JPH08231233A

JPH08231233A - 板ガラスの平坦化方法、および該方法を用いた磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH08231233A
Application number: JP7352045A
Authority: JP
Inventors: Akimi Kitayama; 皓己北山; Kazuhiko Sekiguchi; 和彦関口; Teruhisa Fujita; 輝久藤田; Yoshio Murano; 由夫村野; Sakuji Yoshihara; 作次吉原
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1994-12-28
Filing date: 1995-12-27
Publication date: 1996-09-10
Anticipated expiration: 2015-12-27
Also published as: JP3267846B2

Abstract

(57)【要約】【課題】積層された薄板ガラス間の熱融着を防止しつ
つ、キズの発生や異物の融着を生じさせることなく薄板
ガラスを複数枚重ねて効率よく熱処理して要求される精
度の平坦度を得ることのできる板ガラスの平坦化方法の
提供する。また、優れた平坦性を有しヘッドクラッシュ
を起こすことのない磁気記録媒体を提供する。【解決手段】複数枚積層した板ガラス１を平坦度の高
い圧縮板３、４で挟み板ガラス１を加圧しつつ加熱、徐
冷して板ガラス１を平坦化する方法において、積層する
各板ガラス１の表面に水溶性無機物質と界面活性剤とを
含む溶液を塗布する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、板ガラスの平坦化方法
に関し、この方法を用いて製造した液晶用基板やメモリ
ーディスク用基板などのガラス基板、およびこのガラス
基板を用いた磁気記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より磁気ディスク（ハードディス
ク）、光ディスク、液晶ディスプレイなどの基板として
薄板ガラス基板が用いられているが、他の樹脂基板や金
属基板などに比べ平坦度が高く薄板化が可能である等の
優れた特性を有することから近年再びガラス基板が注目
を集めている。

【０００３】通常、これらの薄板ガラス基板は、ダウン
ドロー法、フロート法などの製法で得られた板ガラス素
板を所定の寸法に加工後、表面研磨して製造される。こ
こで、ダウンドロー法は、一般的には溶融ガラスを流下
し垂直下方に引き抜いて板ガラスを製造する方法であ
る。より具体的には、例えば、溶融ガラスを断面がくさ
び状の成形体の表裏面に沿って流下させ成形体の下端部
で合流させて板状とし、これを引張りローラで下方に引
き抜きつつ冷却固化して板ガラスを製造する方法（ダウ
ンドロー法の一例）が知られている（特開平５−１６３
０３２号公報等）。

【０００４】このダウンドロー法によって作られる板ガ
ラスは、他の方法によって作られる板ガラスに比べ薄い
ものが得られるので、磁気ディスク用薄板ガラス基板や
液晶ディスプレイ用薄板ガラス基板として利用されてい
るが、その成形方法の特性により、板の平坦度はフロー
ト法などによって作られた板ガラスより悪くなる。その
ため、これらの用途にダウンドロー法によって作られた
薄板ガラスを用いる場合には、平坦度を修正（匡正）し
て良くするための熱処理（加熱、除冷）が必要となる。

【０００５】その方法は具体的には、図５（ａ）および
（ｂ）に示すように、研削または研磨された平坦度の良
い圧縮板（平坦度修正用アルミニウム厚板）１０の間に
薄板ガラス１１を一枚ずつ挟み、薄板ガラス１１の両面
に離型剤として紙またはカーボンペーパー１２を挟ん
で、加熱、除冷を行っている。１３は圧縮板１０の変形
を防止するためのフィンである

【０００６】また、効率を上げるために薄板ガラスを複
数枚重ねて熱処理する場合にあっては、そのままで熱処
理を行うと薄板ガラスどうしが熱融着をおこして使用で
きなくなるので、この薄板ガラスどうしの熱融着を防止
する必要がある。このため、薄板ガラスの間に紙または
カーボンペーパーを挟み、紙の燃えかすを離型剤として
利用する方法またはカーボンペーパーを離型剤として利
用する方法が用いられている（特開平６ー２４７７３０
号公報等）。

【０００７】ここで、薄板ガラスの間に紙を挟む方法に
あっては、積層する薄板ガラスの枚数が増えると、紙の
持っている厚みやその弾力性により、平坦度の精度が要
求される精度まで上がらなくなり、また、その燃えかす
の取り扱いや洗浄処理に労力を要するようになる。より
詳しくは、薄板ガラスの間に挟まれた紙は、熱処理によ
り外周部は燃えてなくなり、中心部は酸素不足のため炭
化した状態で残る。このため薄板ガラスの外周部と中心
部で厚みの差が生じこれが積層された分だけ増大し、こ
れが薄板ガラスに転写されるため平坦度が悪くなり、要
求される精度を満たさなくなる。また、熱処理後に加熱
炉から薄板ガラスを取り出す際に、紙の燃えかすが周囲
に飛散し作業環境を悪化させるため取り扱いが煩雑であ
り、さらに、紙から発生したタール分が薄板ガラス表面
に付着するため洗浄処理に手間がかかり労力を要する。

【０００８】また、薄板ガラスの間にカーボンペーパー
を挟む方法においても、カーボンペーパーの持っている
厚みやその弾力性により、平坦度の精度が要求される精
度まで上がらなくなり、また、カーボンペーパーは高価
であるのでコスト高となる。より詳しくは、カーボンペ
ーパー厚みは０．５ｍｍ以上と紙に比較して厚いので、
その弾性力に板ガラスの平坦度が吸収されてしまい平坦
度の修正が不十分となるため平坦度の精度が上がらな
い。また、カーボンペーパーは強度が不十分ですぐに壊
れてしまいしかも高価であるのでコスト高となる。

【０００９】これらの問題を避けるために、無機性の物
質の微粉を離型剤として利用する方法が考えられるが、
この場合、微粉を薄板ガラス表面に均一に散布（塗布）
することが難しく、微粉が周囲に飛散して作業環境を悪
化させ、さらにこの微粉が薄板ガラス表面に融着したり
キズを発生させたりして薄板ガラスの研磨性を悪化させ
て使用できなくなる。

【００１０】さらに、薄板ガラスの間に紙またはカーボ
ンペーパーを挟む際に、空気中のダストを巻き込み、こ
れが原因でこすりキズが発生し、歩留まりの低下を招い
ていた。

【００１１】このような問題のために、要求される精度
の平坦度を有し、キズの発生や異物の融着を生じさせる
ことなく薄板ガラスを複数枚重ねて効率よく熱処理する
ことは従来困難であった。

【００１２】このため、従来、効率を犠牲にして、要求
される精度の平坦度を確保するため平坦度の良い圧縮板
の間に薄板ガラスを一枚ずつ挟み熱処理を行うか、ある
いは精度を犠牲にして、薄板ガラスの間に紙またはカー
ボンペーパーを挟んで熱処理し、燃えかすに悩ませられ
ながら洗浄を行うことを余儀なくされていた。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】上述したように従来の
方法では、積層された薄板ガラス間の熱融着を防止しつ
つ、キズの発生や異物の融着を生じさせることなく、薄
板ガラスを複数枚重ねて効率よく熱処理して要求される
精度の平坦度を得ることは困難であった。

【００１４】また、従来の薄板ガラス基板は、効率を犠
牲にして要求される精度の平坦度を確保しているため価
格が高く、あるいは、精度を犠牲にして製造された薄板
ガラスを用いているので要求される精度の平坦度を確保
するためかなりの研磨を必要としこのため高コストであ
るという問題がある。

【００１５】さらに、従来の磁気ディスクは上記高価な
基板を用いているので高価格であるとともに、基板に研
磨工程で除去しきれないキズや異物の融着が残り、表面
状態が悪いので、磁気ディスクとした場合にヘッドクラ
ッシュを起こしたり、磁性層等の膜に欠陥が発生しエラ
ーの原因となるという問題がある。

【００１６】本発明は上記問題点にかんがみてなされた
ものであり、第一の目的は、積層された薄板ガラス間の
熱融着を防止しつつ、キズの発生や異物の融着を生じさ
せることなく薄板ガラスを複数枚重ねて効率よく熱処理
して要求される精度の平坦度を得ることのできる板ガラ
スの平坦化方法の提供することである。また、第二の目
的は、高平坦度かつ安価な薄板ガラス基板を提供するこ
とであり、第三の目的は、ヘッドクラッシュを起こすこ
とがなく、磁性層等の膜に欠陥が発生しない磁気記録媒
体を提供することである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の板ガラスの平坦化方法は、ダウンドロー法で
形成した板ガラスを一枚または複数枚重ねたものの両側
を平坦度の高い圧縮板で挟み板ガラスを加圧しつつ加
熱、徐冷して板ガラスを平坦化する方法において、板ガ
ラスの少なくとも一主表面に水溶性無機物質と界面活性
剤とを含む溶液からなる膜を形成する構成としてある。

【００１８】また、本発明の板ガラスの平坦化方法は、
上記本発明の板ガラスの平坦化方法において、好ましく
は、上記水溶性無機物質が、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｂａ
(ＯＨ)₂、Ｃａ(ＯＨ)₂、硫酸アンモニウム、アルキルエ
ーテル硫酸アンモニウム、アルキット化合物、キレート
化合物のうちから選ばれる一以上である構成、あるい
は、上記界面活性剤が、アニオン界面活性剤、カチオン
界面活性剤、両性界面活性剤、イオン性界面活性剤、非
イオン性界面活性剤のうちから選ばれる一以上である構
成としてある。

【００１９】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、上記板ガラスの平坦化方法を施した板ガラスの主表
面を研磨した後、イオン交換によって化学強化し、その
後、少なくとも磁性層を形成する構成としてある。

【００２０】

【作用】本発明では、水溶液に界面活性剤を添加するこ
とで、ガラス表面に薄く均一にむらなく水溶性無機物質
を塗布することが可能となる。また、界面活性剤および
水溶性無機物質を含む溶液を用いることで、ガラスの熱
融着を防止する無機化合物の被膜を、板ガラスの平坦度
の修正を妨げない状態（数ミクロンの厚さ）で形成する
ことが可能となる。なお、界面活性剤を添加しないと均
一でむらなく薄い被膜を作ることは難しく、また、水溶
性無機物質を混合しないとガラスの熱融着を防止する被
膜とならない。

【００２１】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいては、ダウンドロー法によって形成した板ガラスを
一枚または複数枚重ねたものの両側を、平坦度の高い圧
縮板で挟み、板ガラスを加圧しつつ加熱、徐冷して板ガ
ラスを平坦化する。

【００２２】ここで、ダウンドロー法によって形成した
板ガラスは、細部の製造条件も含め従来より公知のダウ
ンドロー法によって形成した板ガラスであればよく、あ
るいは、ダウンドロー法によって形成された板ガラスと
同等の性状を有する板ガラスであってもよい。

【００２３】板ガラスの材質、サイズ、厚さ等は特に制
限されない。板ガラスの材質としては、例えば、アルミ
ノシリケートガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、ソ
ーダライムガラス、チェーンシリケートガラス等が挙げ
られる。

【００２４】板ガラスの積層枚数としては、ガラスの熱
伝導率の観点から２〜５０枚程度が適当である。なお、
板ガラスは積層せずに一枚ずつ平坦化処理することもで
きる。

【００２５】平坦度の高い圧縮板の材質としては、耐熱
性があり熱伝導率の高い材質が好ましく、例えば、Ｓｉ
Ｃ板、カーボン板や、アルミニウム板などの金属板等が
好ましい。なお、熱伝導率が低い石英板や耐熱性ガラス
板等を用いてもよいがこの場合には徐冷スケジュールを
ゆるやかにする必要があり、徐冷時間を長くすると同じ
結果が得られる。

【００２６】圧縮板のガラス板と接する表面の平坦度
は、ガラス板に要求される平坦度より高い平坦度とする
ことが好ましく、例えば、表面を研削研磨して１０μｍ
以下の平坦度とすることが好ましい。また、圧縮板の厚
さは、圧縮板の変形を防止してその平坦度を維持するた
め厚くすることが好ましい。例えば、ＳｉＣ板の場合は
１０ｍｍ以上、カーボン板の場合は１５ｍｍ以上、アル
ミニウム板の場合は２０ｍｍ以上の厚さとすることが好
ましい。圧縮板の裏面には圧縮板の変形を防止するため
のフィンを設けてもよい。

【００２７】板ガラスに荷重をかけるには、例えば、圧
縮板／積層した板ガラス／圧縮板の順で積み重ね、この
上に所定の重さの荷重板等を載置すればよい。

【００２８】加熱、徐冷は、ガラス材質等に応じて所定
の加熱徐冷スケジュール（昇温、温度保持、徐冷、冷
却）となるよう熱処理炉における加熱温度および加熱時
間等を制御して行う。この場合、加熱温度はガラスの歪
み点以上の温度とすることが必要であり、ガラスの転位
温度以上の温度とすることが好ましい。また、保持時間
は、圧縮板の平坦度と荷重を利用してガラスに変形を起
こさせ全体が十分に均一となり板ガラスの平坦度が十分
に修正される時間とする。

【００２９】本発明においては、上記複数枚積層した板
ガラスを平坦化処理するに際し、板ガラスの少なくとも
一方の表面に水溶性無機物質と界面活性剤とを含む溶液
を塗布することを特徴とする。この場合、積層された各
板ガラス間に少なくとも塗布面が介在するようにする。
また、板ガラスと圧縮板との間にも塗布面が介在するよ
うにする。もちろん、積層する各板ガラスの各表面（両
面）に水溶性無機物質と界面活性剤とを含む溶液を塗布
してもよい。

【００３０】ここで、水溶性無機物質としては、水酸化
アルカリ類（ＮａＯＨ、ＫＯＨなど）、水酸化アルカリ
土類（Ｂａ(ＯＨ)₂、Ｃａ(ＯＨ)₂など）、アルカリ（Ｎ
ａ₂ＳＯ₄、有機アルカリなど）、あるいは、硫酸アンモ
ニウム、アルキルエーテル硫酸アンモニウムなどの硫酸
塩、または、アルキット化合物、キレート化合物等が挙
げられる。これらの水溶性無機物質は、一種単独で用い
てもよく二種以上を混合して用いてもよい。

【００３１】界面活性剤としては、ガラスとの濡れ性を
良くして、薄い被膜を均一にむらなく生成する作用を奏
するものであればよく、特に制限されない。

【００３２】水溶液の塗布にむらを生ずると、その部分
でガラスの熱融着を発生させる。また、界面活性剤は、
加熱処理の過程で、空気中の酸素と反応して炭酸ガスと
なり、溶液に添加したアルカリまたはアルカリ土類等と
反応して炭酸塩となり、ガラスの表面に炭酸塩被膜を形
成し、ガラスの熱融着を防止する。

【００３３】なお、界面活性剤を含む水溶液に硫酸アン
モニウムを添加した場合には、ガラス表面に付着した硫
酸アンモニウムが、加熱処理の過程でガラス成分中のナ
トリウムと反応しガラス表面に硫酸ナトリウムの緻密な
被膜を形成し、ガラスの熱融着を防止する。

【００３４】これらの炭酸塩被膜や硫酸ナトリウム被膜
は、熱処理後、水洗いで容易に洗浄、除去できる。

【００３５】界面活性剤としては、アニオン界面活性
剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤などのイオン
性界面活性剤や、非イオン性界面活性剤等が挙げられ
る。これらの界面活性剤は、一種単独で用いてもよく二
種以上を混合して用いてもよい。

【００３６】界面活性剤および水溶性無機物質の添加割
合は、熱融着防止被膜がガラス表面に薄く均一にむらな
く形成できるように調整する。なお、水溶性無機物質と
界面活性剤とを含む溶液には、さらにアルコール、窒化
ホウ素等の他の成分を添加してもよい。

【００３７】各板ガラスの各表面に水溶性無機物質と界
面活性剤とを含む溶液を塗布する方法は、特に制限され
ないが、例えば、スプレイガンを用いて塗布したり、あ
るいはスポンジに溶液を吸収させた後にこのスポンジを
用いて塗布しもよい。あるいは、溶液に板ガラスを浸漬
して塗布してもよい。

【００３８】溶液の塗布厚は、ガラスの平坦度の修正を
妨げない厚さとすることが必要であり、具体的には、数
ミクロン程度の厚さとすることが好ましい。

【００３９】上記本発明の板ガラスの平坦化方法は、後
述する磁気ディスク用ガラス基板やＬＣＤ用ガラス基板
の製造に好適に利用されるが、本発明はこれに限るられ
ず、フォトマスクや光ディスク用のガラス基板、その他
一般ガラス板の表面平坦化方法として利用できる。

【００４０】次に、上記本発明の板ガラスの平坦化方法
を用いて製造したガラス基板について説明する。

【００４１】板ガラスは、通常、所定のサイズ、形状に
切断加工され、面取り加工を施し、表面研磨、表面の化
学強化処理等を経て各種ガラス基板とされる。

【００４２】上述した板ガラスの平坦化方法を用いて製
造された板ガラスは、簡単な研磨を行うだけであるいは
研磨を行うことなしに、高い表面平滑度を要求される各
種ガラス基板として使用することができ、したがって、
従来に比べ非常に安価にできる。

【００４３】具体的には、従来薄板ガラス基板を用いて
製造することが困難であったため３ｍｍ以上の厚さのガ
ラス板から２ｍｍ程度の研磨を行い製造していた磁気デ
ィスク用基板を、上述した板ガラスの平坦化方法を用い
て製造した薄板ガラスを用いて、所定のサイズ、形状に
切断加工下の後、軽い表面研磨を施すだけで、磁気ディ
スク用ガラス基板とすることができ、画期的であるとと
もに非常に安価にできる。また、上述した板ガラスの平
坦化方法を用いて製造する薄板ガラスのサイズ、形状を
あらかじめＬＣＤ用基板の大きさとしておけば、切断加
工することなく軽い表面研磨を施すだけで、ＬＣＤ用ガ
ラス基板とすることができ、画期的であるとともに非常
に安価にできる。

【００４４】次に、本発明の他の発明について説明す
る。本発明の他の発明は、上述した板ガラスの平坦化方
法を施した板ガラスの主表面を研磨した後、イオン交換
によって化学強化し、その後、少なくとも磁性層を形成
することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。

【００４５】上述した板ガラスの平坦化方法を施した板
ガラスは従来に比べはるかに高い平坦度および表面状態
を有する。したがって、基板に研磨工程で除去しきれな
いキズや異物の融着が残ることがなく、表面状態が良い
ので、磁気ディスクとした場合にヘッドクラッシュを起
こすことがなく、磁性層等の膜に欠陥が発生しエラーの
原因となるということもない。

【００４６】また、本発明による磁気記録媒体は、上述
した安価なガラス基板を用いて製造しており、さらに研
磨工程が簡略化できるので、従来に比べ非常に安価にで
きる。具体的には、従来のように３ｍｍ以上の厚さのガ
ラス板から２ｍｍ程度の研磨を行い製造された磁気ディ
スク用基板を用いる場合に比べ、１ｍｍ強の厚さのガラ
ス板から軽い研磨を行って１ｍｍ程度以下の磁気ディス
ク用基板を得ることができるので、研磨時間が短くて済
み安価である。

【００４７】磁気記録媒体は、通常、所定の平坦度、表
面粗さを有し、表面の化学強化処理を施した磁気ディス
ク用ガラス基板上に、下地層、磁性層、保護層、潤滑層
を順次積層して製造する。

【００４８】磁気記録媒体における、下地層としては、
Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ａｌなどの非磁性薄膜が
挙げられ、Ａｌ／Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ａｌ／Ｃｒ／Ｃｒ等
の多層下地層としもよい。

【００４９】磁性層としては、Ｃｏを主成分とするＣｏ
ＰｔＣｒやＣｏＮｉＣｒＴａなどの磁性薄膜が挙げら
れ、磁性層を非磁性膜で分割してノイズの低減を図った
ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ等の多層構成と
しもよい。

【００５０】保護層としては、例えば、Ｃｒ膜、Ｃｒ合
金膜、炭素膜、ジルコニア膜、シリカ膜等が挙げられ
る。これらの保護膜は、下地層、磁性層等とともにイン
ライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、こ
れらの保護膜は、単層としてもよく、あるいは、同一ま
たは異種の膜からなる多層構成としてもよい。上記保護
層上にはさらに他の保護層を形成してもよい。例えば、
上記保護層上にテトラアルコキシランをアルコール系の
溶媒で希釈して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素（Ｓ
ｉＯ₂）膜を形成してもよい。

【００５１】潤滑層は、一般に、液体潤滑剤であるパー
フロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶
媒で希釈し、媒体表面にディッピング法、スピンコート
法、スプレイ法によって塗布し、必要に応じ加熱処理を
行って形成する。

【００５２】

【実施例】以下、実施例にもとづき本発明をさらに具体
的に説明する。

【００５３】実施例１市販界面活性剤を１０％添加した水溶液に、苛性ソーダ
（ＮａＯＨ）を３０％溶解させた。この水溶液７を図１
に示すように、スプレイガン６を用いて板ガラス（アル
ミノシリケイトガラス製）１の表面に薄く（２μｍ）塗
布した。

【００５４】次いで図２に示すように、水溶液を塗布し
た板ガラス１を１５枚積層し、この積層した板ガラス
（群）２を、１０μｍ以下の平坦度に表面を研削研磨し
たＳｉＣ製厚板（厚さ２５ｍｍ）３の上に載せた。さら
に、この厚板３の上に載せた積層板ガラス２の上に厚板
３と同様の平滑度を有するＳｉＣ製厚板（厚さ２５ｍ
ｍ）４を載せた。この厚板４の上に加重を加えるための
３０ｋｇの鋼材５を載せた。

【００５５】上記のようにセットした積層した板ガラス
２を、図３に示す徐冷スケジュールで加熱、徐冷を行い
板ガラスの平坦化処理を行った。

【００５６】徐冷によりガラスが十分に冷えてから炉か
ら取り出したガラス板の表面はアルカリが炭酸塩となっ
て白い被膜で覆われており、ガラス板どうしが熱融着す
ることもなかった。また、この白い被膜は水洗浄で容易
に取り除くことができ、ガラス表面にキズが発生するこ
ともなかった。

【００５７】この結果、３００×３００×１．１ｍｍの
板ガラスで５０μｍ以下の平坦度のものが得られた。ま
た、この板ガラスから６６ｍｍφの磁気ディスク基板を
切り出したところ５μｍ以下（平均２μｍ以下）の平坦
度のものが得られた。

【００５８】また、上述した加熱、徐冷による平坦化処
理によって、板ガラスの反り（そり）（図４のｂ）がど
の程度改善されたのか調べた。その結果を表１に示す。

【００５９】

【表１】

【００６０】その結果、図４における基準長さ（試料の
長さ）ａに対する反り量ｂの割合を示す反り率（％）＝
ｂ／ａの値は、加熱、徐冷による平坦化処理によって、
約１／１００程度に改善されていることがわかった。ま
た、撓み率（％）に関しても同様に調べたところ同様の
傾向であった。なお、板ガラスの反り等はガラス基板の
強度に悪影響を及ぼすことが知られており、反り率
（％）等を低減することでガラス強度の低下を防ぐこと
ができる。

【００６１】なお、使用した板ガラスのガラス転位温度
は５００℃であり、上記結果を得るためには、５００℃
以上の温度に加熱すれば十分であった。また、保持時間
は全体が均一になるように、５時間以上保つことが必要
であった。平坦化処理に必要とする温度は歪点以上であ
り、このガラスの場合４００℃以上の温度に加熱するこ
とが必要であり、５００℃以下の温度に下げるほど保持
時間を長くとることが必要であった。４５０℃の加熱温
度では１０時間の保持時間を必要とした。

【００６２】比較例１水溶液をガラス表面に塗布する代わりに紙（合紙）をガ
ラス板間に挟んだこと以外は実施例１と同様にして板ガ
ラスの平坦化処理を行った。

【００６３】この結果、３００×３００×１．１ｍｍの
板ガラスで１５０μｍ以下の平坦度のものが得られた。
また、この板ガラスから６６ｍｍφの磁気ディスク基板
を切り出したところ１５μｍ以下（平均８μｍ以下）の
平坦度のものが得られた。

【００６４】上記３００×３００×１．１ｍｍのサイズ
の板ガラスをＬＣＤ用ガラス基板とするにはかなりの研
磨を必要とし、薄くてサイズが大きいので研磨工程で割
れしまうものも少なくなかった。また、１．１ｍｍの薄
板ガラスから研磨によって磁気ディスク用ガラス基板を
製造することは、平坦度が悪くかなりの研磨を要するた
め困難であった。

【００６５】上記実施例１および比較例１から明らかな
ように、本発明の板ガラスの平坦化方法によれば、従来
の方法に比べ、はるかに高い平坦度および表面状態が得
られる。また、洗浄処理が容易であるため研磨工程まで
の前工程を短縮でき、生産効率を高めることができる。
さらに、紙を挟む際に空気中のダストを巻き込みキズを
発生させることがなく、したがって、歩留まりが向上
し、コストの低減を図ることができる。

【００６６】実施例２〜３水溶性無機物質として苛性ソーダの代わりに苛性カリ
（ＫＯＨ）（実施例２）、アルキル酸エーテル硫酸ナト
リウム（実施例３）を用いたこと以外は実施例１と同様
にして板ガラスの平坦化処理を行った。この結果は実施
例１とほとんど同じであった。

【００６７】実施例４水溶性無機物質として苛性ソーダの代わりに硫酸アンモ
ニウムを用いたこと以外は実施例１と同様にして板ガラ
スの平坦化処理を行った。この結果は実施例１とほとん
ど同じであった。なお、徐冷後のガラス板の表面は硫酸
ナトリウムの緻密な被膜で覆われており、この被膜は水
洗浄で容易に取り除くことができた。

【００６８】実施例５実施例１で製造した５μｍ以下（平均２μｍ以下）の平
坦度の６６ｍｍφの磁気ディスク用ガラス基板を用い、
面取り加工後、＃４００と＃１０００砥粒の砂かけ工程
を経て、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）による研磨工程を行
い、洗浄工程を経て、表面粗さＲmax２０オングストロ
ーム程度に仕上げた。

【００６９】次いで、上記磁気ディスク用ガラス基板に
低温型イオン交換処理を施して化学強化した。このイオ
ン交換時、従来の板ガラスの平坦化処理では前工程での
研磨でも除去しきれないキズや異物の融着が残り、均一
な化学強化ができない場合があったが、本発明の平坦化
処理により均一な化学強化ができた。また、応力の不均
一による損傷も防止できた。次に、基板の両面に、Ａｌ
（膜厚５０オングストローム）／Ｃｒ（１０００オング
ストローム）／ＣｒＭｏ（１００オングストローム）か
らなる下地層、ＣｏＰｔＣｒ（１２０オングストロー
ム）／ＣｒＭｏ（５０オングストローム）／ＣｏＰｔＣ
ｒ（１２０オングストローム）からなる磁性層、Ｃｒ
（５０オングストローム）保護層をインライン型スパッ
タ装置で形成した。

【００７０】上記基板を、シリカ微粒子（粒経１００オ
ングストローム）を分散した有機ケイ素化合物溶液（水
とＩＰＡとテトラエトキシシランとの混合液）に浸し、
焼成することによってＳｉＯ₂からなる保護層を形成
し、さらに、この保護層上をパーフロロポリエーテルか
らなる潤滑剤でディップ処理して潤滑層７を形成して、
ＭＲヘッド用磁気ディスクを得た。

【００７１】上記磁気ディスクについて磁気ヘッドのフ
ライング試験を行ったところ、ヘッドクラッシュを起こ
さないことが確認できた。また、基板表面に欠陥が発生
しないので、磁性層等の膜に欠陥が発生していないこと
も確認できた。上記磁気ディスクは、従来に比べ安価で
あり、また、基板表面に欠陥が発生しないので、エラー
の原因となる欠陥など均質な磁性膜形成に有害な欠陥が
なく磁気特性等に優れることが確認された。

【００７２】実施例６下地層をＡｌ／Ｃｒ／Ｃｒとし、磁性層をＣｏＮｉＣｒ
Ｔａとしたこと以外は実施例５と同様にして薄膜ヘッド
用磁気ディスクを得た。上記磁気ディスクについて実施
例５と同様のことが確認された。

【００７３】以上好ましい実施例をあげて本発明を説明
したが、本発明は必ずしも上記実施例に限定されるもの
ではない。

【００７４】例えば、本発明の板ガラスの平坦化方法に
続けて、板ガラスの再平坦化処理を行うことができる。
この再平坦化処理は、平坦度のさらなる向上、平坦度が
不十分である場合の矯正、各種要因により平坦度が不良
であった場合の再処理などの各種目的で行うことができ
る。この場合、板ガラスの再平坦化処理として、従来よ
り周知の板ガラスの平坦化処理、あるいは、本発明の板
ガラスの平坦化方法を、必要に応じ選択して実施でき
る。なお、従来より周知の板ガラスの平坦化処理を実施
する場合にあっては、本発明の平坦化処理によって熱融
着が起きにくい状態となっているので、紙やカーボンペ
ーパー等の離型剤は通常使用する必要はないが、これら
の離型剤を使用することももちろんできる。また、板ガ
ラスの再平坦化処理においては、板ガラスを一枚単独で
処理してもよく、あるいは、複数枚積層して処理しても
よい。

【００７５】

【発明の効果】以上説明したように本発明の板ガラスの
平坦化方法によれば、積層された薄板ガラス間の熱融着
を防止しつつ、キズの発生や異物の融着を生じさせるこ
となく薄板ガラスを複数枚重ねて効率よく熱処理して高
い精度の平坦度を得ることができる。

【００７６】また、本発明で得られる薄板ガラス基板
は、反りが少なく、優れた平坦性を有しかつ安価であ
る。

【００７７】さらに、本発明で製造した磁気記録媒体
は、ガラス基板が優れた平坦性を持ち、基板表面に異物
の融着がないので、ヘッドクラッシュを防止することが
できる。また、基板表面に欠陥が発生しないので、磁性
層等の膜に欠陥が発生しない。さらに、安価なガラス基
板を用いて製造しており、さらに研磨工程が簡略化でき
るので、従来に比べ非常に安価に製造できる。

【００７８】

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例における水溶液の塗布方法を説明する
ための斜視図である。

【図２】実施例における熱処理方法を説明するための
斜視図である。

【図３】実施例における加熱、徐冷スケジールを示す
図である。

【図４】ガラス基板の反りを説明するための図であ
る。

【図５】従来の熱処理方法を説明するための図であ
り、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。

【符号の説明】

１板ガラス２積層した板ガラス３厚板（圧縮板）４厚板（圧縮板）５鋼材６スプレーガン７水溶液（塗布液）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者村野由夫東京都新宿区中落合２丁目７番５号ホーヤ株式会社内 (72)発明者吉原作次東京都新宿区中落合２丁目７番５号ホーヤ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ダウンドロー法で形成した板ガラスを一
枚または複数枚重ねたものの両側を平坦度の高い圧縮板
で挟み板ガラスを加圧しつつ加熱、徐冷して板ガラスを
平坦化する方法において、板ガラスの少なくとも一主表面に水溶性無機物質と界面
活性剤とを含む溶液からなる膜を形成することを特徴と
する板ガラスの平坦化方法。
【請求項２】前記水溶性無機物質が、ＮａＯＨ、ＫＯ
Ｈ、Ｂａ(ＯＨ)₂、Ｃａ(ＯＨ)₂、硫酸アンモニウム、ア
ルキルエーテル硫酸アンモニウム、アルキット化合物、
キレート化合物のうちから選ばれる一以上である請求項
１記載の板ガラスの平坦化方法。
【請求項３】前記界面活性剤が、アニオン界面活性
剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、イオン性界
面活性剤、非イオン性界面活性剤のうちから選ばれる一
以上である請求項１または２記載の板ガラスの平坦化方
法。
【請求項４】請求項１ないし３記載のいずれかの板ガ
ラスの平坦化方法を施した板ガラスの主表面を研磨した
後、イオン交換によって化学強化し、その後、少なくと
も磁性層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。