JPH08215541A - 排気ガスの処理装置 - Google Patents
排気ガスの処理装置Info
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- JPH08215541A JPH08215541A JP7023131A JP2313195A JPH08215541A JP H08215541 A JPH08215541 A JP H08215541A JP 7023131 A JP7023131 A JP 7023131A JP 2313195 A JP2313195 A JP 2313195A JP H08215541 A JPH08215541 A JP H08215541A
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- eog
- gas
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 酸化エチレンガス滅菌器からの排気ガスを完
全に除害でき、且つ二次的廃棄物の発生が殆どないか或
いは極めて少ない処理装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 (a) 排気ガス中の酸化エチレンガスを吸着す
る吸着塔１、及び(b) 排気ガス中の酸化エチレンガスを
燃焼させるための触媒燃焼装置２が直列に接続されてい
る処理装置である。
全に除害でき、且つ二次的廃棄物の発生が殆どないか或
いは極めて少ない処理装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 (a) 排気ガス中の酸化エチレンガスを吸着す
る吸着塔１、及び(b) 排気ガス中の酸化エチレンガスを
燃焼させるための触媒燃焼装置２が直列に接続されてい
る処理装置である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、酸化エチレンガス（Ｅ
ＯＧ）滅菌器から排出される滅菌ガスやエアレーション
時の排気ガス等を処理するための処理装置に関する。
ＯＧ）滅菌器から排出される滅菌ガスやエアレーション
時の排気ガス等を処理するための処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＥＯＧ滅菌器から排出される滅菌
ガスは、無処理のまま大気に放出するか、或いは希硫酸
や活性炭等の吸着剤に通してＥＯＧを吸着又は吸収して
から大気に放出することが、一般的であった。
ガスは、無処理のまま大気に放出するか、或いは希硫酸
や活性炭等の吸着剤に通してＥＯＧを吸着又は吸収して
から大気に放出することが、一般的であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、高濃度のＥＯ
Ｇを含む滅菌ガスを無処理のまま大気に放出すること
は、環境衛生上問題がある。又、吸着剤による処理の場
合には、二次的廃棄物として、ＥＯＧで飽和した吸着剤
が大量に発生し、この処理が問題となる。
Ｇを含む滅菌ガスを無処理のまま大気に放出すること
は、環境衛生上問題がある。又、吸着剤による処理の場
合には、二次的廃棄物として、ＥＯＧで飽和した吸着剤
が大量に発生し、この処理が問題となる。
【０００４】このような問題を解決する方法としては、
滅菌ガスを触媒燃焼装置に通してＥＯＧのみを燃焼させ
てから排出するという方法が考えられる。しかし、滅菌
ガスは、例えばＥＯＧ１０〜３０％、炭酸ガス７０〜９
０％の組成を有している。
滅菌ガスを触媒燃焼装置に通してＥＯＧのみを燃焼させ
てから排出するという方法が考えられる。しかし、滅菌
ガスは、例えばＥＯＧ１０〜３０％、炭酸ガス７０〜９
０％の組成を有している。
【０００５】このような滅菌ガスは、何等かの方法で空
気を補ってやらない限り、そのままでは燃焼処理は殆ど
不可能である。
気を補ってやらない限り、そのままでは燃焼処理は殆ど
不可能である。
【０００６】ところが、ＥＯＧ滅菌器においては、滅菌
後、内部を減圧にして滅菌ガスを排出した後、清浄な空
気を導入して内部を置換する。これをエアレーションと
いう。エアレーションした後、再び内部を減圧にして空
気を排出する。この操作を何度も繰り返す。従って、Ｅ
ＯＧ滅菌器からは、滅菌ガスの他、このエアレーション
時の排気ガス（以下「エアレーションガス」という）も
排気ガスとして排出されることになる。
後、内部を減圧にして滅菌ガスを排出した後、清浄な空
気を導入して内部を置換する。これをエアレーションと
いう。エアレーションした後、再び内部を減圧にして空
気を排出する。この操作を何度も繰り返す。従って、Ｅ
ＯＧ滅菌器からは、滅菌ガスの他、このエアレーション
時の排気ガス（以下「エアレーションガス」という）も
排気ガスとして排出されることになる。
【０００７】このエアレーションガスは、最初はＥＯＧ
濃度７％、炭酸ガス濃度３５％と、かなりＥＯＧや炭酸
ガスの濃度が高いが、エアレーションを繰り返すうちに
ＥＯＧ、炭酸ガスとも濃度が低下し、最後には殆ど空気
だけになる。ＥＯＧ滅菌器から排出される滅菌ガス及び
エアレーションガスの組成の一例を表１に示す。
濃度７％、炭酸ガス濃度３５％と、かなりＥＯＧや炭酸
ガスの濃度が高いが、エアレーションを繰り返すうちに
ＥＯＧ、炭酸ガスとも濃度が低下し、最後には殆ど空気
だけになる。ＥＯＧ滅菌器から排出される滅菌ガス及び
エアレーションガスの組成の一例を表１に示す。
【０００８】
【表１】
【０００９】本発明は、このエアレーションガスを利用
し、吸着剤からＥＯＧを脱着させ、このＥＯＧを燃焼す
ることにより、滅菌器から排出される排気ガスを効率的
に除害でき、且つＥＯＧで飽和した吸着剤のような二次
的廃棄物の発生が殆どないか或いは極めて少ない処理装
置を提供することを目的とする。
し、吸着剤からＥＯＧを脱着させ、このＥＯＧを燃焼す
ることにより、滅菌器から排出される排気ガスを効率的
に除害でき、且つＥＯＧで飽和した吸着剤のような二次
的廃棄物の発生が殆どないか或いは極めて少ない処理装
置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、ＥＯＧ滅菌器
の排気ガスの処理装置であって、(a) 排気ガス中のＥＯ
Ｇを吸着する吸着塔１、及び(b) 触媒燃焼装置２を有
し、且つ(c) 吸着塔１と触媒燃焼装置２が直列に接続さ
れている処理装置に関する。
の排気ガスの処理装置であって、(a) 排気ガス中のＥＯ
Ｇを吸着する吸着塔１、及び(b) 触媒燃焼装置２を有
し、且つ(c) 吸着塔１と触媒燃焼装置２が直列に接続さ
れている処理装置に関する。
【００１１】又、本発明は、上記の処理装置において、
排気ガス中のＥＯＧを吸着塔１で吸着するときと、吸着
塔１で吸着したＥＯＧを脱着するときとで、吸着塔１へ
の排気ガスの導入方向を逆転させるための切替手段３を
有している処理装置も含む。
排気ガス中のＥＯＧを吸着塔１で吸着するときと、吸着
塔１で吸着したＥＯＧを脱着するときとで、吸着塔１へ
の排気ガスの導入方向を逆転させるための切替手段３を
有している処理装置も含む。
【００１２】
【発明の作用】本発明の排気ガスの処理装置の作用につ
いて、以下に説明する。
いて、以下に説明する。
【００１３】ＥＯＧ滅菌器から排出された滅菌ガス或い
はエアレーションガス等の排気ガスは、先ず、吸着塔１
に流入し、そこで、ＥＯＧと炭酸ガスが吸着される。吸
着塔１を通した後の排気ガスの組成の一例を表２に示
す。
はエアレーションガス等の排気ガスは、先ず、吸着塔１
に流入し、そこで、ＥＯＧと炭酸ガスが吸着される。吸
着塔１を通した後の排気ガスの組成の一例を表２に示
す。
【００１４】
【表２】
【００１５】表２からも明らかなように吸着塔１を通し
た後の排気ガスは殆ど空気だけとなっている。
た後の排気ガスは殆ど空気だけとなっている。
【００１６】これらの排気ガスは、次いで触媒燃焼装置
２に導入される。万が一ＥＯＧが吸着塔１で吸着されず
に排気ガス中に極微量残存していたとしても、触媒燃焼
装置２内で燃焼し、無害な水と炭酸ガスに変化して排出
される。
２に導入される。万が一ＥＯＧが吸着塔１で吸着されず
に排気ガス中に極微量残存していたとしても、触媒燃焼
装置２内で燃焼し、無害な水と炭酸ガスに変化して排出
される。
【００１７】エアレーションを繰り返す内に、ＥＯＧ滅
菌器から排出されるエアレーションガス中のＥＯＧ及び
炭酸ガスの濃度は低下し、殆ど空気のみとなる。このよ
うなエアレーションガスが吸着塔１に導入されると、吸
着塔１に吸着されたＥＯＧ及び炭酸ガスは脱着する。
菌器から排出されるエアレーションガス中のＥＯＧ及び
炭酸ガスの濃度は低下し、殆ど空気のみとなる。このよ
うなエアレーションガスが吸着塔１に導入されると、吸
着塔１に吸着されたＥＯＧ及び炭酸ガスは脱着する。
【００１８】吸着塔１からの脱着ガスは、空気が８６．
３〜９８．６％、炭酸ガスが１０．９〜０．１％、ＥＯ
Ｇが２．８〜１．３％である。脱着ガスの組成の一例を
表３に示す。
３〜９８．６％、炭酸ガスが１０．９〜０．１％、ＥＯ
Ｇが２．８〜１．３％である。脱着ガスの組成の一例を
表３に示す。
【００１９】
【表３】
【００２０】これらの脱着ガスは極めて容易に触媒燃焼
でき、１００％ＥＯＧを除去できる。このことを表４に
示す。
でき、１００％ＥＯＧを除去できる。このことを表４に
示す。
【００２１】
【表４】
【００２２】表４から、空気が８６．３〜９８．６％、
炭酸ガスが１０．９〜０．１％、ＥＯＧが２．８〜１．
３％の範囲である脱着ガスは、触媒燃焼により１００％
ＥＯＧが除去されることが判る。
炭酸ガスが１０．９〜０．１％、ＥＯＧが２．８〜１．
３％の範囲である脱着ガスは、触媒燃焼により１００％
ＥＯＧが除去されることが判る。
【００２３】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の処理装置につ
いて詳しく説明する。
いて詳しく説明する。
【００２４】図１は、本発明の処理装置の一実施例を示
すフローチャートである。
すフローチャートである。
【００２５】図中１は吸着塔、２は触媒燃焼装置、３は
切替手段を示し、切替弁３１及び３２から構成されてい
る。１１は吸着塔１を加熱するための加熱手段である。
２１は触媒燃焼装置２内の温度を調節するための手段、
２２は温度計を示す。ａは吸着塔１でＥＯＧを吸着する
際の排気ガスの流路を、ｂは吸着塔１からＥＯＧを脱着
する際の排気ガスの流路を示す。
切替手段を示し、切替弁３１及び３２から構成されてい
る。１１は吸着塔１を加熱するための加熱手段である。
２１は触媒燃焼装置２内の温度を調節するための手段、
２２は温度計を示す。ａは吸着塔１でＥＯＧを吸着する
際の排気ガスの流路を、ｂは吸着塔１からＥＯＧを脱着
する際の排気ガスの流路を示す。
【００２６】先ず、吸着塔１について説明する。
【００２７】吸着塔１としては、例えば、円筒に吸着剤
を充填したもの等が可能である。吸着塔１内には、滅菌
ガス或いはエアレーションガス等の排気ガスが偏って流
れないように適宜仕切りを設けてもよい。吸着剤として
用いられるものとしては、活性炭やシリカゲル、ゼオラ
イト、活性アルミナ等が挙げられる。これらの吸着剤の
なかでは、吸着したＥＯＧの脱着が容易に行える点で特
に活性炭が好ましい。吸着塔１内の排気ガスの流量は、
ＥＯＧ滅菌器のチャンバーの大きさ等に応じて適当に定
めることができるが、ＥＯＧの吸脱着時とも１０〜５０
Ｌ／ｍｉｎ程度が好ましい。
を充填したもの等が可能である。吸着塔１内には、滅菌
ガス或いはエアレーションガス等の排気ガスが偏って流
れないように適宜仕切りを設けてもよい。吸着剤として
用いられるものとしては、活性炭やシリカゲル、ゼオラ
イト、活性アルミナ等が挙げられる。これらの吸着剤の
なかでは、吸着したＥＯＧの脱着が容易に行える点で特
に活性炭が好ましい。吸着塔１内の排気ガスの流量は、
ＥＯＧ滅菌器のチャンバーの大きさ等に応じて適当に定
めることができるが、ＥＯＧの吸脱着時とも１０〜５０
Ｌ／ｍｉｎ程度が好ましい。
【００２８】又、吸着塔１からＥＯＧを脱着する際、吸
着塔１を加熱することが好ましく、このための加熱手段
１１を有することが好ましい。加熱手段１１としては、
電熱ヒーター等が好ましいが、熱媒体で加熱するように
してもよい。加熱手段１１は、吸着塔１内部に設けられ
ていてもよいし、吸着塔の外壁に埋設されていてもよ
い。
着塔１を加熱することが好ましく、このための加熱手段
１１を有することが好ましい。加熱手段１１としては、
電熱ヒーター等が好ましいが、熱媒体で加熱するように
してもよい。加熱手段１１は、吸着塔１内部に設けられ
ていてもよいし、吸着塔の外壁に埋設されていてもよ
い。
【００２９】更に、吸着塔１への排気ガスの導入方向
は、ＥＯＧの吸着時と脱着時とで逆転させることが好ま
しく、切替手段３により切替えることができる。具体的
には、例えば滅菌ガス及び１〜４回目のエアレーション
ガスのようにＥＯＧ濃度が１〜１５％と高い排気ガスを
吸着塔１に導入してＥＯＧを吸着させるときと、５回目
以降のエアレーションガスのようにＥＯＧ濃度が１％か
それ未満と低い排気ガスを導入して、吸着塔１からＥＯ
Ｇを脱着するときとで、排気ガスの導入方向を逆転させ
ることが好ましい。
は、ＥＯＧの吸着時と脱着時とで逆転させることが好ま
しく、切替手段３により切替えることができる。具体的
には、例えば滅菌ガス及び１〜４回目のエアレーション
ガスのようにＥＯＧ濃度が１〜１５％と高い排気ガスを
吸着塔１に導入してＥＯＧを吸着させるときと、５回目
以降のエアレーションガスのようにＥＯＧ濃度が１％か
それ未満と低い排気ガスを導入して、吸着塔１からＥＯ
Ｇを脱着するときとで、排気ガスの導入方向を逆転させ
ることが好ましい。
【００３０】切替手段３は、切替弁及び／又は電磁弁に
より構成することができる。本実施例では、切替手段３
が切替弁３１、３２で構成されている例を示す。切替弁
３１及び３２は、ＥＯＧの吸着時は排気ガスがａの流路
で流れるように制御され、ＥＯＧの脱着時には排気ガス
がｂの経路で流れるように制御される。このような制御
は、例えばタイマーにより行ってもよい。又、ＥＯＧセ
ンサーにより、排気ガス中のＥＯＧ濃度を連続的に検知
し、排気ガス中のＥＯＧ濃度が一定値、例えば１％未満
になったら切替手段３を作動させてもよい。
より構成することができる。本実施例では、切替手段３
が切替弁３１、３２で構成されている例を示す。切替弁
３１及び３２は、ＥＯＧの吸着時は排気ガスがａの流路
で流れるように制御され、ＥＯＧの脱着時には排気ガス
がｂの経路で流れるように制御される。このような制御
は、例えばタイマーにより行ってもよい。又、ＥＯＧセ
ンサーにより、排気ガス中のＥＯＧ濃度を連続的に検知
し、排気ガス中のＥＯＧ濃度が一定値、例えば１％未満
になったら切替手段３を作動させてもよい。
【００３１】次ぎに触媒燃焼装置２について説明する。
【００３２】触媒燃焼装置２としては、通常の触媒燃焼
に用いられるものであれば各種のものが可能である。触
媒燃焼装置２に用いられる触媒としては、燃焼が低温で
進行し安全性が高いこと、及び極低濃度のＥＯＧも燃
焼、除去できることから、貴金属触媒が好ましく用いら
れる。このような貴金属触媒としては、例えば銀、白
金、ロジウム、ルビジウム等の貴金属を、シリカ、アル
ミナ、ゼオライト、石綿、クレー等、適当な担体に担持
させた触媒がある。
に用いられるものであれば各種のものが可能である。触
媒燃焼装置２に用いられる触媒としては、燃焼が低温で
進行し安全性が高いこと、及び極低濃度のＥＯＧも燃
焼、除去できることから、貴金属触媒が好ましく用いら
れる。このような貴金属触媒としては、例えば銀、白
金、ロジウム、ルビジウム等の貴金属を、シリカ、アル
ミナ、ゼオライト、石綿、クレー等、適当な担体に担持
させた触媒がある。
【００３３】触媒燃焼装置２は、温度調節手段２１によ
り、貴金属触媒が最もよく働く範囲の温度、例えば１５
０〜２５０℃に保持されていることが望ましい。温度調
節手段２１としては、例えば熱媒体を通す蛇管や電熱ヒ
ーター等が用いられる。温度調節手段２１は、触媒燃焼
装置２に設けられた温度計２２の出力によって制御する
ことができる。
り、貴金属触媒が最もよく働く範囲の温度、例えば１５
０〜２５０℃に保持されていることが望ましい。温度調
節手段２１としては、例えば熱媒体を通す蛇管や電熱ヒ
ーター等が用いられる。温度調節手段２１は、触媒燃焼
装置２に設けられた温度計２２の出力によって制御する
ことができる。
【００３４】
【発明の効果】本発明の排気ガス処理装置を用いること
により、ＥＯＧ滅菌器から排出される排気ガスを完全に
除害できる。
により、ＥＯＧ滅菌器から排出される排気ガスを完全に
除害できる。
【００３５】又、吸着塔へのＥＯＧの吸着と脱着を交互
に行っているため、吸着塔内の吸着剤は少量で済み、
又、長期間交換しなくてもよい。又、二次的廃棄物とし
て廃棄される吸着剤は殆どない。
に行っているため、吸着塔内の吸着剤は少量で済み、
又、長期間交換しなくてもよい。又、二次的廃棄物とし
て廃棄される吸着剤は殆どない。
【図１】本発明の排気ガス処理装置の一例を示すフロー
チャート。
チャート。
１ 吸着塔 ２ 触媒燃焼装置 ３ 切替手段 ４ 熱交換器 １１ 吸着塔１を加熱するための加熱手段 ２１ 触媒燃焼装置２内の温度を調節するための手段 ２２ 温度計 ３１、３２ 切替弁 ａ ＥＯＧ吸着時の排気ガスの流路 ｂ ＥＯＧ脱着時の排気ガスの流路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 23/38 ＺＡＢ Ｂ０１Ｄ 53/36 Ｂ (72)発明者 梶原 明夫 東京都北区赤羽２丁目51番３号 液化炭酸 株式会社内 (72)発明者 井上 市郎 埼玉県久喜市清久町１丁目２番 液化炭酸 株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 酸化エチレンガス滅菌器からの排気ガス
の処理装置であって、 (a) 排気ガス中の酸化エチレンガスを吸着する吸着塔
（１）、及び(b) 吸着塔（１）を通過した排気ガス中の
酸化エチレンガスを燃焼させるための触媒燃焼装置
（２）を有し、且つ(c) 吸着塔（１）と触媒燃焼装置
（２）が直列に接続されていることを特徴とする排気ガ
スの処理装置。 - 【請求項２】更に、吸着塔（１）への排気ガスの導入方
向を逆転させるための切替手段（３）を設けたことを特
徴とする請求項１に記載の排気ガスの処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7023131A JPH08215541A (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | 排気ガスの処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7023131A JPH08215541A (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | 排気ガスの処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08215541A true JPH08215541A (ja) | 1996-08-27 |
Family
ID=12101983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7023131A Pending JPH08215541A (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | 排気ガスの処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08215541A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003024747A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-28 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | 有機化合物含有排ガスの浄化方法 |
| JP2004050170A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-02-19 | Air Water Inc | ガス滅菌器用排ガス処理方法および装置 |
| DE102011000184A1 (de) | 2011-01-17 | 2012-07-19 | Medicoplast International Gmbh | Sterilisationsvorrichtung und Verfahren zum Betreiben einer Sterilisationsvorrichtung |
| WO2023042302A1 (ja) | 2021-09-15 | 2023-03-23 | カンケンテクノ株式会社 | 酸化エチレンガスの除去方法及びそれを用いた酸化エチレンガス除去システム |
-
1995
- 1995-02-10 JP JP7023131A patent/JPH08215541A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003024747A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-28 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | 有機化合物含有排ガスの浄化方法 |
| JP4523203B2 (ja) * | 2001-07-11 | 2010-08-11 | 田中貴金属工業株式会社 | 有機化合物含有排ガスの浄化方法 |
| JP2004050170A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-02-19 | Air Water Inc | ガス滅菌器用排ガス処理方法および装置 |
| JP4499375B2 (ja) * | 2002-05-31 | 2010-07-07 | エア・ウォーター株式会社 | ガス滅菌器用排ガス処理方法および装置 |
| DE102011000184A1 (de) | 2011-01-17 | 2012-07-19 | Medicoplast International Gmbh | Sterilisationsvorrichtung und Verfahren zum Betreiben einer Sterilisationsvorrichtung |
| WO2023042302A1 (ja) | 2021-09-15 | 2023-03-23 | カンケンテクノ株式会社 | 酸化エチレンガスの除去方法及びそれを用いた酸化エチレンガス除去システム |
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