JPH08254441A - 光学式エンコーダ - Google Patents
光学式エンコーダInfo
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- JPH08254441A JPH08254441A JP5864095A JP5864095A JPH08254441A JP H08254441 A JPH08254441 A JP H08254441A JP 5864095 A JP5864095 A JP 5864095A JP 5864095 A JP5864095 A JP 5864095A JP H08254441 A JPH08254441 A JP H08254441A
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Abstract
する。 【構成】光学式エンコーダは、面発光レーザ1と、その
射出光を受けるように配置された受光素子3と、それら
の間にx方向に移動可能に配置されたスケール2から構
成されている。スケール2は透明基板7を有し、透明基
板7の受光素子3側の面には、等しい幅の遮光部5が等
間隔で設けられている。また、透明基板7の面発光レー
ザ側の面には、反射防止膜6が形成されている。受光素
子3の受光領域4の表面には遮光膜51が形成されてお
り、遮光膜51には一つの開口部が設けられている。遮
光膜51の表面には反射防止膜52が形成されている。
開口部の幅をωpd、受光素子面上に生成される明暗パタ
ーンの周期をPb 、遮光部5のピッチをPs 、スケール
面上におけるビーム径をWs とすると、ωpd<Pb 、か
つ、Ws >Ps の関係を満たしている。
Description
を検出する用途に適用される光学式エンコーダに関す
る。
従来例として、二つのスリット(またはスケール)を使
用したエンコーダ(日経メカニカル、1988.7.2
5、p.54)がある。その構成を図18に示す。
ら出射した光はレンズ13により平行ビームに整形さ
れ、固定スケール22、移動スケール2を透過し、受光
素子3(本明細書では受光素子は光検出器と同義語とみ
なす)により透過光の強度が検出される。スケールが移
動スケール2だけの場合には、図18(B)に示すよう
に、変位xに対して受光素子出力はスケールのピッチと
同じ周期で僅かな出力変化が得られるのみであるが、こ
の従来例の様に、スケールを固定スケール22と移動ス
ケール2の二つで構成した場合には、移動スケール2が
固定スケール22に対して移動したとき、二つのスケー
ルの重なりの変化により、図18(C)に示すように、
三角波または(二つのスケールの向きが僅かに傾いてい
るときは)正弦波に近い形状で受光素子3の出力が変化
し、信号の強度変化も大きなものとなる。従って、二つ
のスリットを用いることにより出力信号は、信号対雑音
比(S/N)が大きく、さらに、出力信号の波形に応じ
てこれを変位に対して分割することが可能となり、スケ
ールのピッチの1/2より細かい移動スケールの変位を
検出することができる。
ズや固定スリット、光源、移動スリットを非常に高い精
度で空間的に配置して組み立てる必要があるため、エン
コーダの組立が難しく、エンコーダ全体のサイズが大き
く、また製造コストが高いものとならざるを得ない。
656号において、垂直共振器型面発光レーザ(面発光
レーザまたは面発光半導体レーザとも記載する)を用い
たエンコーダを提案している。その構成を図19に示
す。
1から出射したレーザビームがこれに対して相対移動す
るスケール2に照射され、このスケールからの反射光ま
たは透過光が光検出器3または光検出器3′に入射し、
強度検出される。
がスケールのピッチに比べて非常に小さい場合には、ス
ケール2の変位Δxに対して図19(B)のような受光
素子出力信号が得られ、スケール面上におけるレーザビ
ームの直径がスケールのピッチの1/2程度の場合に
は、スケールの変位Δxに対して図19(C)のような
受光素子出力信号が得られる。図19(C)のような三
角波または正弦波に近い形状の信号が得られるのは、面
発光レーザ1の場合はレーザ光の放射角が非常に小さい
ため、図18(A)の従来例のようにレンズおよび固定
スリットを使用しなくても、レーザ光の照射領域が小さ
く限定されるためである。
ーダは、面発光レーザの細くて鋭いビームを利用するた
め、レンズや固定スリットを必要としない。これによ
り、小型で高分解能なエンコーダが低コストで得られ
る。
ール面上におけるレーザビームの直径がスケールのピッ
チに比べて非常に小さい場合には、スケールの変位に対
して受光素子出力信号が矩形波に近い形状となり、スケ
ールのピッチの1/2より小さな変位を検出することが
難しい。また、スケール面上におけるレーザビームの直
径がスケールのピッチより大きい場合には、スケールの
変位に対して受光素子出力信号の強弱が極端に小さくな
るため、変位を検出することが難しい。このような場合
には、面発光レーザを用いても、面発光レーザとスケー
ルの間にレンズを配置し、レーザビームのスケール上に
おけるビーム直径をスケールのピッチの1倍〜1/2倍
程度にする必要がある。
必要としない、シンプルな構成で組立が簡単な光学式エ
ンコーダであって、しかも、スケール面上における光ビ
ームの径に対するスケールのピッチが小さくともスケー
ルの変位を精度良く検出できる光学式エンコーダを提供
することである。すなわち、小型で安価で高精度な光学
式エンコーダを提供することである。
に対して相対的に移動し、光の反射率または透過率が周
期的に変化するように形成されたスケールと、このスケ
ールの一部を照射する面発光半導体レーザ光源と前記ス
ケールからの反射光、透過光または回折光を受光するた
めの受光素子を有する光学式エンコーダにおいて、受光
素子の受光領域または受光窓のスケール移動方向の寸法
をωpd、面発光半導体レーザ光源からスケールに照射さ
れた光ビームの反射光、透過光または回折光による受光
素子の受光面上における明暗パターンのスケール移動方
向の周期をPb 、前記スケールの反射率または透過率を
変調させたスケール移動方向のピッチをPs 、スケール
面上において光ビーム強度がピーク値の1/2になるス
ケール移動方向のビーム径をWs とすると、 ωpd<Pb かつ Ws >Ps の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
移動し、光の反射率または透過率が周期的に変化するよ
うに形成されたスケールと、このスケールの一部を照射
する面発光半導体レーザ光源と前記スケールからの反射
光、透過光または回折光を受光するための受光素子を有
する光学式エンコーダにおいて、受光素子の受光領域ま
たは受光窓が面発光半導体レーザ光源からスケールに照
射された光ビームの反射光、透過光または回折光による
受光素子の受光面上における明暗パターンとスケール移
動方向に対して同じ間隔で複数形成され、前記受光領域
または受光窓のスケール移動方向の寸法をωpd、前記受
光面上における明暗パターンのスケール移動方向の周期
をPb 、前記スケールの反射率または透過率を変調させ
たスケール移動方向のピッチをPs 、スケール面上にお
いて光ビーム強度がピーク値の1/2になるスケール移
動方向のビーム径をWs とすると、 ωpd<Pb かつ Ws >Ps の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
移動し、光の反射率または透過率が周期的に変化するよ
うに形成されたスケールと、このスケールの一部を照射
する面発光半導体レーザ光源と前記スケールからの回折
光を受光するための受光素子を有する光学式エンコーダ
で、前記受光領域または受光窓のスケール移動方向の寸
法をωpd、前記レーザ光源からスケールに照射された光
ビームの回折光による受光素子の受光面上における明暗
パターンの光強度が最大ピークの1/2となるスケール
移動方向の幅をωbとし、前記スケールの反射率または
透過率を変調させたスケール移動方向のピッチをPs 、
スケール面上において光ビーム強度がピーク値の1/2
になるスケール移動方向のビーム径をWs とすると、 ωpd≦ωb かつ Ws ≧2Ps の関係を満たす光学式エンコーダにおいて、受光素子が
スケールの透過・回折光を受光する場合はスケールの1
ピッチあたりの透過部分のスケール移動方向の寸法をω
o 、また、受光素子がスケールの反射・回折光を受光す
る場合はスケールの1ピッチあたりの反射部分のスケー
ル移動方向の寸法をωo 、スケールを形成した面と受光
素子の受光面または遮光面の間の距離をL、レーザ光の
波長をλとしたとき、 L>Ps ωo /λ の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
ザからの出射ビームは非常にビーム放射角が小さいので
ほぼ平行ビームでかつほぼ平面波であるとみなすことが
できる。以下、代表的な場合として、スケールに照射さ
れた光が透過して受光素子で検出される場合について説
明する。スケール面上においてビーム直径Ws がWs >
Ps の関係を満たすことにより、スケール上において光
ビームはスケールの1ピッチより大きなビーム径をも
つ。また、ωpd<Pb なる関係があるため、受光素子は
主として1ピッチ分の透過光を受光する。今、スケール
が移動方向に変位したとすると、スケールを通過した光
ビームもこの方向に動くので、受光素子からの出力が、
変位に対して、周期Ps で三角波状または擬似的な正弦
波状に変化することを利用してスケールの変位を検出す
ることができる。
レーザからの出射ビームは非常にビーム放射角が小さい
のでほぼ平行ビームでかつほぼ平面波であるとみなすこ
とができる。以下、代表的な場合として、スケールに照
射された光が透過して受光素子で検出される場合につい
て説明する。スケール面上においてビーム直径Ws がW
s >Ps の関係を満たすことにより、スケール上におい
て光ビームはスケールの1ピッチより大きなビーム径を
もつ。また、ωpd<Pb なる関係があるため、受光素子
のひとつの受光窓または受光領域は主として1ピッチ分
の透過光を受光する。今、スケールが移動方向に変位し
たとすると、スケールを通過した複数のビームもこの方
向に動くので、受光素子からの出力が、スケール変位に
対して、周期Ps で三角波状または擬似的な正弦波状に
変化することを利用してスケールの変位を検出すること
ができる。
レーザからの出射ビームは非常にビーム放射角が小さい
のでほぼ平行ビームでかつほぼ平面波であるとみなすこ
とができる。以下、代表的な場合として、スケールに照
射された光が透過して、さらに、回折することにより受
光素子で検出される場合について説明する(反射して、
回折する場合も同様)。スケール面上においてビーム直
径Ws がWs ≧2Psの関係を満たすことにより、スケ
ール上において光ビームはスケールの2ピッチ以上のビ
ーム径をもつ。従って、受光素子にはスケールを通過し
た光が複数のビームになって照射されるが、ωpd<ωb
なる関係があるため、受光素子は特定の次数の回折光を
受光する。今、スケールが移動方向に変位したとする
と、スケールからの回折光もこの方向に同じ変位量だけ
動くので、受光素子からの出力が、変位に対して周期P
s で三角波状または擬似的な正弦波状に変化することを
利用してスケールの変位を検出することができる。
に基づいて説明する。 (第一実施例)第一実施例の光学式エンコーダについて
図1ないし図6を参照しながら説明する。本実施例の光
学式エンコーダの構成を図1に示す。
面発光半導体レーザ光源(以下、単に面発光レーザと呼
ぶ)1と、その射出光を受けるように配置された受光素
子3と、それらの間にx方向に移動可能に配置されたス
ケール2から構成されている。スケール2は透明基板7
を有し、透明基板7の受光素子3側の面には、図2に示
すように、等しい幅の遮光部5が等間隔で設けられてい
る。また、透明基板7の面発光レーザ側の面には、図1
に示すように、反射防止膜6が形成されている。受光素
子3の受光領域4の表面には遮光膜51が形成されてお
り、遮光膜51には一つの開口部が設けられている。遮
光膜51の表面には反射防止膜52が形成されている。
ケール2に入射し、遮光部5の隙間からなる透過窓を透
過した光が受光素子3に照射し、遮光膜51に設けた開
口部を通過した光が受光領域4に入射する。反射防止膜
6はスケール2からの反射光が面発光レーザ1に戻るの
を防止し、同様に反射防止膜52は受光素子3からの反
射光が面発光レーザ1に戻るのを防止しており、これに
より面発光レーザの安定な動作を確保している。
いについて説明する。面発光レーザからの出射光はビー
ム拡がり角が非常に小さく、ほぼ平面波でかつ平行ビー
ムであると見なすことができる。
動方向をx軸、ビームの射出方向をy軸にとり、スケー
ル2の透過窓の移動方向の寸法すなわち遮光部5の間隔
をωo 、遮光部5のピッチをPs 、スケール2から受光
素子3までの距離をL、光の波長をλ、一つの透過窓か
ら受光素子に向かう光ビームの受光素子面におけるスケ
ール移動方向(x軸方向)のビーム幅をωb とする。ま
ず、一つの透過窓を透過した光について考える。一つの
透過窓から受光素子に向かう光ビームは図4に示すよう
に広がり、そのビーム径は、
て1/2以上のビームの差し渡し寸法を意味する。
子面でのパターンについて考える。スケール2の透過窓
を通過した光ビームは図5に示すように広がるため、光
ビームの重なりや干渉を考慮する必要がある。
の距離Lが、領域I:L<ωo 2 /λにある場合と、領
域II:Ps ωo /λ>L≧ωo 2 /λにある場合と、
領域III:L>Ps ωo /λにある場合とに分けて考
える。
<ωo 2 /λの場合、スケール2と受光素子3は非常に
近くにあり、複数のビームは互いに干渉しない。従っ
て、受光素子面上に現れるパターンは、(2)式で表さ
れる径を持つビームの重ね合わせとなり、図6(D)に
示すようになる。
Ps ωo /λ>L≧ωo 2 /λの場合、複数のビームの
互いの干渉は小さく、ほとんど無視できる。従って、受
光素子面上に現れるパターンは、(1)式で表される径
を持つビームの重ね合わせとなり、図6(C)に示すよ
うになる。図中、破線は重ね合わせ前の各ビームの強度
分布を示しており、実線はビームを重ね合わせた光の実
際に観測される強度分布を示している。このため、L=
Ps ωo /λの付近では、実際に観測される光の強度分
布は図6(B)に示すようなほぼ平坦なものになる。こ
の領域では複数のビームの互いの干渉は小さいが、完全
に無視できるものではない。
わちL>Ps ωo /λの場合、スケール2の複数の透過
窓から射出した光ビームが互いに干渉するため、実際に
観測されるビームの強度分布は、図6(A)に示すよう
になる。図6(A)において、最大ピークのx方向の間
隔Δxdiffと、このピークの半値全幅ω'b、およそ以下
の式で表せる。
ームの有効領域(ほぼスケール上のビーム径と考えてよ
い)内にある透過窓(遮光部5の隙間)の数である。こ
れはピッチの数にほぼ一致する。
光ビームの幅は、単に透過や反射によるビーム径ωb を
考える場合と、干渉パターンのピークの半値全幅ω'bを
考える場合があるが、特に断らない限り、これらをとも
にビーム径ωb として扱う。
光素子3までの距離が領域Iないし領域IIIのいずれ
に属するかにより、受光素子面上には異なる明暗のパタ
ーンが生成される。いずれのパターンにおいても、スケ
ール2がx軸方向に移動すると、受光素子面に生成され
る明暗パターンが同じ方向に同じ速度で移動するため、
受光素子3の出力は、図3に示すように、正弦波形に似
た周期的波形となり、この出力波形を調べることによ
り、スケール2の移動量が求められる。
領域Iないし領域IIIのいずれにあるかで、図1内の
諸寸法同士の関係が異なるので、これについて以下に説
明する。
らの射出光同士は干渉しないので、スケール上でのビー
ムは、スケールの1ピッチ以上をカバーしていればよ
い。すなわち、スケール面上における光ビーム照射領域
のx軸方向のビーム径をWs とし、Ws >Ps である。
また、受光素子3の幅ωpdの開口部で、明暗パターンを
検出するためには、その周期をPb とし、ωpd<Pb で
あることが必要である。
ンを利用しているわけではないので、領域Iと同様に、
スケール上でのビームは、スケールの1ピッチ以上をカ
バーしていればよい。すなわち、スケール面上における
光ビーム照射領域のスケール移動方向(x軸方向)のビ
ーム径(光ビームの強度がピーク値の1/2になるx軸
方向の寸法)をWs とし、Ws >Ps である。また、明
暗パターンを検出するためには、その周期をPb とし、
ωpd<Pb であることが必要である。
ーンを利用しているため、スケール2からは二本以上の
ビームが射出される必要がある。すなわち、スケール面
上における光ビーム照射領域のx軸方向のビーム径をW
s とし、Ws ≧2Ps である。また、明暗パターンを検
出するためには、干渉パターンのピークの半値幅をωb
とするとき、ωpd≦ωb であることが必要である。
は、スケール2と受光素子3の間隔Lに応じて三つの場
合に分けられ、それぞれ一定の条件を満たすように各部
の寸法を決めれば、スケール2の変位を検出することが
できる。
ケールを必要とせず、ビーム径がスケールピッチに対し
て大きい場合にも、スケールピッチによって決まる分解
能を持ち、センサ構成や組み立てがシンプルで、小型、
低コスト高精度な光学式エンコーダが得られる。
方法は、図1に示すように受光素子の受光面に開口部を
設ける方法に限定されるものではなく、受光面を所定の
大きさにする方法、あるいはCCD等の光位置検出機能
を有するものでもよい。
(A)のような干渉パターンによる測定を行なう場合
は、スケール5を照射する光はコヒーレントな平面波を
有するレーザ光であればよいから、光源は面発光レーザ
だけではなく、通常使用されている端面出射型の半導体
レーザとコリメータレンズの組み合わせなどを用いるこ
とができる。
ーダについて図7を参照しながら説明する。図7に示す
ように、本実施例の光学式エンコーダは、第一実施例の
光学式エンコーダに類似しており、唯一、受光領域4の
表面の遮光膜51に、幅ωpdの開口部が複数個、(第一
実施例では一個だが)、等間隔で設けられている点で異
なっている。複数の開口部のピッチPpdは、受光素子面
に生成される明暗パターンの周期Pb に一致している。
は、すべて第一実施例と同じであり、その説明はここで
は省略する。本実施例によれば、第一実施例と同様な効
果が得られるうえ、受光部を複数個設けたことにより第
一実施例に比べて高出力を得ることができる。
方法は、図7に示すように受光素子の受光面に遮光窓を
設ける方法に限定されるものではなく、受光面を所定の
大きさに分割する方法、あるいはCCD等の光位置検出
機能を有するものでもよい。
ーダについて図8を参照しながら説明する。図8に示す
ように、本実施例の光学式エンコーダは、第二実施例の
光学式エンコーダに類似しているが、次に述べる二点で
異なっている。第一に、スケール2と受光素子3がx軸
を中心に回転した状態すなわち面発光レーザ1の射出光
に対して傾いた状態で配置されている。第二に、スケー
ル2と受光素子3に反射防止膜が設けられていない。
面発光レーザ1の射出光に対して傾けて配置されている
ため、スケール2と受光素子3からの反射光は面発光レ
ーザ1に戻らない。このような理由により本実施例では
スケール2と受光素子3の反射防止膜が省略されてい
る。
反射防止膜がなくても、面発光レーザの安定な動作が達
成される。本実施例の動作原理、各寸法間の関係等は、
第二実施例と全く同じであり、その説明はここでは省略
する。
照しながら説明する。本変形例は、本実施例の透過型の
光学式エンコーダを、反射型に変形したものである。図
9に示すように、スケール2は面発光レーザ1の射出光
に対して傾けて配置され、スケール2の透明基板7に
は、透過型におけるスケールの遮光部に代わる、等しい
幅の複数の反射部5' が等間隔で設けられている。スケ
ール2による反射方向には、受光素子3が垂直に配置さ
れている。受光素子3は、第二実施例と同じもの、すな
わち、遮光膜51に複数の開口部が形成され、遮光膜5
1の表面に反射防止膜52が形成されたものである。面
発光レーザ1と受光素子3はベースに固定されている。
面発光レーザ1に戻らないので、スケール2には反射防
止膜が省略されているが、受光素子3により反射光は面
発光レーザ1に戻るので、受光素子3には反射防止膜5
2が設けられている。受光素子3をスケール2からの反
射光の光軸に対して傾けて配置し、受光素子3による反
射光が面発光レーザ1に戻らないようにすれば、反射防
止膜は省略してもよい。
を傾けた場合には加えて受光素子3にも)反射防止膜が
なくても、面発光レーザの安定な動作が達成される。本
変形例も、その動作原理、各寸法間の関係等は、第二実
施例と全く同じである。
ーダについて図10を参照しながら説明する。図10に
示すように、本実施例の光学式エンコーダは、第三実施
例(図8)の構成において、スケール2と受光素子3を
面発光レーザ1の射出光に垂直な状態からx軸を中心に
回転させて傾斜させる代わりに、z軸を中心に回転させ
て傾斜させた構成となっている。このため、スケール2
はx軸を斜めに横切る方向に移動する。
ール2と受光素子3に反射防止膜がなくても、面発光レ
ーザの安定な動作が達成される。本実施例の動作原理、
各寸法間の関係等は、第三実施例(すなわち第二実施
例)と全く同じである。
参照しながら説明する。本変形例は、本実施例の透過型
の光学式エンコーダを、反射型に変形したものである。
図11に示すように、第三実施例の変形例(図9)構成
において、スケール2を面発光レーザ1の射出光に垂直
な状態からx軸を中心に回転させて傾斜させる代わり
に、z軸を中心に回転させて傾斜させた構成となってい
る。また、受光素子3は、スケール2からの反射光が垂
直に入射するように配置されている。
に、スケール2に反射防止膜がなくても、面発光レーザ
の安定な動作が達成される。本実施例の動作原理、各寸
法間の関係等は、第三実施例の変形例(すなわち第二実
施例)と全く同じである。受光素子3上に反射防止膜を
省略するための配置についても第三実施例の変形例と同
じである。
ーダについて図12を参照しながら説明する。本実施例
では、受光素子3は、面発光レーザ1の射出光の光軸か
ら外れた位置に配置されている。受光素子3は、第三実
施例のものと同様に、受光領域4を覆う遮光膜51に複
数の開口部が形成されたものである。面発光レーザ1と
受光素子3の間には、入射光の向きを変える回折格子8
を備えたスケール2がx軸方向に移動可能に配置されて
いる。
ス基板7に形成した反射防止膜6の表面に、複数の回折
格子8を等間隔で形成して作製される。このスケール2
は、回折格子8の機能領域の幅をωo 、回折格子8の機
能領域の1ピッチをPs 、スケール面上における光ビー
ム照射領域のスケール移動方向のビーム径をWs とする
と、第一実施例において記した各条件が成立する。
ール2は、ガラス基板7の表面全体に回折格子8' を形
成し、この回折格子8' の表面に等しい幅の遮光部5を
等間隔で形成して作製される。これいより、等しい幅の
複数の回折格子が等間隔で形成されたものと等価にな
り、図14のスケールと同じ機能を果たす。このスケー
ル2でも、図14のスケール2と同様に、第一実施例に
おいて記した各条件が成立する。
射出したレーザ光はスケール2に入射し、回折格子8に
入射した光は回折される。回折格子8は入射光と反対側
の一次回折光の回折強度が最大となるように設計されて
おり、回折光は面発光レーザ1からの射出光に対して対
して斜めになり、受光素子3に向かう。受光素子3に入
射した光は、遮光膜51に設けた開口部を通過した光が
受光領域4に入射する。
折光が射出される以外は、第二実施例と同様であり、図
12に記載した各寸法間の関係等は、基本的に第一実施
例に記したものと同様であり、その説明は省略する。
面発光レーザ1に戻らないので、受光素子3に反射防止
膜がなくても、面発光レーザは安定に動作する。回折に
より光ビームを曲げているので、各光学素子(面発光レ
ーザ1、スケール2、受光素子3)を平行に配置するこ
とができ、第三実施例や第四実施例に比べて、実装が容
易かつ高精度に行える。
参照しながら説明する。本変形例は、本実施例の透過型
の光学式エンコーダを、反射型に変形したものである。
図13に示すように、受光素子3はスケール2に対して
面発光レーザ1と同じ側にあり、これらは半導体基板1
1の上に一体的に形成されている。また、スケール2の
回折格子8は、入射光と同じ側の一次回折光の回折強度
が最大となるように設計されている。
寸法間の関係等は、基本的に第一実施例に記したものと
同様であり、ここでは説明を省略する。本変形例によれ
ば、本実施例と同じ効果が得られるとともに、面発光レ
ーザ1と受光素子3が同一基板上に設けられているの
で、装置全体の構成が小型になり、実装も容易に行なえ
る。
光を利用して測定するものであるから、スケール5を照
射する光はコヒーレントな平面波を有するレーザ光であ
ればよいから、光源は面発光レーザだけではなく、端面
出射型の半導体レーザとコリメータレンズの組み合わせ
などを用いることができる。
の光学式エンコーダは、単にスケールの移動量のみを検
出する機能を有するだけで、移動の向きを判別する機能
は有していない。第六実施例は、前述の実施例の光学式
エンコーダに改良を加えて、スケールの移動の向きを判
別する機能を持たせるものである。
は、移動方向(x軸)に平行な中心線に対して、上側の
遮光部5aと下側の遮光部5bからなっている。上側の
遮光部5aと下側の遮光部5bは、x軸方向に関して同
一の周期構造を持ち、両者の位相はピッチPs の四分の
一ずれている。光ビーム照射領域は、上側の遮光部5a
と下側の遮光部5bの両方を同時に含むように設定され
る。また、受光素子は、上側の受光素子3aと下側の受
光素子3bからなり、上側の受光素子3aはスケール2
の上側部分すなわち遮光部5aの隙間を透過したビーム
を受光し、下側の受光素子3bはスケール2の下側部分
すなわち遮光部5bの隙間を透過したビームを受光す
る。勿論、スケール2と受光素子3aと3bは、第一実
施例に記した条件を満たしている。
部分すなわち遮光部5aの隙間を透過したビームは受光
素子3aの受光面上に、スケール2の下側部分すなわち
遮光部5bの隙間を透過したビームが受光素子3bの受
光面上に生成する明暗パターンに対して、ピッチPs の
四分の一ずれた明暗パターンを生成する。従って、スケ
ール2が面発光レーザに対して移動するとき、上側の受
光素子3aと下側の受光素子3bとからは、互いの位相
が90度ずれた二つの正弦波信号が出力される。この二
つの正弦波信号を比較することで、具体的にはどちらの
正弦波信号の位相が90度進んでいるかを調べること
で、スケール2の移動の向きを判定することができる。
のすべてに適応可能である。また、本実施例では遮光部
5aと遮光部5bのずれ量をピッチPs の四分の一に選
んだが、これはピッチPs の二分の一以外であればいく
つでもよく、いずれの場合にもスケールの移動方向を判
断できる。
を参照しながら説明する。本実施例は、第六実施例と同
様に、第一実施例ないし第五実施例の光学式エンコーダ
に改良を加えて、スケールの移動の向きを判別する機能
を持たせるものである。
受光素子3aと下側の受光素子3bからなり、上側の受
光素子3aの遮光膜51aと下側の受光素子3bの遮光
膜51bは、x軸方向に関して同一の周期構造を持ち、
両者の位相はピッチPpdの四分の一ずれている。光ビー
ム照射領域は、スケール2からの光が二つの受光素子3
に同時に入射するように設定されている。従って、上側
の受光素子3aはスケール2の上側部分を透過したビー
ムを受光し、下側の受光素子3bはスケール2の下側部
分を透過したビームを受光する。勿論、スケール2と受
光素子3aと3bは、第一実施例に記した条件を満たし
ている。
の受光素子3bの遮光膜51bは、その周期構造すなわ
ち開口部の位置がx軸方向にピッチPpdの四分の一ずれ
ているため、上側の受光素子3aと下側の受光素子3b
とからは、互いの位相が90度ずれた二つの正弦波信号
が出力される。この二つの正弦波信号を比較すること
で、具体的にはどちらの正弦波信号の位相が90度進ん
でいるかを調べることで、スケール2の移動の向きを判
定することができる。
のすべてに適応可能である。また、本実施例では遮光膜
51aと遮光膜51bのずれ量をピッチPpdの四分の一
に選んだが、これはピッチPpdの二分の一以外であれば
いくつでもよく、いずれの場合にもスケールの移動の向
きを判断できる。
説明したが、本発明は上述の実施例に何等限定されるも
のでない。本発明は以下の発明を含んでいる。 1.(第一実施例1〜第七実施例に対応する) (構成)光源に対して相対的に移動し、光の反射率また
は透過率が周期的に変化するように形成されたスケール
と、このスケールの一部を照射する面発光半導体レーザ
光源と前記スケールからの反射光、透過光または回折光
を受光するための受光素子を有する光学式エンコーダに
おいて、受光素子の受光領域または受光窓のスケール移
動方向の寸法をωpd、面発光半導体レーザ光源からスケ
ールに照射された光ビームの反射光、透過光または回折
光による受光素子の受光面上における明暗パターンのス
ケール移動方向の周期をPb 、前記スケールの反射率ま
たは透過率を変調させたスケール移動方向のピッチをP
s 、スケール面上において光ビーム強度がピーク値の1
/2になるスケール移動方向のビーム径をWs とする
と、 ωpd<Pb かつ Ws >Ps の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
非常にビーム放射角が小さいのでほぼ平行ビームでかつ
ほぼ平面波であるとみなすことができる。以下、代表的
な場合として、スケールに照射された光が透過して受光
素子で検出される場合について説明する。スケール面上
においてビーム直径Ws がWs >Ps の関係を満たすこ
とにより、スケール上において光ビームはスケールの1
ピッチより大きなビーム径をもつ。また、ωpd<Pb な
る関係があるため、受光素子は主として1ピッチ分の透
過光を受光する。今、スケールが移動方向に変位したと
すると、スケールを通過した光ビームもこの方向に動く
ので、受光素子からの出力が、変位に対して、周期Ps
で三角波状または擬似的な正弦波状に変化することを利
用してスケールの変位を検出することができる。
レンズや固定スケールを必要とせずに、スケール変位に
対して周期Ps の三角波状または擬似的な正弦波状の信
号を得ることができる。同時に、スケール面上における
光ビームの径はスケールのピッチより十分大きくするこ
とができ、スケールピッチがスケール面上における光ビ
ームの径以下に制限されることがないため高分解能なエ
ンコーダが実現できる。
る) (構成)光源に対して相対的に移動し、光の反射率また
は透過率が周期的に変化するように形成されたスケール
と、このスケールの一部を照射する面発光半導体レーザ
光源と前記スケールからの反射光、透過光または回折光
を受光するための受光素子を有する光学式エンコーダに
おいて、受光素子の受光領域または受光窓が面発光半導
体レーザ光源からスケールに照射された光ビームの反射
光、透過光または回折光による受光素子の受光面上にお
ける明暗パターンとスケール移動方向に対して同じ間隔
で複数形成され、前記受光領域または受光窓のスケール
移動方向の寸法をωpd、前記受光面上における明暗パタ
ーンのスケール移動方向の周期をPb 、前記スケールの
反射率または透過率を変調させたスケール移動方向のピ
ッチをPs 、スケール面上において光ビーム強度がピー
ク値の1/2になるスケール移動方向のビーム径をWs
とすると、 ωpd<Pb かつ Ws >Ps の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
非常にビーム放射角が小さいのでほぼ平行ビームでかつ
ほぼ平面波であるとみなすことができる。以下、代表的
な場合として、スケールに照射された光が透過して受光
素子で検出される場合について説明する。スケール面上
においてビーム直径Ws がWs >Ps の関係を満たすこ
とにより、スケール上において光ビームはスケールの1
ピッチより大きなビーム径をもつ。また、ωpd<Pb な
る関係があるため、受光素子のひとつの受光窓または受
光領域は主として1ピッチ分の透過光を受光する。今、
スケールが移動方向に変位したとすると、スケールを通
過した複数のビームもこの方向に動くので、受光素子か
らの出力が、スケール変位に対して、周期Ps で三角波
状または擬似的な正弦波状に変化することを利用してス
ケールの変位を検出することができる。
レンズや固定スケールを必要とせずに、スケール変位に
対して周期Ps の三角波状または擬似的な正弦波状の信
号を得ることができる。同時に、スケール面上における
光ビームの径はスケールのピッチより十分大きくするこ
とができ、スケールピッチがスケール面上における光ビ
ームの径以下に制限されることがないため高分解能なエ
ンコーダが実現できる。この場合、第1項に比べて多く
の受光窓を有し、たくさんの透過光(あるいは反射光、
回折光)を受光するので、より強い出力信号が得られ、
電子回路等による信号処理がより容易になる。
る) (構成)第1項において、受光素子がスケールの透過光
を受光する場合はスケールの1ピッチあたりの透過部分
のスケール移動方向の寸法をωo 、また、受光素子がス
ケールの反射光を受光する場合はスケールの1ピッチあ
たりの反射部分のスケール移動方向の寸法をωo とし、
スケールを形成した面と受光素子の受光面または遮光面
の間の距離をL、レーザ光の波長をλとしたとき、 Ps ωo /λ>L≧ωo 2 /λ の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
2 /λの構成要件を満たすことにより、受光素子面上で
の光強度分布が平坦となることを妨げるので、スケール
変位に対する出力信号の強弱が適正値以上で得られる。
る) (構成)第1項において、受光素子がスケールの透過光
を受光する場合はスケールの1ピッチあたりの透過部分
のスケール移動方向の寸法をωo 、また、受光素子がス
ケールの反射光を受光する場合はスケールの1ピッチあ
たりの反射部分のスケール移動方向の寸法をωo とし、
スケールを形成した面と受光素子の受光面または遮光面
の間の距離をL、レーザ光の波長をλとしたとき、 L<ωo 2 /λ の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
件を満たすことにより、受光素子面上での光強度分布が
複数の光ビームの重ね合わせや干渉の効果に影響され
ず、スケール変位に対する出力信号の強弱が非常に強く
得られる。また、このため、光ビームの重ね合わせによ
るビーム強度の平坦化による出力信号の劣化が殆どない
ので、スケールのピッチを非常に小さく設定できる。
る) (構成)第2項において、受光素子がスケールの透過光
を受光する場合はスケールの1ピッチあたりの透過部分
のスケール移動方向の寸法をωo 、また、受光素子がス
ケールの反射光を受光する場合はスケールの1ピッチあ
たりの反射部分のスケール移動方向の寸法をωo とし、
スケールを形成した面と受光素子の受光面または遮光面
の間の距離をL、レーザ光の波長をλとしたとき、 Ps ωo /λ>L≧ωo 2 /λ の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
光素子の受光領域または受光窓を有し、スケール上の各
々の透過または反射領域からの光ビームを受光領域また
は受光窓で同時に検出する。
上の各々の透過または反射領域からの光ビームを受光領
域または受光窓で同時に検出するので、受光強度が大き
くなり信号処理が容易となる。
る) (構成)第2項において、受光素子がスケールの透過光
を受光する場合はスケールの1ピッチあたりの透過部分
のスケール移動方向の寸法をωo 、また、受光素子がス
ケールの反射光を受光する場合はスケールの1ピッチあ
たりの反射部分のスケール移動方向の寸法をωo とし、
スケールを形成した面と受光素子の受光面または遮光面
の間の距離をL、レーザ光の波長をλとしたとき、 L<ωo 2 /λ の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
光素子の受光領域または受光窓を有し、スケール上の各
々の透過または反射領域からの光ビームを受光領域また
は受光窓で同時に検出する。
上の各々の透過または反射領域からの光ビームを受光領
域または受光窓で同時に検出するので、受光強度が大き
くなり信号処理が容易となる。
る) (構成)光源に対して相対的に移動し、光の反射率また
は透過率が周期的に変化するように形成されたスケール
と、このスケールの一部を照射する面発光半導体レーザ
光源と前記スケールからの回折光を受光するための受光
素子を有する光学式エンコーダで、前記受光領域または
受光窓のスケール移動方向の寸法をωpd、前記レーザ光
源からスケールに照射された光ビームの回折光による受
光素子の受光面上における明暗パターンの光強度が最大
ピークの1/2となるスケール移動方向の幅をωbと
し、前記スケールの反射率または透過率を変調させたス
ケール移動方向のピッチをPs 、スケール面上において
光ビーム強度がピーク値の1/2になるスケール移動方
向のビーム径をWs とすると、 ωpd≦ωb かつ Ws ≧2Ps の関係を満たす光学式エンコーダにおいて、受光素子が
スケールの透過・回折光を受光する場合はスケールの1
ピッチあたりの透過部分のスケール移動方向の寸法をω
o 、また、受光素子がスケールの反射・回折光を受光す
る場合はスケールの1ピッチあたりの反射部分のスケー
ル移動方向の寸法をωo 、スケールを形成した面と受光
素子の受光面または遮光面の間の距離をL、レーザ光の
波長をλとしたとき、 L>Ps ωo /λ の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
非常にビーム放射角が小さいのでほぼ平行ビームでかつ
ほぼ平面波であるとみなすことができる。以下、代表的
な場合として、スケールに照射された光が透過して、さ
らに、回折することにより受光素子で検出される場合に
ついて説明する(反射して、回折する場合も同様)。ス
ケール面上においてビーム直径Ws がWs ≧2Ps の関
係を満たすことにより、スケール上において光ビームは
スケールの2ピッチ以上のビーム径をもつ。従って、受
光素子にはスケールを通過した光が複数のビームになっ
て照射されるが、ωpd≦ωb なる関係があるため、受光
素子は特定の次数の回折光を受光する。今、スケールが
移動方向に変位したとすると、スケールからの回折光も
この方向に同じ変位量だけ動くので、受光素子からの出
力が、変位に対して周期Ps で三角波状または擬似的な
正弦波状に変化することを利用してスケールの変位を検
出することができる。
レンズや固定スケールを必要とせずに、スケール変位に
対して周期Ps の三角波状または擬似的な正弦波状の信
号を得ることができる。同時に、スケール面上における
光ビームの径はスケールのピッチより十分大きくするこ
とができ、スケールピッチがスケール面上における光ビ
ームの径以下に制限されることがないため高分解能なエ
ンコーダが実現できる。さらに、領域Iや領域IIでセ
ンサを使用する場合はLが大きくなると、スケールの変
位に対して受光素子での出力信号の強弱の幅が小さくな
るが、本構成では回折を用いるのでこのような問題はな
い。
る) (構成)光源に対して相対的に移動し、光の反射率また
は透過率が周期的に変化するように形成されたスケール
と、このスケールの一部を照射する面発光半導体レーザ
光源と前記スケールからの回折光を受光するための受光
素子を有する光学式エンコーダで、受光素子の受光領域
または受光窓が面発光半導体レーザ光源からスケールに
照射された光ビームの反射光、透過光または回折光によ
る受光素子の受光面上における明暗パターンとスケール
移動方向に対して同じ間隔で複数形成され、前記受光領
域または受光窓のスケール移動方向の寸法をωpd、前記
レーザ光源からスケールに照射された光ビームの回折光
による受光素子の受光面上における明暗パターンの光強
度が最大ピークの1/2となるスケール移動方向の幅を
ωbとし、前記スケールの反射率または透過率を変調さ
せたスケール移動方向のピッチをPs 、スケール面上に
おいて光ビーム強度がピーク値の1/2になるスケール
移動方向のビーム径をWs とすると、 ωpd≦ωb かつ Ws ≧2Ps の関係を満たす光学式エンコーダにおいて、受光素子が
スケールの透過・回折光を受光する場合はスケールの1
ピッチあたりの透過部分のスケール移動方向の寸法をω
o 、また、受光素子がスケールの反射・回折光を受光す
る場合はスケールの1ピッチあたりの反射部分のスケー
ル移動方向の寸法をωo 、スケールを形成した面と受光
素子の受光面または遮光面の間の距離をL、レーザ光の
波長をλとしたとき、 L>Ps ωo /λ の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
光素子の受光領域または受光窓を有し、異なる次数の回
折光を各々の受光領域または受光窓で同時に検出する。
このとき、異なる次数の回折光は各々特定の回折角で回
折するので、スケールの移動に対して受光面上で各回折
次数の光ピークの位置は互いに同じ変位量だけ移動す
る。
数の回折光を各々の受光領域または受光窓同時に検出す
るので、受光強度が大きくなり信号処理が容易となる。 9.(第一実施例の変形例に対応する) (構成)光源に対して相対的に移動し、光の反射率また
は透過率が周期的に変化するように形成されたスケール
と、このスケールの一部を照射するコリメータレンズと
半導体レーザからなるレーザ光源と前記スケールからの
反射光、透過光または回折光を受光するための受光素子
を有する光学式エンコーダで、受光素子の受光領域また
は受光窓のスケール移動方向の寸法をωpd、半導体レー
ザ光源からスケールに照射された光ビームの反射光、透
過光または回折光による受光素子の受光面上における明
暗パターンの光強度が最大ピークの1/2となるスケー
ル移動方向の幅をωb とし、前記スケールの反射率また
は透過率を変調させたスケール移動方向のピッチをPs
、スケール面上において光ビーム強度がピーク値の1
/2になるスケール移動方向のビーム径をWs とする
と、 ωpd≦ωb かつ Ws ≧2Ps の関係を満たす光学式エンコーダにおいて、受光素子が
スケールからの透過・回折光を受光する場合はスケール
の1ピッチあたりの透過部分のスケール移動方向の寸法
をωo 、また、受光素子がスケールの反射・回折光を受
光する場合はスケールの1ピッチあたりの反射部分のス
ケール移動方向の寸法をωo とし、スケールを形成した
面と受光素子の受光面または遮光面の間の距離をL、レ
ーザ光の波長をλとしたとき、 L>Ps ωo /λ の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
端面出射型の半導体レーザを用い、出射ビームの拡がり
をコリメートレンズで制御し、平行ビームに成形する。
この他は第7項の作用と同じである。
面発光レーザに比べてレーザの製造が容易で入手しやす
い通常の半導体レーザを使うことができる。 10.(第二実施例を第一実施例の変形例に適用した場
合に対応する) (構成)光源に対して相対的に移動し、光の反射率また
は透過率が周期的に変化するように形成されたスケール
と、このスケールの一部を照射するコリメータレンズと
半導体レーザからなるレーザ光源と前記スケールからの
反射光、透過光または回折光を受光するための受光素子
を有する光学式エンコーダで、受光素子の受光領域また
は受光窓が面発光半導体レーザ光源からスケールに照射
された光ビームの反射光、透過光または回折光による受
光素子の受光面上における明暗パターンとスケール移動
方向に対して同じ間隔で複数形成され、前記受光領域ま
たは受光窓のスケール移動方向の寸法をωpd、半導体レ
ーザ光源からスケールに照射された光ビームの反射光、
透過光または回折光による受光素子の受光面上における
明暗パターンの光強度が最大ピークの1/2となるスケ
ール移動方向の幅をωb とし、前記スケールの反射率ま
たは透過率を変調させたスケール移動方向のピッチをP
s 、スケール面上において光ビーム強度がピーク値の1
/2になるスケール移動方向のビーム径をWs とする
と、 ωpd≦ωb かつ Ws ≧2Ps の関係を満たす光学式エンコーダにおいて、受光素子が
スケールからの透過・回折光を受光する場合はスケール
の1ピッチあたりの透過部分のスケール移動方向の寸法
をωo 、また、受光素子がスケールの反射・回折光を受
光する場合はスケールの1ピッチあたりの反射部分のス
ケール移動方向の寸法をωo とし、スケールを形成した
面と受光素子の受光面または遮光面の間の距離をL、レ
ーザ光の波長をλとしたとき、 L>Ps ωo /λ の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
光素子の受光領域または受光窓を有し、異なる次数の回
折光を各々の受光領域または受光窓同時に検出する。 (効果)第9項の効果に加えて、異なる次数の回折光を
各々の受光領域または受光窓同時に検出するので、受光
強度が大きくなり信号処理が容易となる。
ケールの移動方向を軸として回転させ、スケールの透過
または反射面がレーザビームに対して垂直でない配置と
することを特徴とする光学式エンコーダ。
り、スケールから面発光レーザに反射して帰還してくる
レーザ光が抑制され、レーザ光の強度変化が抑えられ
る。この他は、第1項ないし第10項の各々の作用と同
じである。
して帰還してくるレーザ光がある場合は、スケールと面
発光レーザの距離により帰還する光の位相が変化し、こ
れがレーザと相互作用し、レーザ光の強度変化を引き起
こす。また、スケールが動くとスケールの反射率の高い
部分と低い部分からの帰還光の割合がわずかに変化する
のでこれによってもレーザ光の強度が変化する。スケー
ルを傾斜させることにより、スケールから面発光レーザ
に反射して帰還してくるレーザ光が抑制され、レーザ光
の強度変化が抑えられ、ひいては、センサ信号を安定に
する効果がある。
ケールの移動方向に対する垂線とレーザビームの主軸を
互いに傾斜させるように配置することを特徴とする光学
式エンコーダ。
り、スケールから面発光レーザに反射して帰還してくる
レーザ光が抑制され、レーザ光の強度変化が抑えられ
る。この他は、第1項ないし第10項の各々の作用と同
じである。
の主軸と垂直な面に対してスケールをスライドさせる場
合にコンパクトな構成であるが、本構成では、レーザビ
ームの主軸に対して傾斜した面でスケールをスライドさ
せる場合にコンパクトな構成となる。
が機能する領域と機能しない領域を交互に形成したスケ
ールと、このスケールの一部を照射する面発光半導体レ
ーザ光源と前記スケールからの反射光、透過光または回
折光を受光するための受光素子を有する光学式エンコー
ダにおいて、受光素子の受光領域または受光窓のスケー
ル移動方向の寸法をωpd、面発光半導体レーザ光源から
スケールに照射された光ビームの反射光、透過光または
回折光による受光素子の受光面上における明暗パターン
のスケール移動方向の周期をPb 、前記スケールの反射
率または透過率を変調させたスケール移動方向のピッチ
をPs 、スケール面上において光ビーム強度がピーク値
の1/2になるスケール移動方向のビーム径をWs とす
ると、 ωpd<Pb かつ Ws >Ps の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
光の全部または一部が回折して受光素子に入射する。こ
の他は、第1項または第2項の作用と同じである。 (効果)第1項または第2項の効果に加えて、受光素子
に入射する回折光はスケールからの単なる反射光や透過
光と向きが異なるため、受光素子の受光面からの反射光
が半導体レーザに帰還しない。従って、受光素子の受光
面をスケールの面と平行にした場合でも、受光面に反射
防止膜などの反射防止対策を講じなくても、帰還する光
によるレーザ出力の不安定化を抑制できる。
が機能する領域と機能しない領域を交互に形成したスケ
ールと、このスケールの一部を照射するコリメータレン
ズと半導体レーザよりなる光源と前記スケールからの反
射光、透過光または回折光を受光するための受光素子を
有する光学式エンコーダにおいて、受光素子の受光領域
または受光窓のスケール移動方向の寸法をωpd、半導
体レーザ光源からスケールに照射された光ビームの反射
光、透過光または回折光による受光素子の受光面上にお
ける明暗パターンのスケール移動方向の周期をPb 、前
記スケールの反射率または透過率を変調させたスケール
移動方向のピッチをPs 、スケール面上において光ビー
ム強度がピーク値の1/2になるスケール移動方向のビ
ーム径をWs とすると、 ωpd<Pb かつ Ws >Ps の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
と組み合わせることにより、面発光半導体レーザの場合
と同様に、平行度の高いビームを出射できる。その他
は、第13項の作用と同じである。
ある半導体レーザの入手が、面発光半導体レーザに比較
して容易である。 15.(第六実施例に対応する) (構成)光源に対して相対的に移動し、光の反射率また
は透過率が周期的に変化するようにパターン形成された
スケールと、このスケールの一部を照射する面発光半導
体レーザ光源と前記スケールからの反射光、透過光また
は回折光を受光するための受光素子を有する光学式エン
コーダで、受光素子の受光領域または受光窓が面発光半
導体レーザ光源からスケールに照射された光ビームの反
射光、透過光または回折光による受光素子の受光面上に
おける明暗パターンとスケール移動方向に対して同じ間
隔で複数形成され、前記受光領域または受光窓のスケー
ル移動方向の寸法をωpd、前記受光面上における明暗パ
ターンのスケール移動方向の周期をPb 、前記スケール
の反射率または透過率を変調させたスケール移動方向の
ピッチをPs 、スケール面上において光ビーム強度がピ
ーク値の1/2になるスケール移動方向のビーム径をW
s とすると、 ωpd<Pb かつ Ws >Ps の関係を満たす光学式エンコーダにおいて、前記パター
ン形成されたスケールのパターンが、ビーム照射領域内
で1/2周期以外の位相シフトを有して2組形成され、
これらの各々の組からの反射または、透過、回折光を分
離して検出できる受光素子を備えた光学式エンコーダ。
光が互いに異なる位相で形成されたスケール上のパター
ンに同時に照射され、スケール上の位相差をもった各々
のパターンから反射または透過、回折した光が分離され
た受光素子に各々入射する。従って、スケールが移動す
ると、各々の受光素子からの出力は互いに相似形状だ
が、互いに一定の位相差をもって出力される。
相差をもった信号波形が出力されるので、これらの位相
の遅延の関係を調べることにより、スケールの移動の向
きが判定できる。
は透過率が周期的に変化するようにパターン形成された
スケールと、このスケールの一部を照射する面発光半導
体レーザ光源と前記スケールからの反射光、透過光また
は回折光を受光するための受光素子を有する光学式エン
コーダで、受光素子の受光領域または受光窓が面発光半
導体レーザ光源からスケールに照射された光ビームの反
射光、透過光または回折光による受光素子の受光面上に
おける明暗パターンとスケール移動方向に対して同じ間
隔で複数形成され、前記受光領域または受光窓のスケー
ル移動方向の寸法をωpd、前記受光面上における明暗パ
ターンのスケール移動方向の周期をPb 、前記スケール
の反射率または透過率を変調させたスケール移動方向の
ピッチをPs 、スケール面上において光ビーム強度がピ
ーク値の1/2になるスケール移動方向のビーム径をW
s とすると、 ωpd<Pb かつ Ws >Ps の関係を満たす光学式エンコーダにおいて、前記複数形
成された受光領域または受光窓のパターンが、ビーム受
光領域内で1/2周期以外の位相シフトを有して2組形
成され、これらの各々の組の受光量を分離して検出でき
る受光素子を備えた光学式エンコーダ。
光が互いに異なる位相で形成されたスケール上のパター
ンに同時に照射され、スケール上の位相差をもった各々
のパターンから反射または透過、回折した光が、受光素
子の受光面上で明暗のパターン示すが、この明暗パター
ンに対して、互いに位相シフトした受光窓または受光領
域に入射し、更に、これらの位相シフトした受光窓また
は受光領域が分離されている。従って、スケールが移動
すると、各々の受光素子からの出力は互いに相似形状だ
が、互いに一定の位相差をもって出力される。
の向き判定可能な二つ以上の位相差信号を、受光窓に形
成した受光領域または受光窓のパターンにより得ること
ができる。第15項の場合はこの位相シフトパターンを
スケール上に配置する必要があるが、この場合は面発光
半導体レーザからのビームの照射領域内にこの位相シフ
トが配置されるように調整する必要があり、更に、各々
のパターンからのビーム領域に合うように受光素子も空
間的に分離する必要があり組立が難しい。これに対し
て、本項では、面発光半導体レーザとスケールの配置に
このような制約がなく、単にスケールからの反射または
透過、回折光が受光素子の位相シフトパターンにかかる
ように配置するだけでよく、素子の組立が容易になる。
従来の光学式エンコーダのようにレンズや固定スケール
を必要とせずに、スケール変位に対して周期Ps の三角
波状または擬似的な正弦波状の信号を得ることができ
る。同時に、スケール面上における光ビームの径はスケ
ールのピッチより十分大きくすることができ、スケール
ピッチがスケール面上における光ビームの径以下に制限
されることがないため高分解能なエンコーダが実現でき
る。
来の光学式エンコーダのようにレンズや固定スケールを
必要とせずに、スケール変位に対して周期Ps の三角波
状または擬似的な正弦波状の信号を得ることができる。
同時に、スケール面上における光ビームの径はスケール
のピッチより十分大きくすることができ、スケールピッ
チがスケール面上における光ビームの径以下に制限され
ることがないため高分解能なエンコーダが実現できる。
この場合、第1項に比べて多くの受光窓を有し、たくさ
んの透過光(あるいは反射光、回折光)を受光するの
で、より強い出力信号が得られ、電子回路等による信号
処理がより容易になる。
来の光学式エンコーダのようにレンズや固定スケールを
必要とせずに、スケール変位に対して周期Ps の三角波
状または擬似的な正弦波状の信号を得ることができる。
同時に、スケール面上における光ビームの径はスケール
のピッチより十分大きくすることができ、スケールピッ
チがスケール面上における光ビームの径以下に制限され
ることがないため高分解能なエンコーダが実現できる。
さらに、スケールから受光素子までの距離LがL<Ps
ωo /λを満足する領域で使用する場合、Lが大きくな
ると、スケールの変位に対して受光素子での出力信号の
強弱の幅が小さくなるが、本構成では回折を用いるので
このような問題はない。
を示す図である。
位に対する受光素子の出力の特性を示すグラフである。
である。
図である。
に、様々な距離Lの面上に生成される明暗パターンを示
す図である。
を示す図である。
を示す図である。
学式エンコーダの構成を示す図である。
成を示す図である。
光学式エンコーダの構成を示す図である。
成を示す図である。
光学式エンコーダの構成を示す図である。
明するための図である。
を説明するための図である。
スケールの移動方向を判別する機能をもたせた第六実施
例の光学式エンコーダにおいて、スケールと受光素子を
光源側から見た図である。
スケールの移動方向を判別する機能をもたせた第七実施
例の光学式エンコーダにおいて、スケールと受光素子を
光源側から見た図である。
図である。
明するための図である。
遮光部、51…遮光膜。
Claims (3)
- 【請求項1】光源に対して相対的に移動し、光の反射率
または透過率が周期的に変化するように形成されたスケ
ールと、このスケールの一部を照射する面発光半導体レ
ーザ光源と前記スケールからの反射光、透過光または回
折光を受光するための受光素子を有する光学式エンコー
ダにおいて、 受光素子の受光領域または受光窓のスケール移動方向の
寸法をωpd、面発光半導体レーザ光源からスケールに照
射された光ビームの反射光、透過光または回折光による
受光素子の受光面上における明暗パターンのスケール移
動方向の周期をPb 、 前記スケールの反射率または透過率を変調させたスケー
ル移動方向のピッチをPs 、スケール面上において光ビ
ーム強度がピーク値の1/2になるスケール移動方向の
ビーム径をWs とすると、 ωpd<Pb かつ Ws >Ps の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。 - 【請求項2】光源に対して相対的に移動し、光の反射率
または透過率が周期的に変化するように形成されたスケ
ールと、このスケールの一部を照射する面発光半導体レ
ーザ光源と前記スケールからの反射光、透過光または回
折光を受光するための受光素子を有する光学式エンコー
ダにおいて、 受光素子の受光領域または受光窓が面発光半導体レーザ
光源からスケールに照射された光ビームの反射光、透過
光または回折光による受光素子の受光面上における明暗
パターンとスケール移動方向に対して同じ間隔で複数形
成され、 前記受光領域または受光窓のスケール移動方向の寸法を
ωpd、前記受光面上における明暗パターンのスケール移
動方向の周期をPb 、 前記スケールの反射率または透過率を変調させたスケー
ル移動方向のピッチをPs 、スケール面上において光ビ
ーム強度がピーク値の1/2になるスケール移動方向の
ビーム径をWs とすると、 ωpd<Pb かつ Ws >Ps の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。 - 【請求項3】光源に対して相対的に移動し、光の反射率
または透過率が周期的に変化するように形成されたスケ
ールと、このスケールの一部を照射する面発光半導体レ
ーザ光源と前記スケールからの回折光を受光するための
受光素子を有する光学式エンコーダで、 前記受光領域または受光窓のスケール移動方向の寸法を
ωpd、前記レーザ光源からスケールに照射された光ビー
ムの回折光による受光素子の受光面上における明暗パタ
ーンの光強度が最大ピークの1/2となるスケール移動
方向の幅をωbとし、 前記スケールの反射率または透過率を変調させたスケー
ル移動方向のピッチをPs 、スケール面上において光ビ
ーム強度がピーク値の1/2になるスケール移動方向の
ビーム径をWs とすると、 ωpd≦ωb かつ Ws ≧2Ps の関係を満たす光学式エンコーダにおいて、 受光素子がスケールの透過・回折光を受光する場合はス
ケールの1ピッチあたりの透過部分のスケール移動方向
の寸法をωo 、また、受光素子がスケールの反射・回折
光を受光する場合はスケールの1ピッチあたりの反射部
分のスケール移動方向の寸法をωo 、スケールを形成し
た面と受光素子の受光面または遮光面の間の距離をL、
レーザ光の波長をλとしたとき、 L>Ps ωo /λ の関係を満たすことを特徴とする光学式エンコーダ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05864095A JP3544576B2 (ja) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | 光学式エンコーダ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05864095A JP3544576B2 (ja) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | 光学式エンコーダ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08254441A true JPH08254441A (ja) | 1996-10-01 |
JP3544576B2 JP3544576B2 (ja) | 2004-07-21 |
Family
ID=13090188
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP05864095A Expired - Fee Related JP3544576B2 (ja) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | 光学式エンコーダ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3544576B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010112800A (ja) * | 2008-11-05 | 2010-05-20 | Okuma Corp | リニアエンコーダ装置 |
DE10328873B4 (de) * | 2002-06-27 | 2014-01-30 | Harmonic Drive Systems Inc. | Codierer vom Projektionstyp |
JP2019027871A (ja) * | 2017-07-28 | 2019-02-21 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 回転角度検出装置 |
-
1995
- 1995-03-17 JP JP05864095A patent/JP3544576B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE10328873B4 (de) * | 2002-06-27 | 2014-01-30 | Harmonic Drive Systems Inc. | Codierer vom Projektionstyp |
JP2010112800A (ja) * | 2008-11-05 | 2010-05-20 | Okuma Corp | リニアエンコーダ装置 |
DE102009051708B4 (de) * | 2008-11-05 | 2015-04-09 | Okuma Corporation | Linearcodierer |
JP2019027871A (ja) * | 2017-07-28 | 2019-02-21 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 回転角度検出装置 |
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---|---|
JP3544576B2 (ja) | 2004-07-21 |
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