JPH0823154A - Formation of gold conductor - Google Patents
Formation of gold conductorInfo
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- JPH0823154A JPH0823154A JP15606494A JP15606494A JPH0823154A JP H0823154 A JPH0823154 A JP H0823154A JP 15606494 A JP15606494 A JP 15606494A JP 15606494 A JP15606494 A JP 15606494A JP H0823154 A JPH0823154 A JP H0823154A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ベアICチップを搭載
したセラミック配線基板を製造するための金導体の形成
方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a gold conductor for manufacturing a ceramic wiring board on which a bare IC chip is mounted.
【0002】[0002]
【従来の技術】ベアICチップを配線基板上に実装する
には、ワイヤボンディング性や金バンプとの接続信頼性
のために金導体が必要とされる。一般に、金導体を形成
するには、銅導体配線上に金メッキを施したり、厚膜金
ペーストによりセラミック基板の表面にスクリーン印刷
によって配線を施した後に焼成する方法が採用されてい
る。2. Description of the Related Art In order to mount a bare IC chip on a wiring board, a gold conductor is required for wire bonding and connection reliability with a gold bump. Generally, in order to form a gold conductor, a method in which gold is plated on a copper conductor wiring, or a wiring is provided by screen printing on the surface of a ceramic substrate with a thick film gold paste and then baked is adopted.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、金メッキで
は、プロセスが繁雑になると共に廃液処理の問題もあ
る。しかも、基板を溶液処理するため、基板の性能を劣
化させる原因にもなりかねない。However, in gold plating, the process becomes complicated and there is a problem of waste liquid treatment. In addition, since the substrate is solution-processed, it may cause deterioration of the performance of the substrate.
【0004】また、厚膜法では、プロセスは簡単である
が配線をすべて金導体で形成するとコストが高くなって
しまう。従って、金導体ペーストの使用量をできるだけ
少なくするにはワイヤボンドを行う箇所もしくは金バン
プと接続する箇所のみに金導体を形成すればよいが、幅
100μmの配線導体上に金導体ペーストを小面積で形
成すると金導体ペーストが電極上ですべり、金導体パタ
ーンがにじんでしまうという問題がある。Further, in the thick film method, although the process is simple, if all the wirings are made of a gold conductor, the cost will be high. Therefore, in order to reduce the amount of the gold conductor paste used as much as possible, it suffices to form the gold conductor only at the place where wire bonding is performed or the place where it is connected to the gold bump. However, there is a problem in that the gold conductor paste slips on the electrodes and the gold conductor pattern is bleeding.
【0005】本発明は、従来技術における前記課題を解
決するため、微細な配線パターン上の必要な箇所にのみ
必要なサイズの金導体膜を精度良く形成することのでき
る金導体の形成方法を提供することを目的とする。In order to solve the above problems in the prior art, the present invention provides a method for forming a gold conductor capable of accurately forming a gold conductor film of a required size only in a required place on a fine wiring pattern. The purpose is to do.
【0006】[0006]
【問題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る金導体の第1の形成方法は、表面にす
でに焼成済みの導体配線が形成された焼成済みセラミッ
ク基板において、前記導体配線上の所望の箇所に凹部を
形成し、前記凹部に未焼成の金導体膜を形成した後に、
前記金導体膜を焼成するという構成を備えたものであ
る。In order to achieve the above object, a first method of forming a gold conductor according to the present invention is a method of forming a conductor in a fired ceramic substrate on which a fired conductor wiring is formed. After forming a recess at a desired location on the wiring and forming an unbaked gold conductor film in the recess,
The gold conductor film is fired.
【0007】また、本発明に係る金導体の第2の形成方
法は、焼成済みセラミック基板において、厚膜導体ペー
ストを用いて前記セラミック基板上の所望の領域に未焼
成の配線パターンを形成し、前記未焼成配線パターン上
の所望の箇所に凹部を形成した後に、前記未焼成配線パ
ターンを焼成し、次いで、前記凹部に未焼成の金導体膜
を形成した後に、前記金導体膜を焼成するという構成を
備えたものである。A second method of forming a gold conductor according to the present invention is to form an unfired wiring pattern in a desired region on the ceramic substrate by using a thick film conductor paste in the fired ceramic substrate, After forming a recess at a desired location on the unfired wiring pattern, firing the unfired wiring pattern, then forming an unfired gold conductor film in the depression, and then firing the gold conductor film. It has a configuration.
【0008】また、前記本発明方法の第1又は第2の構
成においては、先端の直径が0.1mm以下の針先で押
さえることにより、配線導体上に凹部を形成するのが好
ましい。In the first or second configuration of the method of the present invention, it is preferable that the recess is formed on the wiring conductor by pressing with a needle tip having a tip diameter of 0.1 mm or less.
【0009】また、前記本発明方法の第1又は第2の構
成においては、レーザー加工によって配線導体上に凹部
を形成するのが好ましい。Further, in the first or second structure of the method of the present invention, it is preferable to form the concave portion on the wiring conductor by laser processing.
【0010】また、前記本発明方法の第1又は第2の構
成においては、金導体膜の材料として、金粉を主成分と
し、少なくとも有機バインダーと溶剤とを含む金ペース
ト組成物を用いるのが好ましく、さらには、先端にスリ
ットの入った、直径が0.1mm以下の針先に金ペース
ト組成物を付着させ、前記金ペースト組成物を導体配線
上の凹部に転写することにより、未焼成の金導体膜を形
成するのが好ましい。In the first or second configuration of the method of the present invention, it is preferable to use a gold paste composition containing gold powder as a main component and at least an organic binder and a solvent as a material for the gold conductor film. Furthermore, the gold paste composition is attached to a needle tip having a slit with a diameter of 0.1 mm or less, and the gold paste composition is transferred to the concave portion on the conductor wiring to obtain unbaked gold. It is preferable to form a conductor film.
【0011】[0011]
【作用】前記本発明方法の第1の構成によれば、配線導
体の上に金導体膜を小面積で形成しても金導体膜が配線
導体上ですべることはないので、金導体パターンがにじ
んでしまうこともない。また、配線導体の凹部に金導体
膜を形成するようにしたので、金導体膜の厚みを稼ぐこ
ともできる。According to the first structure of the method of the present invention, even if the gold conductor film is formed on the wiring conductor in a small area, the gold conductor film does not slip on the wiring conductor. There is no bleeding. Further, since the gold conductor film is formed in the recess of the wiring conductor, the thickness of the gold conductor film can be increased.
【0012】また、前記本発明方法の第2の構成によれ
ば、焼成前の配線パターン(配線導体)に凹部を形成す
るようにしたので、凹部を容易に形成することができ
る。Further, according to the second structure of the method of the present invention, since the concave portion is formed in the wiring pattern (wiring conductor) before firing, the concave portion can be easily formed.
【0013】また、前記本発明方法の第1又は第2の構
成において、先端の直径が0.1mm以下の針先で押さ
えることにより、配線導体上に凹部を形成するという好
ましい構成によれば、簡単な操作によって配線導体上に
凹部を形成することができる。Further, in the first or second structure of the method of the present invention, according to a preferable structure, the recess is formed on the wiring conductor by pressing with a needle tip having a diameter of 0.1 mm or less. The recess can be formed on the wiring conductor by a simple operation.
【0014】また、前記本発明方法の第1又は第2の構
成において、レーザー加工によって配線導体上に凹部を
形成するという好ましい構成によれば、凹部の縁に応力
がかかりにくくなるため、きれいな形状の凹部を形成す
ることができる。Further, in the first or second configuration of the method of the present invention, according to the preferred configuration in which the recess is formed on the wiring conductor by laser processing, stress is less likely to be applied to the edge of the recess, so that a clean shape is obtained. Can be formed.
【0015】また、前記本発明方法の第1又は第2の構
成において、金導体膜の材料として、金粉を主成分と
し、少なくとも有機バインダーと溶剤とを含む金ペース
ト組成物を用いるという好ましい構成によれば、スクリ
ーン印刷により金導体膜を形成することができるので、
メッキ等によって金導体膜を形成する場合に比較して少
ない処理工程で金導体膜を形成することができ、その結
果、作業性を向上させることができる。この場合、さら
に、先端にスリットの入った、直径が0.1mm以下の
針先に金ペースト組成物を付着させ、前記金ペースト組
成物を導体配線上の凹部に転写することにより、未焼成
の金導体膜を形成するという好ましい構成によれば、ス
リットによる毛細管現象によって多量の厚膜金ペースト
を針先に吸い上げることができるので、厚膜金ペースト
の一回の供給で数回の転写を行うことができ、その結
果、作業性を向上させることができる。In the first or second configuration of the method of the present invention, the gold conductor film is preferably composed of a gold paste composition containing gold powder as a main component and at least an organic binder and a solvent. According to this, since the gold conductor film can be formed by screen printing,
The gold conductor film can be formed in a smaller number of processing steps as compared with the case where the gold conductor film is formed by plating or the like, and as a result, workability can be improved. In this case, the gold paste composition is further attached to a needle tip having a slit at the tip and a diameter of 0.1 mm or less, and the gold paste composition is transferred to the concave portion on the conductor wiring, whereby the unfired According to the preferable configuration of forming the gold conductor film, a large amount of the thick film gold paste can be sucked up to the needle tip by the capillary phenomenon due to the slit, so that the transfer of the thick film gold paste is performed several times by one supply. As a result, workability can be improved.
【0016】[0016]
【実施例】以下、実施例を用いて本発明をさらに具体的
に説明する。 (実施例1)図1は本発明に係る金導体の形成方法の一
実施例を示す工程図である。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples. (Embodiment 1) FIG. 1 is a process drawing showing an embodiment of a method for forming a gold conductor according to the present invention.
【0017】図1において、1は焼成済みのセラミック
基板、2は配線導体、4は金導体膜、5はピンである。
まず、図1(a)に示すように、96%の焼成済みアル
ミナ基板1の上に、配線用の厚膜導体ペースト(QP1
53:デュポン社製)を用いてスクリーン印刷により未
焼成配線パターンを形成した後、未焼成配線パターンを
焼成して配線導体2を形成した。In FIG. 1, 1 is a fired ceramic substrate, 2 is a wiring conductor, 4 is a gold conductor film, and 5 is a pin.
First, as shown in FIG. 1A, a thick film conductor paste for wiring (QP1
53: manufactured by DuPont) was used to form an unfired wiring pattern by screen printing, and then the unfired wiring pattern was fired to form the wiring conductor 2.
【0018】次いで、図1(b)に示すように、焼成済
みの配線導体2上の金導体膜を形成したい箇所に、先端
の直径が0.05mmのピン5によって1gの荷重をか
けることにより、凹部9を形成した。このようにピン5
を用いて凹部9を形成するようにしたので、簡単な操作
によって配線導体2の上に凹部9を形成することができ
る。Then, as shown in FIG. 1 (b), a load of 1 g is applied to a portion of the baked wiring conductor 2 where a gold conductor film is to be formed by a pin 5 having a tip diameter of 0.05 mm. The recess 9 was formed. Pin 5 like this
Since the concave portion 9 is formed by using, it is possible to form the concave portion 9 on the wiring conductor 2 by a simple operation.
【0019】次いで、図1(c)に示すように、配線導
体2上の凹部9に、厚膜金導体ペーストを用いてスクリ
ーン印刷により未焼成金導体膜を形成した後、焼成して
金導体膜4を形成した。ここで、厚膜金導体ペースト
は、平均粒径が0.6ミクロンの金粉末(田中貴金属イ
ンターナショナル社製);88.0重量%と、五酸化二
バナジウム粉末(関東化学社製試薬);0.6重量%
と、酸化第二銅粉末(CB50:京都エレックス社
製);1.0重量%と、アクリル系樹脂;4.0重量%
と、テルピネオール;6.4重量%とからなっている。Next, as shown in FIG. 1 (c), an unfired gold conductor film is formed by screen printing using a thick film gold conductor paste in the recess 9 on the wiring conductor 2 and then fired to form the gold conductor. The film 4 was formed. Here, the thick-film gold conductor paste was 88.0% by weight of gold powder (manufactured by Tanaka Kikinzoku International Co., Ltd.) having an average particle size of 0.6 micron, and divanadium pentoxide powder (reagent manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.); 0. .6% by weight
And cupric oxide powder (CB50: manufactured by Kyoto Elex Co., Ltd.); 1.0 wt% and acrylic resin; 4.0 wt%
And terpineol; 6.4% by weight.
【0020】以上のように、凹部9を形成した配線導体
2の上に、厚膜金導体ペーストを用いて未焼成金導体膜
を形成するようにしたので、配線導体2の上に金導体ペ
ーストを小面積で形成しても金導体ペーストが配線導体
2の上ですべることはなく、その結果、金導体パターン
がにじんでしまうこともない。また、配線導体2の凹部
9に金導体膜4を形成するようにしたので、金導体膜4
の厚みを稼ぐこともできる。また、金導体膜4の材料と
して金導体ペーストを用いているために、上記のように
スクリーン印刷によって金導体膜4を形成することがで
き、その結果、メッキ等によって金導体膜4を形成する
場合に比較して少ない処理工程で金導体膜4を形成する
ことができるので、作業性を向上させることができる。As described above, since the unfired gold conductor film is formed on the wiring conductor 2 having the recess 9 by using the thick film gold conductor paste, the gold conductor paste is formed on the wiring conductor 2. Even if a small area is formed, the gold conductor paste does not slip on the wiring conductor 2, and as a result, the gold conductor pattern does not bleed. Moreover, since the gold conductor film 4 is formed in the recess 9 of the wiring conductor 2, the gold conductor film 4 is formed.
You can also earn the thickness of. Further, since the gold conductor paste is used as the material of the gold conductor film 4, the gold conductor film 4 can be formed by screen printing as described above, and as a result, the gold conductor film 4 is formed by plating or the like. Since the gold conductor film 4 can be formed by a smaller number of processing steps than in the case, workability can be improved.
【0021】比較例として、図4に示すように、凹部を
形成しない配線導体2の上に厚膜金導体ペーストを用い
て未焼成金導体膜8を形成したところ、未焼成金導体膜
8が配線導体2の上で流れ、にじんでしまった。As a comparative example, as shown in FIG. 4, when the unfired gold conductor film 8 was formed on the wiring conductor 2 having no recess by using the thick film gold conductor paste, the unfired gold conductor film 8 was formed. It flowed on the wiring conductor 2 and was blurred.
【0022】尚、本実施例1においては、先端の直径が
0.05mmのピン5を用いて凹部9を形成している
が、必ずしもこの径のものに限定されるものではなく、
設計に応じて0.1mm以下のものを適宜使用すること
ができる。In the first embodiment, the concave portion 9 is formed by using the pin 5 having the tip diameter of 0.05 mm, but it is not limited to this diameter.
Those having a thickness of 0.1 mm or less can be appropriately used depending on the design.
【0023】(実施例2)図2は本発明に係る金導体の
形成方法の他の実施例を示す工程図である。まず、図2
(a)に示すように、96%の焼成済みアルミナ基板1
の上に、配線用の厚膜導体ペースト(QP153:デュ
ポン社製)を用いてスクリーン印刷により未焼成配線パ
ターンを形成した後、未焼成配線パターンを焼成して配
線導体2を形成した。(Embodiment 2) FIG. 2 is a process drawing showing another embodiment of the method for forming a gold conductor according to the present invention. First, FIG.
As shown in (a), 96% calcined alumina substrate 1
A thick film conductor paste for wiring (QP153: made by DuPont) was used to form an unfired wiring pattern by screen printing, and then the unfired wiring pattern was fired to form the wiring conductor 2.
【0024】次いで、図2(b)に示すように、焼成済
みの配線導体2上の金導体膜を形成したい箇所に、YA
Gレーザーを用いて凹部9を形成した。このようにレー
ザー加工によって配線導体2上に凹部9を形成するよう
にしたので、凹部9の縁に応力がかかりにくく、その結
果、きれいな形状の凹部9を形成することができる。Next, as shown in FIG. 2B, YA is formed on the baked wiring conductor 2 at a position where a gold conductor film is to be formed.
The recess 9 was formed using a G laser. Since the recess 9 is formed on the wiring conductor 2 by the laser processing as described above, stress is less likely to be applied to the edge of the recess 9, and as a result, the recess 9 having a clean shape can be formed.
【0025】次いで、図2(c)に示すように、配線導
体2上の凹部9に、厚膜金導体ペーストを用いてスクリ
ーン印刷により未焼成金導体膜を形成した後、焼成して
金導体膜4を形成した。このように焼成前の配線導体2
に凹部9を形成するようにしたので、上記実施例1の場
合に比較して凹部9を容易に形成することができる。こ
こで、厚膜金導体ペーストとしては、上記実施例1と同
じものを使用した。Next, as shown in FIG. 2 (c), an unfired gold conductor film is formed by screen printing using a thick film gold conductor paste in the recess 9 on the wiring conductor 2 and then fired to form the gold conductor. The film 4 was formed. Thus, the wiring conductor 2 before firing
Since the concave portion 9 is formed in the concave portion, the concave portion 9 can be easily formed as compared with the case of the first embodiment. Here, the same thick-film gold conductor paste as that used in Example 1 was used.
【0026】(実施例3)図3は本発明に係る金導体の
形成方法のさらに他の実施例を示す工程図である。(Embodiment 3) FIG. 3 is a process drawing showing still another embodiment of the method for forming a gold conductor according to the present invention.
【0027】図3において、6は先端にスリットの入っ
た直径が0.1mmのニードル、7は金導体ペーストで
ある。まず、図3(a)に示すように、96%の焼成済
みアルミナ基板1の上に、配線用の厚膜導体ペースト
(QP153:デュポン社製)を用いてスクリーン印刷
により未焼成配線パターンを形成した後、未焼成配線パ
ターンを焼成して配線導体2を形成した。In FIG. 3, 6 is a needle having a slit at the tip and having a diameter of 0.1 mm, and 7 is a gold conductor paste. First, as shown in FIG. 3A, an unfired wiring pattern is formed on a 96% baked alumina substrate 1 by screen printing using a thick film conductor paste for wiring (QP153: manufactured by DuPont). After that, the unfired wiring pattern was fired to form the wiring conductor 2.
【0028】次いで、図3(b)に示すように、焼成済
みの配線導体2上の金導体膜を形成したい箇所に、先端
の直径が0.05mmのピン5によって1gの荷重をか
けることにより、凹部9を形成した。Next, as shown in FIG. 3 (b), a load of 1 g is applied to a portion of the baked wiring conductor 2 where a gold conductor film is to be formed by a pin 5 having a tip diameter of 0.05 mm. The recess 9 was formed.
【0029】次いで、図3(c)に示すように、金導体
ペースト7を先端に付着させたニードル6によって、配
線導体2上の凹部9に未焼成金導体膜を転写して形成し
た後、焼成して金導体膜4を形成した。このようにニー
ドル6の先端に金導体ペースト7を付着させた後、導体
配線2上の凹部9に金導体ペースト7を転写することに
より、未焼成の金導体膜4を形成するようにしたので、
針先に金導体ペースト7を付着させることにより、多量
の金導体ペースト7をスリットによる毛細管現象によっ
て吸い上げることができる。このため、金導体ペースト
7の一回の供給で数回の転写を行うことができるので、
作業性を向上させることができる。ここで、金導体ペー
スト7としては、上記実施例1と同じものを使用した。Next, as shown in FIG. 3 (c), after the unbaked gold conductor film is transferred and formed in the recess 9 on the wiring conductor 2 by the needle 6 having the gold conductor paste 7 attached to the tip thereof, The gold conductor film 4 was formed by firing. Thus, after the gold conductor paste 7 is attached to the tip of the needle 6, the gold conductor paste 7 is transferred to the concave portion 9 on the conductor wiring 2 to form the unbaked gold conductor film 4. ,
By adhering the gold conductor paste 7 to the needle tip, a large amount of the gold conductor paste 7 can be sucked up by the capillary phenomenon by the slit. Therefore, the transfer can be performed several times by supplying the gold conductor paste 7 once.
Workability can be improved. Here, the same gold conductor paste 7 as in Example 1 was used.
【0030】尚、本実施例3においては、先端の直径が
0.05mmのピン5を用いて凹部9を形成している
が、必ずしもこの径のものに限定されるものではなく、
設計に応じて0.1mm以下のものを適宜使用すること
ができる。In the third embodiment, the recess 9 is formed by using the pin 5 having a tip diameter of 0.05 mm, but the pin 9 is not limited to this diameter.
Those having a thickness of 0.1 mm or less can be appropriately used depending on the design.
【0031】また、本実施例3においては、直径が0.
1mmのニードルを用いて未焼成金導体膜の転写を行っ
ているが、必ずしもこの径のものに限定されるものでは
なく、凹部9の大きさに応じて0.1mm以下のものを
適宜使用することができる。In the third embodiment, the diameter is 0.
Although the unbaked gold conductor film is transferred using a 1 mm needle, it is not necessarily limited to this diameter, and one having a diameter of 0.1 mm or less is appropriately used depending on the size of the recess 9. be able to.
【0032】また、上記実施例1、2、3においては、
焼成済みの配線導体2の表面に凹部9を形成する場合を
例に挙げて説明したが、必ずしもこの方法に限定される
ものではなく、未焼成の配線導体2の表面に凹部9を形
成した後に焼成してもよい。そして、このように凹部9
を形成した後に焼成するようにすれば、凹部を容易に形
成することができる。Further, in the first, second and third embodiments,
The case where the recess 9 is formed on the surface of the fired wiring conductor 2 has been described as an example, but the method is not necessarily limited to this method, and after the recess 9 is formed on the surface of the unfired wiring conductor 2. You may bake. Then, in this way, the recess 9
The concave portion can be easily formed by firing after forming.
【0033】[0033]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る金導
体の第1の形成方法によれば、 前記本発明方法の第1
の構成によれば、配線導体の上に金導体膜を小面積で形
成しても金導体膜が配線導体上ですべることはないの
で、金導体パターンがにじんでしまうこともない。ま
た、配線導体の凹部に金導体膜を形成するようにしたの
で、金導体膜の厚みを稼ぐこともできる。As described above, according to the first method of forming a gold conductor of the present invention, the first method of the present invention can be used.
According to the configuration, even if the gold conductor film is formed on the wiring conductor in a small area, the gold conductor film does not slip on the wiring conductor, so that the gold conductor pattern does not bleed. Further, since the gold conductor film is formed in the recess of the wiring conductor, the thickness of the gold conductor film can be increased.
【0034】また、本発明に係る金導体の第2の形成方
法によれば、焼成前の配線パターン(配線導体)に凹部
を形成するようにしたので、凹部を容易に形成すること
ができる。Further, according to the second method for forming a gold conductor of the present invention, since the recess is formed in the wiring pattern (wiring conductor) before firing, the recess can be easily formed.
【0035】また、前記本発明方法の第1又は第2の構
成において、先端の直径が0.1mm以下の針先で押さ
えることにより、配線導体上に凹部を形成するという好
ましい構成によれば、簡単な操作によって配線導体上に
凹部を形成することができる。In the first or second configuration of the method of the present invention, according to a preferred configuration, the depression is formed on the wiring conductor by pressing with a needle tip having a diameter of 0.1 mm or less. The recess can be formed on the wiring conductor by a simple operation.
【0036】また、前記本発明方法の第1又は第2の構
成において、レーザー加工によって配線導体上に凹部を
形成するという好ましい構成によれば、凹部の縁に応力
がかかりにくくなるため、きれいな形状の凹部を形成す
ることができる。In the first or second structure of the method of the present invention, according to the preferable structure in which the recess is formed on the wiring conductor by laser processing, stress is less likely to be applied to the edge of the recess, so that a clean shape is obtained. Can be formed.
【0037】また、前記本発明方法の第1又は第2の構
成において、金導体膜の材料として、金粉を主成分と
し、少なくとも有機バインダーと溶剤とを含む金ペース
ト組成物を用いるという好ましい構成によれば、スクリ
ーン印刷により金導体膜を形成することができるので、
メッキ等によって金導体膜を形成する場合に比較して少
ない処理工程で金導体膜を形成することができ、その結
果、作業性を向上させることができる。この場合、さら
に、先端にスリットの入った、直径が0.1mm以下の
針先に金ペースト組成物を付着させ、前記金ペースト組
成物を導体配線上の凹部に転写することにより、未焼成
の金導体膜を形成するという好ましい構成によれば、ス
リットによる毛細管現象によって多量の厚膜金ペースト
を針先に吸い上げることができるので、厚膜金ペースト
の一回の供給で数回の転写を行うことができ、その結
果、作業性を向上させることができる。In the first or second configuration of the method of the present invention, the gold conductor composition is preferably composed of a gold paste composition containing gold powder as a main component and at least an organic binder and a solvent. According to this, since the gold conductor film can be formed by screen printing,
The gold conductor film can be formed in a smaller number of processing steps as compared with the case where the gold conductor film is formed by plating or the like, and as a result, workability can be improved. In this case, the gold paste composition is further attached to a needle tip having a slit at the tip and a diameter of 0.1 mm or less, and the gold paste composition is transferred to the concave portion on the conductor wiring, whereby the unfired According to the preferable configuration of forming the gold conductor film, a large amount of the thick film gold paste can be sucked up to the needle tip by the capillary phenomenon due to the slit, so that the transfer of the thick film gold paste is performed several times by one supply. As a result, workability can be improved.
【図1】本発明に係る金導体の形成方法の一実施例を示
す工程図である。FIG. 1 is a process drawing showing an example of a method for forming a gold conductor according to the present invention.
【図2】本発明に係る金導体の形成方法の他の実施例を
示す工程図である。FIG. 2 is a process drawing showing another embodiment of the method for forming a gold conductor according to the present invention.
【図3】本発明に係る金導体の形成方法のさらに他の実
施例を示す工程図である。FIG. 3 is a process drawing showing still another embodiment of the method for forming a gold conductor according to the present invention.
【図4】従来技術における金導体の形成方法により形成
した金導体の断面模式図である。FIG. 4 is a schematic sectional view of a gold conductor formed by a conventional gold conductor forming method.
1 焼成済みアルミナ基板 2 配線導体 4 金導体膜 5 ピン 6 ニードル 7 金導体ペースト 1 baked alumina substrate 2 wiring conductor 4 gold conductor film 5 pin 6 needle 7 gold conductor paste
フロントページの続き (72)発明者 祐伯 聖 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 別所 芳宏 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内Front page continuation (72) Inventor Yuhaku St. 1006 Kadoma, Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Yoshihiro Bessho, 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Claims (6)
された焼成済みセラミック基板において、前記導体配線
上の所望の箇所に凹部を形成し、前記凹部に未焼成の金
導体膜を形成した後に、前記金導体膜を焼成する金導体
の形成方法。1. In a fired ceramic substrate having a fired conductor wiring formed on its surface, after forming a recess at a desired location on the conductor wiring and forming an unfired gold conductor film in the depression. And a method for forming a gold conductor by firing the gold conductor film.
導体ペーストを用いて前記セラミック基板上の所望の領
域に未焼成の配線パターンを形成し、前記未焼成配線パ
ターン上の所望の箇所に凹部を形成した後に、前記未焼
成配線パターンを焼成し、次いで、前記凹部に未焼成の
金導体膜を形成した後に、前記金導体膜を焼成する金導
体の形成方法。2. In a fired ceramic substrate, a thick film conductor paste is used to form an unfired wiring pattern in a desired region on the ceramic substrate, and a recess is formed at a desired location on the unfired wiring pattern. After that, the unfired wiring pattern is fired, then an unfired gold conductor film is formed in the recess, and then the gold conductor film is fired.
さえることにより、配線導体上に凹部を形成する請求項
1又は2に記載の金導体の形成方法。3. The method for forming a gold conductor according to claim 1, wherein the recess is formed on the wiring conductor by pressing with a needle tip having a tip diameter of 0.1 mm or less.
を形成する請求項1又は2に記載の金導体の形成方法。4. The method for forming a gold conductor according to claim 1, wherein the recess is formed on the wiring conductor by laser processing.
し、少なくとも有機バインダーと溶剤とを含む金ペース
ト組成物を用いる請求項1又は2に記載の金導体の形成
方法。5. The method for forming a gold conductor according to claim 1, wherein a gold paste composition containing gold powder as a main component and at least an organic binder and a solvent is used as a material for the gold conductor film.
mm以下の針先に金ペースト組成物を付着させ、前記金
ペースト組成物を導体配線上の凹部に転写することによ
り、未焼成の金導体膜を形成する請求項5に記載の金導
体の形成方法。6. A diameter of 0.1 with a slit at the tip.
The gold conductor composition according to claim 5, wherein an unfired gold conductor film is formed by depositing a gold paste composition on a needle tip of mm or less and transferring the gold paste composition to a recess on a conductor wiring. Method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15606494A JPH0823154A (en) | 1994-07-07 | 1994-07-07 | Formation of gold conductor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15606494A JPH0823154A (en) | 1994-07-07 | 1994-07-07 | Formation of gold conductor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0823154A true JPH0823154A (en) | 1996-01-23 |
Family
ID=15619523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15606494A Pending JPH0823154A (en) | 1994-07-07 | 1994-07-07 | Formation of gold conductor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0823154A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011204748A (en) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Fukuoka Univ | Wiring pattern forming method and wiring board |
-
1994
- 1994-07-07 JP JP15606494A patent/JPH0823154A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011204748A (en) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Fukuoka Univ | Wiring pattern forming method and wiring board |
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