JPH08225940A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPH08225940A JPH08225940A JP5196495A JP5196495A JPH08225940A JP H08225940 A JPH08225940 A JP H08225940A JP 5196495 A JP5196495 A JP 5196495A JP 5196495 A JP5196495 A JP 5196495A JP H08225940 A JPH08225940 A JP H08225940A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- film
- film thickness
- thin film
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 駆動ロール４５により連続フィルム状基板３
１を蒸着室１３内の蒸着ゾーンに連続的に供給して搬送
し、連続フィルム状基板に薄膜を形成して連続的に蒸発
室外に回収する真空蒸着装置において、蒸着ゾーンの終
点に至る以前の位置において、連続フィルム状基板に堆
積した薄膜の膜厚を測定する膜厚測定手段５１，５３，
７１，７３を具え、この測定値から最終的に形成される
薄膜の膜厚を制御する真空蒸着装置。連続フィルム状基
板と駆動ロールとが接していない部位を有し、この部位
で膜厚測定手段が薄膜の膜厚を測定する。 【効果】 連続フィルム状基板に対して連続的に薄膜を
形成するに際し、設定値からの膜厚の変動を迅速に検知
し、敏速にフィードバック制御することができる。
１を蒸着室１３内の蒸着ゾーンに連続的に供給して搬送
し、連続フィルム状基板に薄膜を形成して連続的に蒸発
室外に回収する真空蒸着装置において、蒸着ゾーンの終
点に至る以前の位置において、連続フィルム状基板に堆
積した薄膜の膜厚を測定する膜厚測定手段５１，５３，
７１，７３を具え、この測定値から最終的に形成される
薄膜の膜厚を制御する真空蒸着装置。連続フィルム状基
板と駆動ロールとが接していない部位を有し、この部位
で膜厚測定手段が薄膜の膜厚を測定する。 【効果】 連続フィルム状基板に対して連続的に薄膜を
形成するに際し、設定値からの膜厚の変動を迅速に検知
し、敏速にフィードバック制御することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、連続して送られてくる
フィルム状基板に対して、迅速なフィードバック制御に
より均一な厚さの薄膜を形成することが可能な真空蒸着
装置に関する。
フィルム状基板に対して、迅速なフィードバック制御に
より均一な厚さの薄膜を形成することが可能な真空蒸着
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラスチックフィルムなどの連続フィル
ムを蒸着装置に連続的に供給し、酸化珪素等の保護膜、
アルミニウム等の金属薄膜などを蒸着することが行なわ
れている。また、この蒸着に際して、光ファイバーを用
いた光透過型膜厚計により膜厚をモニターし、均一な厚
さの薄膜を形成することについても実開昭５８−７４３
３８号公報などに報告されている。
ムを蒸着装置に連続的に供給し、酸化珪素等の保護膜、
アルミニウム等の金属薄膜などを蒸着することが行なわ
れている。また、この蒸着に際して、光ファイバーを用
いた光透過型膜厚計により膜厚をモニターし、均一な厚
さの薄膜を形成することについても実開昭５８−７４３
３８号公報などに報告されている。
【０００３】図４は、この従来の蒸着装置について示す
説明図である。巻出しロール２３から連続プラスチック
フィルムが３１が駆動ロール４７に巻き付けるようにし
て供給される。プラスチックフィルム３１は、蒸着室１
３内にある駆動ロール３３上で、蒸発源１５により蒸着
されて薄膜が形成され、巻取りロール２５に巻き取られ
る。
説明図である。巻出しロール２３から連続プラスチック
フィルムが３１が駆動ロール４７に巻き付けるようにし
て供給される。プラスチックフィルム３１は、蒸着室１
３内にある駆動ロール３３上で、蒸発源１５により蒸着
されて薄膜が形成され、巻取りロール２５に巻き取られ
る。
【０００４】プラスチックフィルム３１上に形成された
薄膜の厚さは、光学式膜厚装置６１により膜厚が測定さ
れる。光学式膜厚装置６１は、光ファイバーにより投光
部５１から光照射し、薄膜の形成されたプラスチックフ
ィルム３１を介して受光部５３で光を検知し、透過光量
の値から薄膜の膜厚を測定する。そして、この値が予じ
め定められた設定値から変動した場合には、フィードバ
ック制御して所定の厚さの薄膜がプラスチックフィルム
３１上に形成されるように制御する。
薄膜の厚さは、光学式膜厚装置６１により膜厚が測定さ
れる。光学式膜厚装置６１は、光ファイバーにより投光
部５１から光照射し、薄膜の形成されたプラスチックフ
ィルム３１を介して受光部５３で光を検知し、透過光量
の値から薄膜の膜厚を測定する。そして、この値が予じ
め定められた設定値から変動した場合には、フィードバ
ック制御して所定の厚さの薄膜がプラスチックフィルム
３１上に形成されるように制御する。
【０００５】しかしながら、この従来の制御方法では、
プラスチックフィルム３１が蒸着室１３を出てから測光
点に至るまでの距離が、少なくとも数十ｃｍはある。こ
のように蒸着開始位置と測光点との間に距離があるた
め、フィードバックの遅れ時間が生じ、レスポンスの早
い精密な制御ができなかった。そのため、設定値からの
ズレを検知し蒸着源その他にフィードバックし、その成
果が確認できるまでの間に搬送されるプラスチックフィ
ルム３１は無駄になることになり、この長さが、蒸着室
１１の入口から出口の外の測定点（５１，５３の位置）
の距離に至るため、かなりのプラスチックフィルムが無
駄になることになる。
プラスチックフィルム３１が蒸着室１３を出てから測光
点に至るまでの距離が、少なくとも数十ｃｍはある。こ
のように蒸着開始位置と測光点との間に距離があるた
め、フィードバックの遅れ時間が生じ、レスポンスの早
い精密な制御ができなかった。そのため、設定値からの
ズレを検知し蒸着源その他にフィードバックし、その成
果が確認できるまでの間に搬送されるプラスチックフィ
ルム３１は無駄になることになり、この長さが、蒸着室
１１の入口から出口の外の測定点（５１，５３の位置）
の距離に至るため、かなりのプラスチックフィルムが無
駄になることになる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、蒸着条件の
変動を速やかに検知しフィードバック制御し、特性の安
定した薄膜をフィルム状基板上に連続して形成すること
を目的とする。
変動を速やかに検知しフィードバック制御し、特性の安
定した薄膜をフィルム状基板上に連続して形成すること
を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の真空蒸着装置
は、駆動ロールにより連続フィルム状基板を蒸着室内の
蒸着ゾーンに連続的に供給して搬送し、連続フィルム状
基板に薄膜を形成して連続的に蒸発室外に回収する真空
蒸着装置において、蒸着ゾーンの終点に至る以前の位置
において、連続フィルム状基板に堆積した薄膜の膜厚を
測定する膜厚測定手段を具え、この測定値から最終的に
形成される薄膜の膜厚を制御することを特徴とする。
は、駆動ロールにより連続フィルム状基板を蒸着室内の
蒸着ゾーンに連続的に供給して搬送し、連続フィルム状
基板に薄膜を形成して連続的に蒸発室外に回収する真空
蒸着装置において、蒸着ゾーンの終点に至る以前の位置
において、連続フィルム状基板に堆積した薄膜の膜厚を
測定する膜厚測定手段を具え、この測定値から最終的に
形成される薄膜の膜厚を制御することを特徴とする。
【０００８】
【実施例】真空槽１１は、基板であるプラスチックフィ
ルム３１それ自体と隔壁１７とにより蒸着室１３と基板
収納室２１とに仕切られ、それぞれ真空排気系１９で所
望の真空度に排気されている。
ルム３１それ自体と隔壁１７とにより蒸着室１３と基板
収納室２１とに仕切られ、それぞれ真空排気系１９で所
望の真空度に排気されている。
【０００９】巻出しロール２３に巻回されている連続プ
ラスチックフィルム３１は、連続的に巻出しロール２３
から供給され、ガイドロール２７，２７を経て、駆動ロ
ール４１，４５，４３に至り、蒸着源１５に対向して薄
膜が形成され、ついで、ガイドロール２７，２７を経て
巻取りロール２５に回収される。駆動ロール４１，４
３，４５は、プラスチックフィルム３１を蒸着室１３内
で搬送速度を制御して搬送するものであり、また、蒸着
中にプラスチックフィルム３１が過度に温度上昇しない
ように冷却してもよい。
ラスチックフィルム３１は、連続的に巻出しロール２３
から供給され、ガイドロール２７，２７を経て、駆動ロ
ール４１，４５，４３に至り、蒸着源１５に対向して薄
膜が形成され、ついで、ガイドロール２７，２７を経て
巻取りロール２５に回収される。駆動ロール４１，４
３，４５は、プラスチックフィルム３１を蒸着室１３内
で搬送速度を制御して搬送するものであり、また、蒸着
中にプラスチックフィルム３１が過度に温度上昇しない
ように冷却してもよい。
【００１０】図１において、プラスチックフィルム３１
に形成された薄膜の膜厚の測定は、駆動ロール４５をプ
ラスチックフィルム３１が離れた直後に行なわれる。光
源からの白色光が光ファイバー（いずれも図示せず）に
より導かれ投光部５１から、薄膜が形成されたプラスチ
ックフィルム３１に照射され、その透過光が受光部５３
により受光される。受光された光は、光ファイバーを通
って検知素子に導かれ透過率が検出される。なお５７
は、投光部５１に蒸着物質を付着させないためのカバー
である。また、受光部５３に投光部としての機能をもた
せれば、反射光量による膜厚測定もできる。この場合、
図１中の５１，５７は不要となる。
に形成された薄膜の膜厚の測定は、駆動ロール４５をプ
ラスチックフィルム３１が離れた直後に行なわれる。光
源からの白色光が光ファイバー（いずれも図示せず）に
より導かれ投光部５１から、薄膜が形成されたプラスチ
ックフィルム３１に照射され、その透過光が受光部５３
により受光される。受光された光は、光ファイバーを通
って検知素子に導かれ透過率が検出される。なお５７
は、投光部５１に蒸着物質を付着させないためのカバー
である。また、受光部５３に投光部としての機能をもた
せれば、反射光量による膜厚測定もできる。この場合、
図１中の５１，５７は不要となる。
【００１１】プラスチックフィルム３１上に堆積された
薄膜の膜厚に応じて、プラスチックフィルム３１の透過
率が変化するので、透過率を測定することによって、プ
ラスチックフィルム３１上に堆積した薄膜の厚さを検出
することができる。
薄膜の膜厚に応じて、プラスチックフィルム３１の透過
率が変化するので、透過率を測定することによって、プ
ラスチックフィルム３１上に堆積した薄膜の厚さを検出
することができる。
【００１２】投光部５１と受光部５３とが対向する測光
点を通過した後も、蒸着室１３内にプラスチックフィル
ム３１はなおも搬送されるので、その間にもフィルム３
１上に薄膜が堆積される。したがって、測定点で測定さ
れた膜厚は、プラスチックフィルム３１上の薄膜の最終
膜厚ではない。しかしながら、蒸着室１３内でプラスチ
ックフィルム３１上に薄膜が堆積される蒸着ゾーンは一
定であり、この蒸着ゾーンにおける測光点の位置も一定
である。したがって、蒸着ゾーンの始点から終点までに
堆積される薄膜の厚さ（最終薄膜厚さ）と、蒸着ゾーン
の始点から測光点までに堆積される薄膜の厚さ（測光点
厚さ）との比率は予じめ実験的に求めることができる。
よって、測光点厚さを測定して所定値に維持するように
フィードバック制御すれば最終薄膜厚さを制御すること
ができる。具体的には、測光点厚さを測定し、これが所
定値となるように、蒸発源１５からの蒸着物質の蒸発速
度またはプラスチックフィルム３１の搬送速度を制御す
る。
点を通過した後も、蒸着室１３内にプラスチックフィル
ム３１はなおも搬送されるので、その間にもフィルム３
１上に薄膜が堆積される。したがって、測定点で測定さ
れた膜厚は、プラスチックフィルム３１上の薄膜の最終
膜厚ではない。しかしながら、蒸着室１３内でプラスチ
ックフィルム３１上に薄膜が堆積される蒸着ゾーンは一
定であり、この蒸着ゾーンにおける測光点の位置も一定
である。したがって、蒸着ゾーンの始点から終点までに
堆積される薄膜の厚さ（最終薄膜厚さ）と、蒸着ゾーン
の始点から測光点までに堆積される薄膜の厚さ（測光点
厚さ）との比率は予じめ実験的に求めることができる。
よって、測光点厚さを測定して所定値に維持するように
フィードバック制御すれば最終薄膜厚さを制御すること
ができる。具体的には、測光点厚さを測定し、これが所
定値となるように、蒸発源１５からの蒸着物質の蒸発速
度またはプラスチックフィルム３１の搬送速度を制御す
る。
【００１３】測光点は、蒸着室１３内にあり、蒸着室１
３の入口からわずかな距離であるので、設定膜厚値から
変動した場合でも、敏速にフィードバック制御でき無駄
になるプラスチックフィルム３１の量が少なくて済む。
なお、測光点は、蒸着室１３内で薄膜が堆積される蒸着
ゾーンの始点から終点の間であればいずれでもよく、例
えば、図１の駆動ロール４１と４５との間の投光素子７
１と受光素子７３とにより行なってもよい。
３の入口からわずかな距離であるので、設定膜厚値から
変動した場合でも、敏速にフィードバック制御でき無駄
になるプラスチックフィルム３１の量が少なくて済む。
なお、測光点は、蒸着室１３内で薄膜が堆積される蒸着
ゾーンの始点から終点の間であればいずれでもよく、例
えば、図１の駆動ロール４１と４５との間の投光素子７
１と受光素子７３とにより行なってもよい。
【００１４】図２は、フィルム状基板の幅方向の膜厚を
制御し、膜厚分布をとるための制御方法を示す説明図で
あり、図１の矢印Ａ方向から５１，５３の測光点近傍を
示している。なお、図２ではカバー５７は図示を省略し
てある。
制御し、膜厚分布をとるための制御方法を示す説明図で
あり、図１の矢印Ａ方向から５１，５３の測光点近傍を
示している。なお、図２ではカバー５７は図示を省略し
てある。
【００１５】基板であるプラスチックフィルム３１の幅
方向に投光部５１ａ〜５１ｅを設け、光ファイバー５９
により投光し、プラスチックフィルム３１からの透過光
を受光部５３ａ〜５３ｅで検知し、光ファイバー５９に
より膜厚監視装置本体６１に伝達することにより、プラ
スチックフィルム３１の幅方向の膜厚分を測定すること
ができる。蒸発源１５をプラスチックフィルムの幅方向
に複数設けて蒸着を行ない、それぞれの蒸発源からの蒸
発量を制御することにプラスチックフィルム３１の幅方
向の膜厚分布を均一にすることができる。
方向に投光部５１ａ〜５１ｅを設け、光ファイバー５９
により投光し、プラスチックフィルム３１からの透過光
を受光部５３ａ〜５３ｅで検知し、光ファイバー５９に
より膜厚監視装置本体６１に伝達することにより、プラ
スチックフィルム３１の幅方向の膜厚分を測定すること
ができる。蒸発源１５をプラスチックフィルムの幅方向
に複数設けて蒸着を行ない、それぞれの蒸発源からの蒸
発量を制御することにプラスチックフィルム３１の幅方
向の膜厚分布を均一にすることができる。
【００１６】また、蒸着ゾーンの途中の幾つかの測光点
で分光特性が得られれば、そのピーク値が求められ、ピ
ーク値から屈折率が分るので、蒸着速度を操作する等し
て屈折率のコントロールをすることができる。
で分光特性が得られれば、そのピーク値が求められ、ピ
ーク値から屈折率が分るので、蒸着速度を操作する等し
て屈折率のコントロールをすることができる。
【００１７】これは、一対の投・受光部５１，５３に加
えて、図１に示したようにさらに投・受光部（７１，７
３），（８１，８３），（９１，９３）を設けることに
よって実現できる。
えて、図１に示したようにさらに投・受光部（７１，７
３），（８１，８３），（９１，９３）を設けることに
よって実現できる。
【００１８】まず、蒸着が開始される以前に投・受光部
８１，８３で測光し、零点を求める。ついで、投・受光
部（７１，７３），（５１，５３），（９１，９３）で
順次膜厚を測定すると、膜厚の増加につれて透過率が変
化し、これをプロットすると図３に示したようなカーブ
が得られ、このピーク値Ｐの透過率の値から屈折率を求
めることができる。なお、ピーク値が現われない場合で
も、予じめ実験により求めたデータと照合することによ
り、屈折率の値ないしは設定屈折率からの変動量を検出
することができる。
８１，８３で測光し、零点を求める。ついで、投・受光
部（７１，７３），（５１，５３），（９１，９３）で
順次膜厚を測定すると、膜厚の増加につれて透過率が変
化し、これをプロットすると図３に示したようなカーブ
が得られ、このピーク値Ｐの透過率の値から屈折率を求
めることができる。なお、ピーク値が現われない場合で
も、予じめ実験により求めたデータと照合することによ
り、屈折率の値ないしは設定屈折率からの変動量を検出
することができる。
【００１９】本発明の真空蒸着装置では、蒸着室１３内
で薄膜の膜厚を測定するプラスチックフィルム３１と同
時にモニター用フィルムを搬送して、この膜厚を測定し
てもよいが、薄膜を形成すべき連続フイルム状基板上の
膜厚を直接測定することが望ましい。そのためには、図
４に図示した従来装置のように、蒸着室１３内で常にプ
ラスチックフィルム３１（連続フィルム状基板）が駆動
ロール４７に当接していると、光学的に膜厚を測定する
場合の投光部および受光部の設置位置の確保が面倒であ
る。
で薄膜の膜厚を測定するプラスチックフィルム３１と同
時にモニター用フィルムを搬送して、この膜厚を測定し
てもよいが、薄膜を形成すべき連続フイルム状基板上の
膜厚を直接測定することが望ましい。そのためには、図
４に図示した従来装置のように、蒸着室１３内で常にプ
ラスチックフィルム３１（連続フィルム状基板）が駆動
ロール４７に当接していると、光学的に膜厚を測定する
場合の投光部および受光部の設置位置の確保が面倒であ
る。
【００２０】そこで本発明では、図２に示したように、
駆動ロール４１．４３，４５とプラスチックフィルム３
１とが接していない部位を設け、この部位に膜厚監視装
置６１の投光部５１と受光部５３とを設置することが望
ましい。そして、このような構成は、蒸着室内でのプラ
スチックフィルムの搬送を制御する駆動ロールの配置を
調整することによって実現できる。具体的には、複数の
駆動ロール間にわたって連続フィルム状基板を架け渡た
し、蒸着室内でこの基板が平面ないし略平面を蒸発源に
向けて張られた状態で搬送されるように複数の駆動ロー
ルを配設することにより実現できる。したがって、図１
で駆動ロール４５を省略してもよい。本発明では、基板
として、可撓性を有し、透明な連続（長尺）フィルム状
基板が好適に用いられる。
駆動ロール４１．４３，４５とプラスチックフィルム３
１とが接していない部位を設け、この部位に膜厚監視装
置６１の投光部５１と受光部５３とを設置することが望
ましい。そして、このような構成は、蒸着室内でのプラ
スチックフィルムの搬送を制御する駆動ロールの配置を
調整することによって実現できる。具体的には、複数の
駆動ロール間にわたって連続フィルム状基板を架け渡た
し、蒸着室内でこの基板が平面ないし略平面を蒸発源に
向けて張られた状態で搬送されるように複数の駆動ロー
ルを配設することにより実現できる。したがって、図１
で駆動ロール４５を省略してもよい。本発明では、基板
として、可撓性を有し、透明な連続（長尺）フィルム状
基板が好適に用いられる。
【００２１】また、形成される薄膜としては、単層ある
いは多層の反射防止膜、酸化珪素等の保護膜、アルミニ
ウム等の金属膜などがあり、特に光の干渉により透過率
反射率が変化する導電体薄膜が、膜厚制御の利便性の点
から好適である。なお、以上の説明では透過光量を検知
して膜厚を測定・監視する場合について示したが、反射
光量を検知することによっても膜厚を測定・監視するこ
とができる。
いは多層の反射防止膜、酸化珪素等の保護膜、アルミニ
ウム等の金属膜などがあり、特に光の干渉により透過率
反射率が変化する導電体薄膜が、膜厚制御の利便性の点
から好適である。なお、以上の説明では透過光量を検知
して膜厚を測定・監視する場合について示したが、反射
光量を検知することによっても膜厚を測定・監視するこ
とができる。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、連続フィルム状基板に
対して連続的に薄膜を形成するに際し、設定値からの膜
厚の変動を迅速に検知し、敏速にフィードバック制御す
ることができる。
対して連続的に薄膜を形成するに際し、設定値からの膜
厚の変動を迅速に検知し、敏速にフィードバック制御す
ることができる。
【図１】本発明の蒸着装置の実施例を示す説明図であ
る。
る。
【図２】投光部および受光部を複数用い、フィルム状基
板の幅方向の膜厚を制御する場合について示す、図１の
矢印Ａ方向から見た説明図である。
板の幅方向の膜厚を制御する場合について示す、図１の
矢印Ａ方向から見た説明図である。
【図３】屈折率の検出方法について示す説明図である。
【図４】従来の蒸着装置について示す説明図である。
１１ 真空槽 １３ 蒸着室 １５ 蒸発源 １７ 隔壁 １９ 真空排気系 ２１ 基板収納室 ２３ 巻出しロール ２５ 巻取りロール ２７ ガイドロール ３１ 連続フィルム基板 ４１，４３，４５，４７ 駆動ロール ５１ 投光部 ５３ 受光部 ５７ カバー ５９ 光ファイバー ６１ 膜厚監視装置（本体）
Claims (2)
- 【請求項１】 駆動ロールにより連続フィルム状基板を
蒸着室内の蒸着ゾーンに連続的に供給して搬送し、連続
フィルム状基板に薄膜を形成して連続的に蒸発室外に回
収する真空蒸着装置において、 蒸着ゾーンの終点に至る以前の位置において、連続フィ
ルム状基板に堆積した薄膜の膜厚を測定する膜厚測定手
段を具え、この測定値から最終的に形成される薄膜の膜
厚を制御することを特徴とする真空蒸着装置。 - 【請求項２】 前記蒸着室内において、連続フィルム状
基板と駆動ロールとが接していない部位を有し、この部
位で前記膜厚測定手段が薄膜の膜厚を測定する請求項１
に記載の真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05196495A JP3712435B2 (ja) | 1995-02-16 | 1995-02-16 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05196495A JP3712435B2 (ja) | 1995-02-16 | 1995-02-16 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08225940A true JPH08225940A (ja) | 1996-09-03 |
| JP3712435B2 JP3712435B2 (ja) | 2005-11-02 |
Family
ID=12901558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05196495A Expired - Fee Related JP3712435B2 (ja) | 1995-02-16 | 1995-02-16 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3712435B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007305718A (ja) * | 2006-05-10 | 2007-11-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属化フィルムの製造装置 |
| JP2007302929A (ja) * | 2006-05-10 | 2007-11-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 被覆層の厚み計量機構およびそれを用いた被覆層形成装置 |
| JP2008070432A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 吸収型多層膜ｎｄフィルターの製造方法 |
| US7871667B2 (en) | 2005-11-15 | 2011-01-18 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method of operating vacuum deposition apparatus and vacuum deposition apparatus |
| JP2012072420A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Fujifilm Corp | 蒸着フラックス測定装置 |
| JP2016510297A (ja) * | 2013-01-18 | 2016-04-07 | サン−ゴバン グラス フランス | コーティングを備えた基材を得る方法 |
| JP2017073262A (ja) * | 2015-10-06 | 2017-04-13 | 日産自動車株式会社 | 燃料電池の製造方法および燃料電池の製造装置 |
| JP2019521254A (ja) * | 2016-07-01 | 2019-07-25 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 処理システム、フレキシブル基板を処理するための方法、及び堆積装置 |
| WO2022040075A1 (en) * | 2020-08-21 | 2022-02-24 | Applied Materials, Inc. | Processing system for processing a flexible substrate and method of measuring at least one of a property of a flexible substrate and a property of one or more coatings on the flexible substrate |
| US11677511B2 (en) | 2021-11-10 | 2023-06-13 | Qualcomm Incorporated | Mechanism to recover receiver radio link control after multiple unsuccessful automatic repeat query attempts |
-
1995
- 1995-02-16 JP JP05196495A patent/JP3712435B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7871667B2 (en) | 2005-11-15 | 2011-01-18 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method of operating vacuum deposition apparatus and vacuum deposition apparatus |
| JP2007305718A (ja) * | 2006-05-10 | 2007-11-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属化フィルムの製造装置 |
| JP2007302929A (ja) * | 2006-05-10 | 2007-11-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 被覆層の厚み計量機構およびそれを用いた被覆層形成装置 |
| JP2008070432A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 吸収型多層膜ｎｄフィルターの製造方法 |
| JP4706859B2 (ja) * | 2006-09-12 | 2011-06-22 | 住友金属鉱山株式会社 | 吸収型多層膜ｎｄフィルターの製造方法 |
| JP2012072420A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Fujifilm Corp | 蒸着フラックス測定装置 |
| JP2016510297A (ja) * | 2013-01-18 | 2016-04-07 | サン−ゴバン グラス フランス | コーティングを備えた基材を得る方法 |
| JP2017073262A (ja) * | 2015-10-06 | 2017-04-13 | 日産自動車株式会社 | 燃料電池の製造方法および燃料電池の製造装置 |
| JP2019521254A (ja) * | 2016-07-01 | 2019-07-25 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 処理システム、フレキシブル基板を処理するための方法、及び堆積装置 |
| WO2022040075A1 (en) * | 2020-08-21 | 2022-02-24 | Applied Materials, Inc. | Processing system for processing a flexible substrate and method of measuring at least one of a property of a flexible substrate and a property of one or more coatings on the flexible substrate |
| US11677511B2 (en) | 2021-11-10 | 2023-06-13 | Qualcomm Incorporated | Mechanism to recover receiver radio link control after multiple unsuccessful automatic repeat query attempts |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3712435B2 (ja) | 2005-11-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08225940A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JP4137205B2 (ja) | コーティングを基板上に堆積する堆積方法および堆積装置 | |
| US7946247B2 (en) | Coating layer thickness measurement mechanism and coating layer forming apparatus using the same | |
| JP5293498B2 (ja) | ウエブ搬送装置及びその方法と電池の製造方法 | |
| KR20070051695A (ko) | 진공증착장치의 운전방법 및 진공증착장치 | |
| EP0949174B1 (en) | A method and a unit for feeding a strip of sheet material | |
| US6798499B2 (en) | Method of forming optical thin films on substrate at high accuracy and apparatus therefor | |
| JP4706859B2 (ja) | 吸収型多層膜ｎｄフィルターの製造方法 | |
| US20090191327A1 (en) | Vacuum coating installation and method of producing a coating layer on a substrate | |
| JP2914098B2 (ja) | 蒸着フィルムの測定、制御方法、装置および製造方法 | |
| JP3724946B2 (ja) | 塗膜厚みの制御方法および塗膜厚みの制御装置並びにこの方法を用いて製造したシート状物 | |
| JP2019163903A (ja) | 乾燥装置、塗工膜形成装置、および乾燥方法 | |
| JP4260229B2 (ja) | フィルム上に透明な金属酸化物を被覆する方法 | |
| US20010008209A1 (en) | Film forming apparatus | |
| EP3347777A1 (en) | Deposition system | |
| JPH09263934A (ja) | 膜形成方法及びその装置 | |
| JP2000064041A (ja) | 光学測定用ブラックロールおよびこれを具備する薄膜形成装置ならびにこれを用いる薄膜形成方法 | |
| JP4669593B2 (ja) | １波長の光線透過率による膜特性の制御されたＡｌＯｘ膜の形成方法および装置 | |
| JP4489223B2 (ja) | ２波長の光線透過率による膜特性の制御されたＡｌＯｘ膜の形成方法および装置 | |
| EP0652304A1 (en) | Film forming method and apparatus for carrying out the same | |
| JP4196136B2 (ja) | 成膜装置 | |
| US20040149207A1 (en) | Apparatus for manufacturing a dry sheet from a slurry | |
| JP2000146534A (ja) | 成膜装置 | |
| JP5320934B2 (ja) | 真空成膜装置 | |
| JP2008038198A (ja) | 金属蒸着膜の金属酸化度測定方法、金属酸化度測定装置、膜厚測定方法及び膜厚測定装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20040224 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040224 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041108 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041124 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050121 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050719 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050817 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090826 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100826 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100826 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110826 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110826 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120826 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120826 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130826 Year of fee payment: 8 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |