JPH0827895B2 - 磁気回路装置およびその製造方法 - Google Patents
磁気回路装置およびその製造方法Info
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- JPH0827895B2 JPH0827895B2 JP61300356A JP30035686A JPH0827895B2 JP H0827895 B2 JPH0827895 B2 JP H0827895B2 JP 61300356 A JP61300356 A JP 61300356A JP 30035686 A JP30035686 A JP 30035686A JP H0827895 B2 JPH0827895 B2 JP H0827895B2
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- Japan
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- magnetic
- circuit device
- magnetic material
- film
- magnetic circuit
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3143—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding
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- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は例えば磁気ヘツドなどの磁気回路装置、特に
その磁束もれの抑制に関するものである。
その磁束もれの抑制に関するものである。
〔従来の技術〕 第３図は例えば特願昭60−99912号明細書に示された
先行技術の磁気回路装置（ここでは磁気ヘツド）の断面
図であり、第４図はその磁束の流れを示す図である。
先行技術の磁気回路装置（ここでは磁気ヘツド）の断面
図であり、第４図はその磁束の流れを示す図である。
図において、（１）はフエライト等からなる補助磁
極、（２）はコイル、（３）はCo−Zr−Nb系アモルフア
ス合金等からなる主磁極膜、（４）は主磁極膜（３）の
被着されるフエライト等からなる磁性基板、（５）は補
助磁極（１）の先端部に設けられた磁束集中防止部であ
り、非磁性材及び低透磁率材の少なくとも一方で形成さ
れており、不必要な信号の記録再生を防止している。
（６）はCoCr等からなる垂直磁化層、（７）はパーマロ
イ等からなる高透磁率層で、両者で二層媒体を形成して
いる。（８）はガラス等からなる非磁性材である。
極、（２）はコイル、（３）はCo−Zr−Nb系アモルフア
ス合金等からなる主磁極膜、（４）は主磁極膜（３）の
被着されるフエライト等からなる磁性基板、（５）は補
助磁極（１）の先端部に設けられた磁束集中防止部であ
り、非磁性材及び低透磁率材の少なくとも一方で形成さ
れており、不必要な信号の記録再生を防止している。
（６）はCoCr等からなる垂直磁化層、（７）はパーマロ
イ等からなる高透磁率層で、両者で二層媒体を形成して
いる。（８）はガラス等からなる非磁性材である。
なお、第４図の矢印は磁束の流れの向きを示してい
る。
る。
次に動作について説明する。信号記録時には、コイル
（２）に信号電流が流れ、それに対応した磁束が生じ
る。この磁束は、補助磁極（１）、磁性基板（４）、主
磁極膜（３）、垂直磁化層（６）および高透磁率層
（７）からなる磁気回路を流れ、主磁極膜（３）の先端
で垂直磁化層（６）を磁化し、信号が記録される。ま
た、信号再生時には、垂直磁化層（６）の記録磁気のも
れ磁束を補助磁極膜（１）が吸い上げて、磁気回路に磁
束を生じさせ、この磁束の変化に対応した信号電流がコ
イル（２）に流れる。なお、高透磁率層（７）は主磁極
膜（３）の先端に磁束が集中しやすいように垂直磁化層
（６）を裏打ちするものである。
（２）に信号電流が流れ、それに対応した磁束が生じ
る。この磁束は、補助磁極（１）、磁性基板（４）、主
磁極膜（３）、垂直磁化層（６）および高透磁率層
（７）からなる磁気回路を流れ、主磁極膜（３）の先端
で垂直磁化層（６）を磁化し、信号が記録される。ま
た、信号再生時には、垂直磁化層（６）の記録磁気のも
れ磁束を補助磁極膜（１）が吸い上げて、磁気回路に磁
束を生じさせ、この磁束の変化に対応した信号電流がコ
イル（２）に流れる。なお、高透磁率層（７）は主磁極
膜（３）の先端に磁束が集中しやすいように垂直磁化層
（６）を裏打ちするものである。
従来の磁気回路装置は、例えば上述の磁気ヘツドにお
いて示されるように構成されているので、第４図に示さ
れるように補助磁極（１）や主磁極膜（３）を流れる磁
束が途中で漏れる（磁束Ａ）。したがつて、従来の磁気
回路装置には、磁気回路としての効率が低下するという
問題点があつた。
いて示されるように構成されているので、第４図に示さ
れるように補助磁極（１）や主磁極膜（３）を流れる磁
束が途中で漏れる（磁束Ａ）。したがつて、従来の磁気
回路装置には、磁気回路としての効率が低下するという
問題点があつた。
この発明は上記のような問題点を解決するためになさ
れたもので、磁束のもれが抑制された効率のよい磁気回
路装置を得ることを目的とする。
れたもので、磁束のもれが抑制された効率のよい磁気回
路装置を得ることを目的とする。
この発明に係る磁気回路装置は磁性材と、この表面上
に形成されこの表面に沿って張力または圧縮力が働く被
覆材とからなるようにしたものである。
に形成されこの表面に沿って張力または圧縮力が働く被
覆材とからなるようにしたものである。
またこの磁気回路装置の製造方法は、磁性材の表面上
にこの磁性材の磁歪定数が正の場合にはこの磁性材より
熱膨張係数の小さい被覆材を、また磁性材の磁歪定数が
負の場合にはこの磁性材より熱膨張率の大きな被覆材
を、使用温度より高温で形成するようにしたものであ
る。
にこの磁性材の磁歪定数が正の場合にはこの磁性材より
熱膨張係数の小さい被覆材を、また磁性材の磁歪定数が
負の場合にはこの磁性材より熱膨張率の大きな被覆材
を、使用温度より高温で形成するようにしたものであ
る。
この発明においては、磁気回路装置の表面層に磁気異
方性が生じ、しかもその磁気異方性は表面層に平行な面
内に誘導される。したがつて、磁気回路装置に磁束が流
れた場合に、この磁気異方性のために磁束は表面層に平
行な方向には流れやすくなるが、表面層に垂直方向には
流れにくくなる。
方性が生じ、しかもその磁気異方性は表面層に平行な面
内に誘導される。したがつて、磁気回路装置に磁束が流
れた場合に、この磁気異方性のために磁束は表面層に平
行な方向には流れやすくなるが、表面層に垂直方向には
流れにくくなる。
また被覆材を高温で形成し、常温で使用するので、使
用温度において磁性材の表面に張力または圧縮力が働
く。
用温度において磁性材の表面に張力または圧縮力が働
く。
第１図はこの発明の一実施例の磁気回路装置を示す断
面図である。ここでは、磁気回路装置は磁気ヘツドの場
合である。図において、（１）〜（８）は第３図と同様
のものである。なお、補助磁極（１）および磁性基板
（４）はフエライトよりなる。（９）は補助磁極（１）
および磁性基板（４）の表面に高温下でスパツタ法によ
り形成されたSiO2膜である。
面図である。ここでは、磁気回路装置は磁気ヘツドの場
合である。図において、（１）〜（８）は第３図と同様
のものである。なお、補助磁極（１）および磁性基板
（４）はフエライトよりなる。（９）は補助磁極（１）
および磁性基板（４）の表面に高温下でスパツタ法によ
り形成されたSiO2膜である。
このように構成された磁気ヘツドでは、SiO2膜（９）
は高温下で形成されたので、補助磁極およよび磁性基板
（４）と、SiO2膜（９）との熱膨張係数の違いによりSi
O2膜（９）近傍の補助磁極（１）および磁性基板（４）
はSiO2膜（９）による張力を受ける。したがつて、逆磁
歪効果によりSiO2膜（９）面に平行な面内に磁気異方性
が誘導される。この磁気ヘツドに磁束が流れた場合に、
この極気異方性のために磁束はSiO2膜（９）面に平行な
方向には流れやすくなるが、SiO2膜（９）面に垂直方向
には流れにくくなり、その結果磁束は磁気回路からもれ
にくなる。
は高温下で形成されたので、補助磁極およよび磁性基板
（４）と、SiO2膜（９）との熱膨張係数の違いによりSi
O2膜（９）近傍の補助磁極（１）および磁性基板（４）
はSiO2膜（９）による張力を受ける。したがつて、逆磁
歪効果によりSiO2膜（９）面に平行な面内に磁気異方性
が誘導される。この磁気ヘツドに磁束が流れた場合に、
この極気異方性のために磁束はSiO2膜（９）面に平行な
方向には流れやすくなるが、SiO2膜（９）面に垂直方向
には流れにくくなり、その結果磁束は磁気回路からもれ
にくなる。
この実施例の磁気ヘツドでは、フエライトの熱膨張係
数がSiO2より大きく、かつフエライトの磁歪定数が正で
あるので、上述のような効果が生じる。したがつて、こ
のような条件を満たすものであれば、SiO2膜でなくて
も、例えばタンタルオキサイド（Ta2O5）のようなもの
でもよい。
数がSiO2より大きく、かつフエライトの磁歪定数が正で
あるので、上述のような効果が生じる。したがつて、こ
のような条件を満たすものであれば、SiO2膜でなくて
も、例えばタンタルオキサイド（Ta2O5）のようなもの
でもよい。
逆に、補助磁極および磁性基板の磁歪定数が負の場合
には補助磁極および磁性基板より熱膨張係数の大きい材
料を補助磁極等の表面にモールドする。この場合、熱膨
張係数の違いにより、補助磁極等はモールド材料との界
面に平行に圧縮力を受け、補助磁極等の磁歪定数が負な
ので補助磁極等にはモールド材料との界面に平行に磁気
異方性が誘導され、補助磁極等からは磁束がもれにくく
なる。
には補助磁極および磁性基板より熱膨張係数の大きい材
料を補助磁極等の表面にモールドする。この場合、熱膨
張係数の違いにより、補助磁極等はモールド材料との界
面に平行に圧縮力を受け、補助磁極等の磁歪定数が負な
ので補助磁極等にはモールド材料との界面に平行に磁気
異方性が誘導され、補助磁極等からは磁束がもれにくく
なる。
このように、補助磁極等の磁性材の磁歪定数の正負に
応じて、磁性材の表面層に逆磁歪効果による磁気異方性
を生じさせることにより、磁性材からの磁束のもれ例え
ば第４図の磁束Ａを抑制でき、ひいては例えば上記実施
例のように磁気ヘツドの場合には磁気ヘツドの記録再生
効率を向上させることができる。さらに、SiO2膜やモー
ルド材料は補助磁極等を保護するという効果も生じさせ
る。つまり、補助磁極等の耐食性を向上させる。
応じて、磁性材の表面層に逆磁歪効果による磁気異方性
を生じさせることにより、磁性材からの磁束のもれ例え
ば第４図の磁束Ａを抑制でき、ひいては例えば上記実施
例のように磁気ヘツドの場合には磁気ヘツドの記録再生
効率を向上させることができる。さらに、SiO2膜やモー
ルド材料は補助磁極等を保護するという効果も生じさせ
る。つまり、補助磁極等の耐食性を向上させる。
なお、上記実施例では垂直ヘツドにこの発明を適用し
たが、バルクリングヘツドや薄膜ヘツドにも適用でき
る。
たが、バルクリングヘツドや薄膜ヘツドにも適用でき
る。
第２図はこの発明の他の実施例の磁気回路装置を示す
断面図である。
断面図である。
この実施例はバルクリングヘツドに本発明を適用した
ものである。図において、（10）および（11）はコア部
材、（12）はコイル、（13）はギヤツプ材、（14）は溶
着材、（15）は巻線窓、（16）は非磁性膜である。な
お、非磁性膜（16）は高温下で形成されたものである。
また、コア部材（11）の磁歪定数が正の場合には、非磁
性膜（16）はコア部材（11）より熱膨張係数の小さい材
料からなり、コア部材（11）の磁歪定数が負の場合に
は、非磁性膜（16）はコア部材（11）より熱膨張係数の
大きい材料からなる。このように構成された磁気回路装
置においても、上述の垂直ヘツドの実施例と同様の効果
を生ずる。すなわち磁束もれの抑制された磁気回路装置
を得ることができる。
ものである。図において、（10）および（11）はコア部
材、（12）はコイル、（13）はギヤツプ材、（14）は溶
着材、（15）は巻線窓、（16）は非磁性膜である。な
お、非磁性膜（16）は高温下で形成されたものである。
また、コア部材（11）の磁歪定数が正の場合には、非磁
性膜（16）はコア部材（11）より熱膨張係数の小さい材
料からなり、コア部材（11）の磁歪定数が負の場合に
は、非磁性膜（16）はコア部材（11）より熱膨張係数の
大きい材料からなる。このように構成された磁気回路装
置においても、上述の垂直ヘツドの実施例と同様の効果
を生ずる。すなわち磁束もれの抑制された磁気回路装置
を得ることができる。
なお、以上の実施例においては、いずれも磁気ヘツド
にこの発明を適用した場合を示したが、磁性材に磁束を
流す構成をもつ磁気回路装置一般に適用できるものであ
る。
にこの発明を適用した場合を示したが、磁性材に磁束を
流す構成をもつ磁気回路装置一般に適用できるものであ
る。
この発明に係る磁気回路装置は以上説明したとおり、
表面層に磁気異方性をもたせた磁性材からなるので、磁
気回路からの磁束のもれを抑制することができる。
表面層に磁気異方性をもたせた磁性材からなるので、磁
気回路からの磁束のもれを抑制することができる。
また磁性材の表面に被覆材を高温で形成し、常温で使
用するようにしたので、使用温度において磁性材の表面
に張力または圧縮力が働き、磁性材表面に磁気異方性を
もたせることができる。
用するようにしたので、使用温度において磁性材の表面
に張力または圧縮力が働き、磁性材表面に磁気異方性を
もたせることができる。
第１図はこの発明の一実施例の磁気回路装置を示す断面
図、第２図はこの発明の他の実施例の磁気回路装置を示
す断面図、第３図は従来の磁気回路装置を示す断面図、
第４図はその磁束の流れを示す図である。 図において、（１）は補助磁極、（２）はコイル、
（３）は主磁極膜、（４）は磁性基板、（９）はSiO
2膜、（10）および（11）はコア部材、（12）はコイ
ル、（13）はギヤツプ材、（16）は非磁性膜である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
図、第２図はこの発明の他の実施例の磁気回路装置を示
す断面図、第３図は従来の磁気回路装置を示す断面図、
第４図はその磁束の流れを示す図である。 図において、（１）は補助磁極、（２）はコイル、
（３）は主磁極膜、（４）は磁性基板、（９）はSiO
2膜、（10）および（11）はコア部材、（12）はコイ
ル、（13）はギヤツプ材、（16）は非磁性膜である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｆ 3/00
Claims (2)
- 【請求項１】磁性材と、上記磁性材表面上に被覆され上
記磁性材にその表面に沿って張力または圧縮力が働く被
覆材とで形成され、上記磁性材からの磁束もれの抑制を
することを特徴とする磁気回路装置。 - 【請求項２】磁性材の表面上に上記磁性材の磁歪定数が
正の場合にはこの磁性材より熱膨張係数の小さい被覆材
を、また上記磁性材の磁歪定数が負の場合にはこの磁性
材より熱膨張係数の大きな被覆材を、使用温度より高温
で形成することを特徴とする磁気回路装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61300356A JPH0827895B2 (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | 磁気回路装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61300356A JPH0827895B2 (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | 磁気回路装置およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63152005A JPS63152005A (ja) | 1988-06-24 |
| JPH0827895B2 true JPH0827895B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=17883798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61300356A Expired - Fee Related JPH0827895B2 (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | 磁気回路装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0827895B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5678651B2 (ja) * | 2010-12-24 | 2015-03-04 | Tdk株式会社 | フェライトコアおよび電子部品 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5167718U (ja) * | 1974-11-25 | 1976-05-28 |
-
1986
- 1986-12-16 JP JP61300356A patent/JPH0827895B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63152005A (ja) | 1988-06-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |