JPH0821570B2 - 円板状加工品を液浴中で湿式表面処理する際保持するマガジンおよび該マガジンを用いた円板状加工品の液浴中での湿式表面処理方法 - Google Patents

円板状加工品を液浴中で湿式表面処理する際保持するマガジンおよび該マガジンを用いた円板状加工品の液浴中での湿式表面処理方法

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JPH0821570B2 JP2328192A JP2328192A JPH0821570B2 JP H0821570 B2 JPH0821570 B2 JP H0821570B2 JP 2328192 A JP2328192 A JP 2328192A JP 2328192 A JP2328192 A JP 2328192A JP H0821570 B2 JPH0821570 B2 JP H0821570B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、円板状加工品を液浴中
で湿式表面処理する際保持するマガジンであって、液体
流入流出用孔と液浴内に入れる手段とを有する円筒形の
ハウジングと、ハウジング内に挿入可能であり、円板状
加工品をハウジング内で隣接させて平面的に対置して保
持するインサートとを有するものに関し、また該マガジ
ンを用いた円板状加工品の液浴中での湿式表面処理方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】特に例えばシリコン、ゲルマニウム、そ
してガリウムヒ素、リン化インジウム等の化合物半導
体、又は石英、ルビー、スピネル又はガーネット等の酸
化物材料、例えばガドリニウム・ガリウム・ガーネット
からなる基材から成る円板状加工品は、多くの場合棒状
加工品に細かく鋸引きして製造されるような単結晶及び
多結晶半導体基板を、製造プロセス中、特に電子部品へ
と継続加工する前に例えば表面からの破壊した結晶域の
除去、又は特に例えば酸化、酸化膜除去、又は親水性処
理による表面の化学変化にも役立つことのあるさまざま
な洗浄・エッチング処理を施すことは知られている。
【０００３】かかる処理工程で本質的なことは洗浄液及
びエッチング液が反応時均一且つ均質にウェーハ表面全
体に分布することである。前記洗浄・エッチング操作
は、例えばエッチング深さが不均一となるのを防止する
ためウェーハ表面全体上でも実質的に同じ速度で経過す
べきである。こうしてのみ、使用した半導体ウェーハに
対し電子部品の製造業者から要請されるような例えば平
坦性の変化ができるだけ小さく、表面の平行性が高い清
浄な表面を得ることができる。
【０００４】清浄液、エッチング液を使ってかかる均一
な表面処理を達成するため技術水準では既にさまざま
な、例えばドイツ特許公開明細書第33 06 331 号、東ド
イツ特許公開明細書第 220 859号に記載されたような装
置が公知である。それらに記載された変形実施例の一つ
において、被エッチング基板が一方の表面で吸引ヘッド
で保持される一方、他方の被エッチング表面に対しては
流路を備えたウェーハの回転によって溶液の完全混合が
達成される。しかし一方のウェーハ表面の加工のみ可能
である。
【０００５】しかし両表面を加工できるようにするため
東ドイツ特許公開明細書第 220 859号に記載の配置では
ウェーハがケージに類似したエッチング籠内で近似的に
平行に相互に規則的且つ均一な間隔で自由に運動可能に
保持され、こうして被エッチングウェーハはエッチング
籠に対し相対運動が可能である。エッチング籠の回転は
溶液の完全混合をもたらし又同時にエッチング籠に対す
るウェーハの相対運動をもたらし、これによりエッチン
グ籠の軸方向に伸びる棒上でウェーハの載置箇所が絶え
ず変化する。しかしこの実施態様では、処理液の完全混
合を高めるため、やはり移動可能な平滑な、但し非円形
に成形した間座円板を付加する必要があり、この円板は
やはりエッチング籠及び被加工ウェーハに対し相対運動
する。しかし同時に、間座円板を被加工ウェーハのウェ
ーハ表面に直接載置する場合ウェーハが機械的に損傷
し、間座円板又はエッチング籠の材料で汚染され又はエ
ッチング液の被着が不規則となる危険が著しく高まる。
【０００６】ドイツ特許公開明細書第 33 06 331号によ
り知られているように処理液の完全混合を単にウェーハ
自身によって又はウェーハの縁の保持棒によって行う
と、この縁範囲で完全混合が強まり又表面除去率が大き
くなり、ウェーハの横断面がレンズ形となる。環状肉厚
部もしばしば確認することができ、これはウェーハの縁
又はウェーハ内部での強い除去によって発生する。
【０００７】それ故結局半導体ウェーハの製造時特に不
適切なウェーハ保持装置に起因して従来のエッチング法
はウェーハ形状寸法の劣化と結び付いている。この欠点
は基板の径が増すのに伴い強まり、特に部品製造におい
て益々求められるような直径が１００mm以上の場合に現
れる。
【０００８】
【発明が解決すべき課題】そこで本発明の課題は、不均
質な反応経過を生じることなく浴液で両面の均一な処理
を可能とするウェーハ等の円板状加工品の液浴処理用保
持装置およびこの保持装置を用いた該加工品表面の液浴
処理方法を提供することである。特に、きわめて平らで
平面平行な表面を有するウェーハの製造が可能となるよ
うエッチングプロセスのときに品質の劣化をできるだけ
小さく抑えねばならない。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この課題は本発明に依れ
ば、上記したマガジンにおいて、前記インサートが、 ａ）前記ハウジングに近接配置される外端部を有しかつ
同一平面上において配置された主案内支柱および副案内
支柱とから構成される少なくとも２組の案内支柱を有す
る並列配置された複数個の案内支柱組立体と、 ｂ）前記各案内支柱間の空隙が円板状加工品を受容可能
とし、かつ少なくとも１つの主案内支柱が２つの間座支
柱と結合し、同時に少なくとも１つの副案内支柱が主案
内支柱を更に別の間座支柱に結合するために、前記案内
支柱組立体を並列状態に固定し、一方において該案内支
柱の外端部に取り付けられ、かつ他方において前記ハウ
ジングの内面に近接配置された少なくとも３個の間座支
柱と、 ｃ）前記案内支柱が結合箇所で多くとも３方向に分岐
し、 ｄ）案内支柱の前記結合箇所が円筒形ハウジングの長手
軸から外れており、 ｅ）全ての前記間座支柱を通る仮想円に依って規定され
る前記インサートの直径が、前記円板状加工品の直径の
１．１〜１．９倍であり、 ｆ）少なくとも２つの隣接する間座支柱の離間距離が前
記円板状加工品の直径と同等若しくは長い部分と、該円
板状加工品の半径より短い部分とから組合わさってお
り、 ｇ）２つの隣接する案内支柱組立体の離間距離が円板状
加工品の厚さの少なくとも２倍であることを特徴とする
マガジンを提供することに依り達成される。
【００１０】更に、また上記課題は、本発明によると、 ａ）前記ハウジングに近接配置される外端部を有しかつ
同一平面上において配置された主案内支柱および副案内
支柱とから構成される少なくとも２組の案内支柱を有す
る並列配置された複数個の案内支柱組立体と、前記各案
内支柱間の空隙が円板状加工品を受容可能とし、かつ少
なくとも１つの主案内支柱が２つの間座支柱と結合し、
同時に少なくとも１つの副案内支柱が主案内支柱を更に
別の間座支柱に結合するために、前記案内支柱組立体を
並列状態に固定し、一方において該案内支柱の外端部に
取り付けられ、かつ他方において前記ハウジングの内面
に近接配置された少なくとも３個の間座支柱と、前記案
内支柱が結合箇所で多くとも３方向に分岐し、案内支柱
の前記結合箇所が円筒形ハウジングの長手軸から外れて
おり、全ての前記間座支柱を通る仮想円に依って規定さ
れる前記インサートの直径が、前記円板状加工品の直径
の１．１〜１．９倍であり、少なくとも２つの隣接する
間座支柱の離間距離が前記円板状加工品の直径と同等若
しくは長い部分と、該円板状加工品の半径より短い部分
とから組合わさっており、２つの隣接する案内支柱組立
体の離間距離が円板状加工品の厚さの少なくとも２倍で
あるマガジンを準備し、 ｂ）前記インサート内に前記円板状加工品を挿入し、 ｃ）前記インサートをハウジング内に挿入し、更に ｄ）前記マガジンを液浴中に浸漬する各工程から成り、
これらの工程により液体が前記加工品の全表面上を平均
かつ均一に、そして単位時間当たり同一量で分布するよ
うに成した事を特徴とするマガジンを用いた円板状加工
品の液浴中での湿式表面処理方法を提供することに依っ
て達成される。
【００１１】
【実施例】本発明を図１と図２に示した実施例に基づい
て、以下に詳しく説明する。図１に示したマガジンは有
利には円板状加工品、例えばきわめて純粋な半導体ウェ
ーハ、特にシリコンウェーハを浴内、特にエッチング液
を入れた浴内で保持し挿入し運動させるのに役立つ。こ
のマガジンは、液体流入流出用孔２と端面側の閉じ蓋３
と液浴内に入れる手段４、例えば心棒とを備えた好まし
くは円筒形のハウジング１と、円板状加工品６をハウジ
ング１内でほぼハウジング円筒の軸線に垂直に密に隣接
し平面的に対置して保持するインサート５とからなる。
【００１２】円板状加工品６として特に円形ウェーハが
加工される。周辺の一部を偏平にしたほぼ円形のウェー
ハの加工も可能である。周辺の数箇所を部分的に偏平に
したかかるウェーハは半導体技術においてドーピング度
及び結晶配列を表示するのに一般に利用される。しかし
本方法はその他の形状のウェーハ、例えば部分的にのみ
円形、卵形又は多角形のウェーハの加工も排除していな
い。
【００１３】インサート５は概略的に案内支柱７と間座
支柱８とからなり、その直径は全ての間座支柱８，
８’，８”を通るハウジング円筒内の仮想円（不図示）
に依って規定されており、かつ案内支柱の末端と結合し
ており、しかもインサートの直径はウェーハ直径の1.1
〜1.9 倍が好ましいことが判明した。図２に横断面図で
示すインサート５は少なくとも１本の主案内支柱９が２
本の間座支柱８を結合している。しかし２本以上の主案
内支柱を有する態様も考えられる。少なくとも１本の副
案内支柱１０が主案内支柱９を別の間座支柱８’と結合
している。この構造原理によれば各副案内支柱１０から
更に別の副案内支柱１１を間座支柱８”へと延ばすこと
ができる。１平面上にあってウェーハの一方の面を片側
で案内するのに役立つ主案内支柱と副案内支柱との総体
を以下案内支柱組立体１２と呼ぶ。
【００１４】結合箇所１３で結合された副案内支柱１０
及び主案内支柱９の数は間座支柱の数と同様基本的には
上限がないのではあるが、望ましくはできるだけ少なく
抑えてウェーハ表面との接触箇所の数を減らすべきであ
ろう。少なくとも１本の主案内支柱と１本の副案内支柱
が必要である。案内支柱の同様の末端が１本の間座支柱
によって結合され、主案内支柱１本と副案内支柱１本と
を使った場合は３本の間座支柱が必要である。
【００１５】好ましい１つの態様では主案内支柱が１
本、主案内支柱を間座支柱と結合する副案内支柱が２
本、そして別の副案内支柱を間座支柱と結合する副案内
支柱が２本である。一般に間座支柱の数は主案内支柱及
び副案内支柱の総本数＋１に等しく、従ってこの態様で
は間座支柱が６本である。ハウジング１に挿入するとき
円板状加工品がインサート５から落下するのを防止する
ため望ましくは間座支柱８の少なくとも２本はその間隔
がウェーハの直径より小さくなるよう、ウェーハの半径
にほぼ一致するよう配置されるのが好ましい。このこと
は特に間座支柱が例えば３本と少ないインサートの場合
に重要である。特に、間座支柱が多く、例えば５〜１０
本の場合、各２本の間座支柱間の空隙の少なくとも一つ
は有利にはウェーハの挿入が可能となるよう、即ち円形
の円板体の直径より大きく、又は偏平ウェーハ又はその
他の円周形状を有するウェーハの最小幅より大きくなる
よう選定される。図２に示す好ましい実施例ではウェー
ハの直径より小さい空隙が４つ、それより大きい空隙が
２つである。
【００１６】インサートは好ましくは、できるだけ正確
に合わせて、即ちできるだけ小さな公差でハウジング１
に押し込むことができるよう、そして特定の遊動だけは
可能であるがハウジングに対しインサートの相対運動は
不可能となるよう寸法設計される。それ故間座支柱８と
ハウジング円筒１の軸線との距離は望ましくはごく小さ
く、即ち一般にハウジングの半径より４mmまで小さな距
離に選定される。インサートは次に同一平面上でハウジ
ングに押し込むことができ、間座支柱はインサート５を
ハウジング１内で支えるのに役立つ。好ましい態様では
インサートはハウジングのガイド、例えば案内棒により
所定の位置で保持される。
【００１７】案内支柱組立体１２は、その数が円板状加
工品６の数に応じて基本的に任意、好ましくは１０〜２
０であり、間座支柱により平面平行に互いに一定距離で
結合してあり、各２つの案内支柱組立体の離間距離は各
１個の円板状加工品を受容するのに利用することができ
る。具体的にその離間距離は少なくともウェーハ厚の２
倍、しかし望ましくは特に５〜３０mmの距離が好まし
い。このマガジンに収納されるべきウェーハの枚数は主
としてエッチング時の発熱、作業員の便宜、使用した浴
の寸法等の要因によって決まる。
【００１８】間座支柱８と案内支柱組立体１２との結合
はさまざまな方式で行うことができる。好ましくはでき
るだけ少ない凹部を生じるような結合技術が選定され
る。というのもこれにより液体作動媒質の排出が乱され
るからである。例えば溶接、ねじ締め又は締付リベット
の使用が好ましいことが判明した。案内支柱の形状に関
しては曲折造形又は湾曲造形が直線造形よりも好ましい
ことが判明したが、直線造形も排除されてはいない。各
支柱を１回折り曲げるとこの場合処理液の十分な排出を
行うことができるので特に望ましい。マガジンの回転中
にもウェーハ表面の不均一な湿潤を防止するため有利に
は、全ての又は少なくとも多数の屈曲部１４がハウジン
グ円筒の軸線からさまざまな距離にある実施態様が選定
される。特に主案内支柱として好ましくはほぼ中央で１
回６５〜１２５°、好ましくは９０°折り曲げ、ハウジ
ング円筒の直径にほぼ一致した長さの棒を用いるのが好
ましいことが判明した。副案内支柱は好ましくは主案内
支柱より短く、屈曲部は普通偏心位置に配置してある。
屈曲角度は好ましくは９０°より大きく、好ましくは１
００〜１６０°である。主案内支柱と副案内支柱との結
合はやはりできるだけ少ない凹部で行うべきであり、好
ましくは案内支柱組立体は一体鋳造し又は１枚の板材か
らフライス削りし又は鋸引きにより作成してある。案内
支柱相互の結合箇所13は均質なウェーハ加工における不
規則性を避けるため円筒の中心からさまざまな距離に配
置され、特に各結合箇所１３から支柱は３方向にのみ分
岐する。
【００１９】案内支柱及び間座支柱の横断面は任意に選
択可能であり、例えば長方形、円形、卵形又は正方形と
することができる。しかし排出特性向上の意味で角を丸
くした長方形断面が好ましいと判明したのであり、各一
つの角はウェーハ表面に向けてあるが、２つの角は案内
支柱組立体の平面上に位置決めしてある。更に、案内支
柱を円錐形に実施するとこれにより液体媒質の滴下も促
進されるので有利である。特に、円錐体の先細端を結合
箇所１３の方に向けるのが望ましい。先細の度合として
特に支柱直径の０．１〜１．０倍が有利であることが判
明した。
【００２０】インサート及びハウジングの材料としては
洗浄剤及びエッチング剤に対し抵抗力があり且つ使用す
る半導体材料にとって汚染作用のない材料が好ましいこ
とが判明した。それ故好ましくは特にポリフルオロエチ
レン(PFA) 、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テト
ラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合
体(FEP) 、エチレン・テトラフルオロエチレン共重合体
(ETFE)、エチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合
体(ECTFE) 、ポリ二フッ化ビニル(PVDF)、ポリクロロト
リフルオロエチレン(PCTFE) 等の合成樹脂が使用され
る。
【００２１】単数又は複数のインサート５を受容するに
は例えば円筒形ハウジング１が適しており、これは例え
ば洗濯機の脱水ドラムのように外被面に多数の液体流入
流出用孔２を備えており、該孔の直径はウェーハの直径
より当然小さい。これらの孔は通常円形である。ハウジ
ング１の少なくとも一方の端面は取外し可能な閉じ蓋３
として実施してインサート５の出し入れが可能としてあ
る。閉じ蓋３はハウジング円筒１に差し込み又はねじ締
めすることができるが、凹部ができるだけ少なくなるよ
う留意するのが望ましく、従って差込継手状に構成する
ことが好ましい。
【００２２】好ましい１つの態様ではハウジング円筒の
内面はインサートを案内する部材を設ける可能性を含
む。このことは例えばハウジングの軸線と平行な２本の
レール又は２本の棒により行うことができ、インサート
の挿入時それらの間に間座支柱が押し込まれる。ハウジ
ング円筒を液浴内で吊るして移動させ、特に回転させる
ため両端面は有利には、当業者にとって周知の、通常の
エッチング設備に適合した手段４、例えば心棒又は歯車
リムを有する。
【００２３】液体、例えば洗浄剤、酸化剤又はエッチン
グ剤の選択が本発明の適用によって限定されることはな
い。洗浄液として用いられるのは例えば特別清浄にした
水、又は界面活性剤と洗浄剤として役立つ別の物質との
水溶液である。かかる洗浄操作は例えばドイツ特許公開
明細書第 25 26 052号に記載してある。エッチング液と
しては例えば酸の水溶液、例えばエッチングプロセスを
更に制御するためなお添加物も含むことのあるフッ酸と
硝酸との混合物、或いはアルカリ性溶液も使用される。
特に過酸化水素又はオゾンを含有した溶液も使用され
る。本発明を適用するには、洗浄プロセス、酸化プロセ
ス、エッチングプロセスを遂行する際の温度範囲、圧力
範囲、持続時間等の当業者にとって周知の通常の条件を
維持することができる。
【００２４】マガジンを使用するため典型的には、案内
支柱組立体の数によって確定された数の円板状加工品が
インサートに装架される。片側を閉じたハウジングにイ
ンサートを押し込み、ハウジングの開口端面は正面側の
蓋で閉鎖される。インサートを押し込んだハウジングは
保持装置４により市販のエッチング設備の搬送装置に固
着して洗浄浴又はエッチング浴に入れられ、該浴は場合
によっては加熱し、又は閉じた後に圧力を加えることが
できる。
【００２５】洗浄液又はエッチング液による基板表面の
均一な処理は例えば固相／液相境界での質量輸送速度を
基板表面全体でできるだけ均一にし、即ち溶解粒子を基
板表面からできるだけ迅速に取り除き、従って使用済み
溶液を均一且つ迅速に新鮮な溶液に代え、基板を溶液に
導入するホルダができるだけ少ない表面部分をできるだ
け短時間又は均一に覆うようにし、こうしてエッチング
操作に不規則性が生じないようにするとき達成すること
ができる。
【００２６】それ故保持装置に吊り掛けたマガジンは好
ましくは完全に洗浄液又はエッチング液に浸漬してその
なかを移動させ、好ましくは、特に回転方向を交番して
回転させられる。その際、ハウジングの内部にある溶液
は通孔２を通して予備の洗浄浴又はエッチング浴からの
新鮮な溶液と常時取り替えられる。ハウジングの内部で
はハウジングの運動時案内支柱が溶液の連続的層変更と
完全攪拌を確保し、ウェーハ周面が均一に洗浄される。
この運動により更にウェーハは案内支柱及び間座支柱に
対する相対位置が変化し、これによりウェーハの接触点
が絶えず変化し又同時にウェーハ表面全体で処理液の交
換が一定に保たれる。案内支柱の結合箇所がハウジング
から、及び円筒の軸線からさまざまな距離にあるので、
これらの箇所は回転時ウェーハ表面のさまざまな箇所と
常時接触し、これにより、経験によれば環状の凸凹を生
じるウェーハ湿潤むらがやはり防止される。案内支柱組
立体間の内法幅はウェーハ厚の数倍であるので、ウェー
ハは普通マガジン内で傾いていることもあり、単に縁が
接触面として働く。
【００２７】所定の処理時間後にマガジンは搬送装置を
利用して浴から持ち上げられる。その際洗浄液又はエッ
チング液は通孔２を通してマガジンのハウジングから離
れる。案内支柱の曲折部と好ましくは円錐形の形状とに
より、有利な形で溶液の液滴形成の向上と迅速な排出と
が確保してある。上述の過程は、マガジンハウジングを
開くことなくきわめてさまざまな洗浄浴、エッチング浴
を使って任意の回数繰り返すことができる。
【００２８】円板状加工品を保持する本発明装置の利点
は、保持に必要な接触面が可能なかぎり小さく保たれて
ウェーハの縁に局在化してあるだけでなく、処理過程中
も可能なかぎり頻繁に交番し、半導体ウェーハの可能な
かぎり大きな表面部分が均一に長い時間溶液と接触する
ことに基づいている。半導体材料との接触は最小限に限
定され又案内支柱の形状により表面全体に分布してお
り、局部的に異なるエッチング率が現れることはない。
【００２９】平坦性や平行度の誤差が生じることは、回
転可能な円筒形反応籠の室内部での流れ条件及び物質交
換が特殊形成した案内支柱の導入により向上したことに
より殆ど排除することができる。これにより溶液の層変
更はウェーハ縁の帯域からハウジング内部の全容積に広
がる。更にこの運動のとき溶液はハウジングの外側から
絶えず交換することができる。好ましくは折り曲げて多
角形に実施した案内支柱はマガジンを浴から取り除いた
のち処理液の容易な排出をもたらし、残留溶液によるウ
ェーハの不均一な加工が防止される。
【００３０】半導体ウェーハ、特にシリコンウェーハを
例えば酸化物酸と添加剤を有するHFとからなる混合物を
含有した酸性媒質中でエッチングする際本発明を適用す
ると、従来のマガジンの場合しばしば観察されたウェー
ハ形状寸法の劣化を著しく減らすことができる。例えば
以前エッチング時に観察された平坦度及び平行度の誤差
を著しく減らすことができた。例えば総厚変化(TTV) が
向上し、即ちそれまで５〜10μｍの範囲内であったウェ
ーハ全面の最高厚さ値と最低厚さ値との差の絶対値が１
μｍ未満に向上した。
【００３１】以上本発明を説明してきた。変更や修正、
特に図示実施例の変更や修正も、本発明の基本的考えか
ら逸脱することなく可能であることは当業者にとって明
白である。以下、本発明の好適な実施態様を例示する。 １．ハウジングとインサートが使用した液相に対し抵抗
力がある材料から作製してあることを特徴とする請求項
１記載のマガジン。
【００３２】２．材料としてテトラフルオロエチレン・
ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP) 、エチレン・
テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、エチレン・ク
ロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE) 、ポリクロ
ロトリフルオロエチレン(PCTFE) 、ポリ二フッ化ビニリ
デン(PVDF)、ポリフルオロエチレン(PFA) 及びポリテト
ラフルオロエチレン(PTFE)の群から選択した単数又は複
数の合成樹脂を用いることを特徴とする前項１記載のマ
ガジン。
【００３３】３．案内支柱と間座支柱との相互固定を溶
接又はねじ締めにより行うことを特徴とする請求項１、
前項１〜前項２のいずれか１項又は複数項記載のマガジ
ン。 ４．案内支柱が角を丸くした四角形断面を有し、少なく
とも１つの角が加工品６の表面の方向を向いたことを特
徴とする請求項１、前項１〜前項３のいずれか１項又は
複数項記載のマガジン。
【００３４】５．間座支柱が６本、主案内支柱が１本、
副案内支柱が４本であることを特徴とする請求項１、前
項１〜前項４のいずれか１項又は複数項記載のマガジ
ン。 ６．各案内支柱が角度７０〜１６０度の屈曲部を有し、
この屈曲部が案内支柱と間座支柱との固着部からさまざ
まな距離にあり、主案内支柱の屈曲角度が好ましくは９
０度より大きいことを特徴とする請求項１、前項１〜５
のいずれか１項又は複数項記載のマガジン。
【００３５】７．主案内支柱の屈曲部が支柱の中央に配
置してあることを特徴とする前項６記載のマガジン。 ８．案内支柱の結合箇所（１３）が各間座支柱と案内支
柱との結合箇所からさまざまな距離にあることを特徴と
する請求項１、前項１〜７のいずれか１項又は複数項記
載のマガジン。
【００３６】９．副案内支柱が円錐形に先細であること
を特徴とする請求項１〜８のいずれか１項又は複数項記
載のマガジン。 １０．半導体ウェーハのエッチング処理に用いる請求項
１及び請求項２のいずれか１項又は複数項記載のマガジ
ンの用途。
【００３７】
【発明の効果】上述したように、本発明によるマガジン
は、円板状加工品、特に半導体ウェーハを極力少ない本
数の案内支柱で周囲に余裕を持って絶えずその保持位置
が変化するように液浴内において挟持しているので均一
且つ均質に単位時間当たり一定の割合で裏表両面に洗浄
液およびエッチング液を流通分布させる事が可能とな
り、その結果として比較的大きな表面を有する円板でも
該円板の平面性を損なう事のない表面処理が可能であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】インサートとハウジングとからなる本発明によ
るエッチングマガジンの可能な実施態様の一部を示す斜
視図である。
【図２】図１に示したインサートのII−II平面における
横断面図である。
【符号の説明】
１ ハウジング ２ 液体流入流出用孔 ３ 閉じ蓋 ４ 液浴内に入れる手段 ５ インサート ６ 円板状加工品 ７ 案内支柱 ８ 間座支柱 ９ 主案内支柱 １０ 副案内支柱 １１ 別の副案内支柱 １２ 案内支柱組立体 １３ 結合箇所 １４ 折曲部分
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ギュンター・シュヴァーブ ドイツ連邦共和国 ブルクキルヒェン、ル ペルツシュトラーセ ９ (72)発明者 ペーター・ロメダー ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン、ルー トヴィーヒ・トーマ・シュトラーセ 28 (56)参考文献 実開 昭60−143774（ＪＰ，Ｕ)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 円板状加工品（６）を液浴中で湿式表面
    処理する際保持するマガジンであって、液体流入流出用
    孔（２）と液浴内に入れる手段（４）とを有する円筒形
    のハウジング（１）と、該ハウジング内に挿入可能であ
    り、円板状加工品をハウジング内で隣接させて平面的に
    対置して保持するインサート（５）とを有するものにお
    いて、前記インサートが、 ａ）前記ハウジングに近接配置される外端部を有しかつ
    同一平面上において配置された主案内支柱（９）および
    副案内支柱（１０，１１）とから構成される少なくとも
    ２組の案内支柱（７）を有する並列配置された複数個の
    案内支柱組立体（１２）と、 ｂ）前記各案内支柱間の空隙が円板状加工品を受容可能
    とし、かつ少なくとも１つの主案内支柱（９）が２つの
    間座支柱（８）と結合し、同時に少なくとも１つの副案
    内支柱（１０，１１）が主案内支柱（９）を更に別の間
    座支柱に結合するために、前記案内支柱組立体（１２）
    を並列状態に固定し、一方において該案内支柱の外端部
    に取り付けられ、かつ他方において前記ハウジングの内
    面に近接配置された少なくとも３個の間座支柱（８）
    と、 ｃ）前記案内支柱（７）が結合箇所（１３）で多くとも
    ３方向に分岐し、 ｄ）案内支柱の前記結合箇所（１３）が円筒形ハウジン
    グの長手軸から外れており、 ｅ）全ての前記間座支柱（８，８’，８”）を通る仮想
    円に依って規定される前記インサート（５）の直径が、
    前記円板状加工品の直径の１．１〜１．９倍であり、 ｆ）少なくとも２つの隣接する間座支柱の離間距離が前
    記円板状加工品の直径と同等若しくは長い部分と、該円
    板状加工品の半径より短い部分とから組合わさってお
    り、 ｇ）２つの隣接する案内支柱組立体（１２）の離間距離
    が円板状加工品の厚さの少なくとも２倍であることを特
    徴とするマガジン。
  2. 【請求項２】 マガジンを用いた円板状加工品の液浴中
    での湿式表面処理方法であって、 ａ）液体流入流出用孔（２）と、液浴内に入れる手段
    （４）とを有する円筒形のハウジング（１）と、該ハウ
    ジング内に挿入可能でありかつ円板状加工品をハウジン
    グ内で隣接させて平面的に対置して保持するインサート
    （５）とを有し、かつ前記インサートが、前記ハウジン
    グに近接配置される外端部を有しかつ同一平面上におい
    て配置された主案内支柱（９）および副案内支柱（１
    ０，１１）とから構成される少なくとも２組の案内支柱
    （７）を有する並列配置された複数個の案内支柱組立体
    （１２）と、前記各案内支柱間の空隙が円板状加工品を
    受容可能とし、かつ少なくとも１つの主案内支柱（９）
    が２つの間座支柱（８）と結合し、同時に少なくとも１
    つの副案内支柱（１０，１１）が主案内支柱（９）を更
    に別の間座支柱に結合するために、前記案内支柱組立体
    （１２）を並列状態に固定し、一方において該案内支柱
    の外端部に取り付けられ、かつ他方において前記ハウジ
    ングの内面に近接配置された少なくとも３個の間座支柱
    （８）と、前記案内支柱（７）が結合箇所（１３）で多
    くとも３方向に分岐し、案内支柱の前記結合箇所（１
    ３）が円筒形ハウジングの長手軸から外れており、全て
    の前記間座支柱（８，８’，８”）を通る仮想円に依っ
    て規定される前記インサート（５）の直径が、前記円板
    状加工品の直径の１．１〜１．９倍であり、少なくとも
    ２つの隣接する間座支柱の離間距離が前記円板状加工品
    の直径と同等若しくは長い部分と、該円板状加工品の半
    径より短い部分とから組合わさっており、２つの隣接す
    る案内支柱組立体（１２）の離間距離が円板状加工品の
    厚さの少なくとも２倍である、マガジンを準備し、 ｂ）前記インサート（５）内に前記円板状加工品（６）
    を挿入し、 ｃ）前記インサート（５）をハウジング（１）内に挿入
    し、更に ｄ）前記マガジンを液浴中に浸漬する各工程から成り、
    これらの工程により液体が前記加工品の全表面上を平均
    かつ均一に、そして単位時間当たり同一量で分布するよ
    うに成した事を特徴とする湿式表面処理方法。
JP2328192A 1991-02-01 1992-01-14 円板状加工品を液浴中で湿式表面処理する際保持するマガジンおよび該マガジンを用いた円板状加工品の液浴中での湿式表面処理方法 Expired - Lifetime JPH0821570B2 (ja)

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