JP2002248317A - 悪臭物質の除去方法および脱臭設備 - Google Patents
悪臭物質の除去方法および脱臭設備Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被処理ガスから極性を有する悪臭物質を除去
するための悪臭物質の除去方法を提供する。 【解決手段】 ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が１０以上７０
以下の疎水性ゼオライトからなる吸着体７で極性を有す
る悪臭物質を吸着して除去する。
するための悪臭物質の除去方法を提供する。 【解決手段】 ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が１０以上７０
以下の疎水性ゼオライトからなる吸着体７で極性を有す
る悪臭物質を吸着して除去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、極性を有する悪臭
物質の除去方法および脱臭装置に関するものである。
物質の除去方法および脱臭装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】低濃度（例えば２００ｐｐｍ以下）の有
機溶剤等の悪臭物質を含む排ガス（被処理ガス）を脱臭
処理するために燃焼式排ガス処理装置等に直接供給する
と、処理風量に占める有機溶剤濃度が低いので、供給さ
れる排ガスの処理風量に合わせて装置が大型化するとと
もに、有機溶剤濃度が低いために処理効率が悪かった。
機溶剤等の悪臭物質を含む排ガス（被処理ガス）を脱臭
処理するために燃焼式排ガス処理装置等に直接供給する
と、処理風量に占める有機溶剤濃度が低いので、供給さ
れる排ガスの処理風量に合わせて装置が大型化するとと
もに、有機溶剤濃度が低いために処理効率が悪かった。
【０００３】そこで、従来は、排ガスから低濃度の有機
溶剤等の悪臭物質を吸着体で一旦分離し、前記排ガスの
供給風量より少風量の再生用ガス（高温の空気）で吸着
体から前記悪臭物質を脱着して濃縮し、再生用ガス（濃
縮ガス）の風量に合わせた小型の燃焼式排ガス処理装置
等で処理する濃縮脱臭システムが採用されている。
溶剤等の悪臭物質を吸着体で一旦分離し、前記排ガスの
供給風量より少風量の再生用ガス（高温の空気）で吸着
体から前記悪臭物質を脱着して濃縮し、再生用ガス（濃
縮ガス）の風量に合わせた小型の燃焼式排ガス処理装置
等で処理する濃縮脱臭システムが採用されている。
【０００４】前記濃縮脱臭システムのガス濃縮装置で
は、一般に、前記吸着体としてハニカム状に成形された
活性炭ロータが用いられるが、この活性炭ロータは、活
性炭自体が可燃材料であるため火災を引き起こす危険が
あること、悪臭物質のうち極性を有する悪臭物質を吸着
脱臭できないことなどの欠点があった。このため、最近
では活性炭に代わる多孔質吸着体としてゼオライトが使
われている。なお、極性を有する悪臭物質としては、プ
ロピオンアルデヒド、ノルマルブチルアルデヒド、イソ
ブチルアルデヒド、ノルマルバレルアルデヒド、イソバ
レルアルデヒド、アンモニア、メチルメルカプタン、硫
化水素、硫化メチル、二硫化メチル、トリメチルアミ
ン、アセトアルデヒド、プロピオン酸、ノルマル酪酸、
ノルマル吉草酸、イソ吉草酸などがある。
は、一般に、前記吸着体としてハニカム状に成形された
活性炭ロータが用いられるが、この活性炭ロータは、活
性炭自体が可燃材料であるため火災を引き起こす危険が
あること、悪臭物質のうち極性を有する悪臭物質を吸着
脱臭できないことなどの欠点があった。このため、最近
では活性炭に代わる多孔質吸着体としてゼオライトが使
われている。なお、極性を有する悪臭物質としては、プ
ロピオンアルデヒド、ノルマルブチルアルデヒド、イソ
ブチルアルデヒド、ノルマルバレルアルデヒド、イソバ
レルアルデヒド、アンモニア、メチルメルカプタン、硫
化水素、硫化メチル、二硫化メチル、トリメチルアミ
ン、アセトアルデヒド、プロピオン酸、ノルマル酪酸、
ノルマル吉草酸、イソ吉草酸などがある。
【０００５】ところで、ゼオライト結晶はＳｉＯ２とＡ
ｌＯ４とからなり、ＳｉとＡｌとがＯを共有した構造に
なっている。前記ＡｌＯ４はゼオライトの中で強い静電
場を形成し、極性分子、特に水を強く吸収する。このた
め、一旦吸着した極性を有する悪臭物質が水によって追
い出され、悪臭物質の吸着効率が低下するという問題が
あった。なお、水分が優先的に吸着される理由は、水分
子が大きな双極子モーメントをもつ典型的な極性物質で
あるため、ゼオライトのカチオンサイトと相互作用して
強く吸着されるからである。
ｌＯ４とからなり、ＳｉとＡｌとがＯを共有した構造に
なっている。前記ＡｌＯ４はゼオライトの中で強い静電
場を形成し、極性分子、特に水を強く吸収する。このた
め、一旦吸着した極性を有する悪臭物質が水によって追
い出され、悪臭物質の吸着効率が低下するという問題が
あった。なお、水分が優先的に吸着される理由は、水分
子が大きな双極子モーメントをもつ典型的な極性物質で
あるため、ゼオライトのカチオンサイトと相互作用して
強く吸着されるからである。
【０００６】そこで、ゼオライトの骨格からＡｌの割合
を減らしてＳｉの割合を高めた疎水性ゼオライトとして
極性物質に対する親和性を低下させ、水の吸着を抑制す
ることで、有機溶剤等の非極性物質を吸着させている。
このとき、ゼオライト骨格内のＡｌの割合を表すのにＳ
ｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が用いられ、この比の値が大きく
なるほど疎水的になり、一般にはＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３
比８０以上が採用されている。また、ゼオライトは不燃
性材料でもある。
を減らしてＳｉの割合を高めた疎水性ゼオライトとして
極性物質に対する親和性を低下させ、水の吸着を抑制す
ることで、有機溶剤等の非極性物質を吸着させている。
このとき、ゼオライト骨格内のＡｌの割合を表すのにＳ
ｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が用いられ、この比の値が大きく
なるほど疎水的になり、一般にはＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３
比８０以上が採用されている。また、ゼオライトは不燃
性材料でもある。
【０００７】上述したように疎水性を高めたゼオライト
は、極性を有する悪臭物質の吸着量が極めて少なくな
る。これに対し、極性を有する悪臭物質は、極性を有す
るがゆえに従来のゼオライト（疎水性が低いもの）には
良く吸着されるが、実際の処理現場（例えば、都市ゴミ
焼却設備における都市ゴミの受入ピット等）では高湿度
の雰囲気が一般的であり、疎水性の低いゼオライトでは
水分の吸着が優先され、極性を有する悪臭物質はほとん
ど吸着されなかった。
は、極性を有する悪臭物質の吸着量が極めて少なくな
る。これに対し、極性を有する悪臭物質は、極性を有す
るがゆえに従来のゼオライト（疎水性が低いもの）には
良く吸着されるが、実際の処理現場（例えば、都市ゴミ
焼却設備における都市ゴミの受入ピット等）では高湿度
の雰囲気が一般的であり、疎水性の低いゼオライトでは
水分の吸着が優先され、極性を有する悪臭物質はほとん
ど吸着されなかった。
【０００８】したがって、極性を有する悪臭物質は、活
性炭やゼオライトを用いて濃縮処理するのが非常に困難
であり、燃焼方式の排ガス処理装置による脱臭処理を行
うと効率が非常に悪くなるので、これまでは濃縮処理を
施すことなく悪臭物資を含む排ガスをそのまま薬液洗浄
装置あるいは生物脱臭装置等の水系脱臭装置へ供給し、
脱臭処理していた。
性炭やゼオライトを用いて濃縮処理するのが非常に困難
であり、燃焼方式の排ガス処理装置による脱臭処理を行
うと効率が非常に悪くなるので、これまでは濃縮処理を
施すことなく悪臭物資を含む排ガスをそのまま薬液洗浄
装置あるいは生物脱臭装置等の水系脱臭装置へ供給し、
脱臭処理していた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、薬液洗
浄装置等の水系脱臭装置は脱臭効率が低いので、薬液洗
浄装置等で除去しきれなかった悪臭物質をさらに除去す
ることを目的として、薬品を添着した活性炭で化学的に
吸着脱臭する二次脱臭装置を前記薬液洗浄装置等の二次
側に設けなければならなかった。この薬品を添着した活
性炭は吸着能力が低下すると廃棄され、新しいものに交
換する必要がある。このように、従来は極性を有する悪
臭物質を濃縮する手段がなかったので、水系脱臭装置お
よび二次脱臭装置を採用せざるを得ず、脱臭処理システ
ム自体が大型化するうえ、水系脱臭装置では水処理工程
が必要となって装置構成が複雑になるとともに、二次脱
臭装置では薬品を添着した活性炭の再利用ができず運転
費が非常に高価になるという問題があった。
浄装置等の水系脱臭装置は脱臭効率が低いので、薬液洗
浄装置等で除去しきれなかった悪臭物質をさらに除去す
ることを目的として、薬品を添着した活性炭で化学的に
吸着脱臭する二次脱臭装置を前記薬液洗浄装置等の二次
側に設けなければならなかった。この薬品を添着した活
性炭は吸着能力が低下すると廃棄され、新しいものに交
換する必要がある。このように、従来は極性を有する悪
臭物質を濃縮する手段がなかったので、水系脱臭装置お
よび二次脱臭装置を採用せざるを得ず、脱臭処理システ
ム自体が大型化するうえ、水系脱臭装置では水処理工程
が必要となって装置構成が複雑になるとともに、二次脱
臭装置では薬品を添着した活性炭の再利用ができず運転
費が非常に高価になるという問題があった。
【００１０】
【課題を解決するための手段】そこで、前記問題を解決
するために本発明の悪臭物質の除去方法は、ＳｉＯ２／
Ａｌ２Ｏ３比が１０以上７０以下の疎水性ゼオライトで
極性を有する悪臭物質を吸着して除去するものである。
するために本発明の悪臭物質の除去方法は、ＳｉＯ２／
Ａｌ２Ｏ３比が１０以上７０以下の疎水性ゼオライトで
極性を有する悪臭物質を吸着して除去するものである。
【００１１】また、本発明の悪臭物資の脱臭設備は、Ｓ
ｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が１０以上７０以下の疎水性ゼオ
ライトからなる吸着体を有し、極性を有する悪臭物質を
含有する被処理ガスの前記悪臭物質を前記吸着体で吸着
除去した後、再生用ガスで前記吸着体に吸着された前記
悪臭物質を脱着して濃縮ガスを生成するガス濃縮装置
と、このガス濃縮装置で生成された前記濃縮ガス中の前
記悪臭物質を加熱分解して脱臭処理する脱臭装置とから
なるものである。
ｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が１０以上７０以下の疎水性ゼオ
ライトからなる吸着体を有し、極性を有する悪臭物質を
含有する被処理ガスの前記悪臭物質を前記吸着体で吸着
除去した後、再生用ガスで前記吸着体に吸着された前記
悪臭物質を脱着して濃縮ガスを生成するガス濃縮装置
と、このガス濃縮装置で生成された前記濃縮ガス中の前
記悪臭物質を加熱分解して脱臭処理する脱臭装置とから
なるものである。
【００１２】さらに、本発明の別の悪臭物質の脱臭設備
は、極性を有する悪臭物質を含有する被処理ガスを脱臭
処理する水系脱臭装置と、この水系脱臭装置で一次処理
された被処理ガス中に残存する前記悪臭物質をＳｉＯ２
／Ａｌ２Ｏ３比が１０以上７０以下の疎水性ゼオライト
からなる吸着体で吸着除去した後、再生用ガスで前記吸
着体に吸着した前記悪臭物質を脱着して濃縮ガスを生成
するガス濃縮装置とを備えるとともに、前記濃縮ガスを
前記被処理ガスと共に前記水系脱臭装置へ再供給するた
めの循環路を設けたものである。
は、極性を有する悪臭物質を含有する被処理ガスを脱臭
処理する水系脱臭装置と、この水系脱臭装置で一次処理
された被処理ガス中に残存する前記悪臭物質をＳｉＯ２
／Ａｌ２Ｏ３比が１０以上７０以下の疎水性ゼオライト
からなる吸着体で吸着除去した後、再生用ガスで前記吸
着体に吸着した前記悪臭物質を脱着して濃縮ガスを生成
するガス濃縮装置とを備えるとともに、前記濃縮ガスを
前記被処理ガスと共に前記水系脱臭装置へ再供給するた
めの循環路を設けたものである。
【００１３】本発明の悪臭物質の脱臭設備において、前
記ガス濃縮装置は、ＳｉＯ２／Ａｌ ２Ｏ３比が１０以上
７０以下の疎水性ゼオライトからなる吸着体を備えた回
転可能な吸着ロータの両端面を第１ケーシングおよび第
２ケーシングでそれぞれ被覆し、前記両ケーシングの内
部を仕切板で区画して前記吸着ロータの回転方向上流側
より第１区画室、第２区画室、および第３区画室を形成
するとともに、前記各ケーシング内の各区画室をそれぞ
れ対向配置し、いずれか一方の前記第１区画室から極性
を有する悪臭物質を含有する被処理ガスを、いずれか一
方の前記第２区画室から前記被処理ガスの供給風量より
も少風量の再生用ガスを、いずれか一方の前記第３区画
室から冷却用ガスをそれぞれ供給するとともに、他方の
前記第１区画室からは前記吸着ロータで悪臭物質が吸着
除去された浄化ガスが、他方の前記第２区画室からは前
記吸着ロータから脱着した前記悪臭物質を含む濃縮ガス
が、他方の前記第３区画室からは前記吸着体との熱交換
により昇温した冷却用ガスがそれぞれ排出されるように
なっていてもよい。
記ガス濃縮装置は、ＳｉＯ２／Ａｌ ２Ｏ３比が１０以上
７０以下の疎水性ゼオライトからなる吸着体を備えた回
転可能な吸着ロータの両端面を第１ケーシングおよび第
２ケーシングでそれぞれ被覆し、前記両ケーシングの内
部を仕切板で区画して前記吸着ロータの回転方向上流側
より第１区画室、第２区画室、および第３区画室を形成
するとともに、前記各ケーシング内の各区画室をそれぞ
れ対向配置し、いずれか一方の前記第１区画室から極性
を有する悪臭物質を含有する被処理ガスを、いずれか一
方の前記第２区画室から前記被処理ガスの供給風量より
も少風量の再生用ガスを、いずれか一方の前記第３区画
室から冷却用ガスをそれぞれ供給するとともに、他方の
前記第１区画室からは前記吸着ロータで悪臭物質が吸着
除去された浄化ガスが、他方の前記第２区画室からは前
記吸着ロータから脱着した前記悪臭物質を含む濃縮ガス
が、他方の前記第３区画室からは前記吸着体との熱交換
により昇温した冷却用ガスがそれぞれ排出されるように
なっていてもよい。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て添付図面を参照して説明する。本実施形態の脱臭設備
Ｔは、図１に示すように、ガス濃縮装置１と燃焼脱臭装
置１５とを備えている。
て添付図面を参照して説明する。本実施形態の脱臭設備
Ｔは、図１に示すように、ガス濃縮装置１と燃焼脱臭装
置１５とを備えている。
【００１５】前記ガス濃縮装置１は、図２に示すよう
に、大略、吸着ロータ２とケーシング１０とからなる。
吸着ロータ２は、図示しない駆動手段により軸Ｓを中心
に一定速度あるいは間欠的に回転するもので、図３に示
すように、金属製のロータ本体３とハニカム状の吸着体
７とで構成される。ロータ本体３は、前記軸Ｓに固定さ
れる内筒４とその外方にリブ５を介して同心円に配置し
た外筒６とからなり、前記内筒４と外筒６との間に形成
される空間に疎水性ゼオライトからなる吸着材をハニカ
ム状に加工し、軸方向に多数の通路Ｐを有する吸着体７
を内蔵させたものである。
に、大略、吸着ロータ２とケーシング１０とからなる。
吸着ロータ２は、図示しない駆動手段により軸Ｓを中心
に一定速度あるいは間欠的に回転するもので、図３に示
すように、金属製のロータ本体３とハニカム状の吸着体
７とで構成される。ロータ本体３は、前記軸Ｓに固定さ
れる内筒４とその外方にリブ５を介して同心円に配置し
た外筒６とからなり、前記内筒４と外筒６との間に形成
される空間に疎水性ゼオライトからなる吸着材をハニカ
ム状に加工し、軸方向に多数の通路Ｐを有する吸着体７
を内蔵させたものである。
【００１６】前記吸着体７を構成する疎水性ゼオライト
は、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が１０以上７０以下、好ま
しくは１８以上５５以下に調整されている。このように
ゼオライトの疎水性を調整することは、水分（湿分）の
吸着量を抑制しつつ極性を有する悪臭物質の吸着量を大
幅に向上させることができるという本願発明者らの知見
に基づくものである。この知見を実証する実験結果を次
の表に示すが、この表から明らかなようにＳｉＯ２／Ａ
ｌ２Ｏ３比が１０より小さいと水分の吸着が優先されて
極性を有する悪臭物質（例えばアンモニアなど）の吸着
量が少なくなり、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が７０より大
きいと極性を有する悪臭物質の吸着能力が低下すること
になる。
は、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が１０以上７０以下、好ま
しくは１８以上５５以下に調整されている。このように
ゼオライトの疎水性を調整することは、水分（湿分）の
吸着量を抑制しつつ極性を有する悪臭物質の吸着量を大
幅に向上させることができるという本願発明者らの知見
に基づくものである。この知見を実証する実験結果を次
の表に示すが、この表から明らかなようにＳｉＯ２／Ａ
ｌ２Ｏ３比が１０より小さいと水分の吸着が優先されて
極性を有する悪臭物質（例えばアンモニアなど）の吸着
量が少なくなり、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が７０より大
きいと極性を有する悪臭物質の吸着能力が低下すること
になる。
【００１７】
【表１】
【００１８】前記吸着ロータ２の両端面を被覆している
前記ケーシング１０は図示しない手段で基台等に固定さ
れるとともに、軸Ｓが貫通するカップ状の第１および第
２ケーシング１０Ａ，１０Ｂからなる。
前記ケーシング１０は図示しない手段で基台等に固定さ
れるとともに、軸Ｓが貫通するカップ状の第１および第
２ケーシング１０Ａ，１０Ｂからなる。
【００１９】前記第１ケーシング１０Ａの内部は、図４
に示すように、３枚の仕切板１１で前記吸着ロータ２の
回転方向上流側から順に第１区画室、第２区画室、第３
区画室の３つの領域に区画され、前記第１区画室は被処
理ガス供給部１２Ａ、前記第２区画室は濃縮ガス排気部
１２Ｂ、前記第３区画室は冷却用ガス供給部１２Ｃをそ
れぞれ構成する。
に示すように、３枚の仕切板１１で前記吸着ロータ２の
回転方向上流側から順に第１区画室、第２区画室、第３
区画室の３つの領域に区画され、前記第１区画室は被処
理ガス供給部１２Ａ、前記第２区画室は濃縮ガス排気部
１２Ｂ、前記第３区画室は冷却用ガス供給部１２Ｃをそ
れぞれ構成する。
【００２０】一方、第２ケーシング１０Ｂにも前記第１
ケーシング１０Ａの各区画室に対応して対向配置される
第１ないし第３区画室が形成され、前記吸着ロータ２の
回転方向上流側から順に、第１区画室は浄化ガス排気部
１３Ａ、第２区画室は再生用ガス供給部１３Ｂ、第３区
画室は冷却用ガス排気部１３Ｃを構成する。
ケーシング１０Ａの各区画室に対応して対向配置される
第１ないし第３区画室が形成され、前記吸着ロータ２の
回転方向上流側から順に、第１区画室は浄化ガス排気部
１３Ａ、第２区画室は再生用ガス供給部１３Ｂ、第３区
画室は冷却用ガス排気部１３Ｃを構成する。
【００２１】前記吸着ロータ２の端面は、前記被処理ガ
ス供給部１２Ａと対面する吸着体７の部分が悪臭物質の
吸着部、再生用ガス供給部１３Ｂと対面する吸着体７の
部分が吸着体７の再生部（悪臭物質の濃縮部）、冷却用
ガス供給部１２Ｃと対面する吸着体７の部分が冷却部と
なり、吸着ロータ２の回転により吸着体７は前記各部を
順次移動することになる。
ス供給部１２Ａと対面する吸着体７の部分が悪臭物質の
吸着部、再生用ガス供給部１３Ｂと対面する吸着体７の
部分が吸着体７の再生部（悪臭物質の濃縮部）、冷却用
ガス供給部１２Ｃと対面する吸着体７の部分が冷却部と
なり、吸着ロータ２の回転により吸着体７は前記各部を
順次移動することになる。
【００２２】図１に示す前記燃焼脱臭装置としては例え
ば蓄熱燃焼式脱臭装置１５があり、この蓄熱燃焼式脱臭
装置１５にヒータ等の加熱手段１７を備えた燃焼室１６
と、この燃焼室１６に一端が連通し、かつ蓄熱体１９を
内蔵する少なくとも２つ（図では６つ）の蓄熱室１８
と、前記各蓄熱室１８の他端に連通するとともに、下記
するように濃縮ガスをいずれかの蓄熱室１８に供給し、
また、他の蓄熱室１８から処理ガスを排出することを交
互に行わせるロータリバルブ等の切換弁装置２０とから
なるものである。
ば蓄熱燃焼式脱臭装置１５があり、この蓄熱燃焼式脱臭
装置１５にヒータ等の加熱手段１７を備えた燃焼室１６
と、この燃焼室１６に一端が連通し、かつ蓄熱体１９を
内蔵する少なくとも２つ（図では６つ）の蓄熱室１８
と、前記各蓄熱室１８の他端に連通するとともに、下記
するように濃縮ガスをいずれかの蓄熱室１８に供給し、
また、他の蓄熱室１８から処理ガスを排出することを交
互に行わせるロータリバルブ等の切換弁装置２０とから
なるものである。
【００２３】なお、図１において、Ｆ1は第１配管Ｐ1に
設けた被処理ガスの吸引ファン、Ｆ 2は第４配管Ｐ4に設
けた冷却用ガスの吸引およびこの冷却用ガスを下記する
熱交換器２２で昇温した再生用ガスの吸着体７への供給
を行う吸引ファン、Ｆ3は第６配管Ｐ6に設けた処理ガス
の排気ファンである。また、ガス濃縮装置１の被処理ガ
ス供給部１２Ａに連通する第１配管Ｐ１に設けた制御弁
Ｖ１は吸着体７への被処理ガスの供給量を制御し、前記
蓄熱燃焼式脱臭装置１５の燃焼室１６と熱交換器２２と
を連通する第７配管Ｐ７に設けた制御弁Ｖ２は前記燃焼
室１６から熱交換器２２に供給される処理ガスの供給量
を制御し、前記熱交換器２２をバイパスする第８配管Ｐ
８に設けた制御弁Ｖ３は熱交換器２２より下流での処理
ガス温度が所定値以上となった際に開となり、熱交換器
２２への処理ガスの供給量を制御するものである。
設けた被処理ガスの吸引ファン、Ｆ 2は第４配管Ｐ4に設
けた冷却用ガスの吸引およびこの冷却用ガスを下記する
熱交換器２２で昇温した再生用ガスの吸着体７への供給
を行う吸引ファン、Ｆ3は第６配管Ｐ6に設けた処理ガス
の排気ファンである。また、ガス濃縮装置１の被処理ガ
ス供給部１２Ａに連通する第１配管Ｐ１に設けた制御弁
Ｖ１は吸着体７への被処理ガスの供給量を制御し、前記
蓄熱燃焼式脱臭装置１５の燃焼室１６と熱交換器２２と
を連通する第７配管Ｐ７に設けた制御弁Ｖ２は前記燃焼
室１６から熱交換器２２に供給される処理ガスの供給量
を制御し、前記熱交換器２２をバイパスする第８配管Ｐ
８に設けた制御弁Ｖ３は熱交換器２２より下流での処理
ガス温度が所定値以上となった際に開となり、熱交換器
２２への処理ガスの供給量を制御するものである。
【００２４】次に、以上の構成からなる脱臭設備Ｔの動
作について説明する。例えば都市ゴミ焼却設備のゴミ受
入ピットから排出される極性を有する悪臭物質を含有す
る被処理ガスは、第１配管Ｐ１に設けたフィルタユニッ
ト２１で除塵されたのちガス濃縮装置１の被処理ガス供
給部１２Ａに供給され、吸着ロータ２の吸着体７を通過
し、この通過の間に悪臭物質が吸着体７に吸着されて除
去される。悪臭物質が除去された浄化ガスは浄化ガス排
気部１３Ａから第２配管Ｐ2を通って大気に放出され
る。
作について説明する。例えば都市ゴミ焼却設備のゴミ受
入ピットから排出される極性を有する悪臭物質を含有す
る被処理ガスは、第１配管Ｐ１に設けたフィルタユニッ
ト２１で除塵されたのちガス濃縮装置１の被処理ガス供
給部１２Ａに供給され、吸着ロータ２の吸着体７を通過
し、この通過の間に悪臭物質が吸着体７に吸着されて除
去される。悪臭物質が除去された浄化ガスは浄化ガス排
気部１３Ａから第２配管Ｐ2を通って大気に放出され
る。
【００２５】被処理ガスの一部は冷却用ガスとして前記
第１配管Ｐ1から分岐した第３配管Ｐ３を介して前記冷
却用ガス供給部１２Ｃに供給され、下記するように悪臭
成分の脱着で昇温した吸着体７を冷却して吸着体７の吸
着能力を回復する。なお、前記説明では冷却用ガスとし
て被処理ガスの一部を利用したが、浄化ガスの一部を利
用してもよいし、あるいは、大気を利用してもよい。
第１配管Ｐ1から分岐した第３配管Ｐ３を介して前記冷
却用ガス供給部１２Ｃに供給され、下記するように悪臭
成分の脱着で昇温した吸着体７を冷却して吸着体７の吸
着能力を回復する。なお、前記説明では冷却用ガスとし
て被処理ガスの一部を利用したが、浄化ガスの一部を利
用してもよいし、あるいは、大気を利用してもよい。
【００２６】前記吸着体７を冷却して約１００℃に昇温
した冷却用ガスは冷却用ガス排気部１３Ｃから第４配管
Ｐ4を通って再生用ガス供給部１３Ｂに供給される。な
お、第４配管Ｐ4には熱交換器２２が設けられ、冷却用
ガスはこの熱交換器２２で蓄熱燃焼式脱臭装置１５の燃
焼室１６内の処理ガス（約８２０℃）の一部と熱交換し
て約１８０〜２００℃に昇温され、この昇温した冷却用
ガス（再生用ガス）は吸着体７を通過する間に吸着体７
に吸着された悪臭物質を脱着して濃縮ガスとなり、濃縮
ガス排気部１２Ｂから第５配管Ｐ5を通って、切換弁装
置２０を介して蓄熱燃焼式脱臭装置１５に供給される。
した冷却用ガスは冷却用ガス排気部１３Ｃから第４配管
Ｐ4を通って再生用ガス供給部１３Ｂに供給される。な
お、第４配管Ｐ4には熱交換器２２が設けられ、冷却用
ガスはこの熱交換器２２で蓄熱燃焼式脱臭装置１５の燃
焼室１６内の処理ガス（約８２０℃）の一部と熱交換し
て約１８０〜２００℃に昇温され、この昇温した冷却用
ガス（再生用ガス）は吸着体７を通過する間に吸着体７
に吸着された悪臭物質を脱着して濃縮ガスとなり、濃縮
ガス排気部１２Ｂから第５配管Ｐ5を通って、切換弁装
置２０を介して蓄熱燃焼式脱臭装置１５に供給される。
【００２７】ここで、濃縮ガス排気部１２Ｂからのガス
は悪臭物質の濃度を被処理ガスにおける悪臭物質の濃度
より高くする必要があるため、前記再生用ガスの供給風
量は前記被処理ガスの供給風量より少ない。
は悪臭物質の濃度を被処理ガスにおける悪臭物質の濃度
より高くする必要があるため、前記再生用ガスの供給風
量は前記被処理ガスの供給風量より少ない。
【００２８】前記第５配管Ｐ5から排出された濃縮ガス
は切換弁装置２０で前記蓄熱室１８の少なくとも１つ以
上に分配供給され、蓄熱室１８に配設された蓄熱体１９
との熱交換により昇温されて燃焼室１６に至り、ここで
加熱手段１７による燃焼で悪臭物質を加熱分解して脱臭
する。そして、燃焼脱臭された処理ガスは他の蓄熱室１
８を通り、その間に蓄熱体１９と接触して放熱すること
により冷却され、切換弁装置２０から第６配管Ｐ6を経
て大気に放出される。
は切換弁装置２０で前記蓄熱室１８の少なくとも１つ以
上に分配供給され、蓄熱室１８に配設された蓄熱体１９
との熱交換により昇温されて燃焼室１６に至り、ここで
加熱手段１７による燃焼で悪臭物質を加熱分解して脱臭
する。そして、燃焼脱臭された処理ガスは他の蓄熱室１
８を通り、その間に蓄熱体１９と接触して放熱すること
により冷却され、切換弁装置２０から第６配管Ｐ6を経
て大気に放出される。
【００２９】なお、前記切換弁装置２０は、蓄熱室１８
から排出される処理ガスの温度が１００〜１５０℃とな
るよう蓄熱室１８への濃縮ガスの供給と処理ガスの排出
とを所定時間毎に切り換え、濃縮ガスは前工程で処理ガ
スの通過により昇温した蓄熱体１９との熱交換により予
熱され、一方、処理ガスは前工程で冷却された蓄熱体１
９と熱交換することにより冷却されるものである。
から排出される処理ガスの温度が１００〜１５０℃とな
るよう蓄熱室１８への濃縮ガスの供給と処理ガスの排出
とを所定時間毎に切り換え、濃縮ガスは前工程で処理ガ
スの通過により昇温した蓄熱体１９との熱交換により予
熱され、一方、処理ガスは前工程で冷却された蓄熱体１
９と熱交換することにより冷却されるものである。
【００３０】一方、前記燃焼室１６内の高温となった処
理ガスの一部は、第７配管Ｐ7により前述した熱交換器
２２に至り、ここで前記冷却用ガスを昇温したのち前記
第６配管Ｐ6に至り蓄熱燃焼式脱臭装置１５からの処理
ガスとともに大気に放出される。
理ガスの一部は、第７配管Ｐ7により前述した熱交換器
２２に至り、ここで前記冷却用ガスを昇温したのち前記
第６配管Ｐ6に至り蓄熱燃焼式脱臭装置１５からの処理
ガスとともに大気に放出される。
【００３１】なお、燃焼脱臭装置は蓄熱燃焼式脱臭装置
１５として説明したが、これに限らず、単に加熱手段１
７のみを備えた脱臭装置であってもよい。
１５として説明したが、これに限らず、単に加熱手段１
７のみを備えた脱臭装置であってもよい。
【００３２】また、前記ガス濃縮装置１では、蓄熱燃焼
式脱臭装置１５で生成される処理ガスの保有する熱を再
生用ガスの昇温のために使用したが、処理ガスの保有す
る熱を利用することなく別途加熱手段を設けて再生用ガ
スを昇温してもよい。
式脱臭装置１５で生成される処理ガスの保有する熱を再
生用ガスの昇温のために使用したが、処理ガスの保有す
る熱を利用することなく別途加熱手段を設けて再生用ガ
スを昇温してもよい。
【００３３】また、前述の説明では、被処理ガスと冷却
用ガスとを同じケーシング（前述の説明では第１ケーシ
ング）から、再生用ガスを他方のケーシング（前述の説
明では第２ケーシング）から供給するようにしていた
が、前記被処理ガス、再生用ガス、冷却用ガスのケーシ
ング１０への供給方向はこれに限定するものではなく、
たとえば、被処理ガス、再生用ガス、冷却用ガスとも同
一のケーシング（たとえば第１ケーシング）から供給し
てもよいし、再生用ガスと冷却用ガスとだけを同一のケ
ーシング（たとえば第１ケーシング）から供給し、被処
理ガスは他方のケーシング（第２ケーシング）から供給
するようにしてもよく、ガスの供給方向は任意に決定す
ることができるものである。
用ガスとを同じケーシング（前述の説明では第１ケーシ
ング）から、再生用ガスを他方のケーシング（前述の説
明では第２ケーシング）から供給するようにしていた
が、前記被処理ガス、再生用ガス、冷却用ガスのケーシ
ング１０への供給方向はこれに限定するものではなく、
たとえば、被処理ガス、再生用ガス、冷却用ガスとも同
一のケーシング（たとえば第１ケーシング）から供給し
てもよいし、再生用ガスと冷却用ガスとだけを同一のケ
ーシング（たとえば第１ケーシング）から供給し、被処
理ガスは他方のケーシング（第２ケーシング）から供給
するようにしてもよく、ガスの供給方向は任意に決定す
ることができるものである。
【００３４】ところで、図５に示すように、従来使用さ
れている「薬品を添着した活性炭で化学的に吸着脱臭す
る二次脱臭装置」の代わりに前記ガス濃縮装置１を設置
し、薬液洗浄装置３０で処理しきれずに残存する極性を
有する悪臭物質を前述したようにガス濃縮装置１で濃縮
し、その濃縮ガスを循環路３２を介して被処理ガスと共
に薬液洗浄装置３０に再供給するようにしてもよい。
れている「薬品を添着した活性炭で化学的に吸着脱臭す
る二次脱臭装置」の代わりに前記ガス濃縮装置１を設置
し、薬液洗浄装置３０で処理しきれずに残存する極性を
有する悪臭物質を前述したようにガス濃縮装置１で濃縮
し、その濃縮ガスを循環路３２を介して被処理ガスと共
に薬液洗浄装置３０に再供給するようにしてもよい。
【００３５】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
にかかる悪臭物質の除去方法によれば、ゼオライトのＳ
ｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比を所定範囲に調整することにより
疎水性を調節し、極性を有する悪臭物質を疎水性ゼオラ
イトで吸着除去することができる。
にかかる悪臭物質の除去方法によれば、ゼオライトのＳ
ｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比を所定範囲に調整することにより
疎水性を調節し、極性を有する悪臭物質を疎水性ゼオラ
イトで吸着除去することができる。
【００３６】また、本発明にかかる脱臭装置によれば、
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比を調整した疎水性ゼオライトで
極性を有する悪臭物質を吸着できるので、極性を有する
悪臭物質を含む濃縮ガスを生成することができ、極性を
有する悪臭物質を効率良く加熱分解することが可能にな
る。
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比を調整した疎水性ゼオライトで
極性を有する悪臭物質を吸着できるので、極性を有する
悪臭物質を含む濃縮ガスを生成することができ、極性を
有する悪臭物質を効率良く加熱分解することが可能にな
る。
【００３７】さらに、極性を有する悪臭物資の濃縮が可
能になったことで、薬液洗浄装置等の水系脱臭装置の二
次脱臭装置の代わりにガス濃縮装置を適用することによ
り、薬剤を添着した活性炭等の消耗品の発生がなくな
る。
能になったことで、薬液洗浄装置等の水系脱臭装置の二
次脱臭装置の代わりにガス濃縮装置を適用することによ
り、薬剤を添着した活性炭等の消耗品の発生がなくな
る。
【図１】 本発明にかかる脱臭設備の概略構成図。
【図２】 ガス濃縮装置の全体斜視図。
【図３】 ガス濃縮装置の吸着ロータの斜視図。
【図４】 ガス濃縮装置のケーシングの側面図。
【図５】 薬液洗浄装置の下流側にガス濃縮装置を設置
した状態を示す図。
した状態を示す図。
１〜ガス濃縮装置、２〜吸着ロータ、７〜吸着体、１０
〜ケーシング、１０Ａ〜第１ケーシング、１０Ｂ〜第２
ケーシング、１１〜仕切板、１２Ａ〜被処理ガス供給
部、１２Ｂ〜濃縮ガス排気部、１２Ｃ〜冷却用ガス供給
部、１３Ａ〜浄化ガス排気部、１３Ｂ〜再生用ガス供給
部、１３Ｃ〜冷却用ガス排気部、１５〜燃焼脱臭装置、
１６〜燃焼室、１７〜加熱手段、１８〜蓄熱室、１９〜
蓄熱体、２０〜切換弁装置、２２〜熱交換器、３０〜薬
液洗浄装置、Ｐ1〜第１配管、Ｐ2〜第２配管、Ｐ3〜第
３配管、Ｐ4〜第４配管、Ｐ5〜第５配管、Ｐ6〜第６配
管、Ｐ 7〜第７配管、Ｐ８〜第８配管、Ｔ〜脱臭設備。
〜ケーシング、１０Ａ〜第１ケーシング、１０Ｂ〜第２
ケーシング、１１〜仕切板、１２Ａ〜被処理ガス供給
部、１２Ｂ〜濃縮ガス排気部、１２Ｃ〜冷却用ガス供給
部、１３Ａ〜浄化ガス排気部、１３Ｂ〜再生用ガス供給
部、１３Ｃ〜冷却用ガス排気部、１５〜燃焼脱臭装置、
１６〜燃焼室、１７〜加熱手段、１８〜蓄熱室、１９〜
蓄熱体、２０〜切換弁装置、２２〜熱交換器、３０〜薬
液洗浄装置、Ｐ1〜第１配管、Ｐ2〜第２配管、Ｐ3〜第
３配管、Ｐ4〜第４配管、Ｐ5〜第５配管、Ｐ6〜第６配
管、Ｐ 7〜第７配管、Ｐ８〜第８配管、Ｔ〜脱臭設備。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｄ 53/74 Ｂ０１Ｄ 53/34 １１６Ｈ Ｂ０１Ｊ 20/18 Ｆターム(参考） 4C080 AA05 BB02 CC02 CC03 CC09 HH05 JJ03 KK08 MM03 MM04 MM06 QQ20 4D002 AB02 BA03 CA05 DA45 EA08 EA13 GA01 GA03 GB08 GB11 4D012 CA09 CC02 CC04 CD01 CE03 CF10 CG01 CH10 CJ02 CK03 4G066 AA61B AE04B CA02 DA02 FA37 GA01 GA06
Claims (4)
- 【請求項１】 ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が１０以上７０
以下の疎水性ゼオライトで極性を有する悪臭物質を吸着
して除去することを特徴とする悪臭物質の除去方法。 - 【請求項２】 ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が１０以上７０
以下の疎水性ゼオライトからなる吸着体を有し、極性を
有する悪臭物質を含有する被処理ガスの前記悪臭物質を
前記吸着体で吸着除去した後、再生用ガスで前記吸着体
に吸着された前記悪臭物質を脱着して濃縮ガスを生成す
るガス濃縮装置と、このガス濃縮装置で生成された前記
濃縮ガス中の前記悪臭物質を加熱分解して脱臭処理する
脱臭装置とからなることを特徴とする悪臭物質の脱臭設
備。 - 【請求項３】 極性を有する悪臭物質を含有する被処理
ガスを脱臭処理する水系脱臭装置と、この水系脱臭装置
で一次処理された被処理ガス中に残存する前記悪臭物質
をＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が１０以上７０以下の疎水性
ゼオライトからなる吸着体で吸着除去した後、再生用ガ
スで前記吸着体に吸着した前記悪臭物質を脱着して濃縮
ガスを生成するガス濃縮装置とを備えるとともに、前記
濃縮ガスを前記被処理ガスと共に前記水系脱臭装置へ再
供給するための循環路を設けたことを特徴とする悪臭物
質の脱臭設備。 - 【請求項４】 前記ガス濃縮装置は、ＳｉＯ２／Ａｌ２
Ｏ３比が１０以上７０以下の疎水性ゼオライトからなる
吸着体を備えた回転可能な吸着ロータの両端面を第１ケ
ーシングおよび第２ケーシングでそれぞれ被覆し、前記
両ケーシングの内部を仕切板で区画して前記吸着ロータ
の回転方向上流側より第１区画室、第２区画室、および
第３区画室を形成するとともに、前記各ケーシング内の
各区画室をそれぞれ対向配置し、いずれか一方の前記第
１区画室から極性を有する悪臭物質を含有する被処理ガ
スを、いずれか一方の前記第２区画室から前記被処理ガ
スの供給風量よりも少風量の再生用ガスを、いずれか一
方の前記第３区画室から冷却用ガスをそれぞれ供給する
とともに、他方の前記第１区画室からは前記吸着ロータ
で悪臭物質が吸着除去された浄化ガスが、他方の前記第
２区画室からは前記吸着ロータから脱着した前記悪臭物
質を含む濃縮ガスが、他方の前記第３区画室からは前記
吸着体との熱交換により昇温した冷却用ガスがそれぞれ
排出されることを特徴とする請求項２または３に記載の
悪臭物質の脱臭装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001052020A JP2002248317A (ja) | 2001-02-27 | 2001-02-27 | 悪臭物質の除去方法および脱臭設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001052020A JP2002248317A (ja) | 2001-02-27 | 2001-02-27 | 悪臭物質の除去方法および脱臭設備 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002248317A true JP2002248317A (ja) | 2002-09-03 |
Family
ID=18912711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001052020A Pending JP2002248317A (ja) | 2001-02-27 | 2001-02-27 | 悪臭物質の除去方法および脱臭設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002248317A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005140417A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Taikisha Ltd | 耐熱性気密壁構造、蓄熱式ガス処理装置、並びに、吸脱着式ガス処理装置 |
| WO2006101366A1 (en) * | 2005-03-24 | 2006-09-28 | Enbion Inc. | The system of treating odor and hazardrous gas with rotary regenerative heat exchanger and its apparatus |
| JP2007167632A (ja) * | 2005-11-22 | 2007-07-05 | Toray Ind Inc | 繊維シートおよびその製造方法ならびにエアフィルター |
| JP2011240243A (ja) * | 2010-05-18 | 2011-12-01 | Toyobo Co Ltd | 有機溶剤回収システム |
| TWI740186B (zh) * | 2019-08-07 | 2021-09-21 | 華懋科技股份有限公司 | 有機廢氣濃縮蓄熱燃燒回流冷卻系統及其方法 |
| TWI741341B (zh) * | 2019-08-07 | 2021-10-01 | 華懋科技股份有限公司 | 有機廢氣濃縮蓄熱燃燒回流系統及其方法 |
| CN113731042A (zh) * | 2021-09-18 | 2021-12-03 | 江苏乾云环保工程有限公司 | 船舶制造废气处理系统 |
-
2001
- 2001-02-27 JP JP2001052020A patent/JP2002248317A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005140417A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Taikisha Ltd | 耐熱性気密壁構造、蓄熱式ガス処理装置、並びに、吸脱着式ガス処理装置 |
| WO2006101366A1 (en) * | 2005-03-24 | 2006-09-28 | Enbion Inc. | The system of treating odor and hazardrous gas with rotary regenerative heat exchanger and its apparatus |
| JP2008535650A (ja) * | 2005-03-24 | 2008-09-04 | エンビオン、インコーポレイテッド | 回転式再生熱交換器による悪臭および有害ガス処理システム並びにその装置 |
| KR100956356B1 (ko) * | 2005-03-24 | 2010-05-07 | 주식회사 엔바이온 | 에너지축열회수형 유해물질 처리설비 |
| CN101146592B (zh) * | 2005-03-24 | 2010-10-06 | 恩必安有限公司 | 具有旋转再生热交换器的处理臭味和有害气体的系统及其装置 |
| US8257470B2 (en) | 2005-03-24 | 2012-09-04 | Enbion Inc. | System of treating odor and hazardous gas with rotary regenerative heat exchanger and its apparatus |
| JP2007167632A (ja) * | 2005-11-22 | 2007-07-05 | Toray Ind Inc | 繊維シートおよびその製造方法ならびにエアフィルター |
| JP2011240243A (ja) * | 2010-05-18 | 2011-12-01 | Toyobo Co Ltd | 有機溶剤回収システム |
| TWI740186B (zh) * | 2019-08-07 | 2021-09-21 | 華懋科技股份有限公司 | 有機廢氣濃縮蓄熱燃燒回流冷卻系統及其方法 |
| TWI741341B (zh) * | 2019-08-07 | 2021-10-01 | 華懋科技股份有限公司 | 有機廢氣濃縮蓄熱燃燒回流系統及其方法 |
| CN113731042A (zh) * | 2021-09-18 | 2021-12-03 | 江苏乾云环保工程有限公司 | 船舶制造废气处理系统 |
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