JP2019521254A - 処理システム、フレキシブル基板を処理するための方法、及び堆積装置 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (15)
- フレキシブル基板(10)を処理するための処理システム(100)であって、
真空チャンバ(11)、
基板搬送路(P)に沿って前記真空チャンバ(11)を通してフレキシブル基板(10)を誘導するように構成された搬送システムであって、第1の基板支持体(22)と、前記第1の基板支持体(22)から一定距離で配置された第2の基板支持体(24)とを備えた搬送システム、及び
前記フレキシブル基板(10)を検査するための検査システムであって、
前記第1の基板支持体(22)と前記第2の基板支持体(24)との間で前記フレキシブル基板(10)の一部を通り抜けるように光線(31)を方向付けるように構成された光源(30)と、
前記フレキシブル基板(10)の透過測定を行うために前記光線(31)を検出するための光検出器(40)とを備えた検査システム
を備え、前記光源(30)及び前記光検出器(40)のうちの少なくとも1つが、前記真空チャンバ(11)内の第1の圧力レベルと異なる第2の圧力レベルのために構成された環境(50)内に配置される、処理システム。 - 前記光源(30)及び前記光検出器(40)のうちの少なくとも1つが、前記真空チャンバ(11)の外に配置されるか、又は、前記真空チャンバの内部に配置された、真空気密エンクロージャ(51)内に、具体的には、大気ボックス内に配置される、請求項1に記載の処理システム。
- 前記搬送システムが、ローラアセンブリであり、前記第1の基板支持体(22)が、第1のローラであり、前記第2の基板支持体(24)が、第2のローラである、請求項1又は2に記載の処理システム。
- 前記光源(30)が、前記基板搬送路(P)の第1の側に配置され、前記光検出器(40)が、前記第1の側の反対側の前記基板搬送路(P)の第2の側に配置されている、請求項1から3のいずれか一項に記載の処理システム。
- 前記光源(30)が、前記真空チャンバ(11)の内部に配置され、前記光検出器(40)が、前記真空チャンバ(11)の外に、具体的には、前記真空チャンバ(11)の壁(12)に設けられた1つ又は複数のウインドウ(55)の背後に配置されている、請求項1から4のいずれか一項に記載の処理システム。
- 冷却デバイス(60)が、前記光源(30)及び前記光検出器(40)のうちの少なくとも1つを冷却するために設けられ、具体的には、冷却媒体のための冷却回路(65)を備えている、請求項1から5のいずれか一項に記載の処理システム。
- 前記光源(30)が、20cm以上、具体的には、50cm以上の幅を有する光線(31)を生成するように構成され、より具体的には、前記光源が、20cm以上の幅を有する照明ストリップを備えている、請求項1から6のいずれか一項に記載の処理システム。
- 前記光検出器(40)が、前記フレキシブル基板(10)の幅方向(W)で互いに隣り合うように配置された、2つ、3つ又はそれ以上の検出ユニットを備え、具体的には、前記2つ、3つ又はそれ以上の検出ユニットが、前記真空チャンバの壁(12)における1つ又は複数のウインドウ(55)の背後に配置されるか、又は、真空気密エンクロージャ(51)の壁(52)における1つ又は複数のエンクロージャウインドウ(56)の背後に配置されている、請求項1から7のいずれか一項に記載の処理システム。
- 前記光検出器(40)が、検出器支持体(70)上で移動可能に保持され、具体的には、前記光検出器(40)の2つ以上の検出ユニット(41、42、43)が、それぞれ、前記真空チャンバ(11)の上部に設けられた支持棒上で移動可能に保持されている、請求項1から8のいずれか一項に記載の処理システム。
- 1つ又は複数の層で前記フレキシブル基板(10)をコーティングするように構成された1つ又は複数の堆積ユニット(202)をさらに備え、前記検査システムが、前記1つ又は複数の堆積ユニットから下流に配置され、前記1つ又は複数の層を検査するように構成されている、請求項1から9のいずれか一項に記載の処理システム。
- 前記搬送システムが、1m/秒以上、具体的には、5m/秒以上、より具体的には、10m/秒以上、又はさらに15m/秒以上の速度で前記フレキシブル基板を誘導するように構成されている、請求項1から10のいずれか一項に記載の処理システム。
- 1つ又は複数の層でフレキシブル基板(10)をコーティングするための堆積装置(200)であって、
1つ又は複数の堆積ユニット(202)を通過するように前記フレキシブル基板を誘導するように構成されたコーティングドラム(201)と、前記フレキシブル基板を上部に巻き取るための巻き取りスプール(203)とを備えた真空チャンバ(11)、
前記コーティングドラム(201)から前記巻き取りスプール(203)へと、基板搬送路(P)に沿って、前記フレキシブル基板(10)を誘導するように構成されたローラアセンブリであって、第1のローラと、前記第1のローラから一定距離で配置された第2のローラとを備えたローラアセンブリ、及び
前記フレキシブル基板(10)を検査するための検査システムであって、
前記第1のローラと前記第2のローラとの間で前記フレキシブル基板(10)の一部を通り抜けるように光線(31)を方向付けるように構成された光源(30)と、
前記フレキシブル基板(10)の透過測定を行うために前記光線(31)を検出するための光検出器(40)とを備えた検査システム
を備え、前記光源(30)及び前記光検出器(40)のうちの少なくとも1つが、前記真空チャンバ(11)内の第1の圧力レベルと異なる第2の圧力レベルのために構成された環境(50)内に配置されている、堆積装置。 - フレキシブル基板(10)を処理する方法であって、
基板搬送路(P)に沿って真空チャンバ(11)を通して前記フレキシブル基板(10)を誘導することであって、前記真空チャンバ(11)が、第1の圧力レベルまで排気され、前記フレキシブル基板(10)が、第1の基板支持体(22)によって、且つ前記第1の基板支持体(22)から一定距離で配置された第2の基板支持体(24)によって支持されている、前記フレキシブル基板(10)を誘導することと、
前記第1の基板支持体(22)と前記第2の基板支持体(24)との間で前記フレキシブル基板(10)の一部を通り抜けるように光線(31)を方向付けることと、
前記フレキシブル基板(10)の透過測定を行うために前記フレキシブル基板(10)を通過した前記光線(31)を検出することであって、前記光線の少なくとも一部が、前記第1の圧力レベルと異なる第2の圧力レベルを有する環境を通して伝搬される、前記光線(31)を検出することと
を含む方法。 - 前記光線(31)が、前記真空チャンバ(11)の内部で生成され、前記光線(31)が、前記真空チャンバ(11)の外で、又は、前記真空チャンバ(11)内に配置された真空気密エンクロージャ(51)の内部で検出される、請求項13に記載の方法。
- 前記光線(31)を検出することが、前記フレキシブル基板(10)の欠陥を検出するために、具体的には、前記フレキシブル基板(10)上に堆積された1つ又は複数の層における巻き取り欠陥、ピンホール、開口、及び割れ目のうちの少なくとも1つを検出するために、前記フレキシブル基板(10)の前記一部の透過率を検出することを含む、請求項13又は14に記載の方法。
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