JPH08213445A - 物品受け取り方法および装置 - Google Patents

物品受け取り方法および装置

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JPH08213445A
JPH08213445A JP3917995A JP3917995A JPH08213445A JP H08213445 A JPH08213445 A JP H08213445A JP 3917995 A JP3917995 A JP 3917995A JP 3917995 A JP3917995 A JP 3917995A JP H08213445 A JPH08213445 A JP H08213445A
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JP
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wafer
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arm
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JP3917995A
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English (en)
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Shoji Kanai
昭司 金井
Keizo Kuroiwa
慶造 黒岩
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウエハの帯電による悪影響を防止する。 【構成】 ウエハ1を真空吸着保持装置22により受け
取るアーム19に、除電エア吹き付け装置30とウエハ
1の帯電電位を測定する測定装置38とを設ける。 【効果】 ウエハ1が帯電していたとしても、除電エア
の吹き付けで帯電を低減されるため、帯電の反発力や吸
引力によるアームのウエハ保持位置のずれや、帯電の放
電による悪影響を防止できる。ウエハの帯電電位を測定
し測定値が設定値以上で除電エアを吹き付けることで、
除電エアの浪費や作業性の低下を防止でき、ウエハの除
電エアによる汚染の危険性を必要最小限度に抑制でき
る。アームに除電気体吹き付け装置帯電電位測定装置を
配設することで大形化を防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、物品受け取り技術、特
に、帯電性を有する物品を受け取る技術に関し、例え
ば、半導体装置の製造工程において、半導体ウエハ(以
下、ウエハという。)を受け取るのに利用して有効な技
術に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造工程において、ウエハ
上にレジスト膜を形成するレジスト塗布装置として、塗
布前処理室と、塗布処理室と、複数のベーキング処理室
と、冷却処理室とを備えており、これら処理室をウエハ
が1枚宛、ウエハ搬送装置により順次搬送されながら搬
入搬出されて行くことにより、塗布処理が実行されるよ
うに構成されているものがある。
【0003】このようなレジスト塗布装置において、各
処理室間へウエハを搬送する方法としては次の二通りの
方法が採用されている。第1の方法は、各処理室毎にウ
エハ受け渡し装置が設備され、各処理室を経たウエハが
各ウエハ受け渡し装置によってそれぞれ順送りされて行
く方法である。第2の方法は、複数の処理室に共通のウ
エハ搬送装置が設備され、処理室を経たウエハが搬送装
置によって受け取られて次の処理室に受け渡される方法
である。
【0004】また、ウエハカセットに収納されたウエハ
や、処理室のウエハを受け取るウエハ受け取り装置とし
ては、ロボットのアームに真空吸着保持ヘッドが設備さ
れており、アームによってヘッドがウエハカセットや処
理室内のウエハの裏面に接近されて、ウエハがヘッドに
よって真空吸着保持されることにより、アームによって
ウエハが受け取られるように構成されているものがあ
る。
【0005】なお、このようなウエハ搬送技術を述べて
ある例としては、特開平5−102287号公報があ
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、重金属によ
る汚染を防止するために、ウエハ受け取り装置やウエハ
搬送装置のアームにおけるウエハとの接触面部はセラミ
ックまたは弗素系樹脂が使用されてメタルレスに構成さ
れることがある。アームのウエハとの接触面部がメタル
レスに構成されている場合には、次のような問題点が発
生することが、本発明者によって明らかにされた。 (1) 処理等によってウエハに帯電した電位をアーム
の接触によって降下させることができないばかりか、メ
タルレスを形成する材料によってはアームとの接触によ
ってウエハの帯電電位が次第に上昇されてしまう。
【0007】(2) 一般に、シリコン系は正の電荷に
帯電し易く、弗素系樹脂は負の電荷に帯電し易い。この
ため、アームのウエハとの接触面にセラミックが使用さ
れている場合には、正の電荷同士の反発力によるアーム
のウエハ保持位置のずれが発生し、アームのウエハとの
接触面に弗素系樹脂が使用されている場合には、正の電
荷と負の電荷との吸引力によるアームのウエハ保持位置
のずれが発生する。この位置ずれはウエハの搬送不良の
原因になる。
【0008】(3) 帯電したままのウエハが導電体に
接近されると、放電現象が誘発されるため、ウエハに悪
影響が及ぶ危険性がある。
【0009】本発明の目的は、被受け取り物品の帯電に
よる悪影響を防止することができる物品受け取り技術を
提供することにある。
【0010】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0011】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
【0012】すなわち、受け取りアームによって被受け
取り物品が受け取られるに際して、受け取りアームが被
受け取り物品を保持する以前に被受け取り物品の帯電を
低減させる除電気体が被受け取り物品に吹き付けられ
る。
【0013】
【作用】前記した手段によれば、万一、被受け取り物品
が帯電していたとしても、除電気体によって帯電が低減
されるため、アームが物品を保持する時の帯電による悪
影響は未然に回避することができる。すなわち、帯電の
反発力や吸引力によるアームの物品保持位置のずれや、
帯電の放電による悪影響を未然に防止することができ
る。
【0014】また、除電気体が吹き付けられる前に被受
け取り物品の帯電電位を測定し、測定値が設定値以上で
ある時にのみ除電気体を吹き付けることにより、不必要
な除電気体の吹き付けを回避することができる。その結
果、除電気体の浪費や作業性の低下を防止することがで
きるばかりでなく、被受け取り物品の除電気体による汚
染の危険性を必要最小限度に抑制することができる。
【0015】さらに、受け取りアームに除電気体吹き付
け装置の吹き出し口および被受け取り物品の帯電電位を
測定する測定装置を配設することにより、物品受け取り
装置の大形化を防止することができる。
【0016】
【実施例】図1は本発明の一実施例であるウエハ搬送装
置を示す模式図、図2はその主要部を示しており、
(a)はその平面図、(b)はその拡大正面断面図であ
る。図3はその作用を説明するためのフローチャートで
ある。
【0017】本実施例において、本発明に係る物品受け
取り装置は、レジストをウエハに塗布するレジスト塗布
装置において、ウエハ1を各処理室に搬送するウエハ搬
送装置10として構成されている。ちなみに、レジスト
塗布装置は、ウエハとレジストとの密着性を高めるため
の前処理を実施する前処理室と、前処理でウエハに付着
した水分を除去するためのベーキング処理室と、ベーキ
ング後のウエハ温度を一定に安定させる冷却処理室と、
ウエハにレジストが実際に塗布される処理室とを備えて
おり、このウエハ搬送装置10はこれらの処理室間で共
用されるように構成されている。これら処理室およびウ
エハ搬送装置10は半導体装置の製造工程において、ク
リーンルームに互いに隣接して直列に並設されている。
【0018】本実施例において、図1に示されているよ
うに、このウエハ搬送装置10はガイドレール11を備
えており、ガイドレール11はレジスト塗布工程におけ
る処理室群の近傍位置に、これらと平行方向(以下、X
方向とする。)に敷設されている。ガイドレール11の
近傍には送りねじ軸12が平行に敷設されており、送り
ねじ軸12はパルスモータ13により正逆回転されるよ
うに構成されている。この送りねじ軸12およびガイド
レール11には移動ブロック14がX方向に進退可能に
跨設されている。移動ブロック14は送りねじ軸12の
雄ねじに噛合されている雌ねじ(図示せず)を備えてお
り、送りねじ軸12を駆動するパルスモータ13の正逆
回転に伴ってX方向に進退移動されるようになってい
る。
【0019】X方向移動ブロック14には支軸17が上
下方向(以下、Z方向ということがある。)に摺動自
在、かつ、水平面内で回転(以下、θ方向ということが
ある。)自在に支承されており、この支軸17はパルス
モータ(図示せず)を駆動源とするねじ式のジャッキ1
5および回転駆動装置16によりZ方向およびθ方向に
駆動されるように構成されている。
【0020】支軸17の上端部にはフレーム18が支持
されており、フレーム18にはアーム19がガイドレー
ル11と直角方向(以下、Y方向ということがある。)
であってレジスト塗布装置の向きに突出され、摺動自在
にそれぞれ支承されている。アーム19はそれぞれ、フ
レーム18内に設備されたパルスモータを駆動源とする
ベルト伝動装置(図示せず)により駆動されるように構
成されている。アーム19の先端部にはヘッド20が垂
直方向上向きに据え付けられている。
【0021】図2に示されているように、ヘッド20は
平面形状が被受け取り物品としてのウエハ1の外径より
も小幅の長方形の平盤形状に形成されている本体21を
備えており、本体21は重金属汚染を防止するための素
材の一例である弗素系樹脂が使用されて製作されてい
る。本体21の上面における先端部には接触形真空吸着
保持装置(以下、真空吸着保持装置という。)22の吸
着面部23が平坦面部として実質的に形成されている。
吸着面部23には真空吸着口としての穴24が円形で一
定深さの穴形状に没設されており、この真空吸着穴24
の底部には複数条の環状溝25が同心円に配されて互い
に連通するように没設されている。真空吸着穴24の中
心位置には通気孔26が本体21の真空吸着穴24の下
側に形成された通気路27に連通するように開設されて
いる。通気路27は他端において真空排気装置28に電
磁切換弁29を介して流体的に接続されている。
【0022】本実施例において、アーム19のヘッド2
0には、ヘッド20がウエハ1を真空吸着保持する以前
にウエハ1の帯電を低減させる除電気体をウエハ1に吹
き付ける除電エア吹き付け装置30が設備されている。
すなわち、通気路27には除電気体としての除電エアを
供給するための除電エア供給路31の下流側が流体的に
接続されており、除電エア供給路31の上流側は除電エ
ア生成装置32の吐出口側に電磁切換弁33を介して流
体的に接続されている。除電エア生成装置32の取り入
れ口側にはクリーンエア供給路34が流体的に接続され
ており、クリーンエア供給路34はクリーンエア供給源
35に電磁切換弁36を介して接続されている。そし
て、除電エア生成装置32はクリーンエア供給源35か
ら供給される乾燥したクリーンエア(図示せず)を電荷
を付着させることにより、除電エア37を生成するよう
に構成されている。
【0023】さらに、本実施例において、アーム19に
は除電気体としての除電エア37が吹き付けられる前に
被受け取り物品としてのウエハ1の帯電電位を測定する
帯電電位測定装置38が設備されている。すなわち、帯
電電位測定装置38はアーム19の先端部におけるヘッ
ド20よりも基端側にヘッド20に近接して配設されて
おり、ウエハ1が接近した時にウエハ1の帯電電位を測
定するように構成されている。帯電電位測定装置38は
ウエハ搬送装置10を統括制御するコントローラ40に
電気的に接続されて、測定結果を送信するようになって
いる。
【0024】コントローラ40はコンピュータ等から構
成されており、ウエハ搬送装置10におけるロボットの
駆動部を実質的に構成するパルスモータ13、ジャッキ
15、回転駆動装置16の制御部39や、真空吸着保持
装置22および除電エア吹き付け装置30の各電磁切換
弁29、33、36等をシーケンス制御するように構成
されている。さらに、コントローラ40は帯電電位測定
装置38から送信されて来る測定値Vw(V)と予め設
定された設定値Vth(V)とを比較し、測定値が設定
値以上である時にのみ除電エア吹き付け装置30によっ
て除電エア37をウエハ1に吹き付けさせる制御を実行
するように構成されている。
【0025】次に、前記構成に係るウエハ搬送装置10
の作用を図3を参照にして、レジスト塗布装置における
ベーキング処理室からウエハを受け取って搬出する場合
について説明する。
【0026】ここで、ベーキング処理室3はホットプレ
ート構造に構成され、ヒータブロック5にウエハ1を密
着させるか、または、近接させることにより、ウエハ1
をベーキングするようになっている。このベーキング処
理室3のヒータブロック5にはウエハ1を下から支えて
保持するための突き上げピン6が複数本、上下方向に摺
動するように挿通されている。
【0027】今、図1に示されているように、アーム1
9のヘッド20はウエハ1を保持していない状態になっ
て、X方向移動ブロック14およびフレーム18の移動
によってベーキング処理室3の直前に搬送されて待期状
態になっている。そして、図1に示されているように、
ベーキング処理が終了し、ウエハ1が突き上げピン6に
よりヒータブロック5の上方へ持ち上げられると、ヘッ
ド20とウエハ1とが干渉しない位置までフレーム18
が上昇した後、ヘッド20がアーム19の伸長作動によ
ってベーキング処理室3内に挿入される。
【0028】そして、ヘッド20が挿入されて帯電電位
測定装置38がウエハ1の真下に近接されると、帯電電
位測定装置38はウエハ1の帯電電位を測定し、その測
定値Vw(V)をコントローラ40に送信する。コント
ローラ40は送信されて来た測定値Vwと設定値Vth
(V)とを比較し、測定値Vwが設定値Vth以上であ
る時にはこの比較作業が3回目以内であるかを検討す
る。それが3回目以内である時には除電エア吹き付け装
置30の電磁切換弁33を開かせる。
【0029】電磁切換弁33が開くと、除電エア生成装
置32において生成された除電エア37が除電エア供給
路31、通気路27、通気孔26を経由して真空吸着穴
24の開口から吹き出されてウエハ1の裏面に吹き付け
られる。ここで、ウエハ1がシリコンウエハである場合
には、ウエハ1には正の電荷が帯電し易いため、除電エ
ア37は負の電荷が帯電した除電エア37が吹き付けら
れることになる。この除電エア37がウエハ1に吹き付
けられると、ウエハ1の正の電荷が除電エア37の負の
電荷に相殺されるため、ウエハ1の帯電電位は降下され
る。
【0030】電磁切換弁33の開放が予め設定された時
間を経過すると、コントローラ40は電磁切換弁33を
閉じさせるとともに、帯電電位測定装置38に除電エア
吹き付け後のウエハ1の帯電電位を測定させる。そし
て、その測定値Vwについて前記比較作業および検討作
業並びに除電エア吹き付け作動が繰り返される。
【0031】以上のようにして、測定値Vwと設定値V
thとの比較作業が3回目を越えた時には、除電エア3
7の吹き付けによる除電効果が不充分でありウエハ1の
受け取り作業に支障が発生する危険性があるため、コン
トローラ40は異常警報装置(図示せず)に異常警報を
発生させるとともに、アーム19によるウエハ1の受け
取り作業を中止させる。
【0032】他方、測定値Vwと設定値Vthとの比較
の結果、測定値Vwが設定値Vth未満である時には、
コントローラ40は制御部39に駆動信号を送信してア
ーム19を操作することにより、ヘッド20をウエハ1
の裏面における所定の位置に当接ないしは極接近させる
とともに、真空吸着保持装置22の電磁切換弁29を開
かせる。電磁切換弁29が開かれると、真空排気装置2
8の負圧が通気路27、通気孔26、環状溝25を経由
して真空吸着穴24の開口に供給されるため、ウエハ1
はヘッド20の吸着面部23に真空吸着保持された状態
になる。
【0033】コントローラ40はウエハ1の真空吸着保
持を確認した後に、制御部39に駆動信号を送信してピ
ン6に対してアーム19を相対的に上昇させる。この作
動により、アーム19はそのヘッド20によってウエハ
1をピン6から受け取ることになる。続いて、アーム1
9はウエハ1を真空吸着保持した状態で処理室3から後
退し、ウエハ1を次の処理室へ搬送して受け渡す。
【0034】前記実施例によれば次の効果が得られる。 (1) アームによってウエハを受け取るに際して、除
電エアをウエハに吹き付けることにより、万一、ウエハ
が帯電していたとしても除電エアによって帯電が低減さ
れるため、アームがウエハを保持する時の帯電による悪
影響を未然に回避することができる。すなわち、帯電の
反発力や吸引力によるアームのウエハ保持位置のずれ
や、帯電の放電による悪影響を未然に防止することがで
きる。
【0035】(2) ウエハを除電した後にアームによ
って受け取って搬送することにより、搬送中のウエハは
帯電していない状態になるため、搬送中のウエハへの静
電気による異物の付着を低減することができる。
【0036】(3) 除電エアが吹き付けられる前にウ
エハの帯電電位を測定し、測定値が設定値以上である時
にのみ除電エアを吹き付けることにより、不必要な除電
エアの吹き付けを回避することができるため、除電エア
の浪費や作業性の低下を防止することができるばかりで
なく、ウエハの除電エアによる汚染の危険性を必要最小
限度に抑制することができる。
【0037】(4) アームに除電気体吹き付け装置の
吹き出し口およびウエハの帯電電位を測定する帯電電位
測定装置を配設することにより、ウエハ搬送装置の大形
化を防止することができる。
【0038】(5) アームのウエハとの接触面部であ
るヘッドを弗素系樹脂によって形成することにより、ウ
エハの重金属汚染を防止することができる。
【0039】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
【0040】例えば、ウエハの帯電電位を測定せずに、
アームによるウエハの保持以前に除電エアを吹き付ける
ようにしてもよい。
【0041】除電エア吹き付け装置および帯電電位測定
装置はアームに配設するに限らず、処理室等のアームに
よるウエハの受け取り作業が実行される場所の適当な位
置に配設してもよい。
【0042】アームのウエハとの接触面部であるヘッド
は、弗素系樹脂によって形成するに限らず、セラミック
によって形成してもよい。さらに、重金属汚染を回避し
なくて済む場合には、アームのウエハとの接触面部であ
るヘッドは金属によって形成してもよい。
【0043】除電エアは負の電荷に生成するに限らず、
正の電荷に生成してもよく、電荷が付着される媒体はド
ライクリーンエアに限らず、窒素ガス等であってもよ
い。さらに、除電気体の生成方法に限定はない。
【0044】アームがウエハを保持する手段としては、
真空吸着保持装置を採用するに限らず、アームがウエハ
を横または下から支えて保持する構成や、ウエハを静電
気によって吸着保持する構成等を採用してもよい。
【0045】アームの駆動装置としては直交形座標のロ
ボットを使用するに限らず、多関節ロボット等を使用し
てもよい。
【0046】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるウエハ
へのレジスト塗布装置に適用した場合について説明した
が、それに限定されるものではなく、露光工程やエッチ
ング工程等におけるウエハのハンドリング技術全般に適
用することができる。
【0047】さらに、ウエハのハンドリング技術に限ら
ず、ホトマスクやガラス板、液晶パネル等の物品受け取
り技術全般に適用することができる。特に、帯電し易い
物品の受け取り技術に適用して優れた効果が得られる。
【0048】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
【0049】アームによって物品を受け取るに際して、
除電気体を物品に吹き付けることにより、万一、物品が
帯電していたとしても除電気体によって帯電が低減され
るため、アームが物品を保持する時の帯電による悪影響
を未然に回避することができる。すなわち、帯電の反発
力や吸引力によるアームの物品保持位置のずれや、帯電
の放電による悪影響を未然に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例であるウエハ搬送装置を示す
模式図である。
【図2】その主要部を示しており、(a)はその平面
図、(b)はその拡大正面断面図である。
【図3】その作用を説明するためのフローチャートであ
る。
【符合の説明】
1…ウエハ(被受け取り物品)、10…ウエハ搬送装置
(物品受け取り装置)、11…ガイドレール、12…送
りねじ軸、13…パルスモータ、14…移動ブロック、
15…ジャッキ、16…回転駆動装置、17…支軸、1
8…フレーム、19…アーム、20…ヘッド、21…ヘ
ッド本体、22…接触形真空吸着保持装置、23…吸着
面部、24…真空吸着穴(真空吸着口)、25…環状
溝、26…通気孔、27…通気路、28…真空排気装
置、29…電磁切換弁、30…除電エア吹き付け装置
(除電気体吹き付け装置)、31…除電エア供給路、3
2…除電エア生成装置、33…電磁切換弁、34…クリ
ーンエア供給路、35…クリーンエア供給源、36…電
磁切換弁、37…除電エア(除電気体)、38…帯電電
位測定装置、39…制御部、40…コントローラ。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 受け取りアームが被受け取り物品をこの
    物品に接近して保持することによって受け取る物品受け
    取り方法において、 前記受け取りアームが前記被受け取り物品を保持する以
    前に被受け取り物品の帯電を低減させる除電気体が被受
    け取り物品に吹き付けられることを特徴とする物品受け
    取り方法。
  2. 【請求項2】 除電気体が吹き付けられる前に被受け取
    り物品の帯電電位が測定され、測定値が設定値以上であ
    る時にのみ除電気体が吹き付けられることを特徴とする
    請求項1に記載の物品受け取り方法。
  3. 【請求項3】 受け取りアームが被受け取り物品をこの
    物品に接近して保持することによって受け取る物品受け
    取り装置において、 前記受け取りアームが前記被受け取り物品を保持する以
    前に被受け取り物品の帯電を低減させる除電気体を被受
    け取り物品に吹き付ける除電気体吹き付け装置を備えて
    いることを特徴とする物品受け取り装置。
  4. 【請求項4】 前記受け取りアームに除電気体吹き付け
    装置の吹き出し口が配設されていることを特徴とする請
    求項3に記載の物品受け取り装置。
  5. 【請求項5】 除電気体が吹き付けられる前に被受け取
    り物品の帯電電位を測定する測定装置を備えており、前
    記除電気体吹き付け装置が測定装置の測定値が設定値以
    上である時にのみ除電気体を吹き付けるように構成され
    ていることを特徴とする請求項3または請求項4に記載
    の物品受け取り装置。
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