JPH08250386A - ウェーハ洗浄スライスベース剥離装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄・剥離・格納を短時間で自動的に行うと
ともに、設置面積が小さく安価で、さらに、ウェーハの
平面度を悪化させたりシミが発生するおそれが少ないウ
ェーハ洗浄スライスベース剥離装置を提供する。 【構成】 切断機から横姿勢で搬出されたウェーハＷ
は、水平搬送部７０に支持された第一ウェーハ保持部８
０に保持されて姿勢設定部２０に搬入され、スライスベ
ース方向が設定される。次に、第一ウェーハ保持部８０
で縦姿勢に向きを変えられて後洗浄部３０で洗浄され、
洗浄後は水平搬送部７０に支持された第二ウェーハ保持
部９５に保持されて乾燥・剥離部４０に搬送される。そ
して、ウェーハＷは乾燥空気を吹き付けられるととも
に、所定の温度に熱せられたクランプ台に押し付けられ
て接着剤が軟化されスライスベースが剥離される。スラ
イスベースが剥離されたウェーハＷは第二ウェーハ保持
部９５に保持されて格納部６０のカセットに縦姿勢で格
納される。

Description

【発明の詳細な説明】

【産業上の利用分野】本発明は半導体素子の素材となる
シリコン等のウェーハの製造装置に係わり、特に、スラ
イシングマシンやワイヤソー等のインゴット切断機（以
下、単に「切断機」という）によってインゴットから切
り出されたウェーハを洗浄し、ウェーハの基材部分に接
着されたスライスベースを剥離するとともに、スライス
ベースが剥離されたウェーハをカセットに格納する機能
を備えた装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子の素材となるシリコン等のウ
ェーハは、インゴットの状態から切断機により切り出さ
れるが、切断時に切り終わり部分が欠けないようにイン
ゴットにはスライスベースを接着し、スライスベースも
含めて切断する。したがって、切断後のウェーハＷは図
１１に示す形状になっており、スライスベースＷｂは切
断後にシリコン等の基材部分Ｗａから剥離される。

【０００３】剥離方法としては、基材部分Ｗａにスライ
スベースＷｂを接着している接着剤を軟化し、その状態
でスライスベースＷｂをウェーハＷの厚さ方向に押して
剥離する。接着剤の軟化方法としては、ウェーハＷを熱
水に入れて温める方法、ウェーハＷをヒータで温める方
法（ヒータを内蔵したクランプ台で基材部分Ｗａを加熱
する、又はヒータを内蔵したスライスベース受板でスラ
イスベースＷｂを加熱する。）、熱風で接着部分を直接
加熱する方法等がある。

【０００４】また、切り出されたウェーハＷは、スライ
スベースＷｂの剥離と前後して、切断時に付着した切り
粉や切削液を取り除くために洗浄することが必要であ
り、さらに、剥離や洗浄が完了したウェーハＷ（つまり
基材部分Ｗａ）を次の製造工程のためにカセットに格納
することが必要である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来
は、これら剥離・洗浄・格納を別々の装置としているこ
とが多く、その場合、ウェーハ製造装置全体の設備費用
が高くなるだけでなく、装置の設置面積が大きくなり、
さらに、これらの工程間の搬入出を作業者が手作業で行
うことが多いために時間がかかる等の問題がある。

【０００６】また、剥離のためにウェーハＷを熱水に入
れて接着剤を軟化する方法では、熱水の維持管理が面倒
であったり、装置の設置面積が大きくなりやすく、さら
に、熱水の温度は１００℃前後になるため安全対策を充
分に行う必要がある等、取扱が面倒で高価になるという
問題がある。

【０００７】さらに、ウェーハＷは横姿勢（ウェーハＷ
の厚さ方向を鉛直方向にした状態をいう。）にして取り
扱われることが多いが、この姿勢の場合は一般的に装置
の設置面積が大きくなるとともに、ウェーハＷが撓みや
すく、長時間この状態にしておくとウェーハＷの平面度
が悪化するおそれがある。特に、近年、半導体の生産効
率向上等からウェーハＷはますます大きくなっており、
この影響は無視できなくなっている。また、洗浄後、こ
の姿勢にしておくと、洗浄液が残ってウェーハＷの表面
にシミができやすい。

【０００８】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、洗浄・剥離・格納を短時間で自動的に行うとと
もに、設置面積が小さく安価で、さらに、ウェーハＷの
平面度を悪化させたりシミが発生するおそれが少ないウ
ェーハ洗浄スライスベース剥離装置を提供することを目
的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明では、ウェーハ洗浄スライスベース剥離装置
を、洗浄・剥離・格納の各機能を１台の装置に備えてウ
ェーハＷの洗浄から格納までを自動的に行うようにする
とともに、ヒーターでウェーハＷを加熱して接着剤を軟
化する方法を採用し、さらに、ウェーハＷを縦姿勢（ウ
ェーハ１０の厚さ方向を水平方向にした状態をいう。）
にして取り扱うようにする。

【００１０】すなわち、ウェーハ洗浄スライスベース剥
離装置を次のように構成する。 （イ）ウェーハＷを縦姿勢で洗浄する洗浄部を設ける。
洗浄部には、縦姿勢のウェーハＷを洗浄槽内外の上下に
搬送するエレベータを備える。 （ロ）洗浄されたウェーハＷを乾燥するとともに、ウェ
ーハＷの基材部分Ｗａに接着されたスライスベースＷｂ
を剥離する乾燥・剥離部を設ける。 （ハ）格納部を設け、スライスベースＷｂが剥離された
ウェーハＷを格納するカセットを備える。 （ニ）互いに直交する水平２方向に搬送アームを駆動す
る水平搬送部を設ける。 （ホ）水平搬送部の搬送アームに第一ウェーハ保持部を
設ける。第一ウェーハ保持部には、ウェーハＷを保持す
る第一保持具とその第一保持具の上下及び９０゜回転駆
動機構を備える。 （ヘ）水平搬送部の搬送アームに第二ウェーハ保持部を
設ける。第二ウェーハ保持部には、ウェーハＷを縦姿勢
に保持する第二保持具とその第二保持具の上下駆動機構
を備える。 （ト）切断機から横姿勢で搬出されたウェーハＷを、第
一保持具でウェーハＷを保持して、縦姿勢に向きを変え
た後、洗浄部のエレベータへ搬入する。 （チ）洗浄完了後エレベータで搬出されたウェーハＷ
を、第二保持具で保持して乾燥・剥離部へ搬入し、さら
に、スライスベースが剥離されたウェーハＷを格納部へ
搬送してカセットに格納する。

【００１１】この場合、ウェーハＷが切断機から搬出さ
れたときのスライスベース方向のままで搬送されていく
と、剥離時のスライスベース方向が、乾燥・剥離部でス
ライスベースＷｂを剥離するプッシャーの位置に適合し
なくなる場合は、次の２つの方法で対応する。

【００１２】その１つの方法は、水平面内回転自在に支
持されたテーブルを有する姿勢設定部を設け、切断機か
ら搬出されたウェーハＷのスライスベース方向を姿勢設
定部で設定し直した後、縦姿勢に向きを変える。他の方
法は、第二保持具を回転自在にして、第二保持具を回転
してウェーハＷのスライスベース方向を設定し直す。

【００１３】また、切断機から横姿勢で搬出されたウェ
ーハＷを第一保持具で保持するときにはウェーハＷの中
心部を保持するが、ウェーハＷを縦姿勢に向きを変える
ときには、そのまま中心部を保持して行う方法と、ウェ
ーハＷの外周近傍を保持する方法とがある。縦姿勢にす
るといずれの方法でもウェーハＷの平面度に及ぼす影響
は小さいので、いずれの方法にするかは洗浄部、乾燥・
剥離部、格納部の構造によって選択する。

【００１４】なお、第二保持具でウェーハＷを保持する
場合も同様に２とおりの方法があるが、第二保持具を回
転自在にしてウェーハＷのスライスベース方向を設定す
る場合には、ウェーハＷの中心部を保持する方法を用い
る。

【００１５】乾燥・剥離部におけるウェーハＷの乾燥と
接着剤の軟化を、次のいずれかの方法で行う。 （イ）ウェーハＷに乾燥空気を吹き付けた後、ヒーター
を内蔵したクランプ台にウェーハＷを押しつけて基材部
分Ｗａを加熱する。 （ロ）ウェーハＷに乾燥空気を吹き付けた後、ヒータを
内蔵したスライスベース受板でスライスベースＷｂを加
熱する。

【００１６】また、乾燥・剥離部では、ウェーハＷのス
ライスベース方向は水平方向や斜め下方向とする。

【００１７】さらに、水平搬送部の搬送アームの駆動方
法をサーボモータによるネジ駆動等とする。

【００１８】

【作用】切断機によってインゴットから切り出され横姿
勢で搬出されたウェーハＷは、第一保持具でウェーハＷ
の中心部が保持され、縦姿勢に向きを変えられた後、洗
浄部のエレベータへ搬入される。そして、ウェーハＷは
エレベータで洗浄槽内に搬入されて洗浄され、洗浄が完
了するとエレベータで洗浄槽外に搬出される。

【００１９】次に、ウェーハＷは第二保持具で保持され
て乾燥・剥離部へ搬入され、乾燥されるとともにスライ
スベースＷｂが剥離される。スライスベースＷｂが剥離
されたウェーハＷは第二保持具で保持されて格納部に搬
送され、カセットに格納される。

【００２０】ただし、ウェーハＷのスライスベース方向
を設定し直す場合で姿勢設定部が設けられているとき
は、切断機から搬出されたウェーハＷのスライスベース
方向が姿勢設定部で設定し直された後、縦姿勢に向きを
変えられる。また、第二保持具が回転自在に設けられて
いるときは、第二保持具でウェーハＷのスライスベース
方向が設定し直された後、乾燥・剥離部に搬入される。

【００２１】また、第一保持具でウェーハＷの外周近傍
が保持された後縦姿勢に向きを変えられる場合は、切断
機から搬出されたウェーハＷは、姿勢設定部のテーブル
上又は固定のテーブル上に一度置かれて保持し直され
る。

【００２２】乾燥・剥離部では、ウェーハＷに乾燥空気
が吹き付けられることによって洗浄時に付着した洗浄液
が除去され、ヒーターを内蔵したクランプ台で基材部分
Ｗａが加熱されて、又はヒーターを内蔵したスライスベ
ース受板でスライスベースＷｂが加熱されて、ウェーハ
Ｗが乾燥するともに接着剤が軟化する。

【００２３】また、乾燥・剥離部において、ウェーハＷ
のスライスベース方向を水平方向や斜め下方向にする
と、特別な操作をしなくても剥離されたスライスベース
Ｗｂはそのまま下方に落下する。

【００２４】水平搬送部の搬送アームの駆動方法をサー
ボモーターによるネジ駆動にすると、格納部のカセット
にウェーハＷを格納するピッチが自由に設定でき、カセ
ットの種類を枚葉式（ウェーハＷを１枚ずつ離して格納
する）やスタック式（ウェーハＷを１枚ずつ離さず重ね
て格納する）のいずれにも対応できる。

【００２５】

【実施例】

実施例１ 図１・図２・図３に本発明に係るウェーハ洗浄スライス
ベース剥離装置の実施例１の全体図を示す。図１は平面
図、図２は図１のＫ矢視図（側面図）、図３は正面図で
ある。実施例１では、切断機から搬出されたウェーハＷ
は、スライスベース方向が剥離時の方向に対して所定の
角度θ回転した方向で、横姿勢で搬出されると仮定して
いる。

【００２６】実施例１のウェーハ洗浄スライスベース剥
離装置は、大きく分けて、姿勢設定部２０、洗浄部３
０、乾燥・剥離部４０、格納部６０、水平搬送部７０、
第一ウェーハ保持部８０、第二ウェーハ保持部９５から
構成されている。また、図１・図２・図３に示すよう
に、切断機側からＸ方向に姿勢設定部２０、洗浄部３
０、乾燥・剥離部４０の順に配置され、格納部６０は切
断機の前側に配置されている。なお、互いに直交する水
平の２方向をＸ方向及びＹ方向とし、実施例１では、切
断機に平行な方向をＹ方向とする。また、洗浄部３０か
ら先はウェーハＷの厚さ方向がＸ方向に向けて搬送され
る。

【００２７】姿勢設定部２０は、剥離時にスライスベー
スＷｂが、後述する乾燥・剥離部のプッシャー５５の位
置に適合するように、ウェーハＷのスライスベース方向
を設定する所である。詳細を図４（平面図）・図５（正
面図で一部断面図）に示す。なお、ウェーハＷを図４で
は想像線で、図５では実線で示している。

【００２８】姿勢設定部２０では、後述する水平搬送部
７０の支柱７１に取り付けられたブラケット２１に軸受
け２２が固着され、軸受け２２に内蔵されたベアリング
に軸２３が回転自在に支持されている。軸２３の上端に
はテーブル２４が、下端にはプーリ２５が固着されてい
る。また、ブラケット２１にはロータリーシリンダー２
６が取り付けられ、ロータリーシリンダー２６の先端に
プーリ２７が固着されて、プーリ２７とプーリ２５がベ
ルト２６で連結されている。

【００２９】さらに、テーブル２４は上面にウェーハＷ
の基材部分Ｗａより僅かに大きい形状の浅い凹部２４
ａ、スライスベースＷｂの幅より僅かに大きい切り欠き
２４ｂが形成されている。また、テーブル２４の下面に
は凸部２４ｃが形成されるとともに、ブラケット２１に
２個のストッパー２９ａ及び２９ｂが設けられている。

【００３０】姿勢設定部２０はこのように構成されてお
り、テーブル２４は凸部２４ｃが２個のストッパー２９
ａ及び２９ｂに当接する角度θだけ、ロータリーシリン
ダー２６によって回転する。また、切り欠き２４ｂによ
ってスライスベースＷｂが規制されているので、ウェー
ハＷはテーブル２４の回転角度に追従する。

【００３１】洗浄部３０は、ウェーハＷを洗浄する所で
あり、詳細を図６（正面図で一部断面図）・図７（平面
図）に示す。いずれもウェーハＷを想像線で示してい
る。

【００３２】洗浄部３０には洗浄槽３１があり、洗浄槽
３１には洗浄水が所定の高さ３２まで蓄えられていて、
図示しないが、超音波発生装置が備えられている。ま
た、洗浄槽３１の外側に設けられたコラム３３に、スラ
イドガイド内蔵のエアシリンダー３４が駆動方向を上下
方向にして取り付けられ、エアシリンダー３４のスライ
ダー３４ａには、エレベーター３５が取り付けられてい
る。エレベーター３５の３箇所にはウェーハＷを支持す
る受け駒３５ａが固着されている。

【００３３】洗浄部３０はこのように構成されており、
エレベーター３５は３箇所に固着された受け駒３５ａで
ウェーハＷの水平方向両側と下側を受けて支持する。そ
して、エレベーター３５が下降端の状態（図６に示す位
置）でウェーハＷは洗浄水内で超音波洗浄され、上昇端
の状態で洗浄水の外に出る。

【００３４】乾燥・剥離部４０は、洗浄部３０で洗浄さ
れて洗浄液が付着したウェーハＷを乾燥させるととも
に、ウェーハＷの基材部分ＷａからスライスベースＷｂ
を剥離する所である。乾燥・剥離部４０は乾燥ノズル側
と剥離側の２箇所に分けて構成されており、詳細を図７
・図８に示す。図７は前述した洗浄部３０とともに示す
平面図、図８は図７のＬ−Ｌ断面図であり、乾燥側はウ
ェーハＷが下降した状態を実線で示し、剥離側はクラン
プ台４７にウェーハＷが固定される前の状態で、ウェー
ハＷを想像線で示している。

【００３５】乾燥・剥離部４０では、コラム４１の上端
で洗浄部３０に近い側に乾燥ノズル４２及び４３が取り
付けられている。乾燥ノズル４２及び４３には斜め下方
に向いた１列の多数の穴４２ａが形成され、穴４２ａか
ら乾燥空気が吹き出される。ただし、第二ウェーハ保持
部９５の先端部分（吸着パッド９９等）と干渉しないよ
うに、乾燥ノズル４３は中央がコの字形状になってお
り、その部分には穴４２ａは形成されていない。また、
乾燥ノズル４２及び４３のすぐ下側には囲い箱４４がコ
ラム４１に取り付けられている。

【００３６】また、コラム４１の洗浄部３０から離れた
側の上下２箇所に固着されたＬ字形のフランジ４５に、
断熱板４６を介してクランプ台４７が取り付けられてい
る。クランプ台４７には所定の温度の発熱をするヒータ
と、クランプ台４７の温度を検出する温度センサー（い
ずれも図示せず）が内蔵され、所定の温度（１００℃前
後）に加熱保持されている。

【００３７】クランプ台４７の接触面４７ａの形状は基
材部分Ｗａと同様の形状（円）で、直径は基材部分Ｗａ
の直径より僅かに小さくなっている。下方には２本の位
置決めバー４８が設けられ、基材部分Ｗａの外周を２本
の位置決めバー４８に当接すると、基材部分Ｗａの中心
が接触面４７ａの中心とほぼ一致するようになってい
る。

【００３８】また、２本の位置決めバー４８の端面に取
付板４９が固着され、取付板４９にエアシリンダー５０
が駆動方向をＸ方向（クランプ台４７方向）にして取り
付けられている。エアシリンダー５０のピストン軸の先
端にはピストンヘッド５１が固着され、ピストンヘッド
５１にＸ方向移動自在にクランパー５２が支持されてい
る。クランパー５２は圧縮バネ５３でＸ右方向（クラン
プ台４７側）に付勢され、エアシリンダー５０によって
Ｘ左方向に戻される。

【００３９】さらに、コラム４１固着されたフランジ４
５の２個の中間には、スライドガイド内蔵のエアシリン
ダー５４が駆動方向をＸ方向にして取り付けられ、エア
シリンダー５４のスライダー５４ａにはプッシャー５５
が固着されている。また、クランプ台４７等の下方には
バスケット５６が設けられている。

【００４０】乾燥・剥離部４０はこのように構成されて
おり、乾燥ノズル側では、ウェーハＷは後述する第二ウ
ェーハ保持部９５の吸着パッド９９に保持されて、乾燥
ノズル４２及び４３の間を通って下降し、下降端（図８
に示す位置）から上昇して行く間、乾燥ノズル４２及び
４３から乾燥空気が吹き出されて洗浄液が除去される。
このとき、除去された水滴は囲い箱４４によって外部に
飛散しない。

【００４１】また、剥離側では、ウェーハＷは後述する
第二ウェーハ保持部９５の吸着パッド９９に保持され
て、基材部分Ｗａの中心がクランプ台４７の接触面４７
ａの中心より僅かに上方の位置（基材部分Ｗａの外周が
位置決めバー４８に当接する手前）までクランプ台４７
に沿うように（クランプ台４７に接触しないで）下降さ
れる。

【００４２】次に、吸着パッド９９の保持力が解放さ
れ、基材部分Ｗａの外周が位置決めバー４８に当接し
て、基材部分Ｗａの中心が接触面４７ａの中心とほぼ一
致する。この状態からエアシリンダー５０のピストン軸
をＸ右方向に駆動すると、クランパー５２は圧縮バネ５
３によって基材部分Ｗａをクランプ台４７に押圧して固
定する。

【００４３】クランパー５２が基材部分Ｗａをクランプ
台４７に固定して所定の時間経過すると、基材部分Ｗａ
とスライスベースＷｂを結合している接着剤が高温にな
って柔らかくなるので、プッシャー５５がスライスベー
スＷｂをＸ右方向に押圧して基材部分Ｗａから剥離す
る。また、基材部分Ｗａは熱せられて乾燥する。剥離さ
れたスライスベースＷｂは落下し、バスケット５６に格
納される。

【００４４】格納部６０は全体図の図１・図３に示す。
格納部６０は、台６１に３個のカセット６２が備えら
れ、スライスベースＷｂが剥離されたウェーハＷ（つま
り基材部分Ｗａ）が格納される。カセットには枚葉式や
スタック式があるが、図１・図３に示したカセット６２
は枚葉式である。

【００４５】水平搬送部７０は全体図の図１・図２・図
３に示す。水平搬送部７０では、実施例１のウェーハ洗
浄スライスベース剥離装置のベース１１に立設された２
組４本の支柱７１の上端に各々横材７２が固着され、横
材７２に梁７３がＹ方向に設けられている。梁７２の下
面にはＹスライドユニット７４が取り付けられ、Ｙスラ
イドユニット７４のスライダーにはＸ方向にＸスライド
ユニット７５が取り付けられている。さらに、Ｘスライ
ドユニット７５のスライダーには、搬送アーム７６が設
けられている。

【００４６】これによって、搬送アーム７６はＸＹ方向
に駆動される。なお、Ｙスライドユニット７４及びＸス
ライドユニット７５は、サーボモーターを駆動源としネ
ジ駆動されるものである。

【００４７】第一ウェーハ保持部８０及び第二ウェーハ
保持部９５の詳細を図９・図１０（図１０は図９のＭ矢
視図）に示す。

【００４８】第一ウェーハ保持部８０では、水平搬送部
７０の搬送アーム７６にスライドガイド内蔵のエアシリ
ンダー８１が取り付けられ、エアシリンダー８１のスラ
イダー８１ａにアーム８２が固着されている。アーム８
２の先端には、軸８３が設けられ、軸８３にパッドホル
ダー８４が９０゜回転自在に支持されている。パッドホ
ルダー８４の先端には吸着パッド（これまで述べた「第
一保持具」に相当）８５が設けられている。吸着パッド
８５はウェーハＷを真空吸着して保持する。

【００４９】また、アーム８２の上端に形成されたフラ
ンジ部８２ａに、軸８７が設けられ、軸８７にエアシリ
ンダー８８が揺動自在に支持されている。エアシリンダ
ー８８のピストン軸８８ａの先端に固着されたピストン
ヘッド８９には軸８６が固着され、軸８６はパッドホル
ダー８４の端に内蔵されたベアリングに回転自在に連結
されている。さらに、アーム８２の２箇所にストッパー
９０及び９１が設けられている。

【００５０】第一ウェーハ保持部８０はこのように構成
されており、エアシリンダー８１のスライダー８１ａが
上下動することによって吸着パッド８５が上下動する。
また、エアシリンダー８８のピストン軸８８ａを下方に
駆動すると、パッドホルダー８４がストッパー９０に当
接して吸着パッド８５は下方向を向き、ピストン軸８８
ａを上方に駆動すると、パッドホルダー８４がストッパ
ー９１に当接して吸着パッド８５は水平方向に向く。

【００５１】また、第二ウェーハ保持部９５では、第一
ウェーハ保持部８０の反対側の搬送アーム７６に固着さ
れた台座９６に、スライドガイド内蔵のエアシリンダー
９７が取り付けられている。エアシリンダー９７のスラ
イダー９７ａにはパッドホルダー９８が固着され、パッ
ドホルダー９８の先端には吸着パッド（これまで述べた
「第二保持具」に相当）９９が設けられている。吸着パ
ッド９９はウェーハＷを真空吸着して保持する。

【００５２】第二ウェーハ保持部９５はこのように構成
されており、エアシリンダー９７のスライダー９７ａに
よって吸着パッド９９が上下に移動する。

【００５３】次に、このように構成された実施例１のウ
ェーハ洗浄スライスベース剥離装置の作用を説明する。
ウェーハＷの主な位置は図２でＡからＨ（剥離時）まで
の符号を付けて表し、Ｃの位置（洗浄部３０の上方）の
み実線で、その他は想像線で表している。ただし、図３
では第二ウェーハ保持部９５に保持されている状態を表
している。

【００５４】切断機から搬出されたウェーハＷ（図２で
Ａの位置）は、第一ウェーハ保持具８０の吸着パッド８
５でウェーハＷの中心部が保持され水平搬送部７０によ
って搬送され、姿勢設定部２０のテーブル２４が図４の
状態からθだけ回転した状態のときに、テーブル２４に
搬入される（図２でＢの位置）。

【００５５】姿勢設定部２０では、吸着パッド８５の保
持力が解放され吸着パッド８５が上昇した後、ウェーハ
Ｗはテーブル２４によってθだけ回転し、スライスベー
ス方向がＹ左方向（図１・図４・図５の状態）に設定さ
れる。

【００５６】スライスベース方向が設定されると、吸着
パッド８５が切断機側（図２でＸ左方向）に移動した後
下降し、ウェーハＷの外周近傍を保持する。次に吸着パ
ッド８５が、ウェーハＷがテーブル２４に干渉しない位
置まで図２でＸ右方向に移動し、吸着パッド８５が９０
゜回転して、ウェーハＷの向きを縦姿勢に変える（図２
でＣの状態）。

【００５７】ウェーハＷが縦姿勢に変えられると、洗浄
部３０のエレベータ３５が上昇し、エレベータ３５が上
昇端の位置になると、吸着パッド８５の保持力が解放さ
れて、ウェーハＷはエレベータ３５の受け駒３５ａへ受
け渡される。

【００５８】ウェーハＷを受け取ると、エレベータ３５
は下降してウェーハＷを洗浄槽内に搬入する（図２でＤ
の状態）。ウェーハＷの洗浄が完了するとエレベータ３
５が上昇しウェーハＷは洗浄槽外に搬出される。

【００５９】エレベータ３５が上昇端の位置に戻ると、
今度は、ウェーハＷは第二ウェーハ保持部９５の吸着パ
ッド９９で保持される（図２でＥの状態）。そして、ま
ず、乾燥・剥離部４０の乾燥ノズル側へ搬入され、前述
したように、乾燥ノズル４２及び４３の間を通って下降
し、下降端（図２でＦの状態）から上昇して行く間、乾
燥ノズル４２及び４３から乾燥空気が吹き出されて洗浄
液が除去される。

【００６０】次に、ウェーハＷは吸着パッド９９で保持
されたまま剥離側に搬送され（図２でＧの状態）、前述
したようにクランプ台４７に固定され（図２でＨの状
態）、スライスベースＷｂが剥離される。スライスベー
スＷｂが剥離されたウェーハＷは、再び吸着パッド９９
で保持されて格納部に搬送され、カセットに格納され
る。

【００６１】実施例２ 次に、本発明に係るウェーハ洗浄スライスベース剥離装
置の実施例２について説明する。実施例２は、実施例１
と同様に切断機から搬出されたウェーハＷのスライスベ
ース方向が剥離時の方向に対して所定の角度回転した方
向になっている場合であるが、実施例２では第二保持具
でウェーハＷのスライスベース方向を設定し直すところ
のみが異なる。その他は実施例１と同様であるので、実
施例２は特に図示しない。

【００６２】つまり、実施例２では実施例１で示した姿
勢設定部２０の代わりに、第二ウェーハ保持部９５のパ
ッドホルダー９８に、実施例１で示した姿勢設定部２０
のようにロータリーシリンダーを設け、吸着パッド９９
の吸着面の反対側にプーリを取り付けて、ロータリーシ
リンダーのプーリとベルトで連結する。そして、ウェー
ハＷの中心部を保持する。

【００６３】これによって、ウェーハＷは、吸着パッド
９９で保持されて、実施例１で示した図２のＥ又はＧの
状態のときに、スライスベース方向が設定し直される。
なお、この場合、吸着パッド９９等と干渉しないように
クランパー５２関係は実施例１で示した位置よりクラン
プ台４７から離れた位置にする。

【００６４】また、実施例２ではウェーハＷの中心部を
保持するので、剥離時に基材部分Ｗａをクランプ台４７
に押圧するのは、実施例１で示した図クランパー５２の
代わりに吸着パッド９９で行ってもよい。そのときは、
吸着パッド９９がバネ等によってクランプ台４７側に付
勢されるようにする。

【００６５】実施例３ 次に、本発明に係るウェーハ洗浄スライスベース剥離装
置の実施例３について説明する。実施例３は、切断機か
ら搬出されたウェーハＷのスライスベース方向が剥離時
の方向に対する角度が不特定の場合であり、実施例１に
対して姿勢設定部を次のように変更する。その他は実施
例１と同様であるので、実施例３についても特に図示し
ない。

【００６６】つまり、実施例３では実施例１で示した姿
勢設定部２０と異なり、ロータリーシリンダー２６の代
わりにモーターを設け、テーブル２４の上面の凹部２４
ａ、切り欠き２４ｂ、下面の凸部２４ｃ、ストッパー２
９ａ及び２９ｂをなくし、テーブル２４の上側でＹ左側
（スライスベースＷｂが設定される位置）に非接触（例
えば光学式）センサーを設ける。これによって、ウェー
ハＷがテーブルに不特定のスライスベース方向で搬入さ
れても、モーターでテーブルが回転され、非接触センサ
ーでスライスベースＷｂの位置が確認されて、スライス
ベース方向が設定される。

【００６７】なお、以上説明した実施例では、乾燥・剥
離部４０で乾燥ノズル４２及び４３の２個を設けてウェ
ーハＷの両面に乾燥空気を吹き付けたが、これに限ら
ず、乾燥ノズル４２のみとしてウェーハＷの片面のみ乾
燥空気を吹き付けたり、又は乾燥ノズルをいずれも省略
して乾燥空気を吹き付ずに処理する場合でも本発明は適
用できる。いずれの方法でも、ヒーターを内蔵したクラ
ンプ台にウェーハＷが押し付けられることによってウェ
ーハＷの洗浄液は除去され乾燥する。いずれの方法を採
用するかは、種々の条件によって選択する。

【００６８】また、以上説明した実施例では、乾燥・剥
離部４０で基材部分ＷａとスライスベースＷｂを結合し
ている接着剤を軟化するためにヒーターを内蔵したクラ
ンプ台４７にウェーハＷが押しつける方法としたが、こ
れに限らず、ヒータを内蔵したスライスベース受板でス
ライスベースＷｂを加熱する方法でも本発明は適用でき
る。

【００６９】さらに、実施例では水平搬送部７０の搬送
アーム７６の駆動方法をサーボモーターによるネジ駆動
としたが、ベルト駆動やラック駆動等としてもよい。第
一保持具や第二保持具を真空吸着式のものとしたが、他
の方式の保持具でも本発明は適用できる。

【００７０】また、実施例では格納部６０のカセット６
２を枚葉式としたが、スタック式でも対応可能であるこ
とはいうまでもない。

【００７１】

【発明の効果】以上説明したように本発明に係るウェー
ハ洗浄スライスベース剥離装置によれば、洗浄・剥離・
格納の各機能を１台の装置に備えてウェーハＷの洗浄か
ら格納までを自動的に行うとともに、ヒーターでウェー
ハＷを加熱して接着剤を軟化する方法を採用し、さら
に、ウェーハＷを縦姿勢にして取り扱うようにした。

【００７２】したがって、洗浄・剥離・格納を短時間で
自動的に行うとともに、設置面積が小さく安価で、さら
に、ウェーハＷの平面度を悪化させたりシミが発生する
おそれが少ないウェーハ洗浄スライスベース剥離装置を
提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るウェーハ洗浄スライスベース剥離
装置の実施例１の全体平面図

【図２】図１のＫ矢視図（側面図）

【図３】本発明に係る実施例１の全体正面図

【図４】本発明に係る実施例１の姿勢設定部の詳細平面
図

【図５】本発明に係る実施例１の姿勢設定部の詳細正面
図（一部断面図）

【図６】本発明に係る実施例１の洗浄部の詳細正面図
（一部断面図）

【図７】本発明に係る実施例１の洗浄部及び乾燥・剥離
部の詳細平面図

【図８】図７のＬ−Ｌ断面図

【図９】本発明に係る実施例１の第一ウェーハ保持部及
び第二ウェーハ保持部の詳細図

【図１０】図９のＭ矢視図

【図１１】ウェーハの外形を示す図

【符号の説明】

Ｗ………ウェーハ ２０……姿勢設定部 ３０……洗浄部 ４０……乾燥・剥離部 ６０……格納部 ７０……水平搬送部 ７４……Ｙスライドユニット ７５……Ｘスライドユニット ７６……搬送アーム ８０……第一ウェーハ保持部 ９５……第二ウェーハ保持部 Ａ………切断機のウェーハ搬出位置

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 縦姿勢のウェーハを洗浄槽内外の上下に
   搬送するエレベータを備え、ウェーハを洗浄する洗浄部
   と、 洗浄されたウェーハを縦姿勢で乾燥させるとともに、ウ
   ェーハが縦姿勢の状態でウェーハの基材部分に接着され
   たスライスベースを剥離する乾燥・剥離部と、 スライスベースが剥離されたウェーハを縦姿勢で格納す
   るカセットを備えた格納部と、 互いに直交する水平２方向に搬送アームを駆動する水平
   搬送部と、 ウェーハを保持する第一保持具とその第一保持具の上下
   及び９０゜回転駆動機構を備え、前記搬送アームに支持
   された第一ウェーハ保持部と、 ウェーハを縦姿勢で保持する第二保持具とその第二保持
   具の上下駆動機構を備え、前記搬送アームに支持された
   第二ウェーハ保持部と、 から構成され、 インゴット切断機から横姿勢で搬出されたウェーハを、
   前記第一保持具で保持して、縦姿勢に向きを変えた後、
   前記洗浄部の前記エレベータへ搬入し、 前記洗浄部の洗浄槽から前記エレベータで搬出されたウ
   ェーハを、前記第二保持具で保持して前記乾燥・剥離部
   へ搬入し、 スライスベースが剥離されたウェーハを、前記第二保持
   具で保持して格納部へ搬送し前記カセットに格納する、 ことを特徴とするウェーハ洗浄スライスベース剥離装
   置。
2. 【請求項２】 水平面内回転自在に支持されたテーブル
   にウェーハを載せてウェーハのスライスベース方向を設
   定する姿勢設定部を設け、インゴット切断機から横姿勢
   で搬出されたウェーハのスライスベース方向を設定した
   後、前記第一保持具で保持して縦姿勢に向きを変えるこ
   とを特徴とする請求項１に記載のウェーハ洗浄スライス
   ベース剥離装置。
3. 【請求項３】前記第二保持具を回転自在に設け、前記第
   二保持具を回転してウェーハのスライスベース方向を設
   定することを特徴とする請求項１に記載のウェーハ洗浄
   スライスベース剥離装置。
4. 【請求項４】ウェーハを載せる固定テーブルを設け、イ
   ンゴット切断機から横姿勢で搬出されたウェーハを、前
   記第一保持具でウェーハの中心部を保持して前記テーブ
   ル部に搬入した後、ウェーハの保持位置を外周近傍に変
   えてウェーハを縦姿勢に向きを変えることを特徴とする
   請求項１又は請求項３に記載のウェーハ洗浄スライスベ
   ース剥離装置。
5. 【請求項５】 インゴット切断機から横姿勢で搬出され
   たウェーハを、前記第一保持具でウェーハの中心部を保
   持して前記姿勢設定部に搬入した後、ウェーハの保持位
   置を外周近傍に変えてウェーハを縦姿勢に向きを変える
   ことを特徴とする請求項２に記載のウェーハ洗浄スライ
   スベース剥離装置。
6. 【請求項６】 前記乾燥・剥離部が、 ウェーハに乾燥空気を吹き付ける乾燥ノズルと、 所定の温度の発熱をするヒータが内蔵されたクランプ台
   と、 ウェーハの基材部分を前記クランプ台に固定するクラン
   パーと、 ウェーハのスライスベースをウェーハの厚さ方向に押す
   プッシャーと、 から構成されたことを特徴とする請求項１から請求項５
   までのいずれか１に記載のウェーハ洗浄スライスベース
   剥離装置。
7. 【請求項７】 前記乾燥・剥離部が、ウェーハのスライ
   スベース方向を水平方向とするように構成されたことを
   特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか１に記
   載のウェーハ洗浄スライスベース剥離装置 。
8. 【請求項８】 前記水平搬送部の前記搬送アームの駆動
   方法がサーボモータによるネジ駆動であることを特徴と
   する請求項１から請求項７までのいずれか１に記載のウ
   ェーハ洗浄スライスベース剥離装置 。 【０００１】