JP2725710B2 - レジオ選択的反応によるシュークロース誘導体の合成法 - Google Patents
レジオ選択的反応によるシュークロース誘導体の合成法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、レジオ選択的な反応によって、シユークロ
ース誘導体を製造する方法に関し、例えば本発明の方法
を使用して、６−位に置換基のあるモノ−置換シユーク
ロース誘導体を製造することができる。本発明は、更に
又ある種の新規なジスタンオキサンを提供する。
ース誘導体を製造する方法に関し、例えば本発明の方法
を使用して、６−位に置換基のあるモノ−置換シユーク
ロース誘導体を製造することができる。本発明は、更に
又ある種の新規なジスタンオキサンを提供する。
本発明を要約すれば、シユークロースを1,3−ジ（ハ
イドロカルビルオキシ）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロ
カルビル）ジスタンオキサンと反応させて、1,3−ジ−
（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3−テトラ（ハイ
ドロカルビル）ジスタンオキサンの製造し、得られた生
成物をアシル化剤と反応させてシユークロース−６−エ
ステルを製造することである。
イドロカルビルオキシ）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロ
カルビル）ジスタンオキサンと反応させて、1,3−ジ−
（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3−テトラ（ハイ
ドロカルビル）ジスタンオキサンの製造し、得られた生
成物をアシル化剤と反応させてシユークロース−６−エ
ステルを製造することである。
本発明の背景 シユークロース（蔗糖）は二糖類であり、第１図はそ
の分子構造を示したものである（これらの図中、シユー
クロースとその誘導体は立体配座式（conformational f
ormula）で示してある。便利のため、２個の環中にある
炭素原子に結合している水素原子、及び炭素原子の位置
は第１図だけに示してある）。シユークロースは３個の
第１級ヒドロキシル基、及び５個の第２級ヒドロキシル
基を含んでいる。その為、ヒドロキシル基を反応させて
シユークロース誘導体を製造する必要がある時は、反応
をどのようにして、必要なヒドロキシル基だけに行わせ
るかが、合成上重要な問題となる。例えば人工甘味料4.
1′,6′−トリクロロ−4,1′,6′−トリデオキシガラク
トシユークロースは、シユークロースの4,1′,6′位に
あるヒドロキシル基を塩素で置換して、誘導する（同甘
味料の製造法で、４−位置の立体配置が逆転して、生成
物はガラクトシユークロースになる）。この化合物及び
合成法は、米国特許第4,343,934号、第4,362,869号、第
4,380,476号、及び第4,435,440号に示されている。塩素
原子を必要な位置だけに配向させることが、特に置換さ
れるヒドロキシル基の反応性が異なるため、合成上の重
要な問題となる（ヒドロキシル基の２個は１級、もう１
個は２級であり、しかも最終生成物の６位の１級ヒドロ
キシルが未置換のまま残るので、合成は更に複雑にな
る）。この甘味料の製造は、ある特定の複数のヒドロキ
シル基を誘導化するか、あるいは１個のヒドロキシル基
を誘導化するか、後者の場合、好ましくは特に特定の１
個又は複数個のヒドロキシル基を誘導化しないでおい
て、それを行うシユークロース誘導体合成のほんの１例
に過ぎない。シユークロースを基体にしたモノエステル
表面活性剤の製造は、シユークロース分子のモノ置換反
応を商業化した１例である。
の分子構造を示したものである（これらの図中、シユー
クロースとその誘導体は立体配座式（conformational f
ormula）で示してある。便利のため、２個の環中にある
炭素原子に結合している水素原子、及び炭素原子の位置
は第１図だけに示してある）。シユークロースは３個の
第１級ヒドロキシル基、及び５個の第２級ヒドロキシル
基を含んでいる。その為、ヒドロキシル基を反応させて
シユークロース誘導体を製造する必要がある時は、反応
をどのようにして、必要なヒドロキシル基だけに行わせ
るかが、合成上重要な問題となる。例えば人工甘味料4.
1′,6′−トリクロロ−4,1′,6′−トリデオキシガラク
トシユークロースは、シユークロースの4,1′,6′位に
あるヒドロキシル基を塩素で置換して、誘導する（同甘
味料の製造法で、４−位置の立体配置が逆転して、生成
物はガラクトシユークロースになる）。この化合物及び
合成法は、米国特許第4,343,934号、第4,362,869号、第
4,380,476号、及び第4,435,440号に示されている。塩素
原子を必要な位置だけに配向させることが、特に置換さ
れるヒドロキシル基の反応性が異なるため、合成上の重
要な問題となる（ヒドロキシル基の２個は１級、もう１
個は２級であり、しかも最終生成物の６位の１級ヒドロ
キシルが未置換のまま残るので、合成は更に複雑にな
る）。この甘味料の製造は、ある特定の複数のヒドロキ
シル基を誘導化するか、あるいは１個のヒドロキシル基
を誘導化するか、後者の場合、好ましくは特に特定の１
個又は複数個のヒドロキシル基を誘導化しないでおい
て、それを行うシユークロース誘導体合成のほんの１例
に過ぎない。シユークロースを基体にしたモノエステル
表面活性剤の製造は、シユークロース分子のモノ置換反
応を商業化した１例である。
本発明は、反応が厳密に６−位配向性であり、しかも
モノ置換誘導体しか生成しないという、高度にレジオ選
択的である本発明の方法によって、シユークロース化合
物を合成する手段を提供する。レジオ選択的（Regiosel
ective）なる用語は、単一生成物の形成を非常に助ける
反応を意味する［Hassner,“Regiospecificity.A usefl
Terminology in Addition and Eliminiation Reaction
s",J.Org.Chem.33,No.7,2684−6,July 1968参照］。
モノ置換誘導体しか生成しないという、高度にレジオ選
択的である本発明の方法によって、シユークロース化合
物を合成する手段を提供する。レジオ選択的（Regiosel
ective）なる用語は、単一生成物の形成を非常に助ける
反応を意味する［Hassner,“Regiospecificity.A usefl
Terminology in Addition and Eliminiation Reaction
s",J.Org.Chem.33,No.7,2684−6,July 1968参照］。
発明の簡単な説明 本発明の方法は、シユークロースを1,3−ジ（ハイド
ロカルビルオキシ）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカル
ビル）ジスタンオキサンと反応させて、新規な化合物で
ある、1,3−ジ−（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3
−テトラ（ハイドロカルビル）ジスタンオキサンの製造
し、得られた生成物をアシル化剤と反応させてシユーク
ロース−６−エステルを製造することからなる。本発明
の好ましい態様において、1,3−ジ（ハイドロカルビ
ル）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカルビル）ジスタン
オキサンは、例えばジ（ハイドロカルビル）酸化錫、又
はその対応反応成分をアルコール又はフェノールと反応
させて、使用の際その場で製造する。
ロカルビルオキシ）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカル
ビル）ジスタンオキサンと反応させて、新規な化合物で
ある、1,3−ジ−（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3
−テトラ（ハイドロカルビル）ジスタンオキサンの製造
し、得られた生成物をアシル化剤と反応させてシユーク
ロース−６−エステルを製造することからなる。本発明
の好ましい態様において、1,3−ジ（ハイドロカルビ
ル）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカルビル）ジスタン
オキサンは、例えばジ（ハイドロカルビル）酸化錫、又
はその対応反応成分をアルコール又はフェノールと反応
させて、使用の際その場で製造する。
先行技術 “REGRIOSELECTIVE MANIPULATION OF HYDROXYL GROUP
VIA ORGANOTIN DERIVATIVES"（有機錫化合物を経由す
るヒドロキシル基のレジオ選択的操作法）［Tetrahedro
n,Vol.41,No.4,pp 643−663（1985）］なる題名の綜説
の中で、David他は、錫化合物がヒドロキシル基含有化
合物と反応して、スタンオキシ化合物を生成し、同化合
物は更にアルキル化、又はアシル化することができ、エ
ーテル又はエステルを製造できることを示している。ビ
ス（トリブチル錫）オキシドをシユークロースを始めと
して各種炭水化物と反応させ、次いでアシル化して置換
度が異なるエステル混合物を製造する方法が公知されて
いる。炭水化物との反応で、ジブチル錫オキシドを使用
することも、同論文に示されている。同著者は、２種類
のジアルキルスタンニレン炭水化物誘導体、即ちメチル
4,6−Ｏ−ベンジリデン−α−Ｄ−グルコピラノシドの
2,3−Ｏ−ジブチルスタンニレン誘導体、及び4,6−Ｏ−
ベンジリデン−2,3−Ｏ−ジブチルスタンニレン−α−
Ｄ−マンノピラノシドの製造を報告している。これら２
種のスタンニレン誘導体に対して提案された分子構造が
同論文645頁の図３及び４に示してある。
VIA ORGANOTIN DERIVATIVES"（有機錫化合物を経由す
るヒドロキシル基のレジオ選択的操作法）［Tetrahedro
n,Vol.41,No.4,pp 643−663（1985）］なる題名の綜説
の中で、David他は、錫化合物がヒドロキシル基含有化
合物と反応して、スタンオキシ化合物を生成し、同化合
物は更にアルキル化、又はアシル化することができ、エ
ーテル又はエステルを製造できることを示している。ビ
ス（トリブチル錫）オキシドをシユークロースを始めと
して各種炭水化物と反応させ、次いでアシル化して置換
度が異なるエステル混合物を製造する方法が公知されて
いる。炭水化物との反応で、ジブチル錫オキシドを使用
することも、同論文に示されている。同著者は、２種類
のジアルキルスタンニレン炭水化物誘導体、即ちメチル
4,6−Ｏ−ベンジリデン−α−Ｄ−グルコピラノシドの
2,3−Ｏ−ジブチルスタンニレン誘導体、及び4,6−Ｏ−
ベンジリデン−2,3−Ｏ−ジブチルスタンニレン−α−
Ｄ−マンノピラノシドの製造を報告している。これら２
種のスタンニレン誘導体に対して提案された分子構造が
同論文645頁の図３及び４に示してある。
Wagner他［J.Org.Chem.,39,24（1974）］は、ジブチ
ル錫オキシドをヌクレオシドとメタノール還流下に反応
させて、ヌクレオシドのジブチルスタンニレン誘導体の
製造について記載している。メタノールを溜去してか
ら、スタンニレン誘導体を等当量の酸クロリド及びトリ
エチルアミンと反応させ、アシル化している。
ル錫オキシドをヌクレオシドとメタノール還流下に反応
させて、ヌクレオシドのジブチルスタンニレン誘導体の
製造について記載している。メタノールを溜去してか
ら、スタンニレン誘導体を等当量の酸クロリド及びトリ
エチルアミンと反応させ、アシル化している。
Holzapfel他は、その論文“Sucrose Derivative and
the Selective benzoylation of the Secondary Hydrox
yl groups of 6,1′,6′−tri−Ｏ−tritylsucrose"
（シユークロース誘導体及び6,1′,6′−トリ−Ｏ−ト
リチルシユークロースの第２級ヒドロキシル基の選択的
ベンジル化）、（S.Afr.Tydskr.cehm.1984,37（３）pp.
57−61）で、ジブチル錫オキシドを6,1′,6′−トリ−
Ｏ−トリチルシユークロースと、次いで塩化ベンゾイル
と反応させると、72％収率で３′−Ｏ−ベンゾイル−6,
1′,6′−トリ−Ｏ−トリチルシユークロース、９％の
２−Ｏ−安息香酸エステル誘導体及び少量の2,3−ジ安
息香酸エステル誘導体が生成することを示している。
the Selective benzoylation of the Secondary Hydrox
yl groups of 6,1′,6′−tri−Ｏ−tritylsucrose"
（シユークロース誘導体及び6,1′,6′−トリ−Ｏ−ト
リチルシユークロースの第２級ヒドロキシル基の選択的
ベンジル化）、（S.Afr.Tydskr.cehm.1984,37（３）pp.
57−61）で、ジブチル錫オキシドを6,1′,6′−トリ−
Ｏ−トリチルシユークロースと、次いで塩化ベンゾイル
と反応させると、72％収率で３′−Ｏ−ベンゾイル−6,
1′,6′−トリ−Ｏ−トリチルシユークロース、９％の
２−Ｏ−安息香酸エステル誘導体及び少量の2,3−ジ安
息香酸エステル誘導体が生成することを示している。
先行技術では基本的には、（上述の著者達が示してい
るように）錫との結合を形成してヒドロキシル基の反応
性が増加するが、シユークロースのようなポリヒドロキ
シ化合物で、どのヒドロキシル基が活性化されるかは予
見できない［上記David他の論文の646−７頁にある、
“Stereoelectronic consequence of the Sn−O bond.
−−nucleophilic enhancement of oxygen atom"（Sn−
Ｏ結合の電子論的立体化学−酸素原子の親核性強化）と
いう題名の章で、特にこの章の最終パラグラフ参照］。
るように）錫との結合を形成してヒドロキシル基の反応
性が増加するが、シユークロースのようなポリヒドロキ
シ化合物で、どのヒドロキシル基が活性化されるかは予
見できない［上記David他の論文の646−７頁にある、
“Stereoelectronic consequence of the Sn−O bond.
−−nucleophilic enhancement of oxygen atom"（Sn−
Ｏ結合の電子論的立体化学−酸素原子の親核性強化）と
いう題名の章で、特にこの章の最終パラグラフ参照］。
図の簡単な説明 図 １ないし３はシユークロース、1,3−ジ−（６−Ｏ
−シユークロース）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカル
ビル）ジスタンオキサン及びシユークロース−６−エス
テルをそれぞれ示したものである。
−シユークロース）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカル
ビル）ジスタンオキサン及びシユークロース−６−エス
テルをそれぞれ示したものである。
本発明の詳細な説明 本発明の方法は、1,3−ジ（ハイドロカルビルオキ
シ）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカルビル）ジスタン
オキサン［以後簡単のためにジ（ハイドロカルビルオキ
シ）ジスタンオキサンと呼ぶことにする］をシユークロ
ースと反応させて、1,3−ジ（６−Ｏ−シユークロー
ス）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカルビル）ジスタン
オキサン［以後簡単のためにジ（ハイドロカルビル）ス
タンオキシルシユークロースと呼ぶ］を形成し、得られ
たジ（ハイドロカルビル）スタンオキシルシユークロー
スをアシル化剤と反応させてシユークロース−６−エス
テルを形成することからなる。以下これらの反応につい
て、ジブチル錫オキシドを使用して、使用するその場で
ジ（ハイドロカルビルオキシ）ジスタンオキサンを発生
させ、そしてアシル化剤として無水安息香酸を使用して
説明する。
シ）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカルビル）ジスタン
オキサン［以後簡単のためにジ（ハイドロカルビルオキ
シ）ジスタンオキサンと呼ぶことにする］をシユークロ
ースと反応させて、1,3−ジ（６−Ｏ−シユークロー
ス）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカルビル）ジスタン
オキサン［以後簡単のためにジ（ハイドロカルビル）ス
タンオキシルシユークロースと呼ぶ］を形成し、得られ
たジ（ハイドロカルビル）スタンオキシルシユークロー
スをアシル化剤と反応させてシユークロース−６−エス
テルを形成することからなる。以下これらの反応につい
て、ジブチル錫オキシドを使用して、使用するその場で
ジ（ハイドロカルビルオキシ）ジスタンオキサンを発生
させ、そしてアシル化剤として無水安息香酸を使用して
説明する。
メタノール（100ml）、シユークロース（5g）、そし
てジブチル錫オキシド（3.64g−シユークロース１モル
基準で１モル当量、即ちシユークロース１モル当たり、
１モルの錫を使用する）を、適当な反応容器に充填す
る。反応容器の内容物を沸騰させ、２ないし2.5時間還
流し、メタノールを溜去する。この反応の生成物は、1,
3−ジ（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3−テトラブ
チルジスタンオキサン（またはジブチルスタンオキシル
シユークロース“DBSS"）で白色固体である。得られた
白色固体をN,N−ジメチルホルムアミド（“DMF"）100ml
に取り、3.64gの無水安息香酸（シユークロース基準で
約１モル当量）を添加する。反応容器の内容物を室温で
１夜放置してから、DMFを溜去する。塩化メチレン（“M
eCl2"）約100mlを添加する。反応生成物である、シユー
クロース−６−ベンゾエートはMeCl2に不溶であり、固
体として析出する。固体は、約３ないし６重量％のシユ
ークロースとそれにバランスするシユークロース−６−
ベンゾエートを含んでいる。反応は、ほぼ完全にレジオ
選択的であり、６−置換シユークロースベンゾエートの
収率は97％以上である（同収率％は、高速液体クロマト
グラフィー（HPLC）溶出図のピーク面積合計に対するシ
ユークロース−６−ベンゾエートのピーク面積の割合で
ある。他の生成物で、UV発色団を持っているものがあっ
たが、単離、固定しなかった。UV吸収を持たない化合物
の大部分はシユークロースでこの方法では検出されなか
った。それ故これらは別々に測定し、報告する）。有機
錫物質は、MeCl2中に残る。シユークロース−６−ベン
ゾエート生成物は、MeCl2で沈澱させた後は、痕跡量の
錫しか含んでいない。
てジブチル錫オキシド（3.64g−シユークロース１モル
基準で１モル当量、即ちシユークロース１モル当たり、
１モルの錫を使用する）を、適当な反応容器に充填す
る。反応容器の内容物を沸騰させ、２ないし2.5時間還
流し、メタノールを溜去する。この反応の生成物は、1,
3−ジ（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3−テトラブ
チルジスタンオキサン（またはジブチルスタンオキシル
シユークロース“DBSS"）で白色固体である。得られた
白色固体をN,N−ジメチルホルムアミド（“DMF"）100ml
に取り、3.64gの無水安息香酸（シユークロース基準で
約１モル当量）を添加する。反応容器の内容物を室温で
１夜放置してから、DMFを溜去する。塩化メチレン（“M
eCl2"）約100mlを添加する。反応生成物である、シユー
クロース−６−ベンゾエートはMeCl2に不溶であり、固
体として析出する。固体は、約３ないし６重量％のシユ
ークロースとそれにバランスするシユークロース−６−
ベンゾエートを含んでいる。反応は、ほぼ完全にレジオ
選択的であり、６−置換シユークロースベンゾエートの
収率は97％以上である（同収率％は、高速液体クロマト
グラフィー（HPLC）溶出図のピーク面積合計に対するシ
ユークロース−６−ベンゾエートのピーク面積の割合で
ある。他の生成物で、UV発色団を持っているものがあっ
たが、単離、固定しなかった。UV吸収を持たない化合物
の大部分はシユークロースでこの方法では検出されなか
った。それ故これらは別々に測定し、報告する）。有機
錫物質は、MeCl2中に残る。シユークロース−６−ベン
ゾエート生成物は、MeCl2で沈澱させた後は、痕跡量の
錫しか含んでいない。
上記の説明のための反応で、ジブチル錫オキシドとシ
ユークロースを混合、メタノール還流下に加熱する。こ
のメタノールは最初にジブチル錫オキシドと反応して、
1,3−ジメトキシ−1,1,3,3−テトラブチルジスタンオキ
サン又はジメトキシジスタンオキサンを生成すると信じ
られている。このジメトキシジスタンオキサンがシユー
クロースと反応して、DBSSを生ずると信じられている。
DBSSを分析したところ、同化合物の構造が、下記式 Su
c−Ｏ−Sn（Bu）２−Ｏ−Sn（Bu）２−Ｏ−Suc 式中 Sucは６−Ｏ−シユークロース（即ち、シユークロー
ス部分が６位の炭素原子に結合している酸素原子を経て
結合している）を表し、そして Buはブチルを表す、 を有しているとの結論と一致した。図２は、本発明の方
法によって製造される1,3−ジ（６−Ｏ−シユークロー
ス）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカルビル）ジスタン
オキサンの分子構造を示したものである。この図中基Ｒ
は、同一か又は異なるハイドロカルビル（炭化水素）基
を表す。
ユークロースを混合、メタノール還流下に加熱する。こ
のメタノールは最初にジブチル錫オキシドと反応して、
1,3−ジメトキシ−1,1,3,3−テトラブチルジスタンオキ
サン又はジメトキシジスタンオキサンを生成すると信じ
られている。このジメトキシジスタンオキサンがシユー
クロースと反応して、DBSSを生ずると信じられている。
DBSSを分析したところ、同化合物の構造が、下記式 Su
c−Ｏ−Sn（Bu）２−Ｏ−Sn（Bu）２−Ｏ−Suc 式中 Sucは６−Ｏ−シユークロース（即ち、シユークロー
ス部分が６位の炭素原子に結合している酸素原子を経て
結合している）を表し、そして Buはブチルを表す、 を有しているとの結論と一致した。図２は、本発明の方
法によって製造される1,3−ジ（６−Ｏ−シユークロー
ス）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカルビル）ジスタン
オキサンの分子構造を示したものである。この図中基Ｒ
は、同一か又は異なるハイドロカルビル（炭化水素）基
を表す。
シユークロースとジ（ハイドロカルビルオキシ）ジス
タンオキサン反応剤は、希望する1,3−ジ（６−Ｏ−シ
ユークロース）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカルビ
ル）ジスタンオキサン生成物が製造される割合で使用す
る。本発明の好ましい実施態様では、ジ（ハイドロカル
ビルオキシ）ジスタンオキサンは、それを使用する際
に、ジ（ハイドロカルビル）酸化錫を、低級アルカノー
ル、例えばメタノールとの反応によってその場で製造
し、得られたジ（ハイドロカルビル）酸化錫とシユーク
ロースは、シユークロース１モル当たり、少なくとも１
モルのジ（ハイドロカルビル）酸化錫があるような割合
で使用するのが好ましい。ジ（ハイドロカルビル）酸化
錫の割合を僅かに高くするのは、エステル化反応にとっ
て有害ではないが、錫化合物の割合を当量比以下にする
と、DBSSに変換されるシユークロースの量が減少し、そ
のために反応特異性が減少する。ジブチルオキシドの代
わりに、他のジ（ハイドロカルビル）酸化錫、即ちその
錫に結合しているハイドロカルビル基がそれぞれ、アル
キル、シクロアルキル、アリール、又はアリールアルキ
ル、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチ
ル、ベンジル、フェニルエチル、フェニル、ナフチル、
シクロヘキシル、及び置換フェニルである化合物を使用
することができる。好ましいハイドロカルビル基は、８
個以下の炭素原子を有するアルキルである。該有機酸化
錫の代わりに、ジ（ハイドロカルビル）錫ジアルコキシ
ド、ジハライド、ジアシレート又はその他の錫化合物
が、それが使用現場で、ジ（ハイドロカルビルオキシ）
ジスタンオキサンを生成する限り使用することができ
る。
タンオキサン反応剤は、希望する1,3−ジ（６−Ｏ−シ
ユークロース）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカルビ
ル）ジスタンオキサン生成物が製造される割合で使用す
る。本発明の好ましい実施態様では、ジ（ハイドロカル
ビルオキシ）ジスタンオキサンは、それを使用する際
に、ジ（ハイドロカルビル）酸化錫を、低級アルカノー
ル、例えばメタノールとの反応によってその場で製造
し、得られたジ（ハイドロカルビル）酸化錫とシユーク
ロースは、シユークロース１モル当たり、少なくとも１
モルのジ（ハイドロカルビル）酸化錫があるような割合
で使用するのが好ましい。ジ（ハイドロカルビル）酸化
錫の割合を僅かに高くするのは、エステル化反応にとっ
て有害ではないが、錫化合物の割合を当量比以下にする
と、DBSSに変換されるシユークロースの量が減少し、そ
のために反応特異性が減少する。ジブチルオキシドの代
わりに、他のジ（ハイドロカルビル）酸化錫、即ちその
錫に結合しているハイドロカルビル基がそれぞれ、アル
キル、シクロアルキル、アリール、又はアリールアルキ
ル、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチ
ル、ベンジル、フェニルエチル、フェニル、ナフチル、
シクロヘキシル、及び置換フェニルである化合物を使用
することができる。好ましいハイドロカルビル基は、８
個以下の炭素原子を有するアルキルである。該有機酸化
錫の代わりに、ジ（ハイドロカルビル）錫ジアルコキシ
ド、ジハライド、ジアシレート又はその他の錫化合物
が、それが使用現場で、ジ（ハイドロカルビルオキシ）
ジスタンオキサンを生成する限り使用することができ
る。
これらの反応は、シユークロース及びジ（ハイドロカ
ルビルオキシ）ジスタンオキサンの溶媒である有機液状
反応媒体中で実施する。ジ（ハイドロカルビルオキシ）
ジスタンオキサンをその場で生成させる時は、反応媒体
は又、ジ（ハイドロカルビルオキシ）ジスタンオキサン
生成に使用する化合物の溶剤でもあることが好ましい。
更に好ましくは反応媒体には、ジ（ハイドロカルビルオ
キシ）ジスタンオキサンをその場で生成するのに使用さ
れる反応剤も使用することができる。反応溶媒体とし
て、広範囲な脂肪族、及び脂肪族、及び脂環族アルコー
ル又はフェノールを使用することができる。ジ（ハイド
ロカルビル）酸化錫（又はそれに相当する反応剤）とア
ルコール又はフェノールとの反応は、常圧還流条件下に
実施するのが最も経済的である。この目的には、低級１
級アルコールが一般に好ましい。従って、好ましい反応
溶媒は１級低級アルコール、例えばメタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタ
ノール及びｎ−ヘキサノールである。反応剤／反応媒体
として使用できるアルコール及びフェノールには更に、
２級アルコール、フェノール、置換フェノール、例えば
低級アルキル置換フェノール、シクロヘキサノール及び
置換シクロヘキサノール例えばアルキル置換シクロヘキ
サノールを挙げることができる。不活性有機液体、例え
ばトルエン、キシレン、及びその他の炭化水素も、もし
必要ならば、反応中で使用することができる。
ルビルオキシ）ジスタンオキサンの溶媒である有機液状
反応媒体中で実施する。ジ（ハイドロカルビルオキシ）
ジスタンオキサンをその場で生成させる時は、反応媒体
は又、ジ（ハイドロカルビルオキシ）ジスタンオキサン
生成に使用する化合物の溶剤でもあることが好ましい。
更に好ましくは反応媒体には、ジ（ハイドロカルビルオ
キシ）ジスタンオキサンをその場で生成するのに使用さ
れる反応剤も使用することができる。反応溶媒体とし
て、広範囲な脂肪族、及び脂肪族、及び脂環族アルコー
ル又はフェノールを使用することができる。ジ（ハイド
ロカルビル）酸化錫（又はそれに相当する反応剤）とア
ルコール又はフェノールとの反応は、常圧還流条件下に
実施するのが最も経済的である。この目的には、低級１
級アルコールが一般に好ましい。従って、好ましい反応
溶媒は１級低級アルコール、例えばメタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタ
ノール及びｎ−ヘキサノールである。反応剤／反応媒体
として使用できるアルコール及びフェノールには更に、
２級アルコール、フェノール、置換フェノール、例えば
低級アルキル置換フェノール、シクロヘキサノール及び
置換シクロヘキサノール例えばアルキル置換シクロヘキ
サノールを挙げることができる。不活性有機液体、例え
ばトルエン、キシレン、及びその他の炭化水素も、もし
必要ならば、反応中で使用することができる。
ジ（ハイドロカルビルオキシ）ジスタンオキサンは下
記式 Ｒ′−Ｏ−Sn（Ｒ）２−Ｏ−Sn（Ｒ）２−Ｏ−Ｒ′ 式中 各Ｒ′はそれぞれアルキル、シクロアルキル、アリー
ル、又はアラルキルを表し、そして各Ｒはそれぞれハイ
ドロカルビル基、例えばアルキル、シクロアルキル、ア
リール、又はアラルキルを表す、 で表すことができる。
記式 Ｒ′−Ｏ−Sn（Ｒ）２−Ｏ−Sn（Ｒ）２−Ｏ−Ｒ′ 式中 各Ｒ′はそれぞれアルキル、シクロアルキル、アリー
ル、又はアラルキルを表し、そして各Ｒはそれぞれハイ
ドロカルビル基、例えばアルキル、シクロアルキル、ア
リール、又はアラルキルを表す、 で表すことができる。
シユークロースとジ（ハイドロカルビルオキシ）ジス
タンオキサンとの反応は、ジ（ハイドロカルビル）−ス
タンオキシルシユークロースを生成するのに十分な温
度、及び時間実施する。反応温度は、例えば約50℃ない
し約150℃の範囲である。反応は、常圧（即ち大気圧
下）で反応媒体の還流温度で実施するのが最も便利であ
る。反応時間は、例えば約１時間から約24時間の範囲で
ある。
タンオキサンとの反応は、ジ（ハイドロカルビル）−ス
タンオキシルシユークロースを生成するのに十分な温
度、及び時間実施する。反応温度は、例えば約50℃ない
し約150℃の範囲である。反応は、常圧（即ち大気圧
下）で反応媒体の還流温度で実施するのが最も便利であ
る。反応時間は、例えば約１時間から約24時間の範囲で
ある。
ジ（ハイドロカルビル）−スタンオキシルシユークロ
ースは、当該技術分野で公知の方法と同様にして回収さ
れる。反応媒体は、蒸留によって、必要な場合、減圧下
に蒸留して除去する。生成物は固体であり、必要な場
合、再結晶して精製することができる。
ースは、当該技術分野で公知の方法と同様にして回収さ
れる。反応媒体は、蒸留によって、必要な場合、減圧下
に蒸留して除去する。生成物は固体であり、必要な場
合、再結晶して精製することができる。
もし必要ならば、媒体を溜去して得られたジ（ハイド
ロカルビル）−スタンオキシルシユークロースは、精製
することなく、直接更にアシル化反応に使用することが
できる。同反応では、１モル当量（シユークロース１モ
ル当量にたいする当量数）使用するのが好ましい。この
場合、１モルの無水安息香酸が１モル当量になる。アシ
ル化剤は、もし必要ならば、僅かに過剰、例えば１ない
し５モル％過剰に使用することができる。
ロカルビル）−スタンオキシルシユークロースは、精製
することなく、直接更にアシル化反応に使用することが
できる。同反応では、１モル当量（シユークロース１モ
ル当量にたいする当量数）使用するのが好ましい。この
場合、１モルの無水安息香酸が１モル当量になる。アシ
ル化剤は、もし必要ならば、僅かに過剰、例えば１ない
し５モル％過剰に使用することができる。
アシル化反応で使用するアシル化剤をいかに選択する
かは、生ずるアシル化生成物の用途によってもある程度
決まってくる。例えばアシル基をブロッキング（ある特
定の基をふさぐ閉塞）剤として使用する場合、他えば本
出願の発明の背景の章で議論した人工甘味料の製造のよ
うな場合は、無水安息香酸又は、無水酢酸がそれが安価
なために使用される。アシル基は合成の適当な段階で直
ちに離脱され、そしてアシル基が離脱する迄に受けなけ
ればならない反応条件に対して、アシル化生成物は安定
である。シユークロース−６−エステルが合成の究極
（目的）化合物なら、使用するアシル化剤は、エステル
生成物に対して必要なアシル基を生ずるものである。こ
れらの原則を頭に置いて、安息香酸及び置換安息香酸
（例えば４−ニトロ安息香酸、3,5−ジニトロ安息香
酸、その他）、アルカン酸、例えば酢酸、プロピオン
酸、酪酸、シクロヘキサンカルボン酸、例えば28個以下
の炭素原子を有する飽和及び不飽和長鎖脂肪酸、例えば
ステアリン酸、オレイン酸、リノレン酸、その他、不飽
和酸、例えばアクリル酸及びメタアクリル酸、置換酸、
例えばクロロ酢酸、シアノ酢酸、フェノキシ酢酸、その
他、及び飽和及び不飽和ジカルボン酸、例えばフタール
酸、マレイン酸、グルタール酸その他の色々な酸の無水
物及び酸ハライドが使用される。
かは、生ずるアシル化生成物の用途によってもある程度
決まってくる。例えばアシル基をブロッキング（ある特
定の基をふさぐ閉塞）剤として使用する場合、他えば本
出願の発明の背景の章で議論した人工甘味料の製造のよ
うな場合は、無水安息香酸又は、無水酢酸がそれが安価
なために使用される。アシル基は合成の適当な段階で直
ちに離脱され、そしてアシル基が離脱する迄に受けなけ
ればならない反応条件に対して、アシル化生成物は安定
である。シユークロース−６−エステルが合成の究極
（目的）化合物なら、使用するアシル化剤は、エステル
生成物に対して必要なアシル基を生ずるものである。こ
れらの原則を頭に置いて、安息香酸及び置換安息香酸
（例えば４−ニトロ安息香酸、3,5−ジニトロ安息香
酸、その他）、アルカン酸、例えば酢酸、プロピオン
酸、酪酸、シクロヘキサンカルボン酸、例えば28個以下
の炭素原子を有する飽和及び不飽和長鎖脂肪酸、例えば
ステアリン酸、オレイン酸、リノレン酸、その他、不飽
和酸、例えばアクリル酸及びメタアクリル酸、置換酸、
例えばクロロ酢酸、シアノ酢酸、フェノキシ酢酸、その
他、及び飽和及び不飽和ジカルボン酸、例えばフタール
酸、マレイン酸、グルタール酸その他の色々な酸の無水
物及び酸ハライドが使用される。
アシル化反応は、不活性有機反応媒体、例えばDMF、
その他の極性アプロティック化合物、例えばＮ−メチル
ピロリドン、ジメチルスルホキシド、その他、即ち反応
成分及び反応生成物の両方の溶媒中で実施する。アシル
化反応は、シユークロース−６−エステル製造に十分な
温度で、十分な時間をかけて実施する。典型的な反応温
度は約０℃ないし約80℃の範囲にあることが分かった。
上で検討した反応では、同反応は室温即ち、約18−25℃
で実施した。反応時間は典型的には、約0.5時間から約4
8時間の範囲にあることが分かった。
その他の極性アプロティック化合物、例えばＮ−メチル
ピロリドン、ジメチルスルホキシド、その他、即ち反応
成分及び反応生成物の両方の溶媒中で実施する。アシル
化反応は、シユークロース−６−エステル製造に十分な
温度で、十分な時間をかけて実施する。典型的な反応温
度は約０℃ないし約80℃の範囲にあることが分かった。
上で検討した反応では、同反応は室温即ち、約18−25℃
で実施した。反応時間は典型的には、約0.5時間から約4
8時間の範囲にあることが分かった。
上記反応で得られたシユークロース−６−エステル
は、該技術分野で公知の回収法と同様の方法によって回
収することができる。例えば反応媒体を（蒸留によっ
て）除去し、反応生成物はシユークロース−６−エステ
ル又は副生成物である錫化合物のいずれかを溶解する
か、又はその両者とも溶解しない液状材料に取る。上述
反応では、塩化メチレンが、錫化合物は完全に溶解する
が、シユークロース−６−エステルは溶解しないので採
用された。塩化メチレンを加えてから、シユークロース
−６−エステルは濾過して回収する。得られたシユーク
ロース−６−エステルは中程度に分極したアプロティッ
ク溶剤、例えばアセトニトリル又はアセトンで洗浄し
て、錫化合物を実質的に完全に除去する。これら溶剤
は、錫化合物は溶解するが、シユークロース−６−エス
テルは少ししか又は溶解しない。
は、該技術分野で公知の回収法と同様の方法によって回
収することができる。例えば反応媒体を（蒸留によっ
て）除去し、反応生成物はシユークロース−６−エステ
ル又は副生成物である錫化合物のいずれかを溶解する
か、又はその両者とも溶解しない液状材料に取る。上述
反応では、塩化メチレンが、錫化合物は完全に溶解する
が、シユークロース−６−エステルは溶解しないので採
用された。塩化メチレンを加えてから、シユークロース
−６−エステルは濾過して回収する。得られたシユーク
ロース−６−エステルは中程度に分極したアプロティッ
ク溶剤、例えばアセトニトリル又はアセトンで洗浄し
て、錫化合物を実質的に完全に除去する。これら溶剤
は、錫化合物は溶解するが、シユークロース−６−エス
テルは少ししか又は溶解しない。
本発明のシユークロース−６−エステルの分子構造
は、図３に示した式によって表され、式中“Ac"はアシ
ル基を表す。
は、図３に示した式によって表され、式中“Ac"はアシ
ル基を表す。
本発明を下記実施例によって更に説明する。
実施例 １ 1,3−ジ−（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3−テト
ラブチルジスタンオキサン（“DBSS"） シユークロース（50g）とジブチル錫オキシド（38.2
g）を、１のメタノール中で沸騰還流させ、透明な溶
液を得た（2.5時間）。得られた溶液を蒸発させ、残渣
を真空中で乾燥し、87.9gのDBSSを得た。
ラブチルジスタンオキサン（“DBSS"） シユークロース（50g）とジブチル錫オキシド（38.2
g）を、１のメタノール中で沸騰還流させ、透明な溶
液を得た（2.5時間）。得られた溶液を蒸発させ、残渣
を真空中で乾燥し、87.9gのDBSSを得た。
元素分析：理論値C40H78O23Sn2:C,41.26;H,6.75;Sn,20.
39. 分析値:C,41.28;H,6.84;Sn,20.63. 実施例 ２ シユークロース−６−ベンゾエートエステル シユークロース（5g）、ジブチル錫オキシド（3.64
g）、及びメタノール（200ml）を沸騰還流し、透明な溶
液を得た（2.5時間）。メタノールを水流アスピレータ
ー減圧下、55−60℃で蒸発乾涸し、残渣をDMF（100ml）
に取った。透明な無色の溶液を０℃に冷却して、無水安
息香酸（3.64g）を溶液に添加し、混合物は０−５℃で
４時間撹拌、更に室温で48時間撹拌した。TLC（薄層ク
ロマトグラフィ）（15:10:1クロロホル：メタノール：
酢酸）によって、反応混合物は、主要生成物の安息香酸
モノエステル、痕跡量の無水安息香酸、安息香酸ジエス
テル、及び未反応シユークロースからなることが示され
た。同混合物は、真空ポンプを使用して35−40℃で蒸発
乾涸し、得られた無色の粘凋液体は塩化メチレンに分散
させる。塩化メチレン溶液から、細かな白色固体が沈澱
する。沈澱は真空濾過して回収し、始めに塩化メチレン
で、次いでヘキサンで洗浄し、そして風乾して、5.1重
量％のシユークロース（約0.25％）、シユークロース−
６−ベンゾエートエステル（UV−吸収性物質中96.3％、
その他のシユークロースモノベンゾエートは検出されな
かった）、及び痕跡量の有機化合物を含む4.97gの固体
が得られた、生成物の分析に使用した方法は、下記の通
りである。
39. 分析値:C,41.28;H,6.84;Sn,20.63. 実施例 ２ シユークロース−６−ベンゾエートエステル シユークロース（5g）、ジブチル錫オキシド（3.64
g）、及びメタノール（200ml）を沸騰還流し、透明な溶
液を得た（2.5時間）。メタノールを水流アスピレータ
ー減圧下、55−60℃で蒸発乾涸し、残渣をDMF（100ml）
に取った。透明な無色の溶液を０℃に冷却して、無水安
息香酸（3.64g）を溶液に添加し、混合物は０−５℃で
４時間撹拌、更に室温で48時間撹拌した。TLC（薄層ク
ロマトグラフィ）（15:10:1クロロホル：メタノール：
酢酸）によって、反応混合物は、主要生成物の安息香酸
モノエステル、痕跡量の無水安息香酸、安息香酸ジエス
テル、及び未反応シユークロースからなることが示され
た。同混合物は、真空ポンプを使用して35−40℃で蒸発
乾涸し、得られた無色の粘凋液体は塩化メチレンに分散
させる。塩化メチレン溶液から、細かな白色固体が沈澱
する。沈澱は真空濾過して回収し、始めに塩化メチレン
で、次いでヘキサンで洗浄し、そして風乾して、5.1重
量％のシユークロース（約0.25％）、シユークロース−
６−ベンゾエートエステル（UV−吸収性物質中96.3％、
その他のシユークロースモノベンゾエートは検出されな
かった）、及び痕跡量の有機化合物を含む4.97gの固体
が得られた、生成物の分析に使用した方法は、下記の通
りである。
分析法 シユークロースベンゾエート試料は、高速液体クロマ
トグラフィ（HPLC）で分析した。試料成分は、オクタデ
シルシランHPLCカラムの逆転相上、10％メタノル/90％
0.01MK2HPO4、pH7.51緩衝溶液から69.5％メタノル/30.5
％緩衝溶液を使用した勾配溶出によって分離した。検出
は、波長、254nmでの紫外線吸収によって行った。試料
は、既知組成のシユークロース−６−ベンゾエート標準
品に対して分析し、純度は重量％で出した（標準シユー
クロース−６−ベンゾエートは記載されている方法で製
造し、アセトニトリルから再結晶して高純度の試料を得
た。その構造はNMR分析で確認し、その結果は下記に示
してある）。クロマトグラフィ純度も、全てのクロマト
グラフィピークの合計量に対して計算した。
トグラフィ（HPLC）で分析した。試料成分は、オクタデ
シルシランHPLCカラムの逆転相上、10％メタノル/90％
0.01MK2HPO4、pH7.51緩衝溶液から69.5％メタノル/30.5
％緩衝溶液を使用した勾配溶出によって分離した。検出
は、波長、254nmでの紫外線吸収によって行った。試料
は、既知組成のシユークロース−６−ベンゾエート標準
品に対して分析し、純度は重量％で出した（標準シユー
クロース−６−ベンゾエートは記載されている方法で製
造し、アセトニトリルから再結晶して高純度の試料を得
た。その構造はNMR分析で確認し、その結果は下記に示
してある）。クロマトグラフィ純度も、全てのクロマト
グラフィピークの合計量に対して計算した。
シユークロースラウリン酸エステルは、60％メタノー
ル/40％水の平等移動相を用いて逆転相カラム上で分析
した。屈折率検出法を採用した。
ル/40％水の平等移動相を用いて逆転相カラム上で分析
した。屈折率検出法を採用した。
シユークロースベンゾエート試料中のシユークロース
含量は、HPLC分析で定量した。シユークロースは、他の
試料成分からアミン結合HPLCカラムで、85％アセトニト
リル/15％水の平等移動相を用いて分離した。屈折率検
出法を用い、試料中のシユークロースピークはシユーク
ロース標準溶液からのピークと比較して、試料のシユー
クロース含量を定量した。
含量は、HPLC分析で定量した。シユークロースは、他の
試料成分からアミン結合HPLCカラムで、85％アセトニト
リル/15％水の平等移動相を用いて分離した。屈折率検
出法を用い、試料中のシユークロースピークはシユーク
ロース標準溶液からのピークと比較して、試料のシユー
クロース含量を定量した。
シユークロース−６−ベンゾエート、NMRデータ：カッ
プリング NMRデータは、D2O中、270MHz、室温で得た。ケミカル
シフトは、（δ）0ppm（外部標準）でのテトラメチルシ
ランに対して与えられたものである。
プリング NMRデータは、D2O中、270MHz、室温で得た。ケミカル
シフトは、（δ）0ppm（外部標準）でのテトラメチルシ
ランに対して与えられたものである。
方法 Ｂ DBSS（57.3g）及び無水安息香酸を、ジメチルホルム
アミド（580ml）中、18−22℃で一緒に23時間撹拌し
た。得られた混合物を蒸発してシロップにした。ゴム状
の塊をシロップから、塩化メチレン−ヘキサン（2:1）
（300ml）と共に磨砕して再沈澱させた。上澄をデカン
トして、ゴム状の残渣を、塩化メチレン中で磨砕して、
得られた固体は濾過して回収し、最初は塩化メチレン、
次いでヘキサンで洗浄し、それから風乾してシユークロ
ース−６−ベンゾエート含量71重量％の生成物36.2gが
得られた。
アミド（580ml）中、18−22℃で一緒に23時間撹拌し
た。得られた混合物を蒸発してシロップにした。ゴム状
の塊をシロップから、塩化メチレン−ヘキサン（2:1）
（300ml）と共に磨砕して再沈澱させた。上澄をデカン
トして、ゴム状の残渣を、塩化メチレン中で磨砕して、
得られた固体は濾過して回収し、最初は塩化メチレン、
次いでヘキサンで洗浄し、それから風乾してシユークロ
ース−６−ベンゾエート含量71重量％の生成物36.2gが
得られた。
方法 Ｃ シユークロース（50g）及びジブチルオキシド（38.2
g）をメタノール（１）と一緒に２時間沸騰させ、溶
媒を蒸発そして残渣を真空中で乾燥した。
g）をメタノール（１）と一緒に２時間沸騰させ、溶
媒を蒸発そして残渣を真空中で乾燥した。
得られた物質を無水安息香酸、38.2g、DMF（550ml）と
室温で１晩おいて）ベンゾイル化し、DMFは溜去、残っ
たシロップ状生成物は、更に真空下に乾燥した。更に塩
化メチレン（１）を加えて乾燥物を溶解し、粗生成物
（収量、44.5gでその3.4重量％シユークロース、そして
86.6重量％がシユークロース−６−ベンゾエートを含
む）が沈澱として得られた、濾過中に沈澱した物質も２
収量分として回収した（3.4g;1.6重量％のシユークロー
ス、89％重量％のシユークロース−６−ベンゾエー
ト）。母液は、サラサラしたシロップ状になるまで蒸
発、アセトンで希釈して第３収量分を得た（6.6g;0.44
重量％のシユークロース、100重量％のシユークロース
−６−ベンゾエート−このものは明らかに標準品より純
粋であった）。濾液は蒸発し、得られたシロップは95:5
アセトニトリル：水で希釈した。テトラブチルジスタン
オキサンジベンゾエート（50g）が初めに油状物として
分離し、それから結晶化した、濾液の蒸発、アセトン希
釈を行って更にシユークロース−６−ベンゾエート（7.
2g;0.3重量％のシユークロース、99重量％のシユクロー
ス−６−ベンゾエート）が得られた。
室温で１晩おいて）ベンゾイル化し、DMFは溜去、残っ
たシロップ状生成物は、更に真空下に乾燥した。更に塩
化メチレン（１）を加えて乾燥物を溶解し、粗生成物
（収量、44.5gでその3.4重量％シユークロース、そして
86.6重量％がシユークロース−６−ベンゾエートを含
む）が沈澱として得られた、濾過中に沈澱した物質も２
収量分として回収した（3.4g;1.6重量％のシユークロー
ス、89％重量％のシユークロース−６−ベンゾエー
ト）。母液は、サラサラしたシロップ状になるまで蒸
発、アセトンで希釈して第３収量分を得た（6.6g;0.44
重量％のシユークロース、100重量％のシユークロース
−６−ベンゾエート−このものは明らかに標準品より純
粋であった）。濾液は蒸発し、得られたシロップは95:5
アセトニトリル：水で希釈した。テトラブチルジスタン
オキサンジベンゾエート（50g）が初めに油状物として
分離し、それから結晶化した、濾液の蒸発、アセトン希
釈を行って更にシユークロース−６−ベンゾエート（7.
2g;0.3重量％のシユークロース、99重量％のシユクロー
ス−６−ベンゾエート）が得られた。
実施例 ３ シユークロースをシユークロース−６−ベンゾエートに
変換するためのジオクチル錫オキシドの使用 シユークロース（5g）及びジオクチル錫オキシド（5.
3g）を一緒に100mlのメタノール中で４時間沸騰還流さ
せ、それにトルエン（100ml）を加えて共沸物を蒸留分
離した。（水とメタノールが共沸物として除去され、反
応を完結させた）。残ったトルエンを50ないし55℃で蒸
発し、残渣をDMF（100ml）に溶解した。無水安息香酸
（3.64g）を得られた溶液に添加した。１時間後に更に
0.75gの無水安息香酸を添加した。３時間後、反応混合
物は蒸発させ、残渣を塩化メチレン（100ml）中で磨砕
した。得られた固体は濾別し、塩化メチレンで洗浄、風
乾して6.85gの粗シユークロース−６−ベンゾエート（1
1.2重量％のシユークロース、シユークロース−６−ベ
ンゾエートはUV−吸収性物質全体に対して90％）が得ら
れた。
変換するためのジオクチル錫オキシドの使用 シユークロース（5g）及びジオクチル錫オキシド（5.
3g）を一緒に100mlのメタノール中で４時間沸騰還流さ
せ、それにトルエン（100ml）を加えて共沸物を蒸留分
離した。（水とメタノールが共沸物として除去され、反
応を完結させた）。残ったトルエンを50ないし55℃で蒸
発し、残渣をDMF（100ml）に溶解した。無水安息香酸
（3.64g）を得られた溶液に添加した。１時間後に更に
0.75gの無水安息香酸を添加した。３時間後、反応混合
物は蒸発させ、残渣を塩化メチレン（100ml）中で磨砕
した。得られた固体は濾別し、塩化メチレンで洗浄、風
乾して6.85gの粗シユークロース−６−ベンゾエート（1
1.2重量％のシユークロース、シユークロース−６−ベ
ンゾエートはUV−吸収性物質全体に対して90％）が得ら
れた。
実施例 ４ シユークロース−６−アセテート DBSS（5g）をDMF（50ml）中、無水酢酸（1.02g）と室
温で３時間処理し、反応混合物は蒸発、得られたシロッ
プは50mlの塩化メチレンと共に磨砕した。20分後、得ら
れた固体は濾別し、塩化メチレンとヘキサンで洗浄、そ
して風乾して、63.4重量％のシユークロース−６−アセ
テートと、3.8重量％のシユークロースを含む生成物、
3.1gを得た。
温で３時間処理し、反応混合物は蒸発、得られたシロッ
プは50mlの塩化メチレンと共に磨砕した。20分後、得ら
れた固体は濾別し、塩化メチレンとヘキサンで洗浄、そ
して風乾して、63.4重量％のシユークロース−６−アセ
テートと、3.8重量％のシユークロースを含む生成物、
3.1gを得た。
実施例 ５ シユークロース−６−グルタレート DBSS（5.73g）をDMF（55ml）中で、無水グルタール酸
で、室温で３時間処理し、それから（油浴上）40℃で１
夜置いた。更に無水グルタール酸（1g）を加え、40℃で
４時間置いてから、メタノール（10ないし15ml）を加
え、未反応酸無水物を分解した。反応混合物は室温で１
夜置き、それから蒸発させた。得られたシロップを、塩
化メチレン（100ml）と共に磨砕した。上澄みをデカン
トして除き、この操作を、80mlの塩化メチレンを用いて
２回繰り返した。濾過して吸湿性の固体を得、これを真
空乾燥して粗生成物4.3gを得た。
で、室温で３時間処理し、それから（油浴上）40℃で１
夜置いた。更に無水グルタール酸（1g）を加え、40℃で
４時間置いてから、メタノール（10ないし15ml）を加
え、未反応酸無水物を分解した。反応混合物は室温で１
夜置き、それから蒸発させた。得られたシロップを、塩
化メチレン（100ml）と共に磨砕した。上澄みをデカン
トして除き、この操作を、80mlの塩化メチレンを用いて
２回繰り返した。濾過して吸湿性の固体を得、これを真
空乾燥して粗生成物4.3gを得た。
実施例 ６ シユークロース−６−ラウレート DBSS（5.73g）を無水ラウリン酸（3.9g）と、DMF（55
ml）中、室温で２時間、それから（油浴上）40℃で５時
間処理した。反応混合物は更に無水ラウリン酸（1.1g）
と処理し、反応を２時間続け、それからメタノール（10
ないし15ml）を加えて、未反応無水物を分解した。得ら
れた混合物を蒸発させ、残渣を70mlのジエチルエーテル
及び100mlのヘキサンを含む混合物で処理した。得られ
たゲル状物から上澄みをデカントし、ゲルは100mlのヘ
キサンで３回洗浄、真空下に乾燥して、僅かに吸湿性の
物質4.08gを得た。HPLC分析した所、生成物は60％のシ
ユークロース−６−ラウレート、13％のシユークロー
ス、20％のシユークロースジラウレート混合物、及び７
％のその他のモノラウレートからなっていることが示さ
れた。
ml）中、室温で２時間、それから（油浴上）40℃で５時
間処理した。反応混合物は更に無水ラウリン酸（1.1g）
と処理し、反応を２時間続け、それからメタノール（10
ないし15ml）を加えて、未反応無水物を分解した。得ら
れた混合物を蒸発させ、残渣を70mlのジエチルエーテル
及び100mlのヘキサンを含む混合物で処理した。得られ
たゲル状物から上澄みをデカントし、ゲルは100mlのヘ
キサンで３回洗浄、真空下に乾燥して、僅かに吸湿性の
物質4.08gを得た。HPLC分析した所、生成物は60％のシ
ユークロース−６−ラウレート、13％のシユークロー
ス、20％のシユークロースジラウレート混合物、及び７
％のその他のモノラウレートからなっていることが示さ
れた。
実施例 ７ メタノール中、ジブチル錫オキシドを使用したシユーク
ロース−６−ベンゾエートの製造 シユークロース（50.0g、1.00モル当量）とジブチル
錫オキシド（40.0、1.10モル当量）をメタノール（1,00
0ml）中でスラリー状にし、３時間還流した。約１時間
すると、固体が溶解し、無色透明の溶液が得られた。真
空下に30℃に暖めてメタノールを除去して、1,3−ジ−
（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3−テトラブチル
ジスタンオキサン（DBSS）の白色固体（89g）を得た。
ロース−６−ベンゾエートの製造 シユークロース（50.0g、1.00モル当量）とジブチル
錫オキシド（40.0、1.10モル当量）をメタノール（1,00
0ml）中でスラリー状にし、３時間還流した。約１時間
すると、固体が溶解し、無色透明の溶液が得られた。真
空下に30℃に暖めてメタノールを除去して、1,3−ジ−
（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3−テトラブチル
ジスタンオキサン（DBSS）の白色固体（89g）を得た。
DBSSをDMF（150ml）中、約40℃に暖めて溶解し、得ら
れた溶液を室温に冷却した。無水安息香酸（38.0g、1.1
5モル当量）を添加し、得られた溶液を室温で３時間撹
拌し、その後、反応混合物を薄層クロマトグラフィ（TL
C）（シリカゲル、溶出剤、15:10:2クロロホルム：メタ
ノール：水）にかけた所、無水安息香酸は存在せず、シ
ユークロースモノベンゾエートとそれに対して少量のシ
ユークロースが存在するだけであることが示された。DM
Fを高真空で蒸発すると、淡黄緑色度の油状物（約160
g）が得られ、これをアセトン（500ml）に40℃で溶解、
それからゆっくりと室温迄冷却した。シユークロース−
６−ベンゾエートが白色粉末結晶として析出し、これを
０℃で１時間撹拌した。生成物を濾過、アセトン（50ml
で２回）洗浄、そして真空下、室温で16時間乾燥した。
収量は48.1gであった。HPLCで分析した所、シユークロ
ース−６−ベンゾーエート含量は88.1％であった。
れた溶液を室温に冷却した。無水安息香酸（38.0g、1.1
5モル当量）を添加し、得られた溶液を室温で３時間撹
拌し、その後、反応混合物を薄層クロマトグラフィ（TL
C）（シリカゲル、溶出剤、15:10:2クロロホルム：メタ
ノール：水）にかけた所、無水安息香酸は存在せず、シ
ユークロースモノベンゾエートとそれに対して少量のシ
ユークロースが存在するだけであることが示された。DM
Fを高真空で蒸発すると、淡黄緑色度の油状物（約160
g）が得られ、これをアセトン（500ml）に40℃で溶解、
それからゆっくりと室温迄冷却した。シユークロース−
６−ベンゾエートが白色粉末結晶として析出し、これを
０℃で１時間撹拌した。生成物を濾過、アセトン（50ml
で２回）洗浄、そして真空下、室温で16時間乾燥した。
収量は48.1gであった。HPLCで分析した所、シユークロ
ース−６−ベンゾーエート含量は88.1％であった。
実施例 8/方法Ａ ブタノール中、ジブチルオキシドを使用したシユークロ
ース−６−ベンゾエートの製造 容量2,000mlの３口丸底フラスコに加熱マントル、頭
上撹拌機及びその頭部にアルゴン供給口を付けたフリー
ドリッヒ冷却管を取り付け、それから27.4g（110ミリモ
ル）のジブチル錫オキシド及び1,250mlのｎ−ブタノー
ルをフラスコに充填した。得られたスラリーを撹拌しな
がら0.5時間以上還流加熱し、得られた透明溶液をアル
ゴン雰囲気下2.5時間還流撹拌した。反応混合物を90℃
に冷却、34.2g（100ミリモル）のシユークロースを添加
した。混合物はアルゴン雰囲気下、90℃で４時間加熱撹
拌し、得られた実質的に透明な溶液を、アルゴン雰囲気
下撹拌しながらゆっくりと室温に冷却した。溶媒を（ロ
ータリーエバポレーター）を使用、アスピレータ真空
下、浴温40℃で）蒸発させ、次いで0.5mmHg真空下、50
℃で８時間乾燥、50.8g（43.7ミリモル）のDBSSが得ら
れた。
ース−６−ベンゾエートの製造 容量2,000mlの３口丸底フラスコに加熱マントル、頭
上撹拌機及びその頭部にアルゴン供給口を付けたフリー
ドリッヒ冷却管を取り付け、それから27.4g（110ミリモ
ル）のジブチル錫オキシド及び1,250mlのｎ−ブタノー
ルをフラスコに充填した。得られたスラリーを撹拌しな
がら0.5時間以上還流加熱し、得られた透明溶液をアル
ゴン雰囲気下2.5時間還流撹拌した。反応混合物を90℃
に冷却、34.2g（100ミリモル）のシユークロースを添加
した。混合物はアルゴン雰囲気下、90℃で４時間加熱撹
拌し、得られた実質的に透明な溶液を、アルゴン雰囲気
下撹拌しながらゆっくりと室温に冷却した。溶媒を（ロ
ータリーエバポレーター）を使用、アスピレータ真空
下、浴温40℃で）蒸発させ、次いで0.5mmHg真空下、50
℃で８時間乾燥、50.8g（43.7ミリモル）のDBSSが得ら
れた。
上述のDBSSを400mlのDMFに溶解、マグネチックスター
ラー撹拌子とアルゴン導入口を備えた1,000ml1口丸底フ
ラスコに導入した。混合物は氷浴中で冷却、19.7g（87.
2ミリモル）の無水安息香酸を添加、撹拌しながら暖
め、室温でアルゴン雰囲気下12時間撹拌した。DMFを蒸
発（ロータリーエバポレーター、真空ポンプ、40℃浴
温）して粘凋油状物を得、これを250mlのアセトンで処
理、約50℃に加熱して透明溶液を得、それを室温に冷却
した所、シユークロース−６−ベンゾエートが直ちに結
晶化した。
ラー撹拌子とアルゴン導入口を備えた1,000ml1口丸底フ
ラスコに導入した。混合物は氷浴中で冷却、19.7g（87.
2ミリモル）の無水安息香酸を添加、撹拌しながら暖
め、室温でアルゴン雰囲気下12時間撹拌した。DMFを蒸
発（ロータリーエバポレーター、真空ポンプ、40℃浴
温）して粘凋油状物を得、これを250mlのアセトンで処
理、約50℃に加熱して透明溶液を得、それを室温に冷却
した所、シユークロース−６−ベンゾエートが直ちに結
晶化した。
生成物を、粗フリット、焼結ガラスフィルターを用い
て濾過、アセトン（100mlで２回）で洗浄、真空乾燥（5
0℃、0.5mm、16時間）し、13.8gの白色固体が得られ、
これをHPLCで分析した所、97.4％のシユークロース−６
−ベンゾエートからなっていた。
て濾過、アセトン（100mlで２回）で洗浄、真空乾燥（5
0℃、0.5mm、16時間）し、13.8gの白色固体が得られ、
これをHPLCで分析した所、97.4％のシユークロース−６
−ベンゾエートからなっていた。
実施例 8/方法Ｂ 容量2,000mlの３口丸底フラスコに加熱マントル、頭
上撹拌機及びその頭部にアルゴン供給口を付けたフリー
ドリッヒ冷却管を取り付け、それから27.4g（110ミリモ
ル）のジブチル錫オキシド、750mlのｎ−ブタノール、
及び500mlのDMFをフラスコに充填した。得られたスラリ
ーを撹拌しながら0.5時間以上125℃で加熱、得られた透
明溶液をアルゴン雰囲気下2.5時間同温度で撹拌した。
反応混合物を90℃に冷却、34.2g（100ミリモル）のシユ
ークロースを添加した。混合物はアルゴン雰囲気下、90
℃で４時間加熱撹拌し、得られた完全に透明な溶液を、
アルゴン雰囲気下撹拌しながらゆっくりと室温に冷却し
た。溶媒を（ロータリーエバポレーターを使用、アスピ
レータ真空下、浴温45℃で）蒸発させ、得られた残渣油
状物を400mlのDMFに溶解した。
上撹拌機及びその頭部にアルゴン供給口を付けたフリー
ドリッヒ冷却管を取り付け、それから27.4g（110ミリモ
ル）のジブチル錫オキシド、750mlのｎ−ブタノール、
及び500mlのDMFをフラスコに充填した。得られたスラリ
ーを撹拌しながら0.5時間以上125℃で加熱、得られた透
明溶液をアルゴン雰囲気下2.5時間同温度で撹拌した。
反応混合物を90℃に冷却、34.2g（100ミリモル）のシユ
ークロースを添加した。混合物はアルゴン雰囲気下、90
℃で４時間加熱撹拌し、得られた完全に透明な溶液を、
アルゴン雰囲気下撹拌しながらゆっくりと室温に冷却し
た。溶媒を（ロータリーエバポレーターを使用、アスピ
レータ真空下、浴温45℃で）蒸発させ、得られた残渣油
状物を400mlのDMFに溶解した。
上記DMF溶液（理論的には50.0ミリモルのDBSSを含
む）を、マグネチックスターラー撹拌子とアルゴン導入
口を備えた1,000ml1口丸底フラスコに導入した。混合物
は氷浴中で冷却、24.9g（110ミリモル）の無水安息香酸
を添加、０℃で８時間撹拌、次いで室温で12時間撹拌し
た。反応は更に実施例 8/方法Ａに記載したのと同様に
処理して、HPLC分析でシユークロース−６−ベンゾエー
ト純度が98.1％の白色固体32.2gを得た。
む）を、マグネチックスターラー撹拌子とアルゴン導入
口を備えた1,000ml1口丸底フラスコに導入した。混合物
は氷浴中で冷却、24.9g（110ミリモル）の無水安息香酸
を添加、０℃で８時間撹拌、次いで室温で12時間撹拌し
た。反応は更に実施例 8/方法Ａに記載したのと同様に
処理して、HPLC分析でシユークロース−６−ベンゾエー
ト純度が98.1％の白色固体32.2gを得た。
実施例 ９ DMF中、ジブチル錫ジメトキシドを使用したシユークロ
ース−６−ベンゾエートの製造 シユークロース（5.00g、1.00モル当量）を55℃でDMF
（20ml）に溶解した。ジブチル錫ジメトキシド（4.35
g、1.01モル当量）を添加、アルピレータ減圧にした。
混合物を真空下に１時間撹拌し、それから室温に冷却し
た。（ジブチル錫ジメトキシドはその場で痕跡量の水と
反応し1,3−ジメチル−1,1,3,3−テトラブチルジスタン
オキサンを生成した）。無水安息香酸（4.00g、1.21モ
ル当量）を添加、得られた溶液を室温で３時間撹拌し
た。この時点で薄層クロマトグラフィ（TLC）（シリカ
ゲル、溶出剤＝15:10:2−クロロホルム：メタノール：
水）は、完全にシユークロース−６−ベンゾエートに変
換していることを示した。DMFを減圧下に蒸発させ、残
渣（15.8g）はアセトン（50ml）に溶解した。室温で撹
拌し、シユークロース−６−ベンゾエートを結晶化させ
た。得られたスラリーを０℃で48時間撹拌し、濾過、生
成物はアセトン（20mlで２回）で洗浄、そして40℃で真
空乾燥した。収量:5.18g、分析：シユークロース−６−
ベンゾエートの純度、96.3％。
ース−６−ベンゾエートの製造 シユークロース（5.00g、1.00モル当量）を55℃でDMF
（20ml）に溶解した。ジブチル錫ジメトキシド（4.35
g、1.01モル当量）を添加、アルピレータ減圧にした。
混合物を真空下に１時間撹拌し、それから室温に冷却し
た。（ジブチル錫ジメトキシドはその場で痕跡量の水と
反応し1,3−ジメチル−1,1,3,3−テトラブチルジスタン
オキサンを生成した）。無水安息香酸（4.00g、1.21モ
ル当量）を添加、得られた溶液を室温で３時間撹拌し
た。この時点で薄層クロマトグラフィ（TLC）（シリカ
ゲル、溶出剤＝15:10:2−クロロホルム：メタノール：
水）は、完全にシユークロース−６−ベンゾエートに変
換していることを示した。DMFを減圧下に蒸発させ、残
渣（15.8g）はアセトン（50ml）に溶解した。室温で撹
拌し、シユークロース−６−ベンゾエートを結晶化させ
た。得られたスラリーを０℃で48時間撹拌し、濾過、生
成物はアセトン（20mlで２回）で洗浄、そして40℃で真
空乾燥した。収量:5.18g、分析：シユークロース−６−
ベンゾエートの純度、96.3％。
実施例 10 シクロヘキサノール中、ジブチル錫オキシドを使用した
シユークロース−６−ベンゾエートの製造 油浴、マグネティックスターラー、そしてその頭部に
アルゴン導入口を持った冷却管を備えた、容量100mlの
１口丸底フラスコに2.49g（10.0ミリモル）のジブチル
錫オキシド、50mlのシクロヘキサノール及び25mlのｏ−
キシレンを充填した。得られたスラリーを浴温150℃に
0.5時間以上加熱して、透明溶液を得、同温度で1.5時間
維持した。浴温を120℃に冷却、溶液に3.42g（10.0ミリ
モル）シユークロースを加えた。浴温120℃で６時間維
持した後、混合物を室温に冷却、溶媒を（ロータリエバ
ポレータを用い、真空ポンプで減圧、浴温30℃で）蒸発
し、得られたシロップを125mlのDMFに溶解、2.26g（10.
0ミリモル）の無水安息香酸で（室温、マグネティック
スターラー、アルゴン雰囲気下に６時間）処理した。DM
Fを（ロータリエバポレータ、真空ポンプ減圧、浴温40
℃で）蒸発し、続いて100mlのアセトンで処理、2.82gの
淡褐色の固体が得られ、HPLC分析した所、871％のシユ
ークロース−６−ベンゾエートから成っていた。
シユークロース−６−ベンゾエートの製造 油浴、マグネティックスターラー、そしてその頭部に
アルゴン導入口を持った冷却管を備えた、容量100mlの
１口丸底フラスコに2.49g（10.0ミリモル）のジブチル
錫オキシド、50mlのシクロヘキサノール及び25mlのｏ−
キシレンを充填した。得られたスラリーを浴温150℃に
0.5時間以上加熱して、透明溶液を得、同温度で1.5時間
維持した。浴温を120℃に冷却、溶液に3.42g（10.0ミリ
モル）シユークロースを加えた。浴温120℃で６時間維
持した後、混合物を室温に冷却、溶媒を（ロータリエバ
ポレータを用い、真空ポンプで減圧、浴温30℃で）蒸発
し、得られたシロップを125mlのDMFに溶解、2.26g（10.
0ミリモル）の無水安息香酸で（室温、マグネティック
スターラー、アルゴン雰囲気下に６時間）処理した。DM
Fを（ロータリエバポレータ、真空ポンプ減圧、浴温40
℃で）蒸発し、続いて100mlのアセトンで処理、2.82gの
淡褐色の固体が得られ、HPLC分析した所、871％のシユ
ークロース−６−ベンゾエートから成っていた。
実施例 11 ジブチル錫オキシド及びフェノールを用いたシユークロ
ース−６−ベンゾエートの製造 ジフェノキシジスタンオキサンを、W.J.Considine,et
al.,Can.j.Chem.,41,1239（1963）に従って製造した。
油浴、マグネティックスターラー、頭部にアルゴン導入
口を有するFriedrich冷却管を付けたDean−Starkトラッ
プを備えた500mlの１口丸底フラスコに470g（50.0ミル
モル）のジブチル錫オキシドと350mlのトルエンを充填
した。スラリーは撹拌加熱して還流させ、得られた透明
溶液を、３時間還流してその間に濁った（水の入った）
トルエン150mlをDean−Starkトラップから除去した。溶
液を室温に冷却、（ロータリーエバポレーター、アスピ
レータ減圧、浴温30℃）で蒸発、得られたオフホワイト
の固体を、真空下（室温、0.25mmHg、３時間）乾燥し
た。
ース−６−ベンゾエートの製造 ジフェノキシジスタンオキサンを、W.J.Considine,et
al.,Can.j.Chem.,41,1239（1963）に従って製造した。
油浴、マグネティックスターラー、頭部にアルゴン導入
口を有するFriedrich冷却管を付けたDean−Starkトラッ
プを備えた500mlの１口丸底フラスコに470g（50.0ミル
モル）のジブチル錫オキシドと350mlのトルエンを充填
した。スラリーは撹拌加熱して還流させ、得られた透明
溶液を、３時間還流してその間に濁った（水の入った）
トルエン150mlをDean−Starkトラップから除去した。溶
液を室温に冷却、（ロータリーエバポレーター、アスピ
レータ減圧、浴温30℃）で蒸発、得られたオフホワイト
の固体を、真空下（室温、0.25mmHg、３時間）乾燥し
た。
粗ジフェノキシジスタンオキサン（理論的には25.0ミ
リモル）を、250mlのDMFと17.1g（50.0ミリモル）のシ
ユークロースで処理し、アルゴン雰囲気下室温で撹拌し
た。シユークロースは急速に溶解し、一方、粗ジヘェノ
キシジスタンオキサンは溶液になるのに数時間を要し
た。12時間後、事実上透明な溶液を、11.3g（50.0ミリ
モル）の無水安息香酸で処理、室温でアルゴン雰囲気下
撹拌を続けた。ベンゾイル化の進行は、シリカゲル薄層
クロマトグラフィ（15:10:2クロロホルム：メタノール
−水）で追跡した。更に12時間後、過剰の無水安息香酸
をメタノール（25ml）で分解し、DMFは（ロータリーエ
バポレーター、真空ポンプ、浴温40℃で）除去、粗生成
物は220mlのアセトンと磨砕した所、19.35gの白色固体
が得られ、HPLC分析で88.0％のシユークロース−６−ベ
ンゾエートからなっていることが判った。
リモル）を、250mlのDMFと17.1g（50.0ミリモル）のシ
ユークロースで処理し、アルゴン雰囲気下室温で撹拌し
た。シユークロースは急速に溶解し、一方、粗ジヘェノ
キシジスタンオキサンは溶液になるのに数時間を要し
た。12時間後、事実上透明な溶液を、11.3g（50.0ミリ
モル）の無水安息香酸で処理、室温でアルゴン雰囲気下
撹拌を続けた。ベンゾイル化の進行は、シリカゲル薄層
クロマトグラフィ（15:10:2クロロホルム：メタノール
−水）で追跡した。更に12時間後、過剰の無水安息香酸
をメタノール（25ml）で分解し、DMFは（ロータリーエ
バポレーター、真空ポンプ、浴温40℃で）除去、粗生成
物は220mlのアセトンと磨砕した所、19.35gの白色固体
が得られ、HPLC分析で88.0％のシユークロース−６−ベ
ンゾエートからなっていることが判った。
実施例 12 DBSS及び塩化ベンゾイルを使用したシユークロース−６
−ベンゾエートの製造 アルゴン導入口、マグネチックスターラー、温度計、
そして滴下漏斗を備えた100mlの３口丸底フラスコに5.8
2g（5.00ミリモル）のDBSS、25mlのDMF、及び25mlのジ
イソプロピルエチルアミンを導入した。得られた混合物
を−10℃に冷却、4.36g（31.0ミリモル）の塩化ベンゾ
イルを滴下し、約−10℃で60分間撹拌した。室温に暖め
てから、更に60分間撹拌し、反応混合物はメタノール
（15ml）を加えて反応を停止させ、（ロータリーエバポ
レーター、真空ポンプ、55℃で）蒸発、ゴム状固体を
得、これをHPLC分析した所、1.51gのシユークロース−
６−ベンゾエートを含んでいた。
−ベンゾエートの製造 アルゴン導入口、マグネチックスターラー、温度計、
そして滴下漏斗を備えた100mlの３口丸底フラスコに5.8
2g（5.00ミリモル）のDBSS、25mlのDMF、及び25mlのジ
イソプロピルエチルアミンを導入した。得られた混合物
を−10℃に冷却、4.36g（31.0ミリモル）の塩化ベンゾ
イルを滴下し、約−10℃で60分間撹拌した。室温に暖め
てから、更に60分間撹拌し、反応混合物はメタノール
（15ml）を加えて反応を停止させ、（ロータリーエバポ
レーター、真空ポンプ、55℃で）蒸発、ゴム状固体を
得、これをHPLC分析した所、1.51gのシユークロース−
６−ベンゾエートを含んでいた。
酸塩化物を使用したアシル化反応は、本実施例で示し
たように、反応混合物中酸受容体として、立体障害３級
アミンを使用すると最もうまく行われる。しかし、同反
応は、アミンが存在しなくても、又は立体障害３級アミ
ンでなくとも、例えばトリエチルアミンでも進行する。
たように、反応混合物中酸受容体として、立体障害３級
アミンを使用すると最もうまく行われる。しかし、同反
応は、アミンが存在しなくても、又は立体障害３級アミ
ンでなくとも、例えばトリエチルアミンでも進行する。
実施例 13 1,3−ジクロロ−1,1,3,3−テトラブチルジスタンオキサ
ンを使用したシユークロース−６−ベンゾエートの製造 マグネチックスターラー、油浴、及びアルゴン導入口
を備えた1,000ml3口丸底フラスコに、27.7g（50.0ミリ
モル）の1,3−ジクロロ−1,1,3,3−テトラブチルジスタ
ンオキサン（Aldrich Chemica1 Company、カタログ番
号、＃33,109−０）及び500mlのDMFを導入した。アルゴ
ン雰囲気下室温で、約15分間撹拌してから、得られた溶
液に、22.9ml（21.6g）の、ナトリウムメトキシド（5.4
0g、100ミリモル）の25重量％メタノール溶液を加え
て、14.5時間撹拌を続けた。スラリーを、35.9g（105ミ
リモル）のシユークロースで処理、80℃浴温で19時間加
熱、その間反応容器の頭部からアルゴンと通してメタノ
ールを除去した。
ンを使用したシユークロース−６−ベンゾエートの製造 マグネチックスターラー、油浴、及びアルゴン導入口
を備えた1,000ml3口丸底フラスコに、27.7g（50.0ミリ
モル）の1,3−ジクロロ−1,1,3,3−テトラブチルジスタ
ンオキサン（Aldrich Chemica1 Company、カタログ番
号、＃33,109−０）及び500mlのDMFを導入した。アルゴ
ン雰囲気下室温で、約15分間撹拌してから、得られた溶
液に、22.9ml（21.6g）の、ナトリウムメトキシド（5.4
0g、100ミリモル）の25重量％メタノール溶液を加え
て、14.5時間撹拌を続けた。スラリーを、35.9g（105ミ
リモル）のシユークロースで処理、80℃浴温で19時間加
熱、その間反応容器の頭部からアルゴンと通してメタノ
ールを除去した。
室温に冷却してから、混合物に33.9g（150ミリモル）
の無水安息香酸を加え、アルゴン雰囲気下室温で96時間
撹拌処理した。反応混合物を（ロータリーエバポレータ
ー、真空ポンプ、40℃で）蒸発、シロップを得、それを
HPLC分析した所、26.9gのシユークロース−６−ベンゾ
エートを含んでいた。
の無水安息香酸を加え、アルゴン雰囲気下室温で96時間
撹拌処理した。反応混合物を（ロータリーエバポレータ
ー、真空ポンプ、40℃で）蒸発、シロップを得、それを
HPLC分析した所、26.9gのシユークロース−６−ベンゾ
エートを含んでいた。
本実施例は、ジメトキシジスタンオキサン反応成分の
その場でもう一つの製造法を説明したものである。
その場でもう一つの製造法を説明したものである。
実施例 14 ジブチル錫オキシド及び２−エトキシエタノールを使用
したシユークロース−６−ベンゾエートの製造 ジブチル錫オキシド（7.36g、29.6ミリモル）を、2.7
6g（29.6ミリモル）の２−エトキシエタノールを含む10
0mlのトルエンに分散したスラリーを２時間還流し、そ
の間に生じた水（0.35g）をDeak−Starkトラップに集め
た。得られた透明溶液を蒸発して、10.43gの透明油状物
を得、これを50mlのDMF中、50℃で10.0g（29.2ミリモ
ル）のシユークロースと共に撹拌した。約半分の溶媒を
（ロータリーエバポレーター、真空ポンプ、浴温50℃
で）除去し、得られたDBSSを室温で、20mlのDMF中7.27g
（32.2ミリモル）の無水安息香酸で18時間処理した。溶
媒を蒸発し、生成物を100mlのアセトンを用いて通常の
方法で後処理し、9.58gの固体をえ、これをHPLC分析し
たところ、83.4％のシユークロース−６−ベンゾエート
を含んでいた。
したシユークロース−６−ベンゾエートの製造 ジブチル錫オキシド（7.36g、29.6ミリモル）を、2.7
6g（29.6ミリモル）の２−エトキシエタノールを含む10
0mlのトルエンに分散したスラリーを２時間還流し、そ
の間に生じた水（0.35g）をDeak−Starkトラップに集め
た。得られた透明溶液を蒸発して、10.43gの透明油状物
を得、これを50mlのDMF中、50℃で10.0g（29.2ミリモ
ル）のシユークロースと共に撹拌した。約半分の溶媒を
（ロータリーエバポレーター、真空ポンプ、浴温50℃
で）除去し、得られたDBSSを室温で、20mlのDMF中7.27g
（32.2ミリモル）の無水安息香酸で18時間処理した。溶
媒を蒸発し、生成物を100mlのアセトンを用いて通常の
方法で後処理し、9.58gの固体をえ、これをHPLC分析し
たところ、83.4％のシユークロース−６−ベンゾエート
を含んでいた。
本実施例は置換アルコールを使用して、1,3−ジ（ハ
イドロオキシ）ジスタンオキサン反応成分を製造するこ
とを説明したものである。
イドロオキシ）ジスタンオキサン反応成分を製造するこ
とを説明したものである。
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
1. シユークロースと1,3−ジ（ヒドロカルビルオキ
シ）−1,1,3,3−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタンオ
キサンとを、1,3−ジ−（６−Ｏ−シユークロース）−
1,1,3,3−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタンオキサン
を製造するに十分な温度と時間反応させることを特徴と
する方法。
シ）−1,1,3,3−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタンオ
キサンとを、1,3−ジ−（６−Ｏ−シユークロース）−
1,1,3,3−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタンオキサン
を製造するに十分な温度と時間反応させることを特徴と
する方法。
2. 上記第１項において、同方法をアルコール又はフェ
ノール反応媒体中で実施することを特徴とする製造法。
ノール反応媒体中で実施することを特徴とする製造法。
3. 上記第２項において、同方法を低級アルカノール反
応媒体中で実施することを特徴とする製造法。
応媒体中で実施することを特徴とする製造法。
4. 上記第３項において、該低級アルカノールがメタノ
ール又はブタノールであることを特徴とする製造法。
ール又はブタノールであることを特徴とする製造法。
5. 1,3−ジ（ハイドロカルビルオキシ）−1,1,3,3−テ
トラ（ハイドロカルビル）ジスタンオキサンが、1,3−
ジアルコキシ−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカルビル）
ジスタンオキサン又は1,3−ジフェノキシ−1,1,3,3−テ
トラ（ハイドロカルビル）ジスタンオキサンであること
を特徴とする上記第１項記載の製造法。
トラ（ハイドロカルビル）ジスタンオキサンが、1,3−
ジアルコキシ−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカルビル）
ジスタンオキサン又は1,3−ジフェノキシ−1,1,3,3−テ
トラ（ハイドロカルビル）ジスタンオキサンであること
を特徴とする上記第１項記載の製造法。
6. 1,3−ジ（ハイドロカルビルオキシ）−1,1,3,3−テ
トラ（ハイドロカルビル）ジスタンオキサンが、1,3−
ジアルコキシ−1,1,3,3−テトラ（アルキル）ジスタン
オキサンであることを特徴とする上記第１項記載の製造
法。
トラ（ハイドロカルビル）ジスタンオキサンが、1,3−
ジアルコキシ−1,1,3,3−テトラ（アルキル）ジスタン
オキサンであることを特徴とする上記第１項記載の製造
法。
7. 1,3−ジ（ハイドロカルビルオキシ）−1,1,3,3−テ
トラ（ハイドロカルビル）ジスタンオキサンが、1,3−
ジメトキシ−1,1,3,3−テトラ（アルキル）ジスタンオ
キサン、又は1,3−ジブトキシ1,1,3,3−テトラ（アルキ
ル）ジスタンオキサンであることを特徴とする上記第１
項記載の製造法。
トラ（ハイドロカルビル）ジスタンオキサンが、1,3−
ジメトキシ−1,1,3,3−テトラ（アルキル）ジスタンオ
キサン、又は1,3−ジブトキシ1,1,3,3−テトラ（アルキ
ル）ジスタンオキサンであることを特徴とする上記第１
項記載の製造法。
8. 上記第７項において、該アルキルがブチルであるこ
とを特徴とする製造法。
とを特徴とする製造法。
9. （ａ）シユークロース、（ｂ）アルコール又はフェ
ノール、及び（ｃ）１種のジ（ヒドロカルビル）錫酸化
物の混合物を、1,3−ジ−（６−Ｏ−シユークロース）
−1,1,3,3−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタンオキサ
ンを製造するに十分な温度と時間に付すことを特徴とす
る方法。
ノール、及び（ｃ）１種のジ（ヒドロカルビル）錫酸化
物の混合物を、1,3−ジ−（６−Ｏ−シユークロース）
−1,1,3,3−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタンオキサ
ンを製造するに十分な温度と時間に付すことを特徴とす
る方法。
10. 上記第９項において、該アルコールが低級アルコ
ールであることを特徴とする製造法。
ールであることを特徴とする製造法。
11. 上記第11項において、該低級アルコールがメタノ
ールか、又はブタノールであることを特徴とする製造
法。
ールか、又はブタノールであることを特徴とする製造
法。
12. 上記第９項において、該ジ（ハイドロカルビル）
錫酸化物がジアルキル錫酸化物であることを特徴とする
製造法。
錫酸化物がジアルキル錫酸化物であることを特徴とする
製造法。
13. 上記第９項において、該ジ（ハイドロカルビル）
錫酸化物がジブチル錫酸化物であることを特徴とする製
造法。
錫酸化物がジブチル錫酸化物であることを特徴とする製
造法。
14. 上記第10項において、該ジ（ハイドロカルビル）
錫酸化物がジアルキル錫酸化物であることを特徴とする
製造法。
錫酸化物がジアルキル錫酸化物であることを特徴とする
製造法。
15. 上記第10項において、該ジ（ハイドロカルビル）
錫酸化物がジブチル錫酸化物であることを特徴とする製
造法。
錫酸化物がジブチル錫酸化物であることを特徴とする製
造法。
16. 上記第11項において、該ジ（ハイドロカルビル）
錫酸化物がジアルキル錫酸化物であることを特徴とする
製造法。
錫酸化物がジアルキル錫酸化物であることを特徴とする
製造法。
17. 上記第11項において、該ジ（ハイドロカルビル）
錫酸化物がジブチル錫酸化物であることを特徴とする製
造法。
錫酸化物がジブチル錫酸化物であることを特徴とする製
造法。
18. （ａ）シユークロース、アルコール又はフェノー
ル、及びジ（ヒドロカルビル）錫酸化物の混合物を、1,
3−ジ−（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3−テトラ
（ヒドロカルビル）ジスタンオキサンを製造するに十分
な温度と時間に付し、そして （ｂ）工程（ａ）の生成物を、アシル化剤と反応させて
シユークロース−６−エステルを製造する、 工程からなることを特徴とする方法。
ル、及びジ（ヒドロカルビル）錫酸化物の混合物を、1,
3−ジ−（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3−テトラ
（ヒドロカルビル）ジスタンオキサンを製造するに十分
な温度と時間に付し、そして （ｂ）工程（ａ）の生成物を、アシル化剤と反応させて
シユークロース−６−エステルを製造する、 工程からなることを特徴とする方法。
19. 上記第18項において、該アルコールが低級アルコ
ールであることを特徴とする製造法。
ールであることを特徴とする製造法。
20. 上記第19項において、該低級アルコールがメタノ
ール又はブタノールであることを特徴とする製造法。
ール又はブタノールであることを特徴とする製造法。
21. 上記第18項において、該ジ（ハイドロカルビル）
錫酸化物がジアルキル錫酸化物であることを特徴とする
製造法。
錫酸化物がジアルキル錫酸化物であることを特徴とする
製造法。
22. 上記第18項において、該ジ（ハイドロカルビル）
錫酸化物がジブチル錫酸化物であることを特徴とする製
造法。
錫酸化物がジブチル錫酸化物であることを特徴とする製
造法。
23. 上記第18項において、段階（ａ）を還流アルコー
ル中で実施することを特徴とする製造法。
ル中で実施することを特徴とする製造法。
24. 上記第18項において、段階（ａ）を低級アルコー
ルを還流させる中で実施することを特徴とする製造法。
ルを還流させる中で実施することを特徴とする製造法。
25. 上記第18項において、段階（ａ）をメタノール又
はブタノールを還流させる中で実施することを特徴とす
る製造法。
はブタノールを還流させる中で実施することを特徴とす
る製造法。
26. 上記第18項において、該アシル化剤がカルボン酸
無水物であることを特徴とする製造法。
無水物であることを特徴とする製造法。
27. 上記第18項において、該アシル化剤が無水安息香
酸であることを特徴とする製造法。
酸であることを特徴とする製造法。
28. 上記第18項において、該アシル化剤が酢酸無水物
であることを特徴とする製造法。
であることを特徴とする製造法。
29. 上記第19項において、該アシル化剤がカルボン酸
無水物であることを特徴とする製造法。
無水物であることを特徴とする製造法。
30. 上記第19項において、該アシル化剤が無水安息香
酸であることを特徴とする製造法。
酸であることを特徴とする製造法。
31. 上記第19項において、該アシル化剤が酢酸無水物
であることを特徴とする製造法。
であることを特徴とする製造法。
32. 上記第20項において、該アシル化剤がカルボン酸
無水物であることを特徴とする製造法。
無水物であることを特徴とする製造法。
33. 上記第20項において、該アシル化剤が無水安息香
酸であることを特徴とする製造法。
酸であることを特徴とする製造法。
34. 上記第20項において、該アシル化剤が酢酸無水物
であることを特徴とする製造法。
であることを特徴とする製造法。
35. 上記第21項において、該アシル化剤がカルボン酸
無水物であることを特徴する製造法。
無水物であることを特徴する製造法。
36. 上記第21項において、該アシル化剤が無水安息香
酸であることを特徴とする製造法。
酸であることを特徴とする製造法。
37. 上記第21項において、該アシル化剤が酢酸無水物
であることを特徴とする製造法。
であることを特徴とする製造法。
38. 上記第22項において、該アシル化剤がカルボン酸
無水物であることを特徴とする製造法。
無水物であることを特徴とする製造法。
39. 上記第22項において、該アシル化剤が無水安息香
酸であることを特徴とする製造法。
酸であることを特徴とする製造法。
40. 上記第22項において、該アシル化剤が酢酸無水物
であることを特徴とする製造法。
であることを特徴とする製造法。
41. 上記第１項において、1,3−ジ−（６−Ｏ−シュー
クロース）−1,1,33−テトラ（ハイドロカルビル）ジス
タンオキサン生成物を更にアシル化剤と反応する工程に
付してシュークロース−６−エステルを製造することを
特徴とする製造法。
クロース）−1,1,33−テトラ（ハイドロカルビル）ジス
タンオキサン生成物を更にアシル化剤と反応する工程に
付してシュークロース−６−エステルを製造することを
特徴とする製造法。
42. 1,3−ジ−（６−Ｏ−シュークロース）−1,1,3,3
−テトラ（ハイドロカルビル）ジスタンオキサン。
−テトラ（ハイドロカルビル）ジスタンオキサン。
43. 1,3−ジ（６−Ｏ−シュークロース）−1,1,3,3−
テトラ（アルキル）ジスタンオキサン。
テトラ（アルキル）ジスタンオキサン。
44. 1,3−ジ−（６−Ｏ−シュークロース）−1,1,3,3
−テトラブチルジスタンオキサン。
−テトラブチルジスタンオキサン。
45. 上記第18項において、該アシル化剤がカルボン酸
塩化物であることを特徴とする製造法。
塩化物であることを特徴とする製造法。
46. 上記第19項において、該アシル化剤がカルボン酸
塩化物であることを特徴とする製造法。
塩化物であることを特徴とする製造法。
47. 上記第20項において、該アシル化剤がカルボン酸
塩化物であることを特徴とする製造法。
塩化物であることを特徴とする製造法。
48. 上記第21項において、該アシル化剤がカルボン酸
塩化物であることを特徴とする製造法。
塩化物であることを特徴とする製造法。
49. 上記第22項において、該アシル化剤がカルボン酸
塩化物であることを特徴とする製造法。
塩化物であることを特徴とする製造法。
第１図ないし第３図は、シユークロース、1,3−ジ−
（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3−テトラ（ハイ
ドロカルビル）ジスタンオキサン、及びシユークロース
−６−ベンゾエートの構造式をそれぞれ示したものであ
る。
（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3−テトラ（ハイ
ドロカルビル）ジスタンオキサン、及びシユークロース
−６−ベンゾエートの構造式をそれぞれ示したものであ
る。
Claims (3)
- 【請求項１】シユークロースと1,3−ジ（ハイドロカル
ビルオキシ）−1,1,3,3−テトラ（ハイドロカルビル）
ジスタンオキサンとを、1,3−ジ−（６−Ｏ−シユーク
ロース）−1,1,3,3−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタ
ンオキサンを製造するに十分な温度と時間反応させるこ
とを特徴とする方法。 - 【請求項２】（ａ）シユークロース、（ｂ）アルコール
又はフェノール、及び（ｃ）１種のジ（ヒドロカルビ
ル）錫酸化物の混合物を、1,3−ジ−（６−Ｏ−シユー
クロース）−1,1,3,3−テトラ（ヒドロカルビル）ジス
タンオキサンを製造するに十分な温度と時間に付すこと
を特徴とする方法。 - 【請求項３】（ａ）シユークロース、アルコール又はフ
ェノール、及びジ（ヒドロカルビル）錫酸化物の混合物
を、1,3−ジ−（６−Ｏ−シユークロース）−1,1,3,3−
テトラ（ヒドロカルビル）ジスタンオキサンを製造する
に十分な温度と時間に付し、そして （ｂ）工程（ａ）の生成物を、アシル化剤と反応させて
シユークロース−６−エステルを製造する、 工程からなることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US220641 | 1988-07-18 | ||
| US07/220,641 US4950746A (en) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | Process for synthesizing sucrose derivatives by regioselective reaction |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0273096A JPH0273096A (ja) | 1990-03-13 |
| JP2725710B2 true JP2725710B2 (ja) | 1998-03-11 |
Family
ID=22824357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1182762A Expired - Lifetime JP2725710B2 (ja) | 1988-07-18 | 1989-07-17 | レジオ選択的反応によるシュークロース誘導体の合成法 |
Country Status (24)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4950746A (ja) |
| EP (1) | EP0352048B1 (ja) |
| JP (1) | JP2725710B2 (ja) |
| KR (1) | KR0143234B1 (ja) |
| AR (1) | AR245136A1 (ja) |
| AT (1) | ATE114664T1 (ja) |
| AU (1) | AU618107B2 (ja) |
| CA (1) | CA1323625C (ja) |
| DE (1) | DE68919566T2 (ja) |
| DK (1) | DK170027B1 (ja) |
| ES (1) | ES2065386T3 (ja) |
| FI (1) | FI91874C (ja) |
| GR (1) | GR1002250B (ja) |
| IE (1) | IE65990B1 (ja) |
| IL (1) | IL91004A (ja) |
| MX (1) | MX172793B (ja) |
| NO (1) | NO171855C (ja) |
| NZ (1) | NZ229823A (ja) |
| PH (1) | PH26098A (ja) |
| PT (1) | PT91186B (ja) |
| RU (1) | RU2041233C1 (ja) |
| TR (1) | TR27628A (ja) |
| YU (1) | YU47159B (ja) |
| ZA (1) | ZA895427B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US5023329A (en) * | 1990-04-23 | 1991-06-11 | Noramco, Inc. | Sucrose-6-ester production process |
| US5034551A (en) * | 1990-04-23 | 1991-07-23 | Noramco, Inc. | Process for recovery of organotin esters from reaction mixtures containing the same and re-use of the recovered organotin compounds |
| US5470969A (en) * | 1990-08-27 | 1995-11-28 | Mcneil-Ppc, Inc. | Catalyzed sucrose-6-ester process |
| GR910100356A (el) * | 1990-08-27 | 1992-08-31 | Mcneil Ppc Inc | Καταλυόμενη μέ?οδος εστέρος-6-σακχαρόζης. |
| FR2670493A1 (fr) * | 1990-12-13 | 1992-06-19 | Isochem Sa | Nouveaux composes monoesters du saccharose tels que les 2-0-acylsaccharoses et les 6-0-acylsaccharoses, ainsi que leurs procedes de synthese. |
| US5298611A (en) * | 1993-03-12 | 1994-03-29 | Mcneil-Ppc, Inc. | Sucralose pentaester production |
| US6608039B1 (en) | 1994-07-11 | 2003-08-19 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Agriculture | Chemically synthesized sugar esters for the control of soft-bodied arthropods |
| AU3006095A (en) | 1994-07-11 | 1996-02-09 | United States Of America, As Represented By The Secretary Of Agriculture, The | Chemically synthesized sugar esters for the control of soft-bodied arthropods |
| US5498709A (en) | 1994-10-17 | 1996-03-12 | Mcneil-Ppc, Inc. | Production of sucralose without intermediate isolation of crystalline sucralose-6-ester |
| DK0776903T3 (da) | 1995-11-28 | 2003-05-12 | Mcneil Ppc Inc | Fremgangsmåde til fremstilling af en saccharose-6-ester |
| US6121430A (en) * | 1998-12-28 | 2000-09-19 | University Of Iowa Research Foundation | Regiospecific synthesis of glucose-based surfactants |
| KR100854528B1 (ko) * | 2000-11-17 | 2008-08-26 | 테이트 앤드 라일 퍼블릭 리미티드 컴파니 | 개선된 수크랄로즈 조성물 및 이의 제조방법 |
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