JPH08245681A - グルコサミン誘導体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】非イオン性界面活性として用いられる１−置換
２−置換アミノ−２−デオキシ−Ｄ−グルコピラノシ
ド誘導体の製造の中間体として有用なグルコサミン誘導
体及びその製造方法を提供する。 【構成】例えば、式 【化１】 で表される化合物（ただし、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁ −Ｃ
₄ アルキル／フェニル）シリルエチル基である。Ｒ² は
水素原子、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイル基
である。）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、グルコサミン誘導体及
びその製造方法に関する。かかるグルコサミン誘導体
は、ルイスＸ及びシアリルルイスＸ糖鎖類等の誘導体の
製造中間体や非イオン性界面活性剤の製造中間体として
用いられる。

【０００２】

【従来の技術】膜タンパク質の構造や機能の解析におい
ては、目的とするタンパク質を精製することが必要であ
り、そのためには、不溶性タンパク質の可溶化剤とし
て、界面活性剤を用いるのが一般的である。これら界面
活性剤のうち非イオン性界面活性剤は、膜タンパク質な
どを失活させずに可溶化するのにかなり適していること
が知られている。なかでも、実際に糖誘導体で汎用され
ているのは、オクチルグルコシド（ｎ−オクチル−β−
Ｄ−グルコシド）、ヘプチルチオグリコシド（ｎ−ヘプ
チル−β−Ｄ−チオグルコシド）などである（土屋友
房，新生化学実験講座１，タンパク質Ｉ，５３〜６６
項，日本生化学会編）。したがって、これらの類縁体で
ある糖化合物の合成は、膜タンパク質の構造や機能の解
析研究において重要である。しかしながら、これらの構
造活性相関に関する詳細な報告はなく、その最適化がな
されているとは言いがたい。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、非イ
オン性界面活性剤として重要な１−置換 ２−Ｎ−置換
アミノ−２−デオキシ−Ｄ−グルコピラノシド誘導体の
効率的製造原料となる中間体を提供すること、及びその
中間体の製造法を提供することにある。さらに、かかる
中間体から１−置換 ２−Ｎ−置換アミノ−２−デオキ
シ−Ｄ−グルコピラノシド誘導体を製造する方法を提供
することにある。かかる本発明化合物は、低廉な出発原
料であるグルコサミンより容易に得られる。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成するため鋭意検討を重ねた結果、低廉な出発原料で
あるグルコサミンから容易に得られる後述の化合物すな
わち、２−トリ（Ｃ₁−Ｃ₄ アルキル／フェニル）シリ
ルエチル ２−Ｎ−アリルオキシカルボニル−２−アミ
ノ−２−デオキシ−Ｄ−グルコピラノシド誘導体、及
び、２−トリ（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル／フェニル）シリル
エチル ２−アミノ−２−デオキシ−Ｄ−グルコピラノ
シド誘導体が、各種の１−置換 ２−Ｎ−置換アミノ−
２−デオキシ−Ｄ−グルコピラノシド誘導体の合成に有
用な化合物であることを見出し、本発明を完成するに至
った。

【０００５】すなわち本発明は、第一には、一般式

【化１２】 （式中、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル／フェニ
ル）シリルエチル基である。Ｒ² は水素原子、Ｃ₁ −Ｃ
₆ アルカノイル基またはアロイル基である。）で表され
る化合物またはその塩に関する。第二には、一般式

【化１３】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² は前述したものと同意義を示す。）
で表される化合物またはその塩に関する。

【０００６】第三には、一般式

【化１４】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² は前述したものと同意義を示す。）
で表される化合物のうち、水酸基を含む場合には水酸基
を保護したのち、アリルオキシカルボニル基を脱保護す
ることにより一般式

【化１５】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² は前述したものと同意義を示す。）
で表される化合物となし、次いでアミノ基を修飾して、
一般式

【化１６】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² は前述したものと同意義を示す。Ｙ
はＣ（Ｏ）、ＳＯ₂ 、Ｃ（Ｏ）ＮＨ、Ｃ（Ｏ）Ｏあるい
はＣ（Ｏ）Ｓである。Ｒ³ は置換もしくは無置換のアリ
−ル基、アリールＣ₁ −Ｃ₆ アルキル基または置換もし
くは無置換のＣ₁−Ｃ₁₈アルキル基である。）で表され
る化合物となし、必要に応じてこれをＯ−アシル化反応
に付し、一般式

【化１７】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ³ 、Ｙは前述したものと同意義を示
す。Ｒ²'はＣ₁ −Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイル基
である。）で表される化合物となし、次いで、この化合
物の還元末端の２−トリ（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル／フェニ
ル）シリルエチルオキシ基を脱離基に変換して、一般式

【化１８】 （式中、Ｒ²'、Ｒ³ 、Ｙは前述したものと同意義を示
す。Ｘは脱離基である。）で表される化合物となし、次
いで、これを一般式 Ｒ⁴ ＯＨ （式中、Ｒ⁴ はＣ₁ −Ｃ₁₈アルキル基または置換基を有
するＣ₁ −Ｃ₁₈アルキル基である。）で表される化合物
とグリコシル化して、一般式

【化１９】 （式中、Ｒ²'、Ｒ³ 、Ｙ、及びＲ⁴ は前述したものと同
意義を示す。）で表される化合物となし、次いでこれを
脱保護することを特徴とする、一般式

【化２０】 （式中、Ｒ³ 、Ｙ、及びＲ⁴ は前述したものと同意義を
示す。）で表される化合物の製造方法に関する。

【０００７】第四には、一般式

【化２１】 （式中、Ｒ² は前述したものと同意義を示す。）で表さ
れる化合物のうち、水酸基を含む場合には水酸基を保護
して、一般式

【化２２】 （式中、Ｒ²'は前述したものと同意義を示す。）で表さ
れる化合物となし、必要に応じてこの化合物の還元末端
を適宜脱離基に変換して、一般式

【化２３】 （式中、Ｒ²'は前述したものと同意義を示す。Ｘは脱離
基である。）で表される化合物となし、次いで、これを
一般式 Ｒ¹ ＯＨ （式中、Ｒ¹ は前述したものと同意義を示す。）で表さ
れる化合物とグリコシル化して、一般式

【化２４】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ²'は前述したものと同意義を示す。）
で表される化合物となし、次いでこれを必要に応じて脱
保護することを特徴とする、一般式

【化２５】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² は前述したものと同意義を示す。）
で表される本発明化合物の製造方法に関する。

【０００８】本発明における置換基を、以下に説明す
る。ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子またはヨウ素原子を意味する。アリ−ル基とは、炭化
水素、酸素原子を一つ含む炭化水素、硫黄原子を一つ含
む炭化水素、窒素原子を一つ含む炭化水素、あるいは窒
素原子を二つ含む炭化水素のいずれかが環をなすことに
より形成される、五員単環式、六員単環式、六員環と五
員環が縮合した縮合多環式、あるいは六員環同志が縮合
した縮合多環式の芳香環基を意味する。すなわち、アリ
−ル基としては、例えばフェニル基等の単環式芳香族炭
化水素基、例えばナフチル基、アントラセニル基（アン
スリル基）、フェナンスレニル基等の縮合多環式芳香族
炭化水素基、例えばフリル基、チエニル基、ピリジル
基、ピラジニル基、ベンゾフラニル（ベンゾ〔ｂ〕フラ
ニル）基、イソベンゾフラニル（ベンゾ〔ｃ〕フラニ
ル）基、ベンゾチエニル（ベンゾ〔ｂ〕チエニル）基、
イソベンゾチエニル（ベンゾ〔ｃ〕チエニル）基、ピリ
ミジニル基、ピリダジニル基、キノリニル基、イソキノ
リニル基、キノキサリニル基、ナフチリジニル基、フタ
ラジニル基、キナゾリニル基等の酸素原子、硫黄原子あ
るいは１ないし２個の窒素原子を含む芳香族複素環式基
などが挙げられる。基を形成するにあたっての結合枝の
位置は、取り得る全ての位置より任意に選択することが
できる。

【０００９】置換されたアリール基とは、以下に述べる
置換基のうち１ないし数種を、１ないし複数個、芳香環
上に有するアリール基である。かかる置換基としては、
ハロゲン原子、ニトロ基、トリフルオロメチル基、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、
３−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、４−ヘプチル基、オクチル基、
ノニル基、５−ノニル基、デシル基、ウンデシル基、６
−ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、７−トリ
デシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、８−ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、９−ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、等の炭素数１〜１８個
のアルキル基、フェニル基、例えばメトキシ基、エトキ
シ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシル
オキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ
基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ
基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシ
ルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキ
シ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、
オクタデシルオキシ基等の炭素数１〜１８個のアルコキ
シ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、（置換ベンジ
ル）オキシ基、アミノ基、ベンジルアミノ基、（置換ベ
ンジル）アミノ基、炭素数１〜１８個のモノアルキルア
ミノ基、各々が炭素数１〜１８個のジアルキルアミノ
基、アルキル鎖の炭素数が１〜１８個のアルキルベンジ
ルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、プロピオニルア
ミノ基、ブチリルアミノ基、バレリルアミノ基、ペンタ
ノイルアミノ基、シクロペンタンカルボキサミド基、ヘ
キサノイルアミノ基、シクロヘキサンカルボキサミド
基、ヘプタノイルアミノ基、オクタノイルアミノ基、ノ
ナノイルアミノ基、デカノイルアミノ基、ウンデカノイ
ルアミノ基、ドデカノイルアミノ基、トリデカノイルア
ミノ基、テトラデカノイルアミノ基、ペンタデカノイル
アミノ基、ヘキサデカノイルアミノ基、ヘプタデカノイ
ルアミノ基等の炭素数１〜１８個のアルカノイルアミノ
基（アルキルカルボキサミド基）、例えばベンゾイルア
ミノ基、ナフトイルアミノ基等の炭素数１〜１０個のア
ロイルアミノ基、カルボキシル基、例えばメチルカルバ
モイル基、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイ
ル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル
基、シクロペンチルカルバモイル基、ヘキシルカルバモ
イル基、シクロヘキシルカルバモイル基、ヘプチルカル
バモイル基、オクチルカルバモイル基、ノニルカルバモ
イル基、デシルカルバモイル基、ウンデシルカルバモイ
ル基、ドデシルカルバモイル基、トリデシルカバモイル
基、テトラデシルカルバモイル基、ペンタデシルカルバ
モイル基、ヘキサデシルカルバモイル基、ヘプタデシル
カルバモイル基、オクタデシルカルバモイル基等のアル
キル部分の炭素数が１〜１８個のアルキルカルバモイル
基（アルキルアミノカルボニル基）等を挙げることがで
きる。

【００１０】Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基とは、炭素数１〜
６個からなる直鎖状または分枝状のアルキルカルボニル
基であり、そのアルキル部分は１または複数個のハロゲ
ン原子等により置換されていてもよい。具体的には、ホ
ルミル基、アセチル基、クロロアセチル基、ジクロロア
セチル基、トリクロロアセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル
基、ピバロイル基、ペンタノイル基、イソペンタノイル
基、ネオペンタノイル基等が挙げられ、特に好適には、
アセチル基、クロロアセチル基、トリクロロアセチル基
およびピバロイル基が挙げられる。アロイル基とは、ア
リールカルボニル基と同意義であり、そのアリール部分
は上に述べた如き置換されたアリールであってもよい。
式中のＲ¹ は、２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニ
ル）シリルエチル基を意味する。ここで、２−トリ（Ｃ
₁-Ｃ₄ アルキル／フェニル）シリルエチル基とは、同種
または異種のＣ₁-Ｃ₄ アルキル基またはフェニル基が珪
素原子上に計３個置換した２−シリルエチル基を意味
し、具体的には２−トリメチルシリルエチル基、２−ト
リエチルシリルエチル基、２−（トリイソプロピルシリ
ル）エチル基、２−（ｔ−ブチルジメチルシリル）エチ
ル基、２−トリフェニルシリルエチル基、２−（ジフェ
ニルメチルシリル）エチル基、２−（ｔ−ブチルジフェ
ニルシリル）エチル基などが挙げられる。式中のＲ³ に
おけるアリールＣ₁-Ｃ₆ アルキル基とは、例えばフェニ
ルＣ₁-Ｃ₆ アルキル基、すなわち、末端にフェニル基を
有する炭素数１から６個からなる直鎖状ないしは分枝状
のアルキル基であり、具体的には、ベンジル基、フェネ
チル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェ
ニルペンチル基、フェニルヘキシル基等を挙げることが
できる。式中のＲ³ 、Ｒ⁴ におけるＣ₁-Ｃ₁₈アルキル基
とは、炭素数１〜１８個からなる直鎖状ないしは分枝状
のアルキル基またはシクロアルキル基であり、具体的に
は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、２−ブチル基、ｔ−ブチ
ル基、ペンチル基、３−ペンチル基、イソペンチル基、
ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、４−ヘプチ
ル基、オクチル基、ノニル基、５−ノニル基、デシル
基、ウンデシル基、６−ウンデシル基、ドデシル基、ト
リデシル基、７−トリデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、８−ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、９−ヘプタデシル基、オクタデシル基、
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオク
チル基、（４−シクロヘキシル）シクロヘキシル基等が
挙げられる。

【００１１】式中のＲ³ 、Ｒ⁴ における、置換基を有す
るＣ₁-Ｃ₁₈アルキル基とは、以下に述べる置換基を有す
る、炭素数１〜１８個からなる直鎖状または分枝状のア
ルキル基である。かかる置換基としては、ハロゲン原
子、トリフルオロメチル基、例えばシクロプロピル基、
シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素数１
〜１８個のシクロアルキル基、アリール基、置換された
アリール基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル
基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イ
ソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、シク
ロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシ
ルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノ
ニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、
ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシル
オキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ
基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基等の
炭素数１〜１８個のアルコキシ基、ジフェニルメトキシ
基、トリフェニルメトキシ基、アリールオキシ基、置換
されたアリールオキシ基、ベンジルオキシ基等々が挙げ
られる。かかる置換基の置換位置としては、糖鎖還元末
端の酸素原子と直接結合する炭素原子を除く、全ての炭
素原子上が可能である。またこれらの置換基は、かかる
アルキル鎖上に、単にひとつのみならず、複数個（２〜
５個）置換することもでき、その置換基の種類は、同種
のものでも異種のものでもよい。式中のＸにおける脱離
基としては、具体的には、ハロゲン原子、例えばアセト
キシ基、プロポキシ基等の炭素数１〜６個からなるアル
カノイルオキシ基、例えばベンゾイルオキシ基等のアロ
イルオキシ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プ
ロピルチオ基、イソプロピルチオ基等の炭素数１〜６個
からなる直鎖状あるいは分枝状のアルキルチオ基、フェ
ニルチオ基、ピリジルチオ基、フェニルスルフィニル
基、フェニルセレニル基、例えばアセトイミデート基、
トリクロロアセトイミデート基、Ｎ−メチルアセトイミ
デート基等のイミデート基、例えばジメチルホスホリル
基、ジエチルホスホリル基等の炭素数１〜６個のアルキ
ル基からなるジアルキルホスホリル基、ジフェニルホス
ホリル基等が挙げられる。

【００１２】本発明化合物（１）および本発明化合物
（２）は、以下に記載する方法によって、１−置換 ２
−Ｎ−置換アミノ−２−デオキシ−Ｄ−グルコピラノシ
ド誘導体（７）と変換することができる。 〔スキームＡ〕

【化２６】

【化２７】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ²'、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｙは前述と同
意義を示す。Ｘは脱離基である。）

【００１３】（Ａ−１工程）本発明化合物（１）のアミ
ノ基上の保護基であるアリルオキシカルボニル基（Ａｌ
ｌｏｃ）を、選択的に脱保護することによって、本発明
化合物（２）を製造することができる。脱保護の方法と
しては、例えば、“Protective Groups in Organic Syn
thesis”( T. W. Greene, P. G. M. Wuts 共著、第２
版、John Wiley & Sons,Inc. (1991) ）の 331〜332 頁
に記載の方法が挙げられる。実際に脱保護を行うに当た
っては、これらの方法のなかから、アミノ基上の保護基
であるＡｌｌｏｃのみを選択的に脱保護しうる方法を適
宜選択することが必要である。Ａｌｌｏｃの脱保護に
は、例えば、アリル捕捉剤の存在下、テトラキス（トリ
フェニルホスフィン）パラジウム（ＴＰＡＬ）を用いる
ことにより、容易に脱保護できる。ＴＰＡＬの使用量は
触媒量でよく、通常は０．００１〜１当量用いる。ま
た、アリル捕捉剤としては、例えばジメドン、マロン酸
ジエチル、モルホリン、アニリン、水素化トリブチルス
ズ、ポリメチルヒドロシロキサン等を挙げることができ
る。反応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒としては塩
化メチレン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系
溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、クロロベンゼンなどの芳香族系溶媒、ヘ
キサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、
ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリ
ルなどの極性非プロトン性溶媒、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノールなどのアルコール
系溶媒等が挙げられる。これらは単独もしくは混合溶媒
として使用される。反応温度は−７０℃から１００℃、
好ましくは０℃から６０℃（もしくは溶媒の沸点）の範
囲で選ばれる。反応時間は主に反応温度、使用される原
料化合物、試剤、溶媒等により左右されるが、通常１時
間から１日間である。

【００１４】（Ａ−２工程）本発明化合物（２）を種々
の反応条件下で親電子剤と反応させることにより、化合
物（３）を製造することができる。塩基の存在下で反応
せしめる場合の親電子剤としては、前記のＲ³ で表され
る置換基を含むカルボン酸ハライド、カルボン酸無水
物、ハロギ酸エステル、ピロカーボネート、スルホン酸
ハライド、あるいはスルホン酸無水物等を用いることが
できる。ハライドのハロゲン原子としては塩素、臭素、
ヨウ素などが挙げられる。塩基としては、炭酸ナトリウ
ムや炭酸カリウムなどの炭酸塩、水酸化ナトリウムや水
酸化カリウムなどの水酸化物、重炭酸ナトリウムや重炭
酸カリウムなどの重炭酸塩、リン酸水素二ナトリウム、
リン酸水素二カリウム、あるいはトリエチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジメ
チルアニリン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕
ウンデセン（ＤＢＵ）、ヘキサメチルジシラザンリチウ
ムなどの有機塩基等を用いることができる。中性条件下
で反応せしめる場合の親電子剤としては、前記のＲ³ で
表される置換基を含むイソシアネート、イソチオシアネ
ート等を用いることができる。縮合剤共存下で反応せし
める場合の親電子剤としては、前記のＲ³ で表される置
換基を含むカルボン酸、スルホン酸、チオカルボン酸等
を用いることができる。

【００１５】縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド（ＤＣＣ）、ジイソプロピルカルボジイミド
（ＤＩＰＣ）、Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノ
プロピルカルボジイミド（ＷＳＣＩ）およびその塩酸塩
（ＷＳＣ・ＨＣｌ）、ベンゾトリアゾール−１−イル−
トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロ
リン化物塩（ＢＯＰ）、ジフェニルホスホリルアジド
（ＤＰＰＡ）等を用いることができる。これらは単独
で、あるいはＮ−ヒドロキシスクシンイミド（ＨＯＮＳ
ｕ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢ
ｔ）、３−ヒドロキシ−４−オキソ−３，４−ジヒドロ
−１，２，３−ベンゾトリアジン（ＨＯＯｂｔ）等と組
み合わせて用いる。反応は溶媒中で行うのが好ましく、
溶媒としては塩化メチレン、１，２−ジクロロエタンな
どのハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエーテル
系溶媒、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼンなどの芳
香族系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭
化水素系溶媒、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ）、アセトニトリルなどの極性非プロトン性溶媒、メ
タノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ルなどのアルコール系溶媒、アセトン、水などが挙げら
れる。これらは単独もしくは混合溶媒として使用され
る。反応温度は−７０℃から１００℃、好ましくは０℃
から６０℃（もしくは溶媒の沸点）の範囲で選ばれる。
反応時間は主に反応温度、使用される原料化合物、試
剤、溶媒等により左右されるが、通常１時間から２日間
である。

【００１６】（Ａ−３工程）上記で得られた化合物
（３）を、必要に応じて、塩基の存在下、アシル化剤と
反応させることにより、化合物（４）を製造することが
できる。アシル化剤としては、前記のＲ²'で表される置
換基を含むカルボン酸ハライド、カルボン酸無水物等を
用いることができる。ハライドのハロゲン原子としては
塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられる。塩基としては、
炭酸ナトリウムや炭酸カリウムなどの炭酸塩、水酸化ナ
トリウムや水酸化カリウムなどの水酸化物、重炭酸ナト
リウムや重炭酸カリウムなどの重炭酸塩、リン酸水素二
ナトリウム、リン酸水素二カリウム、あるいはトリエチ
ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリ
ジン、ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ
〔５．４．０〕ウンデセン（ＤＢＵ）、ヘキサメチルジ
シラザンリチウムなどの有機塩基等を用いることができ
る。反応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒としては塩
化メチレン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系
溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、クロロベンゼンなどの芳香族系溶媒、ヘ
キサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、
ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリ
ルなどの極性非プロトン性溶媒などが挙げられる。これ
らは単独もしくは混合溶媒として使用される。反応温度
は−７０℃から１００℃、好ましくは０℃から６０℃
（もしくは溶媒の沸点）の範囲で選ばれる。反応時間は
主に反応温度、使用される原料化合物、試剤、溶媒等に
より左右されるが、通常１時間から２日間である。ただ
し、Ｒ² が水素原子でない場合には、化合物（３）と化
合物（４）は全く等価であり、本工程は何ら行う必要が
ない。

【００１７】（Ａ−４工程）上記の方法により得られた
化合物（４）は、Magnusson らの方法により（J.Org. C
hem., 55, 3181 (1990) ）、触媒量のルイス酸の存在
下、１，１−ジハロメチルメチルエーテルなどのハロゲ
ン化試剤で処理することにより、対応する糖ハライド体
（５）に導くことができる。ハライドのハロゲン原子と
しては塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられる。あるい
は、Magnusson らの別の方法に従って（J. Org. Chem.,
53, 5629 (1988) ）、ルイス酸の存在下に酸無水物と反
応させるか、あるいはプロトン酸と反応させることによ
り、１−Ｏ−アシル化糖（５）あるいは１−ＯＨ体へと
導くことができる。用いるルイス酸としては、例えば塩
化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、塩化第一スズ、臭化第
一スズ、ヨウ化第一スズ、塩化第二スズ、臭化第二ス
ズ、ヨウ化第二スズ、四塩化チタン、四臭化チタン、四
ヨウ化チタン、塩化第二鉄、臭化第二鉄、ヨウ化第二
鉄、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ化アル
ミニウム、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホ
ネート（ＴＭＳトリフラート）、スズトリフラート、エ
ーテル性三フッ化ホウ素などを挙げることができる。一
方、プロトン酸としては、例えば、蟻酸、酢酸、トリフ
ルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸、塩酸、過塩素酸、硫酸等を用いることができ
る。

【００１８】ルイス酸を用いる場合の使用量は、通常
０．００１〜１当量である。一方、プロトン酸を用いる
場合には、通常０．０１当量以上であり、時に反応溶媒
を兼ねて大過剰に用いる。反応は無溶媒下、あるいは溶
媒中で行われ、用いる溶媒としてはクロロホルム、塩化
メチレン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系溶
媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、クロロベンゼンなどの芳香族系溶媒、ジ
メチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリ
ル、ニトロメタンなどの極性非プロトン性溶媒などが挙
げられる。これらは単独もしくは混合溶媒として使用さ
れる。反応温度は−７０℃から１００℃、好ましくは−
２０℃から６０℃（もしくは溶媒の沸点）の範囲で選ば
れる。反応時間は主に反応温度、使用される原料化合
物、試剤、溶媒等により左右されるが、通常１時間から
１日間である。これらのハライド体、１−Ｏ−アシル化
糖もしくは１−ＯＨ体は、さらに既知の方法により、ア
ルキルチオ基、フェニルチオ基、ピリジルチオ基、フェ
ニルスルフィニル基、フェニルセレニル基、イミデート
基、ジアルキルホスホリル基、あるいはジフェニルホス
ホリル基など種々の脱離基Ｘを有する化合物（５）へと
変換することもできる（例えば、第４版実験化学講座、
26巻、有機合成VII 、267 〜354 頁、日本化学会編 (19
92）を参照のこと）。

【００１９】（Ａ−５工程）このようにして得られた化
合物（５）を、ルイス酸もしくは金属塩の存在下、各種
アルコールもしくはフェノール類と反応させることによ
り、化合物（６）を製造することができる（例えば、第
４版実験化学講座、26巻、有機合成VII 、267 〜354
頁、日本化学会編 (1992）を参照のこと）。反応に用い
るルイス酸もしくは金属塩としては、塩化亜鉛、臭化亜
鉛、ヨウ化亜鉛、塩化第一スズ、臭化第一スズ、ヨウ化
第一スズ、塩化第二スズ、臭化第二スズ、ヨウ化第二ス
ズ、四塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタン、塩
化第二鉄、臭化第二鉄、ヨウ化第二鉄、塩化第二銅、臭
化第二銅、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ
化アルミニウム、塩化第二水銀、臭化第二水銀、ヨウ化
第二水銀、シアン化第二水銀、酸化水銀、酸化銀、炭酸
銀、過塩素酸銀、塩化第一銀、臭化第一銀、ヨウ化第一
銀、ケイ酸銀、四フッ化ホウ素酸銀、銀ゼオライト、ト
リメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（ＴＭ
Ｓトリフラート）、銀トリフラート、スズトリフラー
ト、メチルトリフラート、無水トリフラート、過塩素酸
トリチル、四フッ化珪素、塩化トリメチルシラン、臭化
トリメチルシラン、ヨウ化トリメチルシラン、エーテル
性三フッ化ホウ素などが挙げられ、必要に応じてこれら
を組み合わせて用いることもできる。反応は溶媒中で行
うのが好ましく、用いる溶媒としては塩化メチレン、
１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系溶媒、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、
ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、クロロベンゼンなどの芳香族系溶媒、ヘキサン、シ
クロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、アセト
ニトリル、プロピオニトリル、ニトロメタン、ニトロエ
タン、ニトロプロパンなどの極性非プロトン性溶媒、も
しくはアセトンなどが挙げられる。これらは単独もしく
は混合溶媒として使用される。反応に伴って系内に生成
する酸の捕捉剤として、反応系内にＮ，Ｎ，Ｎ',Ｎ'−
テトラメチルウレア、ピリジン、２，６−ジ−ｔ−ブチ
ルピリジン、２，６−ルチジン、２，４，６−コリジ
ン、トリエチルアミンあるいはモレキュラーシーブス
（ＭＳ３Ａ、ＭＳ４ＡあるいはＭＳ５Ａ）等を共存させ
てもよい。反応は無水の条件下で行うことが望ましく、
従って、溶媒、試薬、基質、反応容器等について、でき
る限り水分を除去したほうがよい。場合により、水分除
去のため、反応系内にモレキュラーシーブス（ＭＳ３
Ａ、ＭＳ４ＡあるいはＭＳ５Ａ）または無水硫酸カルシ
ウム等の脱水剤を共存させてもよい。また、銀塩を用い
る反応は、光を遮断して行ったほうがよい。反応温度は
−７０℃から１００℃、好ましくは−２０℃から６０℃
（もしくは溶媒の沸点）の範囲で選ばれる。反応時間は
主に反応温度、使用される原料化合物、試剤、溶媒等に
より左右されるが、通常１時間から５日間である。

【００２０】（Ａ−６工程）上記で得られた化合物
（６）を、溶媒中、塩基性条件下で加水分解することに
より、化合物（７）を製造することができる。塩基とし
ては、炭酸ナトリウムや炭酸カリウムなどの炭酸塩、水
酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどの水酸化物、重炭
酸ナトリウムや重炭酸カリウムなどの重炭酸塩、リン酸
水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、あるいはト
リエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミ
ン、ピリジン、ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシ
クロ〔５．４．０〕ウンデセン（ＤＢＵ）、ヘキサメチ
ルジシラザンリチウム、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシドなどの有機塩基等を用いることができ
る。反応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒としては塩
化メチレン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系
溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、クロロベンゼンなどの芳香族系溶媒、ヘ
キサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、
ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリ
ルなどの極性非プロトン性溶媒、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノールなどのアルコール
系溶媒、アセトン、水などが挙げられる。これらは単独
もしくは混合溶媒として使用される。反応温度は−７０
℃から１００℃、好ましくは０℃から６０℃（もしくは
溶媒の沸点）の範囲で選ばれる。反応時間は主に反応温
度、使用される原料化合物、試剤、溶媒等により左右さ
れるが、通常１時間から２日間である。

【００２１】また、本発明化合物（１）は、以下に記載
する方法によって製造することができる。 〔スキームＢ〕

【化２８】

【化２９】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ²'およびＲ³ は前述と同意義を
示す。Ｘは脱離基である。）

【００２２】（Ｂ−１工程）文献記載の方法（例えば、
P.Boullanger等，Can. J. Chem.,65, 1343 (1987))によ
り、グルコサミンから誘導できる化合物（８）を、必要
に応じて、Ａ−３工程と同様の方法で、塩基の存在下、
アシル化剤と反応させることにより、化合物（９）を製
造することができる。ただし、Ｒ² が水素原子でない場
合には、化合物（８）と化合物（９）は全く等価であ
り、本工程は何ら行う必要がない。 （Ｂ−２工程）上記の方法により得られた化合物（９）
は、既知の方法により１−ＯＨ体、あいは対応する糖ハ
ライド体（１０）に導くことができる。ハライドのハロ
ゲン原としては、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられ
る。これらの１−Ｏ−アシル化糖、ハライド体もしくは
１−ＯＨ体は、さらに既知の方法により、アルキルチオ
基、フェニルチオ基、ピリジルチオ基、フェニルスルフ
ィニル基、フェニルセレニル基、イミデート基、ジアル
キルホスホリル基、あるいはジフェニルホスホリル基な
ど種々の脱離基Ｘを有する化合物（１０）へと変換する
こともできる（例えば、第４版実験化学講座、26巻、有
機合成VII 、267 〜354 頁、日本化学会編 (1992）を参
照のこと）。ただし、Ｒ² が水素原子でない場合には、
化合物（８）、化合物（９）、及び化合物（１０）は全
く等価であり、本工程は何ら行う必要がない。

【００２３】（Ｂ−３工程）上記の方法により得られた
化合物（１０）を、Ａ−５工程と同様の方法で、２トリ
（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル／フェニル）シリルエタノ−ルと
反応させることにより、化合物（１１）を製造すること
ができる。 （Ｂ−４工程）上記の方法により得られた化合物（１
１）を、必要に応じて、Ａ−６工程と同様の方法で、加
水分解することにより、本発明化合物（１）を製造する
ことができる。ただし、Ｒ² が水素原子でない場合に
は、化合物（１１）と化合物（１）は全く等価であり、
本工程は何ら行う必要がない。なお、上記いずれの反応
においても、反応の目的生成物は、反応終了後、常法に
従って、反応混合物から採取される。例えば、反応の目
的生成物が水溶性を有さない場合には、反応混合物に水
と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶媒を留去する
ことによって、目的生成物を得ることができる。一方、
反応の目的生成物が脂溶性を有さない場合には、反応混
合物中の溶媒を必要に応じ留去して水に置換し、水と混
和しない有機溶媒にて洗浄後、水を留去することによっ
て、目的生成物を得ることができる。得られた目的物
は、必要に応じ、常法、例えば、再結晶、再沈澱あるい
はクロマトグラフィー等によって、更に精製することも
できる。

【００２４】

〔実施例１〕

２−（トリメチルシリル）エチル ２−Ｎ−アリルオキ
シカルボニル−２−アミノ−２−デオキシ−３，４，６
−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
（３）の合成 ２−Ｎ−アリルオキシカルボニル−２−アミノ−２−デ
オキシ−１，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−
Ｄ−グルコピラノース（１）（172.56g ，0.40mmol) を
塩化メチレン (1035ml) に溶解し、−１５℃に冷却後、
この溶液に２５％臭化水素−酢酸溶液 (388.4g, 1.20m
mol)を１時間かけて滴下した。−１５℃にて２時間攪拌
し、（２−Ｎ−アリルオキシカルボニル−２−アミノ−
２−デオキシ−３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−α−
Ｄ−グルコピラノシル）ブロマイド（２）の生成確認
後、反応溶液を水、５％重曹水、水の順で洗浄し、有機
層をモレキュラーシーブス４Ａにて乾燥し、濾過し、化
合物２の塩化メチレン溶液を得た。このようにして得た
化合物２の塩化メチレン溶液を−５℃で２−（トリメチ
ルシリル）エタノール（94.6g, 0.80mmol)、炭酸銀
（Ｉ） (331g，1.2mmol)およびモレキュラーシーブス４
Ａ（429g）の塩化メチレン（1035ml) 混合液中に９０分
かけて滴下後、１時間攪拌した。反応終了確認後、反応
液を濾過し、濾液を５％重曹水、水の順で洗浄し、有機
層を濃縮した。得られた残渣をトルエンに溶解し、ヘキ
サン中に滴下し、析出した結晶を濾ろ取することにより
目的化合物３(153.0g 、収率78％）を白色結晶として得
た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃ ) 5.90-5.75 (1H, m) 、5.27-5.08 (4H, m) 、4.96 (1H,
t, J=9.57Hz)、4.65-4.45 (2H, broad m) 、4.47 (1H,
d, J=4.28Hz, H-1) 、4.20 (1H, dd) 、4.04 (1H, dd)
、3.94-3.84 and 3.70-3.60 (2H, m, 0CH₂ CH₂SiMe₃)
、3.63-3.45 (2H, m) 、1.99 (3H, s, Ac)、1.94 (3H,
s, Ac)、1.93 (3H, s, Ac)、0.94-0.80(2H, m, OCH ₂CH
₂ SiMe₃ ) 、0.00 (9H, s, OCH₂CH₂SiMe₃ )

【００２５】〔実施例２〕 ２−（トリメチルシリル）エチル ２−アミノ−２−デ
オキシ−３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グ
ルコピラノシド（４）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル ２−Ｎ−アリルオキ
シカルボニル−２−アミノ−２−デオキシ−３，４，６
−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
（３）（1.54g, 3.15mmol)をテトラヒドロフラン（30m
l) に溶解し、室温にて、テトラキス（トリフェニルフ
ォスフィン）パラジウム（154mg)、ポリメチルハイドロ
シロキサン（14.0μl)を加え攪拌した。１時間後、テト
ラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（1.67
g)、ポリメチルハイドロシロキサン（280μl)を追加し
攪拌した。さらに、１５時間後、テトラキス（トリフェ
ニルフォスフィン）パラジウム（1.82g)を追加し３時間
攪拌した。反応終了確認後、反応液を塩化メチレンにて
希釈し水洗した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥
後、濾過し、瀘液を濃縮し、目的化合物４（理論量 1.2
8g）を含む残渣を得た。これは精製することなく次の反
応に用いた。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃ ) 5.26 (1H, t, J=9.57Hz)、 5.08 (1H, t, J=9.57Hz) 、
4.59 (1H, d, J=7.59Hz, H-1) 、4.32 (1H, dd, J=12.2
1Hz, J=4.95Hz, H-6) 、4.21-3.93 (3H, m) 、3.65-3.4
6 (2H, m, OCH₂ CH₂SiMe₃ )、2.06 (s, 3H, Ac)、2.00
(s, 3H, Ac)、1.98 (s, 3H, Ac)、1.00-0.84 (2H, m,
OCH ₂CH₂ SiMe₃ ) 、0.00 (9H, s, OCH₂CH₂SiMe₃ )

【００２６】〔実施例３−１〕 ２−（トリメチルシリル）エチル ２−デオキシ−２−
ナフタミド−３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ
−グルコピラノシド（５）の合成 〔実施例２〕で得られた２−（トリメチルシリル）エチ
ル ２−アミノ−２−デオキシ−３，４，６−トリ−Ｏ
−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（４）（理論量
1.28g）を含む残渣を塩化メチレン (30ml) に溶解し、
室温にて、炭酸水素ナトリウム（2.65g, 31.5mmol)、塩
化β−ナフトイル（3.00g, 15.7mmol)を加え、２０時間
攪拌した。反応終了確認後、反応液を塩化メチレンにて
希釈し、水、食塩水の順で洗浄した。有機層を硫酸マグ
ネシウムにて乾燥後、濾過し、瀘液を濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィ−にて精製し目的化
合物５（1.05g, 収率 化合物３より２段階で60％）を
白色結晶として得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃ ) 8.24 (1H, s)、7.93-7.85 (3H, m) 、7.78-7.76 (1H,
m) 、7.60-7.51 (1H, m) 、6.30 (1H, d, J=8.91Hz, N-
H) 、 5.55-5.48 (1H, m)、5.21-5.14 (1H, m)、4.86
(1H, d, J=7.91Hz, H-1) 、4.32 (1H, dd, J=12.21Hz,
J=4.95Hz, H-6)、4.21-3.95 (3H, m, H-6 and OCH₂ CH
₂SiMe₃) 、3.82-3.77 (1H, m, H-5)、3.6 4-3.54 (1H,
m, H-2) 、2.11 (s, 3H, Ac)、2.05 (s, 3H, Ac)、1.98
(s, 3H,Ac)、0.96-0.84 (2H, m, OCH ₂CH₂ SiMe₃)、0.0
0 (s, OCH₂CH₂SiMe₃ )

【００２７】〔実施例３−２〕 （２−デオキシ−２−ナフタミド−３，４，６−トリ−
Ｏ−アセチル−Ｄ−グルコピラシル）クロライド（６）
の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル ２−デオキシ−２−
ナフタミド−３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ
−グルコピラノシド（５）（100mg, 0.179mmol)をクロ
ロホルム（6.0ml)に溶解し、室温にてジクロロメチルメ
チルエ−テル（81μl, 0.896mmol) 、塩化亜鉛（6,0mg,
44 μmol)を加え、２時間攪拌した。反応終了確認後、
反応液を濃縮し、目的化合物６（理論量 85.4mg ）を含
む残渣を得た。これは精製することなく次の反応に用い
た。

【００２８】〔実施例３−３〕 ドデシル ２−デオキシ−２−ナフタミド−３，４，６
−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
（７）の合成 〔実施例３−２〕で得られた（２−デオキシ−２−ナフ
タミド−３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−Ｄ−グルコ
ピラノシル）クロライド（６）（理論量 85.4m）を含む
残渣を塩化メチレン（2.5ml)に溶解し、モレキュラ−シ
−ブス４Ａ（175mg)、トリフルオロメタンスルホン酸す
ず（II) (112mg, 0.27mmol）を加えた。この混合液に室
温にて、１−ドデカノ−ル（67mg, 0.36mmol) とテトラ
メチルウレア（33μl, 0.27mmol ）とを含む塩化メチレ
ン（1.0ml ）溶液を滴下した。８時間後及び３２時間後
に、前述と同量のトリフルオロメタンスルホン酸すず
（II)、１−ドデカノ−ル、テトラメチルウレアを追加
し５０時間攪拌した。反応終了確認後、反応系をセライ
ト濾過し、瀘液を濃縮した。得られた残渣をプレパラテ
ィブシリカゲルクロマトグラフィ−にて精製し目的化合
物７（112.4mg, 収率化合物６より２段階で47％）を薄
黄アモルファスとして得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 8.23 (1H, s)、7.90-7.83 (3H, m) 、7.79-7.75 (1H,
m) 、7.59-7.49 (1H, m) 、6.40 (1H, d, J=8.58Hz, N-
H) 、 5.52 (1H, dd, J=10.56Hz, J=9.57Hz) 、5.18 (1
H, t, J=9.57Hz)、4.83 (1H, d, J=8.25Hz, H-1) 、4.3
2 (1H, dd, J=12.21Hz, J=4.62Hz, H-6) 、4.21-3.86
(3H, m) 、3.82-3.76 (1H, m, H-5)、3.53-3.45 (1H,
m, H-2)、2.11 (3H, s, Ac)、2.05 (3H, s, Ac)、1.98
(3H, s, Ac)、1.56-1.48 (2H, m, OCH ₂CH₂ (CH₂)₉ M_e )
、1.28-1.05 (18H, m, OCH₂CH ₂(CH₂)₉ M_e ) 、0.87 (3
H, t, J=7.26Hz, OCH₂CH₂(CH₂) ₉M _e )

【００２９】〔実施例３−４〕 ドデシル ２−デオキシ−２−ナフタミド−β−Ｄ−グ
ルコピラノシド（８）の合成 ドデシル ２−デオキシ−２−ナフタミド−３，４，６
−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
（７）（16mg, 0.025mmol)をメタノ−ル(0.50ml)に溶解
し、室温にて、28％ナトリウムメトキシド溶液（メタノ
−ル溶液 5.0 μl ）を加え、１８時間攪拌した。反応
終了確認後、反応液を酸性イオン交換樹脂（DOWEX 50W-
X8) にて中和し、濾過し、瀘液を濃縮した。残渣をポリ
アクリルアミドゲルを用いたカラムクロマトグラフィ−
にて精製し、凍結乾燥を行い、目的化合物８（11.5mg,
収率90％）を白色粉末として得た。¹ H-NMR (270MHz, CD₃ OD ) 8.32 (1H, s)、7.87-7.79 (4H, m) 、7.51-7.42 (2H,
m) 、4.51 (1H, d, J=8.25Hz, H-1) 、3.87-3.80 (3H,
m) 、 3.66-3.57 (2H, m)、3.43-3.26 (3H, m)、1.44-
1.33 (2H, m, OCH ₂CH₂ (CH₂)₉M _e ) 、1.18-0.90 (18H,
m, OCH₂CH ₂( CH ₂ ) ₉ M _e ) 、0.78 (3H, t, J=7.26H
z, OCH₂CH₂(CH₂) ₉M _e )

【００３０】〔実施例４〕 ２−（トリメチルシリル）エチル ２−Ｎ−アリルオキ
シカルボニル−２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グ
ルコピラノシド（９）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル ２−Ｎ−アリルオキ
シカルボニル−２−アミノ−２−デオキシ−３，４，６
−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
（３）（49.0g ，0.10mmol) をメタノール（150ml)に溶
解し、室温にて２８％ナトリウムメトキシド溶液（メタ
ノール溶液, 6.0g，0.02mmol) を加え１時間攪拌した。
反応終了確認後、反応液を濃縮した。残渣を塩化メチレ
ンに溶解し、水洗後、ヘプタンを用いて晶析を行い、結
晶を濾取することにより目的化合物９（28.6ｇ，収率79
％）を白色固体として得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃ ) 5.96-5.83 (1H, m) 、5.75 (1H, d, J=8.25Hz, NH)、5.
30 (1H, dd) 、5.18 (1H, dd) 、5.05 (1H, s, OH)、4.
72 (1H, s, OH)、4.55 (1H, d, J=5.60Hz, H-1) 、4.48
(1H, d, J=8.25Hz)、4.03-3.88 and 3.75-3.65 (2H,
m, OCH₂ CH₂ SiMe₃ ) 、3.85 (2H, s)、3.78-3.23 (5
H, m) 、2.41 (1H, s, OH)、0.99-0.85 (2H, m, OCH ₂CH
₂ SiMe₃ ) 、0.00 (9H, s, OCH₂CH₂SiMe₃ )

【００３１】上記実施例における化合物（１）から
（９）の構造式を以下に示す。

【化３０】

【化３１】

【化３２】

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式 【化１】 （式中、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル／フェニ
   ル）シリルエチル基である。Ｒ² は水素原子、Ｃ₁ −Ｃ
   ₆ アルカノイル基またはアロイル基である。）で表され
   る化合物またはその塩。
2. 【請求項２】 一般式 【化２】 （式中、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル／フェニ
   ル）シリルエチル基である。Ｒ² は水素原子、Ｃ₁ −Ｃ
   ₆ アルカノイル基またはアロイル基である。）で表され
   る化合物またはその塩。
3. 【請求項３】 請求項２記載の化合物のアミノ基を修飾
   して、一般式 【化３】 （式中、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル／フェニ
   ル）シリルエチル基である。Ｒ² は水素原子、Ｃ₁ −Ｃ
   ₆ アルカノイル基またはアロイル基である。ＹはＣ
   （Ｏ）、ＳＯ₂ 、Ｃ（Ｏ）ＮＨ、Ｃ（Ｏ）ＯあるいはＣ
   （Ｏ）Ｓである。Ｒ³は置換もしくは無置換のアリ−ル
   基、アリールＣ₁ −Ｃ₆ アルキル基または置換もしくは
   無置換のＣ₁ −Ｃ₁₈アルキル基である。）で表される化
   合物となし、必要に応じてこれをＯ−アシル化反応に付
   し、一般式 【化４】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ³ 、Ｙは前述したものと同意義を示
   す。Ｒ²'はＣ₁ −Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイル基
   である。）で表される化合物となし、次いで、この化合
   物の還元末端の２−トリ（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル／フェニ
   ル）シリルエチルオキシ基を脱離基に変換して、一般式 【化５】 （式中、Ｒ²'、Ｒ³ 、Ｙは前述したものと同意義を示
   す。Ｘは脱離基である。）で表される化合物となし、次
   いで、これを一般式 Ｒ⁴ ＯＨ （式中、Ｒ⁴ は置換または無置換のＣ₁ −Ｃ₁₈アルキル
   基である。）で表される化合物とグリコシル化して、一
   般式 【化６】 （式中、Ｒ²'、Ｒ³ 、Ｙ、及びＲ⁴ は前述したものと同
   意義を示す。）で表される化合物となし、次いでこれを
   脱保護することを特徴とする、一般式 【化７】 （式中、Ｒ³ 、Ｙ、及びＲ⁴ は前述したものと同意義を
   示す。）で表される化合物の製造方法。
4. 【請求項４】 一般式 【化８】 （式中、Ｒ² は水素原子、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルカノイル基ま
   たはアロイル基である。）で表される化合物のうち、水
   酸基を含む場合には水酸基を保護して、一般式 【化９】 （式中、Ｒ²'はＣ₁ −Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイ
   ル基である。）で表される化合物となし、必要に応じて
   この化合物の還元末端を適宜脱離基に変換して、一般式 【化１０】 （式中、Ｒ²'は前述したものと同意義を示す。Ｘは脱離
   基である。）で表される化合物となし、次いで、これを
   一般式 Ｒ¹ ＯＨ （式中、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル／フェニ
   ル）シリルエチル基である。）で表される化合物とグリ
   コシル化して、一般式 【化１１】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ²'は前述したものと同意義を示す。）
   で表される化合物となし、次いでこれを必要に応じて脱
   保護することを特徴とする、請求項１記載の化合物の製
   造方法。