JPH08204112A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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JPH08204112A
JPH08204112A JP3317795A JP3317795A JPH08204112A JP H08204112 A JPH08204112 A JP H08204112A JP 3317795 A JP3317795 A JP 3317795A JP 3317795 A JP3317795 A JP 3317795A JP H08204112 A JPH08204112 A JP H08204112A
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lead
external
inspection
semiconductor device
external lead
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JP3317795A
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Inventor
Akio Shiozaki
章雄 塩崎
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 検査用パッドを外部リードに千鳥状に設けた
半導体装置の不良発生を低減すること。 【構成】 外部リード群3'−1〜3'−4の隣接する外
部リードに千鳥状に幅広の検査パッド3aを設けたリー
ドフレームを準備し、外部リード群3'−1〜3'−4を
曲げ加工して所定のリード形状にし、外部リード群3'
−1〜3'−4に表面処理を施し、外部リード群3'−1
〜3'−4に保護テープ10を貼り付け、外部リード群
3'−1〜3'−4の各外部リードを切離し、検査用パツ
ド3aにより電気的検査を行い、最後に、検査用パッド
3a及び保護テープ10を外部リード群3'−1〜3'−
4から切離す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造方
法、たとえば外部リードのピッチが0.4mm以下である
QFP(Quad Flat Package) 型の樹脂封止型半導体装置
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のQFP型の樹脂封止型半導体装置
の製造方法は、図8,図9,図10,図11に示される
(参照: 特開平1−216564号公報)。なお、図8
〜図11において、(A)は平面図、(B)は断面図で
ある。
【0003】始めに、図8に示すリードフレームを準備
する。このリードフレームは、半導体素子が封止される
樹脂封止部2、樹脂封止部2の四方向に設けられた4つ
の外部リード群3−1〜3−4、各外部リード群3−1
〜3−4の外部リードを連結するリード連結部4−1〜
4−4、樹脂封止部3−1〜3−4の4隅に設けられた
吊りリード5−1〜5−4、吊りリード5−1〜5−4
を介して樹脂封止部2を保持するフレーム6、フレーム
6とリード連結部4−1〜4−4との間に設けられた湾
曲接続部7を有する。なお、図8の(A)においては、
半導体素子が樹脂封止部2に封止されていないが、図8
の(B)においては、半導体素子が樹脂封止部2に封止
されている半導体素子体1を図示してある。また、図8
の(A)における8は搬送用孔である。
【0004】次に、図9を参照すると、半導体素子を封
止したリードフレームの外部リード群3−1〜3−4の
各外部リードをダイ及びパンチ(図示せず)により曲げ
て加工して所定形状に加工する。このとき、湾曲接続部
7は撓む。次に、外部リードに半田メッキ等の表面処理
を施す。
【0005】次に、図10を参照すると、リード連結部
4−1〜4−4及び湾曲接続部7を切断除去する。な
お、7aは切断金具のパンチ及びダイの形状を簡単にし
たために生ずる湾曲接続部7の0.05〜0.1mm程度
の切り残し部である。
【0006】最後に、図11を参照すると、吊りリード5
−1〜5−4を切断除去してフレーム6を外部リード群
3−1〜3−4から切離す。この状態で、検査用ソケッ
ト等の接触端子を外部リード群3−1〜3−4の外部リ
ードに接触させて電気的検査を行う。
【0007】しかしながら、図8〜図11に示す樹脂封
止型半導体装置の製造方法においては、特に、外部リー
ド群3−1〜3−4の外部リードのピッチが0.4mm以
下の場合に、以下の欠点が発生する。
【0008】1)外部リードの強度が低下し、外部リー
ドが変形し易い。すなわち、検査用ソケット等への脱
着、工程間もしくは工程内での移送時に外部リードが変
形することがある。具体的には、外部リードの強度を示
す曲げ剛性は断面2次モーメントI=bh/2(bはリ
ード幅、hはフレーム厚)に比例する。従って、外部リ
ードのピッチが0.5mmの場合、b=0.22mm,h=
0.15mmとし、外部リードのピッチが0.4mmの場
合、b=0.18mm,h=0.15mmとすれば、外部リ
ードのピッチが0.4mmのフレーム厚さ方向の強度は外
部リードのピッチが0.5mmのフレーム厚さ方向の強度
の約1/2となり、外部リードの強度は極端に低下す
る。
【0009】2)検査用ソケット等の接触端子と外部リ
ードとの間で安定な接触が得られない。たとえば、検査
用ソケット等の接触端子と外部リードとを接触とさせる
際の位置決め制度は、樹脂封止部2の側面のテーパー部
2aの寸法精度±30μm、外部リードの位置精度±20
μm接触端子の位置精度±50μmとすれば、最大10
0μmとなる。従って、安定した接触が得られるための
接触寸法は接触端子幅の半分であり、接触端子の幅は外
部リード幅と同寸法で製造することから、外部リードの
0.5mmピッチの場合の接触寸法は最悪でも120μm
で接触端子幅の半分110μmは確保できるものの、外
部リードの0.4mmピッチでは最悪80μmで接触端子
幅の半分90μmは確保できず、安定した接触が得られ
ない。
【0010】3)外部リード間の電気的短絡が発生し易
い。すなわち、検査用ソケット等の接触端子と外部リー
ドとを接触させる方法としては、外部リード上を接触端
子が引っかいて外部リード上の半田メッキなどの表面処
理層のごく一部を削り取った形で接触端子と外部リード
とを接触させる方法が良く用いられるが、この方法では
削り取られた屑が髭状になり、外部リード間にまたがっ
て電気的短絡を起こすことがある。特に上記2)にも記
したように、外部リードが0.4mmピッチ以下の半導体
装置では外部リードと接触端子との位置精度が悪く、そ
れに伴い髭が発生する位置も外部リードの幅方向全体に
ばらつくこととなり、外部リードの端面付近で発生する
確立が増加するため、リード間の距離が近いことと相俟
って外部リード間の電気的短絡の可能性がさらに高くな
る。
【0011】上述の欠点、つまり、外部リードの強度が
低下する、検査用ソケット等の接触端子と外部リードと
の間で安定な接触が得られない、外部リード間の電気的
短絡が発生し易いという欠点を除去するために、外部リ
ード群の隣接する外部リードに千鳥状に幅広の検査パッ
ドを設けたリードフレームを準備し、外部リード群に表
面処理を施し、外部リード群に保護テープを貼り付け、
外部リード群の各外部リードを切離し、検査用パッドに
より、電気的検査を行い、検査用パッド及び保護テープ
を外部リード群より切離し、最後に、外部リードを曲げ
加工して所定の形状にする樹脂封止型半導体装置の製造
方法が知られている(参照:発明協会公開技報93−1
519号)。たとえば、外部リードが0.4mmピッチの
場合、検査用パッドの幅は0.3mm程度となり、接触端
子との接触寸法は安定して確保されるため安定した接触
が得られ、また同時に、接触位置もリード幅方向中央付
近となるため外部リード間の電気的短絡が発生する可能
性が少なく、また、検査用パッドを設けるために外部リ
ード長は検査用パッドがない場合に比べて約2mm長くな
りリード強度が落ちるものの、保護テープにて固定され
るためリード変形はほとんど発生しない。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
検査用パッドを外部リードに千鳥状に設けた樹脂封止型
半導体装置の製造方法においては、外部リードの曲げ加
工前に外部リードに表面処理を施すため、外部リードの
曲げ加工時に曲げ金型のダイ及びパンチと外部リードと
が接触しかつこすれて表面処理層が剥がれ屑となる。こ
の発生した屑は、外部リード先端が接触するダイ表面の
形状や摩擦抵抗が外部リードに付着する。ダイに堆積す
ると、ダイ表面の形状や摩擦抵抗が微妙に変化するため
に、外部リードの加工後の寸法が規格から外れる不良が
多発したり、堆積した屑が外部リードに転写し、上述の
外部リードへの付着と合わせて屑が外部リード間にまた
がる電気的短絡を招く等の不良発生の原因となる。な
お、この不良の発生頻度としては、外部リードが0.5
mmピッチの場合、外部リード形状によって差があるもの
の、1000〜10000ショット(1ショットで曲げ
加工1回)を境に不良がほぼ0%から急激に増加するの
に対し、外部リードが0.4mmピッチの場合、2ショッ
ト〜5ショットで不良が発生する。従って、本発明の目
的は、検査用パッドを外部リード千鳥状に設けた半導体
装置の不良発生を低減することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに本発明は、外部リード群の隣接する外部リードに千
鳥状に幅尋広の検査ハッドを設けたリードフレームを準
備し、外部リード群を曲げ加工して所定のリード形状に
し、外部リード群に表面処理を施し、外部リード群に保
護テープを貼り付け、外部リード群の各外部リードを切
離し、検査用パッドにより電気的検査を行い、最後に、
検査用パッド及び保護テープを外部リード群より切離
す。あるいは、上記保護テープの代わりに、絶縁樹脂材
を滴下硬化させる。
【0014】
【作用】上述の手段によれば、外部リードの曲げ加工後
に外部リードに表面処理を行うので、表面処理層の剥が
れ屑は発生しない。
【0015】
【実施例】図1〜図6は本発明に係る半導体装置の製造
方法の第1の実施例を示す図である。なお、図2〜図6
において、(A)は平面図、(B)は断面図である。
【0016】始めに、図1,図2に示すリードフレーム
を準備する。なお、図2は図1の1つの半導体素子分を
拡大して示してある。このリードフレームにおいては、
外部リード群3'−1〜3'−4の各外部リードに検査用
パッド3aが設けられている点及びフレーム6に位置決
め用孔9が設けられている点が、図8に示すリードフレ
ームと異なる。なお、図1においては、半導体素子が樹
脂封止部2に封止されていないが、図2においては、半
導体素子が樹脂封止部2に封止されている半導体素子封
止体1を図示してある。
【0017】次に、図3を参照すると、半導体素子を封
止したリードフレームの外部リード群3'−1〜3'−4
の各外部リードをダイ及びパンチ(図示せず)により曲
げて加工して所定形状に加工する。このとき、湾曲接続
部7は撓む。次に、外部リードに半田メッキ等の表面処
理を施す。この場合、湾曲接続部7が変形して伸びて外
部リードの先端位置が水平方向及び垂直方向に変位した
後も、湾曲接続部7及びリード連結部4−1〜4−4が
外部リード群3'−1〜3'−4とフレーム6とを電気的
に接続している。これを利用して外部リードに半田メッ
キ等の表面処理を行うことができる。
【0018】次に、図4を参照すると、外部リード群
3'−1〜3'−4毎に、検査用パッド3aに保護テープ
10を貼り付ける。
【0019】次に、図5を参照すると、リード連結部4
−1〜4−4及び湾曲接続部7を切断除去する。なお、
7aは切断金具のパンチ及びダイの形状を簡単にしたた
めに生ずる湾曲接続部7の0.05〜0.1mm程度の切
り残し部である。この状態で、検査用ソケット等の接触
端子を外部リード群3'−1〜3'−4の外部リードに接
触させて電気的検査を行う。この場合、位置決め用孔9
を用いて位置決めを行う。
【0020】最後に、図6を参照すると、良品について
のみ、吊りリード5−1〜5−4を切断除去してフレー
ム6を外部リード群3'−1〜3'−4から切離す。
【0021】ここで、保護テープ10の貼り付けいつい
て説明する。従来の製造方法では保護テープをフレーム
と検査用パッドとに貼り付けフレームに固定していたた
め、加熱により保護テープの接着剤を硬化させる際に保
護テープ自身が熱収縮してもフレームに引っ張られ変形
しないためにテープ選定が容易である利点があった。こ
れに対して、本発明の第1の実施例では、検査用パッド
3aとフレーム6との間には段差があり、保護テープ1
0外部リード群3'−1〜3'−4毎に独立して貼り付け
る必要がある。このため、接着剤を硬化させるための加
熱によっても熱収縮しない保護テープを選定する必要が
ある。市販のテープを評価した結果、接着剤がコーティ
ングされたポリイミドテープであって、その基材のポリ
イミドの厚さが50μm、接着剤層の厚さが20μmの
テープが加熱後の外部リード間ピッチの収縮率が小さい
ことが分かった。また、収縮率に影響を与えるのは基材
ではなく接着剤の材料又は厚さの要因の方が大きいこと
も分かった。
【0022】さらに、電気的検査の際の位置決めについ
ては、図11に示す従来の製造方法では樹脂封止部2の
テーパー部2aをもちいて位置決めしていたが、本発明
の第1の実施例では、検査用パッド3aを形成すること
で外部リード長が長くなる検査用ソケットの接触端子と
検査用パッドが接触する位置がより外側に移動したため
に(従来0.8mm〜1mm程度に対し、本発明の第1の実
施例では3mm〜4mm程度)、従来無視できていた回転方
向の位置ズレが無視できなくなり、より外側の位置決め
手段を用い位置決めする必要が生じる。従って、本発明
の第1の実施例では、検査用パッド3a近くのフレーム
6に設けた3つの位置決め用孔9を用いて位置決めして
いる。
【0023】図7は本発明に係る半導体装置の製造方法
の第2の実施例を示す図であって、図4に対応する。す
なわち、本発明の第1の実施例における保護テープ10
の代わりに、本発明の第2の実施例では、外部リード
3'−1〜3'−4の表面処理後に検査用パッド3aを固
定するために液状の絶縁樹脂材を滴下硬化させて樹脂コ
ート部11を形成したものである。従来の製造方法では
保護テープを貼り付ける面が平面であるため貼り付けの
機構が簡単で済む。これに対し、本発明の第1の実施例
では外部リードを所定の形状に曲げ加工後に保護テープ
10を貼り付けるために、貼り付ける面は外部リードと
同じ3〜5度の角度を有しているのでテープ貼り付け機
構は複雑になる。たとえば、テープ供給ユニットからテ
ープ切断ユニット及びテープ圧着ユニットなどの全ユニ
ットを約4度傾けて配置する必要がある。他方、本発明
の第2の実施例では、液状の絶縁樹脂材を用い検査用パ
ッド3aに滴下させることにより、検査用パッド3aの
傾きを無視して固定することができる。
【0024】なお、上述の第2の実施例では、樹脂の滴
下及び硬化の工程は外部リードの表面処理後に行うので
あるが、エポキシ樹脂等の外部リード表面処理工程でも
浸食や溶解しない樹脂を用いれば、リードフレーム製作
工程など外部リードの表面処理工程よりも前にも可能と
なる。たとえば、リードフレームの内部リード部にリー
ド変形等を押さえるためポリイミドテープの代わりにエ
ポキシ樹脂テープを貼り付けて使用する場合があるが、
このポリイミドテープの代わりにエポキシ樹脂を用い検
査用パッド部3aの固定と同時に内部リード固定も行え
ば工程の短縮にもなる。
【0025】また、保護テープまたは絶縁樹脂コート部
及び検査用パツドを切断する際に外部リードの形状を最
終形状に形成する。これは、保護テープ貼り付け工程ま
たは絶縁樹脂コート部の形成工程、電気的検査工程等で
形状変化がある可能性があるために、最終工程で必要寸
法を出すようにしたためである。
【0026】さらに、上述の本発明の第1の実施例及び
第2の実施例において、保護テープまたは固定用絶縁樹
脂材は検査用パッドの上面に取り付けているのは電気的
検査に用いるソケットの接触端子を外部リード下面から
接触させるためである。従って、接触端子を外部リード
上面から接触させる場合には、保護テープ10または固
定用絶縁樹脂コート部11は検査用パッド3aの下面に
取り付ける。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、外
部リードの曲げ加工後に外部リードの表面処理を行うの
で、表面処理層の剥がれ屑は発生せず、従って、半導体
装置の不良発生を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体装置の製造方法の第1の実
施例を示す平面図である。
【図2】本発明に係る半導体装置の製造方法の第1の実
施例を示す図であって、(A)は平面図、(B)は断面
図である。
【図3】本発明に係る半導体装置の製造方法の第1の実
施例を示す図であって、(A)は平面図、(B)は断面
図である。
【図4】本発明に係る半導体装置の製造方法の第1の実
施例を示す図であって、(A)は平面図、(B)は断面
図である。
【図5】本発明に係る半導体装置の製造方法の第1の実
施例を示す図であって、(A)は平面図、(B)は断面
図である。
【図6】本発明に係る半導体装置の製造方法の第1の実
施例を示す図であって、(A)は平面図、(B)は断面
図である。
【図7】本発明に係る半導体装置の製造方法の第2の実
施例を示す図であって、(A)は平面図、(B)は断面
図である。
【図8】従来の半導体装置の製造方法を示す図であっ
て、(A)は平面図、(B)は断面図である。
【図9】従来の半導体装置の製造方法を示す図であっ
て、(A)は平面図、(B)は断面図である。
【図10】従来の半導体装置の製造方法を示す図であっ
て、(A)は平面図、(B)は断面図である。
【図11】従来の半導体装置の製造方法を示す図であっ
て、(A)は平面図、(B)は断面図である。
【符号の説明】
1 半導体素子封止体 2 樹脂封止体 3−1〜3−4,3'−1〜3'−4 外部リード群 3a 検査用パッド 4−1〜4−4 リード連結部 5−1〜5−4 吊りリード 6 フレーム 7 湾曲接続部 8 搬送用孔 9 位置決め用孔 10 保護テープ 11 樹脂コート部

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部リード群(3'−1〜3'−4)の隣
    接する外部リードに千鳥状に幅広の検査用パッド(3
    a)を設けたリードフレームを準備する第1の工程と、 前記第1の工程の後に、前記外部リード群を曲げ加工し
    て所定のリード形状にする第2の工程と、 該第2の工程の後に、前記外部リード群に表面処理を施
    す第3の工程と、 該第3の工程の後に、前記外部リード群に保護テープ
    (10)を貼り付ける第4の工程と、 該第4の工程の後に、前記外部リード群の各外部リード
    間を切離す第5の工程と、 該第5の工程の後に、前記検査パッドにより電気的検査
    を行う第6の工程と、 該第6の工程の後に、前記検査用パッド及び前記保護テ
    ープを前記外部リード群から切離す第7の工程とを具備
    する半導体装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記保護テープは接着剤がコーティング
    されたポリイミドテープである請求項1に記載の半導体
    装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記第6の工程は、前記リードフレーム
    の前記検査用パッド近傍に設けられた位置決め孔(9)
    を用いて前記リードフレームを位置決めする請求項1に
    記載の半導体装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 外部リード群(3'−1〜3'−4)の隣
    接する外部リードに千鳥状に幅広の検査用パッド(3
    a)を設けたリードフレームを準備する第1の工程と、 前記第1の工程の後に、前記外部リード群を曲げ加工し
    て所定のリード形状にする第2の工程と、 該第2の工程の後に、前記外部リード群に表面処理を施
    す第3の工程と、 該第3の工程の後に、前記外部リード群に絶縁樹脂材(1
    1)を滴下硬化させる第4の工程と、 該第4の工程の後に、前記外部リード群の各外部リード
    間を切離す第5の工程と、 該第5の工程の後に、前記検査パッドにより電気的検査
    を行う第6の工程と、 該第6の工程の後に、前記検査用パッド及び前記絶縁樹
    脂材を前記外部リード群から切離す第7の工程とを具備
    する半導体装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記第6の工程は、前記リードフレーム
    の前記検査用パッド近傍に設けられた位置決め孔(9)
    を用いて前記リードフレームを位置決めする請求項4に
    記載の半導体装置の製造方法。
  6. 【請求項6】 外部リード群(3'−1〜3'−4)の隣
    接する外部リードに千鳥状に幅広の検査用パッド(3a)を
    設けたリードフレームを準備する第1の工程と、 前記第1の工程の後に、前記外部リード群を曲げ加工し
    て所定のリード形状にする第2の工程と、 該第2の工程の後に、前記外部リード群に絶縁樹脂材
    (11)を滴下硬化させる第3の工程と、 該第3の工程の後に、前記外部リード群に表面処理を施
    す第3の工程と、 該第4の工程の後に、前記外部リード群の各外部リード
    間を切離す第5の工程と、 該第5の工程の後に、前記検査パッドにより電気的検査
    を行う第6の工程と、 該第6の工程の後に、前記検査用パッド及び前記絶縁樹
    脂材を前記外部リード群から切離す第7の工程とを具備
    する半導体装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記第6の工程は、前記リードフレーム
    の前記検査用パッド近傍に設けられた位置決め孔(9)
    を用いて前記リードフレームを位置決めする請求項6に
    記載の半導体装置の製造方法。
  8. 【請求項8】 半導体素子が封止される樹脂封止部
    (2)と、該樹脂封止部の四方向に設けられ、千鳥状に
    隣接する幅広検査用パッド(3a)を有する4つの外部
    リード群(3'−1〜3'−4)と、該各外部リード群の
    外部リードを連結するリード連結部(4−1〜4−4)
    と、前記樹脂封止部の4隅に設けられた吊りリード(5
    −1〜5−4)と、該吊りリードを介して前記樹脂封止
    部を保持するフレーム(6)と、該フレームと前記リー
    ド連結部との間に設けられた湾曲接続部(7)とを有す
    る半導体装置において、 前記外部リード群を曲げ加工して所定のリード形状にす
    る工程と、 該曲げ加工後に前記外部リード群に表面処理を施す工程
    と、 該表面処理後に前記外部リード群に保護テープ(10)
    を貼り付ける工程と、 該貼付後に前記リード接続部及び前記湾曲接続部を切断
    除去する工程と、 該切断除去後に前記検査用パッドを用いて前記半導体装
    置の電気的検査を実行する工程と、 該電気的検査後に前記保護テープが貼り付けられた外部
    リード群の部分及び前記吊りリードを切断除去する工程
    とを具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。
  9. 【請求項9】 前記保護テープは接着剤がコーティング
    されたポリイミドテープである請求項8に記載の半導体
    装置の製造方法。
  10. 【請求項10】 前記電気的検査を実行する工程は、前
    記フレームの前記検査用パッド近傍に設けられた位置決
    め孔(9)を用いて前記半導体装置を位置決めする請求
    項8に記載の半導体装置の製造方法。
  11. 【請求項11】 半導体素子が封止される樹脂封止部
    (2)と、該樹脂封止部の四方向に設けられ、千鳥状に
    隣接する幅広検査用パッド(3a)を有する4つの外部
    リード群(3'−1〜3'−4)と、該各外部リード群の
    外部リードを連結するリード連結部(4−1〜4−4)
    と、前記樹脂封止部の4隅に設けられた吊りリード(5
    −1〜5−4)と、該吊りリードを介して前記樹脂封止
    部を保持するフレーム(6)と、該フレームと前記リー
    ド連結部との間に設けられた湾曲接続部(7)とを有す
    る半導体装置において、 前記外部リード群を曲げ加工して所定のリード形状にす
    る工程と、 該曲げ加工後に前記外部リード群に表面処理を施す工程
    と、 該表面処理後に前記外部リード群に絶縁樹脂材(11)
    を滴下硬化させる工程と、 該滴下硬化後に前記リード接続部及び前記湾曲接続部を
    切断除去する工程と、 該切断除去後に前記検査用パッドを用いて前記半導体装
    置の電気的検査を実行する工程と、 該電気的検査後に前記保護テープが貼り付けられた外部
    リード群の部分及び前記吊りリードを切断除去する工程
    とを具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。
  12. 【請求項12】 前記電気的検査を実行する工程は、前
    記フレームの前記検査用パッド近傍に設けられた位置決
    め孔(9)を用いて前記半導体装置を位置決めする請求
    項11に記載の半導体装置の製造方法。
  13. 【請求項13】 半導体素子が封止される樹脂封止部
    (2)と、該樹脂封止部の四方向に設けられ、千鳥状に
    隣接する幅広検査用パッド(3a)を有する4つの外部
    リード群(3'−1〜3'−4)と、該各外部リード群の
    外部リードを連結するリード連結部(4−1〜4−4)
    と、前記樹脂封止部の4隅に設けられた吊りリード(5
    −1〜5−4)と、該吊りリードを介して前記樹脂封止
    部を保持するフレーム(6)と、該フレームと前記リー
    ド連結部との間に設けられた湾曲接続部(7)とを有す
    る半導体装置において、 前記外部リード群を曲げ加工して所定のリード形状にす
    る工程と、 該曲げ加工後に前記外部リード群に絶縁樹脂材(11)
    を滴下硬化させる工程と、 該滴下硬化後に前記外部リード群に表面処理を施す工程
    と、 該表面処理後に前記リード接続部及び前記湾曲接続部を
    切断除去する工程と、 該切断除去後に前記検査用パッドを用いて前記半導体装
    置の電気的検査を実行する工程と、 該電気的検査後に前記保護テープが貼り付けられた外部
    リード群の部分及び前記吊りリードを切断除去する工程
    とを具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。
  14. 【請求項14】 前記電気的検査を実行する工程は、前
    記フレームの前記検査用パッド近傍に設けられた位置決
    め孔(9)を用いて前記半導体装置を位置決めする請求
    項13に記載の半導体装置の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008181983A (ja) * 2007-01-24 2008-08-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置用リードフレームおよびそれを用いた半導体装置の製造方法

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