JPH08206572A - 表面処理用搬送装置のドリップ処理装置 - Google Patents
表面処理用搬送装置のドリップ処理装置Info
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- JPH08206572A JPH08206572A JP1502895A JP1502895A JPH08206572A JP H08206572 A JPH08206572 A JP H08206572A JP 1502895 A JP1502895 A JP 1502895A JP 1502895 A JP1502895 A JP 1502895A JP H08206572 A JPH08206572 A JP H08206572A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 一つの処理槽から次の処理槽への処理液の持
込み量を減し、隔壁等の汚れを防止することを目的とし
ている。 【構成】 前後に延びる１対のレールに支持されたホイ
ストの下面に垂直なガイドコラムを固着し、ガイドコラ
ムに処理物を処理槽内とその上方の搬送位置に駆動する
上下スライダーを設けると共に、ガイドコラムに処理物
が搬送位置へ上昇した時のみに処理物の直下にドリップ
パンを供給するドリップパン駆動部を設けたことを特徴
とする表面処理用搬送装置のドリップ処理装置である。
込み量を減し、隔壁等の汚れを防止することを目的とし
ている。 【構成】 前後に延びる１対のレールに支持されたホイ
ストの下面に垂直なガイドコラムを固着し、ガイドコラ
ムに処理物を処理槽内とその上方の搬送位置に駆動する
上下スライダーを設けると共に、ガイドコラムに処理物
が搬送位置へ上昇した時のみに処理物の直下にドリップ
パンを供給するドリップパン駆動部を設けたことを特徴
とする表面処理用搬送装置のドリップ処理装置である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表面処理用搬送装置の
ドリップ処理装置に関する。
ドリップ処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来一つの処理槽に所定時間浸漬させた
処理物を引上げ、次の処理槽の上方へ搬送する際、処理
物からは処理液がポタポタと滴り落ち（ドリップ）、次
の処理槽との隔壁等を汚すと共に次の処理槽への処理液
の持込み量が多くなる。
処理物を引上げ、次の処理槽の上方へ搬送する際、処理
物からは処理液がポタポタと滴り落ち（ドリップ）、次
の処理槽との隔壁等を汚すと共に次の処理槽への処理液
の持込み量が多くなる。
【０００３】
【発明の目的】一つの処理槽から次の処理槽への処理液
の持込み量を減し、隔壁等の汚れを防止することを目的
としている。
の持込み量を減し、隔壁等の汚れを防止することを目的
としている。
【０００４】
【発明の構成】請求項１の発明は、前後に延びる１対の
レールに支持されたホイストの下面に垂直なガイドコラ
ムを固着し、ガイドコラムに処理物を処理槽内とその上
方の搬送位置に駆動する上下スライダーを設けると共
に、ガイドコラムに処理物が搬送位置へ上昇した時のみ
に処理物の直下にドリップパンを供給するドリップパン
駆動部を設けたことを特徴とする表面処理用搬送装置の
ドリップ処理装置である。
レールに支持されたホイストの下面に垂直なガイドコラ
ムを固着し、ガイドコラムに処理物を処理槽内とその上
方の搬送位置に駆動する上下スライダーを設けると共
に、ガイドコラムに処理物が搬送位置へ上昇した時のみ
に処理物の直下にドリップパンを供給するドリップパン
駆動部を設けたことを特徴とする表面処理用搬送装置の
ドリップ処理装置である。
【０００５】請求項２の発明は、ドリップパンの左又は
右端の低くされた部分にドレン口を設け、ドレン口を排
液管を介して処理系列毎に区画された樋又は排液受に開
放した請求項１に記載の表面処理用搬送装置のドリップ
処理装置である。
右端の低くされた部分にドレン口を設け、ドレン口を排
液管を介して処理系列毎に区画された樋又は排液受に開
放した請求項１に記載の表面処理用搬送装置のドリップ
処理装置である。
【０００６】
【実施例】図１は進行方向と直角に切断した縦断前面略
図で、紙面と直角に（前後方向に）延びる１対の左右の
レール１、１ａに駆動ローラー２を介してホイスト３が
載せてあり、ホイスト３の下面に上端が固着された左右
１対の垂直なガイドコラム４の前面に上下スライダー５
がホイスト３により昇降自在に支持されている。上下ス
ライダー５の前面に固定された左右１対のフックバー６
の下端部は夫々フックバー６のある側（左右）に突出し
て先端に上開きＶ形のフック７を備え、両フック７にキ
ャリヤバー８の上片の対向端部が下から支持されて、処
理物９を処理槽１０より上方の搬送位置に保持してい
る。図示の処理物９は、例えば複数個の縦長の窓孔の各
々にピンを介して被処理物（ワーク）を取り付けた矩形
の銅板で、上端部が一体の、又は別の導体のフック１１
を介してキャリヤバー８に掛け止められている。処理物
９がめっき処理等に適した９´の位置まで下ろされる
と、キャリヤバー８は処理槽１０の上縁に絶縁物を介し
て取付けた給電受け１２のＶ溝に嵌まり、給電受け１２
を介してマイナス極１３に接続する。処理槽１０内には
処理物９´を挾むアノード板とめっき液とめっき液の供
給口、排出口（共に図示せず）等が設けてある。１４は
フロアであり、ここまでは従来公知である。
図で、紙面と直角に（前後方向に）延びる１対の左右の
レール１、１ａに駆動ローラー２を介してホイスト３が
載せてあり、ホイスト３の下面に上端が固着された左右
１対の垂直なガイドコラム４の前面に上下スライダー５
がホイスト３により昇降自在に支持されている。上下ス
ライダー５の前面に固定された左右１対のフックバー６
の下端部は夫々フックバー６のある側（左右）に突出し
て先端に上開きＶ形のフック７を備え、両フック７にキ
ャリヤバー８の上片の対向端部が下から支持されて、処
理物９を処理槽１０より上方の搬送位置に保持してい
る。図示の処理物９は、例えば複数個の縦長の窓孔の各
々にピンを介して被処理物（ワーク）を取り付けた矩形
の銅板で、上端部が一体の、又は別の導体のフック１１
を介してキャリヤバー８に掛け止められている。処理物
９がめっき処理等に適した９´の位置まで下ろされる
と、キャリヤバー８は処理槽１０の上縁に絶縁物を介し
て取付けた給電受け１２のＶ溝に嵌まり、給電受け１２
を介してマイナス極１３に接続する。処理槽１０内には
処理物９´を挾むアノード板とめっき液とめっき液の供
給口、排出口（共に図示せず）等が設けてある。１４は
フロアであり、ここまでは従来公知である。
【０００７】ガイドコラム４の後面にドリップパン駆動
部１６が固定されており、駆動部１６に内蔵の可逆転減
速モーター（図示せず）より左右に出力軸１７が突出
し、その左右両端部にアーム１８の上端部が固着し、ア
ーム１８の下端部はピン１９を介してドリップパン２０
の左右側壁上端部の前後中央部に回動自在に連結してい
る。アーム１８の下端部を９０度折り曲げてピン１９と
してもよい。ドリップパン２０は上面が開放した皿状
で、処理物９が搬送位置（実線）に上昇している時処理
物９の直下の位置に供給され、処理物９が下降を開始す
る前に処理物９の通路の後方へ退避するように後退す
る。
部１６が固定されており、駆動部１６に内蔵の可逆転減
速モーター（図示せず）より左右に出力軸１７が突出
し、その左右両端部にアーム１８の上端部が固着し、ア
ーム１８の下端部はピン１９を介してドリップパン２０
の左右側壁上端部の前後中央部に回動自在に連結してい
る。アーム１８の下端部を９０度折り曲げてピン１９と
してもよい。ドリップパン２０は上面が開放した皿状
で、処理物９が搬送位置（実線）に上昇している時処理
物９の直下の位置に供給され、処理物９が下降を開始す
る前に処理物９の通路の後方へ退避するように後退す
る。
【０００８】前項の動作を可能にする為、上下スライダ
ー５とホイスト３の間にリミットスイッチ２２を設け、
ドリップパン駆動部１６内の出力軸１７に図２のように
レバー２３を固定すると共に、レバー２３の正転（Ｒ）
端と逆転端を検出するリミットスイッチ２４、２５を設
けてリミットスイッチ２２と共にコントローラ２６へ接
続する。出力軸１７を有する可逆転モーター２７もコン
トローラ２６へ接続する。２８は電源である。図１の上
下スライダー５が上死点まで上昇してリミットスイッチ
２２が例えばオンすると、図２のコントローラ２６から
可逆転モーター２７に正転電流が供給され、レバー２３
が正転方向Ｒへ回動し、リミットスイッチ２４が例えば
オンして正転電流の供給が停止し、それまで後退してい
たドリップパン２０が処理物９の直下の図１の位置に来
る。上下スライダー５が下降を開始してリミットスイッ
チ２２がオフすると、図２のコントローラ２６から可逆
転モーター２７に逆転電流が供給され、レバー２３が例
えば３０度逆Ｒ方向へ回動し、リミットスイッチ２５が
例えばオンして逆転電流の供給が停止し、アーム１８
（図１）が後退して、処理物９の下降通路を開放する。
ー５とホイスト３の間にリミットスイッチ２２を設け、
ドリップパン駆動部１６内の出力軸１７に図２のように
レバー２３を固定すると共に、レバー２３の正転（Ｒ）
端と逆転端を検出するリミットスイッチ２４、２５を設
けてリミットスイッチ２２と共にコントローラ２６へ接
続する。出力軸１７を有する可逆転モーター２７もコン
トローラ２６へ接続する。２８は電源である。図１の上
下スライダー５が上死点まで上昇してリミットスイッチ
２２が例えばオンすると、図２のコントローラ２６から
可逆転モーター２７に正転電流が供給され、レバー２３
が正転方向Ｒへ回動し、リミットスイッチ２４が例えば
オンして正転電流の供給が停止し、それまで後退してい
たドリップパン２０が処理物９の直下の図１の位置に来
る。上下スライダー５が下降を開始してリミットスイッ
チ２２がオフすると、図２のコントローラ２６から可逆
転モーター２７に逆転電流が供給され、レバー２３が例
えば３０度逆Ｒ方向へ回動し、リミットスイッチ２５が
例えばオンして逆転電流の供給が停止し、アーム１８
（図１）が後退して、処理物９の下降通路を開放する。
【０００９】図１のドリップパン２０の底面は右端（図
１の左端）近傍のドレン口３０に向かい低下するように
傾斜しており、ドレン口３０には横向きの排液管３１が
接続し、排液管３１の先端は下方へ湾曲し、下方の樋３
２に向かい開放している。樋３２は後述するように、処
理系列毎に区画する仕切３３を備え、隣接する仕切３３
の間の樋３２の前端部分底面のドレン口２９は、排液管
３４を介して排液溜３５に連通している。
１の左端）近傍のドレン口３０に向かい低下するように
傾斜しており、ドレン口３０には横向きの排液管３１が
接続し、排液管３１の先端は下方へ湾曲し、下方の樋３
２に向かい開放している。樋３２は後述するように、処
理系列毎に区画する仕切３３を備え、隣接する仕切３３
の間の樋３２の前端部分底面のドレン口２９は、排液管
３４を介して排液溜３５に連通している。
【００１０】めっき装置の一例を示す図３において、ア
ルカリ脱脂又は酸洗等の為の前処理槽３７とその前方の
水洗槽３８、３９、４０等をまとめて前処理系槽Ａと呼
び、その前方のＮｉめっき槽４１、水洗槽４２、４３等
をまとめてＮｉ系槽Ｂと呼び、その前方のＣｒめっき槽
４４、水洗槽４５、４６等をまとめてＣｒ系槽Ｃと呼ぶ
ことにすると、樋３２も上記系列に対応して、仕切３
３、３３ａ間の前処理系樋部分３２ａ、仕切３３、３３
ｂ間のＮｉ系樋部分３２ｂ、仕切３３ｂ、３３ｃ間のＣ
ｒ系樋部分３２ｃに区画し、前方へ行くにつれて底面が
低くなるように傾斜させると効果的である。
ルカリ脱脂又は酸洗等の為の前処理槽３７とその前方の
水洗槽３８、３９、４０等をまとめて前処理系槽Ａと呼
び、その前方のＮｉめっき槽４１、水洗槽４２、４３等
をまとめてＮｉ系槽Ｂと呼び、その前方のＣｒめっき槽
４４、水洗槽４５、４６等をまとめてＣｒ系槽Ｃと呼ぶ
ことにすると、樋３２も上記系列に対応して、仕切３
３、３３ａ間の前処理系樋部分３２ａ、仕切３３、３３
ｂ間のＮｉ系樋部分３２ｂ、仕切３３ｂ、３３ｃ間のＣ
ｒ系樋部分３２ｃに区画し、前方へ行くにつれて底面が
低くなるように傾斜させると効果的である。
【００１１】図１の出力軸１７とアーム１８を固定フレ
ームに変更し、アーム１８の下端部に前後方向に延びる
レールを固定してドリップパン２０をレールで摺動自在
に支持すると共に、レール上に取り付けたエアーシリン
ダーでドリップパン２０を前後方向に駆動させるように
してもよい。
ームに変更し、アーム１８の下端部に前後方向に延びる
レールを固定してドリップパン２０をレールで摺動自在
に支持すると共に、レール上に取り付けたエアーシリン
ダーでドリップパン２０を前後方向に駆動させるように
してもよい。
【００１２】図４は、図１の一部を変更して示す斜視図
で、アーム１８は出力軸１７の部分から上半部が下降
し、その下端から下半部が屈曲して前方へ張りだしてド
リップパン２０の側壁上端部にピン１９で回動自在に接
続している。即ち出力軸１７よりかなり前の部分で処理
物９のドリップ（滴下）を受けるように構成している。
従って処理物９が下降を開始すると同時に、ドリップパ
ン２０も下降しながら後退することになり、搬送時には
処理物９をその直下でドリップパン２０で受けることが
でき、処理物９からのドリップの飛散を可及的に減少さ
せることができる。
で、アーム１８は出力軸１７の部分から上半部が下降
し、その下端から下半部が屈曲して前方へ張りだしてド
リップパン２０の側壁上端部にピン１９で回動自在に接
続している。即ち出力軸１７よりかなり前の部分で処理
物９のドリップ（滴下）を受けるように構成している。
従って処理物９が下降を開始すると同時に、ドリップパ
ン２０も下降しながら後退することになり、搬送時には
処理物９をその直下でドリップパン２０で受けることが
でき、処理物９からのドリップの飛散を可及的に減少さ
せることができる。
【００１３】図４では、排液管３１がドリップパン２０
の側壁の前端底部に設けてあるので、排液管３１の重量
によりドリップパン２０が僅かに前傾し、ドリップパン
２０の底面が排液管３１側が低くなるように傾斜してい
ることと相俟って、ドリップパン２０の受けとったドリ
ップは速やかに排液管３１から排出される。
の側壁の前端底部に設けてあるので、排液管３１の重量
によりドリップパン２０が僅かに前傾し、ドリップパン
２０の底面が排液管３１側が低くなるように傾斜してい
ることと相俟って、ドリップパン２０の受けとったドリ
ップは速やかに排液管３１から排出される。
【００１４】図４は、例えば図３の水洗槽４０から引き
上げた処理物９の下側にドリップパン２０を運び（その
時にドリップの大部分は排液管３１から前処理樋部分３
２ａに落ちる）、そのまゝ前進させてＮｉめっき槽４１
の中間の予め定められた位置に停止した状態を示してい
る。この時、処理物９からのドリップはドリップパン２
０に受け止められ、Ｎｉ系樋部分３２ｂに排出される
が、量は少ない。処理物９の下降が開始すると同時に、
ドリップパン２０は２０´の位置へ後退し、ドリップパ
ン２０´の中に残留している僅かなドリップは排液管３
１´を経てＮｉ系樋部分３２ｂに排出される。Ｎｉめっ
き槽４１内で所定時間めっき処理された別の処理物をＮ
ｉめっき槽４１から引き上げて空いた水洗槽４２へ入れ
る時及び水洗槽４２内の処理物を引き上げて空いた水洗
槽４３へ入れる時のドリップパン２０の動作は同じであ
る。この間にドリップパン２０から排液管３１を経てＮ
ｉ系樋部分３２ｂに集められた液はドレン口２９から図
１の排液管３４を経て排液溜３５へ排出される。図４の
樋３２は前述の如く、前方へ行くにつれて底面が低下す
るように傾斜しているので、ドレン口２９、２９ａ、２
９ｃを各樋部分の前端部に設けて排出を円滑にすること
ができる。
上げた処理物９の下側にドリップパン２０を運び（その
時にドリップの大部分は排液管３１から前処理樋部分３
２ａに落ちる）、そのまゝ前進させてＮｉめっき槽４１
の中間の予め定められた位置に停止した状態を示してい
る。この時、処理物９からのドリップはドリップパン２
０に受け止められ、Ｎｉ系樋部分３２ｂに排出される
が、量は少ない。処理物９の下降が開始すると同時に、
ドリップパン２０は２０´の位置へ後退し、ドリップパ
ン２０´の中に残留している僅かなドリップは排液管３
１´を経てＮｉ系樋部分３２ｂに排出される。Ｎｉめっ
き槽４１内で所定時間めっき処理された別の処理物をＮ
ｉめっき槽４１から引き上げて空いた水洗槽４２へ入れ
る時及び水洗槽４２内の処理物を引き上げて空いた水洗
槽４３へ入れる時のドリップパン２０の動作は同じであ
る。この間にドリップパン２０から排液管３１を経てＮ
ｉ系樋部分３２ｂに集められた液はドレン口２９から図
１の排液管３４を経て排液溜３５へ排出される。図４の
樋３２は前述の如く、前方へ行くにつれて底面が低下す
るように傾斜しているので、ドレン口２９、２９ａ、２
９ｃを各樋部分の前端部に設けて排出を円滑にすること
ができる。
【００１５】図５は図４の樋３２を省略する為、図４の
ドレン口２９、２９ａ…のある場所に、升又は漏斗状の
排液受４８（又はピット）を設け、排液管３１に常閉の
電磁弁４９を取り付け、排液管３１が排液受４８の後壁
を前方へ通過して排液受４８の上方に来たことをリミッ
トスイッチ５０等で検出し、電磁弁４９を所定時間開放
すると共に、装置の前進を同じ所定時間停止するように
構成する。電磁弁４９の代わりに手動開閉弁（図示せ
ず）を取り付け、排液管３１が排液受４８の上方を通過
する間に手動開閉弁を開くようにすることもできる。い
ずれの場合も、図４の長い樋３２の占めるスペースを省
略することができる。図３の槽Ａ、Ｂのみを有する装置
の槽Ｂの部分のみでドリップパン２０を昇降動作させる
ようにすると、所定時間経過毎に排液受４８の上方で手
動開閉弁を開くようにすることもできる。
ドレン口２９、２９ａ…のある場所に、升又は漏斗状の
排液受４８（又はピット）を設け、排液管３１に常閉の
電磁弁４９を取り付け、排液管３１が排液受４８の後壁
を前方へ通過して排液受４８の上方に来たことをリミッ
トスイッチ５０等で検出し、電磁弁４９を所定時間開放
すると共に、装置の前進を同じ所定時間停止するように
構成する。電磁弁４９の代わりに手動開閉弁（図示せ
ず）を取り付け、排液管３１が排液受４８の上方を通過
する間に手動開閉弁を開くようにすることもできる。い
ずれの場合も、図４の長い樋３２の占めるスペースを省
略することができる。図３の槽Ａ、Ｂのみを有する装置
の槽Ｂの部分のみでドリップパン２０を昇降動作させる
ようにすると、所定時間経過毎に排液受４８の上方で手
動開閉弁を開くようにすることもできる。
【００１６】
【発明の効果】請求項１の発明によると、処理物搬送中
の処理液のドリップ（滴下）を防止できるので、処理槽
隔壁上端部等の清掃が減少し、美観が向上する。又薬液
の混入（持込み）を可及的に防止することができ、ドリ
ップの排出が確実化する。例えば、Ｎｉめっき槽４１か
ら水洗槽４２へのめっき液の持込みが減少し、水洗槽４
２の汚染が減少するので、水洗槽４２での洗浄効果が向
上する。水洗槽４２から水洗槽４３へのＮｉめっき液の
混入が減少するので、水洗槽４３での洗浄効果が向上す
る。水洗槽４３のＮｉめっき液濃度が０に近くなるの
で、水洗槽４３から処理物９をＣｒめっき槽４４へ移す
時のＮｉめっき液の持込みは可及的に防止される。
の処理液のドリップ（滴下）を防止できるので、処理槽
隔壁上端部等の清掃が減少し、美観が向上する。又薬液
の混入（持込み）を可及的に防止することができ、ドリ
ップの排出が確実化する。例えば、Ｎｉめっき槽４１か
ら水洗槽４２へのめっき液の持込みが減少し、水洗槽４
２の汚染が減少するので、水洗槽４２での洗浄効果が向
上する。水洗槽４２から水洗槽４３へのＮｉめっき液の
混入が減少するので、水洗槽４３での洗浄効果が向上す
る。水洗槽４３のＮｉめっき液濃度が０に近くなるの
で、水洗槽４３から処理物９をＣｒめっき槽４４へ移す
時のＮｉめっき液の持込みは可及的に防止される。
【００１７】請求項２の発明によると、排水（ドリッ
プ）を系統別の所定場所に集合することができ、排水の
完全処理が可能になる。
プ）を系統別の所定場所に集合することができ、排水の
完全処理が可能になる。
【図１】 表面処理用搬送装置の縦断前面略図である。
【図２】 図１のIIーII断面を含む回路図である。
【図３】 装置の平面略図である。
【図４】 図１の斜視略図である。
【図５】 請求項１を含む斜視略図である。
１ レール ３ ホイスト ４ ガイドコラム ５ 上下スライダー ９ 処理物 １０ 処理槽 １６ ドリップパン駆動部 ２０ ドリップパン ３０ ドレン口 ３１ 排液管 ３２ 樋 ４８ 排液受
Claims (2)
- 【請求項１】 前後に延びる１対のレールに支持された
ホイストの下面に垂直なガイドコラムを固着し、ガイド
コラムに処理物を処理槽内とその上方の搬送位置に駆動
する上下スライダーを設けると共に、ガイドコラムに処
理物が搬送位置へ上昇した時のみに処理物の直下にドリ
ップパンを供給するドリップパン駆動部を設けたことを
特徴とする表面処理用搬送装置のドリップ処理装置。 - 【請求項２】 ドリップパンの左又は右端の低くされた
部分にドレン口を設け、ドレン口を排液管を介して処理
系列毎に区画された樋又は排液受に開放した請求項１に
記載の表面処理用搬送装置のドリップ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01502895A JP3499628B2 (ja) | 1995-02-01 | 1995-02-01 | 表面処理用搬送装置のドリップ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01502895A JP3499628B2 (ja) | 1995-02-01 | 1995-02-01 | 表面処理用搬送装置のドリップ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08206572A true JPH08206572A (ja) | 1996-08-13 |
| JP3499628B2 JP3499628B2 (ja) | 2004-02-23 |
Family
ID=11877387
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01502895A Expired - Fee Related JP3499628B2 (ja) | 1995-02-01 | 1995-02-01 | 表面処理用搬送装置のドリップ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3499628B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3621186B1 (de) * | 2018-09-05 | 2021-03-17 | VAF GmbH | Reinigungsvorrichutng und verfahren zum reinigen eines im tauchverfahren beschichteten körpers |
-
1995
- 1995-02-01 JP JP01502895A patent/JP3499628B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3621186B1 (de) * | 2018-09-05 | 2021-03-17 | VAF GmbH | Reinigungsvorrichutng und verfahren zum reinigen eines im tauchverfahren beschichteten körpers |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3499628B2 (ja) | 2004-02-23 |
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