポジレジスト用の現像液を用いて窓
内のポジ型ポリイミド層3aを除去する(図3(e))。次
に、インジウムを主成分とする半田層7aを7μmの厚さ
に蒸着し(図3(f))、レジスト層を除去すると、レジス
ト上の半田もリフトオフされ、隔壁4の窓内にバンプ7
が形成された状態となる(図4(g))。
【0017】一方、赤外光センサチップである基板1'に
も、上記バンプ配列に対向する位置にバンプ7を形成し
ておき、両基板1及び1'を、バンプどうしが正対するよ
うに位置を合わせ(図4(h))、基板どうしを押しつけて
バンプ間の電気的接続を実現する(図4(i))。インジウ
ム半田は、バンプどうしを押圧した時に適度に変形して
接触面積が増し、良好なコンタクトが得られるので、こ
の種の接続に適している。
【0018】しかる後、ポジ型レジストの現像液を用い
てポリイミド層3を溶解除去すると、格子状の隔壁4は
基板1に固定された状態から開放され、自由に動けるよ
うになる。即ち、本発明の目的である可動型隔壁の完成
となる(図4(j))。
【0019】以上の説明では、「基板」として通常「チ
ップ」と呼称される半導体片を想定しているが、本発明
が適用できる対象は大きさや材質に拘束されことはな
く、基板が例えばセラミック片のようなものであっても
適用可能である。
【0020】
【発明の効果】以上説明した如く、本発明によれば、バ
ンプの間が可動隔壁で絶縁された状態で基板どうしを接
続することが可能であり、更に、処理工程の大半の期間
では隔壁は一方の基板に固定されているため、バンプの
形成を自己整合的に行うことができ、精密にバンプや隔
壁を形成することができる。それ故、バンプマトリック
スが稠密微細な場合にも対応することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の要点を示す図
【図2】 本発明の背景を説明する図
【図3】 本発明の実施例の工程を示す図(その1)
【図4】 本発明の実施例の工程を示す図(その2)
【図5】 従来技術の問題点を示す図
【符号の説明】
1 Si基板 11' HgCdTe 2 コンタクト領域 3 仮接着層 3a ポジ型ポリイミド層(低重合度) 4 隔壁 4a ポリイミド層(高重合度) 5 ポジ型レジスト 6 ネガ型レジスト 7 バンプ 7a 半田層(インジウム) 8 窓 11 基板 11' 基板 14 隔壁 17 バンプ 18 窓

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 熱膨張係数の異なるチップ又は基板をバ
    ンプを介して相互に接続する基板接続方法であって、 コンタクト領域(2)を有する一方の基板(1)に、第1の樹
    脂層(3)を被着し、 該第1の樹脂層上に第2の樹脂層(4)を被着し、 該第2の樹脂層上にレジスト層(5,6)を被着してパター
    ニングし、 該レジストパターンを利用して該コンタクト領域上の該
    第2の樹脂層に窓を開け、 該窓内にバンプ(7)を形成し、 該バンプに対向する位置にバンプを備えた他方の基板
    (8)を、該バンプどうしが相互に押圧するように接続し
    た後、 該第1の樹脂層を溶解除去する工程を包含して成ること
    を特徴とする基板接続方法。
  2. 【請求項2】 前記第1の樹脂層(3)がポジ型感光性ポ
    リイミド樹脂層であり、これを溶解除去するエッチング
    液がポジ型レジストの現像液であることを特徴する請求
    項1に記載の基板接続方法。
  3. 【請求項3】 前記バンプ(7)がインジウムを主成分と
    する合金で形成されることを特徴とする請求項1又は2
    に記載の基板接続方法。
JP8669195A 1995-04-12 1995-04-12 基板接続方法 Withdrawn JPH08288335A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100361084B1 (ko) * 2000-01-21 2002-11-18 주식회사 하이닉스반도체 반도체 패키지 및 그 제조방법
JP2006278976A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法および半導体装置
JP2012508470A (ja) * 2008-11-07 2012-04-05 レイセオン カンパニー 読み出し集積チップとの酸化物結合に適した検出器の作成方法

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Effective date: 20020702