JPH08203981A - ウエハ搬送装置 - Google Patents

ウエハ搬送装置

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Publication number
JPH08203981A
JPH08203981A JP2719695A JP2719695A JPH08203981A JP H08203981 A JPH08203981 A JP H08203981A JP 2719695 A JP2719695 A JP 2719695A JP 2719695 A JP2719695 A JP 2719695A JP H08203981 A JPH08203981 A JP H08203981A
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JP2719695A
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Toshiaki Tanaka
敏明 田中
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Canon Marketing Japan Inc
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Canon Inc
Canon Marketing Japan Inc
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 ウエハの検査、製造を、自動あるいは半自動
で行なうウエハ搬送装置に関し、時間あたりのウエハ処
理枚数の向上および省スペース化を図った。 【構成】 ウエハ搬送装置1はウエハ平面内の回転方向
の位置合わせと、ウエハを一定高さまで持ち上げた後、
傾斜回転とを行なう。搬送アーム4、センタリング用コ
マ5、ウエハチャック6、ウエハ傾斜・回転機構7、セ
ンサ8、回動部材17より構成される。2はXY・θ方
向の位置合わせと、ウエハの直交XY方向の移動とを行
なう。ウエハチャック9、位置合わせ用コマ10、XY
方向水平移動機構11および搬送アーム12より構成さ
れる。3はウエハ収納用カセットを上下に移動し、所定
高さに位置決めを行なうカセット台である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハの検査、製造
を、自動あるいは半自動で行なうためのウエハ搬送装置
に関し、時間あたりのウエハ処理枚数(以後、スループ
ットと呼ぶ)の向上および省スペース化を図ったウエハ
搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】周知の通り、半導体素子の製造、検査等
の市場要求として、装置の専有面積が小さいことと、短
時間で処理を行なえることがある。例えばウエハ外観検
査においては、室内の塵埃を少なくするよう設計された
運用コストの高いクリーンルームの中で、顕微鏡等を用
いて人手によりウエハの観察および検査判定を行なうこ
とが多い。従って、装置専有面積が出来る限り小さいこ
とが必要とされる。
【0003】また短時間で効率の良い作業を行なうに
は、観察者の待ち時間(任意の観察しているウエハが、
検査判定されてから、次のウエハが送られ、観察可能と
なるまでの時間。以後、ウエハ交換時間と呼ぶ)が出来
る限り短いことが必要とされる。
【0004】図4は、従来のウエハ外観検査装置に用い
られているウエハ搬送装置の一例の概要図である。同図
において、3はカセット台、5はセンタリング用コマ、
6,9はウエハを保持するチャック、8はウエハ回転方
向位置合わせ用センサ、10は位置合わせ用コマ、11
はXY方向水平移動機構、21はウエハ処理装置内搬送
装置、22はウエハ搬送装置としてのアーム、23はカ
セット内ウエハ搬送装置、24はウエハ回転方向位置合
わせ装置である。各装置21〜24は別々に配置されて
いる。
【0005】図5は、図4の検査装置におけるウエハ交
換に関するフローの概要図である。また、図6は図5の
フローを理解するための搬送装置の各チャックの高さの
位置S3,S4,S5およびS8,S9を示す図であ
る。検査判定済ウエハは、直交XY方向水平移動機構1
1が受け渡し位置に移動終了した後、ウエハ搬送アーム
22に渡されている。すなわち、水平移動機構11が移
動して処理済ウエハ16が受け渡し位置S1に到着する
と、アーム22が反時計回り(CCW)方向に90°回
転し、そのウエハ支持部25,26はそれぞれチャック
6(図6のS4)に保持された未処理ウエハ15および
チャック9(図6のS8)に保持された処理済ウエハ1
6の下方に位置する。そして、チャック6,9が下がる
ことにより、アーム22がウエハ15と16を受け取
る。チャック6,9は図6のS3,S9の位置まで下が
る。アーム22は、さらに180°回転し、未処理ウエ
ハと処理済ウエハをそれぞれチャック9と6の上方に位
置させる。チャック9と6は再び図6のS8,S4の位
置まで上がり、アーム22から各ウエハを受け取る。ア
ーム22は時計回り(CW)方向に90°回転し図4に
示した状態で次のウエハ受け渡しを待機する。ここで、
未処理ウエハのウエハ平面内のXYθ方向の位置合わせ
は、チャック9が上昇してアーム22からウエハを受け
取り、さらにアーム22がウエハ下から移動した後、チ
ャック9がアーム22からの搬送装置のウエハ受け渡し
高さ(図6のS8)より下がった高さで行なわれ、その
後再び受け渡し高さ(処理高さと同一高さS8)に上が
って検査が開始される。S2は処理位置、すなわちウエ
ハ表面検査用の顕微鏡の視野内の位置である。一方、カ
セット内ウエハ搬送装置23は、チャック6に受け渡さ
れた処理済ウエハをカセット台3上に載置されたカセッ
ト(不図示)に収納し、次いでこのカセット内の未処理
ウエハを取り出してチャック6に受け渡す。この処理
は、次の処理済ウエハが前記受け渡し位置S1に到来す
る前に終了する。
【0006】このように、従来例においては、前のウエ
ハの検査を終了した後、次のウエハが処理(検査)位置
に送られてくるまでの時間、すなわちウエハ交換時間が
比較的長いという問題があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な背景に基づき、ウエハ外観検査装置等の処理装置にお
いて、ウエハ交換時間が短く、スループット(単位時間
あたりのウエハ処理枚数)の向上したウエハ搬送装置を
提供することを目的とする。また、装置専有面積の小さ
いウエハ搬送装置を提供することをさらなる目的とす
る。
【0008】
【課題を解決するための手段および作用】上記の目的を
達成するため、本発明の第1の態様では、未処理ウエハ
収納位置から取り出したウエハおよび処理済ウエハ収納
位置へ収納するウエハを択一的に保持する第一の保持手
段と、所定の受け渡し位置で上昇して未処理のウエハを
受け取ってから所定の処理位置で該ウエハに対し所定の
処理が施され次いで前記受け渡し位置で下降して処理済
のウエハを引き渡すまでの間、該ウエハをほぼ水平状態
で保持する第二の保持手段と、第一の保持手段から未処
理のウエハを、第二の保持手段から処理済のウエハを受
け取ってそれぞれ第二および第一の保持手段に引き渡す
ウエハ入替え手段と、前記入替え手段から第二の保持手
段に引き渡されたウエハの側面の複数箇所に位置合わせ
用コマを当てることにより該ウエハを該ウエハ平面内で
XYおよびθ方向に位置合わせする位置合わせ手段と、
第二の保持手段を搭載して直交XY方向に水平移動し前
記ウエハを前記受け渡し位置と前記処理位置との間で搬
送する移動手段とを具備するウエハ搬送装置において、
前記位置合わせ手段は、前記入替え手段から第二の保持
手段に受け渡された未処理ウエハをその受け渡された高
さ位置で位置合わせすることを特徴とする。この構成に
よれば、第二の保持手段がウエハ交換手段からウエハを
受け取った時点でウエハはウエハ入替え手段よりも上方
に位置するため、位置合わせ手段はウエハ入替え手段が
ウエハ下から退避するまで待つことなく位置合わせを開
始することができ、ウエハ入替え手段がウエハ下から退
避するまでの時間、ウエハ交換時間を短縮することがで
きる。
【0009】本発明の第2の態様では、前記ウエハ入替
え手段を、第一の保持手段の保持する未処理ウエハを第
二の保持手段に受け渡す第一のアーム手段と、第二の保
持手段の保持する処理済ウエハを第一の保持手段に受け
渡す第二のアーム手段とに分け、第二のアーム手段を前
記移動手段に搭載することにより、第二保持手段から第
二のアーム手段への処理済ウエハの受け渡し位置を前記
移動手段による該処理済ウエハの前記処理位置から前記
受け渡し位置への移動と並行して行なうようにしてい
る。これにより、処理済ウエハが受け渡し位置に到着す
るまでに第一および第二の保持手段から第一および第二
のアーム手段へのウエハの受け渡しを完了させることが
できるため、このウエハ受け渡し時間を移動時間に吸収
し、ウエハ交換時間を短縮することができる。
【0010】本発明の第3の態様では、第一のアーム手
段から第二の保持手段へのウエハ受け渡し位置と第二の
保持手段から第二のアーム手段へのウエハ受け渡し位置
の高さを異ならせている。これにより、第一のアーム手
段による受け渡しと第二のアーム手段による受け渡しを
平面的には同一の場所を高さを変えて使用することがで
き、搬送装置の専有面積を少なくすることができる。
【0011】本発明の第4の態様では、前記第一の保持
手段を一定高さまで持ち上げ、あるいはさらに傾斜させ
る機構、および第一の保持手段自身を回転させるかまた
は第一の保持手段を持ち上げる機構自体を水平面内で回
転させる機構からなる二軸ウエハ回転機構と、前記未処
理ウエハをほぼ水平状態に第一の保持手段で保持したま
ま回転させて保持されたウエハ平面内で回転方向に位置
合わせする機構とをさらに有する。これらの機構は図4
の装置にも用いられている。
【0012】本発明の第5の態様では、前記第一のアー
ム手段を前記第一の保持手段の垂直軸とほぼ同心で回動
する回動部材上に軸支し、該部材の回動と第一のアーム
手段の回動とを組み合わせて、前記未処理ウエハの第一
の保持手段から第二の保持手段への受け渡しに加え、前
記未処理ウエハ収納位置からの未処理ウエハの取り出し
および処理済ウエハ収納位置への処理済ウエハの収納を
さらに行なう。これにより、図4の搬送装置におけるカ
セット内ウエハ搬送装置23を除去し、かつカセット台
3と第一の保持手段6との間隔を狭めることができる。
さらに、第二のアーム手段を既存の移動手段上に搭載し
たことと併せて、図4のアーム22の配置場所が不要と
なる。したがって、搬送装置の専有面積を少なくするこ
とができる。
【0013】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
する。
【0014】図1は、本発明の一実施例に係るウエハ外
観検査装置のウエハ搬送装置の概略構成図を示す。図
中、1は他機構とのウエハ受け渡しとウエハのウエハ平
面内の回転方向の位置合わせと、ウエハを一定高さまで
持ち上げた後、傾斜および回転とを行なう第一のウエハ
搬送装置、2は前記搬送装置1へのウエハ受け渡しと、
ウエハのウエハ平面内のXY・θ方向の位置合わせと、
ウエハの直交XY方向の移動とを行なう第二のウエハ搬
送装置、3は上下方向(紙面に垂直な方向)にウエハ収
納部を併設したカセットを上下に移動し、カセットのウ
エハ収納部を順次所定高さ位置に位置決めを行なうカセ
ット台である。4はカセット内ウエハの搬出入および搬
送装置2へのウエハ受け渡し時にウエハを保持・搬送す
る搬送アーム(第一のアーム手段)、5はウエハのセン
ターとウエハチャック6のセンターを合わせるためのセ
ンタリング用コマ、6はウエハを保持するウエハチャッ
ク(第一の保持手段)、7はウエハを保持したチャック
6を回転させたり、チャック6を一定高さに持ち上げた
後傾斜および回転させるウエハ傾斜・回転機構、8は未
処理ウエハのウエハ平面内の回転方向の位置合わせを行
なうセンサである。9はウエハを保持するウエハチャッ
ク(第二の保持手段)、10はウエハのウエハ平面内の
XYθ方向の位置合わせを行なう位置合わせ用コマ、1
1はウエハの直交XY方向の水平移動を行なうXY方向
水平移動機構、12は搬送装置2から搬送装置1へのウ
エハ受け渡し時にウエハを保持・搬送する搬送アーム
(第二のアーム手段)、S1は搬送装置2が搬送装置1
とウエハの受け渡しを行なえるXY方向水平移動機構の
ウエハ受け渡し位置、S2はウエハを処理するXY方向
水平移動機構の任意のウエハ処理位置である。また、1
7はウエハチャック6の垂直軸と同心で回転可能な環状
の回動部材、18は搬送アーム4をそのウエハ支持端と
は逆の端部で回動部材17に軸支する回転軸である。な
お、回動部材は環状である必要はなく、単なるバーまた
は板材であってもよい。前記の搬送アーム4、センタリ
ング用コマ5、ウエハチャック6、ウエハ傾斜・回転機
構7、センサ8、回動部材17および軸17は、第一の
ウエハ搬送装置1を構成し、ウエハチャック9、位置合
わせ用コマ10、XY方向水平移動機構11および搬送
アーム12は第二のウエハ搬送装置2を構成する。
【0015】図2は、図1の装置のウエハ交換に関する
フローの概要図である。また、図3は、フローを理解す
るための各アーム、各ウエハチャックの高さの位置を示
す。ウエハ処理位置S2に搬送されたウエハの外観検査
が終了すると、その処理済ウエハは、搬送装置2におい
てXY方向水平移動機構11が受け渡し位置S1へ移動
を開始すると同時にウエハチャック9から搬送アーム1
2へのウエハ受け渡しを開始する(受け渡し高さS
7)。このウエハ受け渡しはXY方向水平移動機構11
が受け渡し位置S1へ到着するまでに終了し、ウエハチ
ャック9はウエハ引き渡し後さらにS6の高さまで下が
っている。XY方向水平移動機構11が受け渡し位置S
1に到着すると、処理済ウエハをのせた搬送アーム12
が移動して該処理済ウエハをウエハチャック6の上方に
位置させる。一方、搬送装置1では、この時点までに、
次の未処理ウエハが搬送アーム4にのせられ、ウエハチ
ャック6がS3の高さまで下がった状態で待機してお
り、搬送アーム12の移動と同時に搬送アーム4も移動
して未処理ウエハをウエハチャック9の上方に位置させ
る。この際の搬送アーム12の移動平面(受け渡し高
さ)と搬送アーム4の移動平面(受け渡し高さ)とは異
なっており、このような同時処理を可能にするととも
に、両アーム4,12の移動域を垂直に重複させること
により、装置専有面積の減少を図っている。次にウエハ
チャック6および9がそれぞれS4およびS7の高さま
で上昇してそれぞれ処理済および未処理のウエハをアー
ム12および4から受け取る。次いで、アーム12およ
び4はそれぞれ図1に図示された位置に戻るべく移動を
開始する。その際、搬送装置2においては、ウエハチャ
ック9が上昇して受け渡し高さS7で次の未処理ウエハ
を受け取ると、搬送アーム4がウエハ下からの移動を開
始すると同時に、該未処理ウエハのウエハ平面内のXY
θ方向の位置合わせを開始する。アーム12がウエハチ
ャック9上に戻ると、XY方向水平移動機構11が処理
位置S2へ向かって移動を開始する。図1の装置におい
ては、通常、ウエハチャック9上の未処理ウエハの位置
合わせが終了するまでには処理位置S2への移動は終了
している。処理位置S2においては位置合わせ終了後、
ウエハ高さを変えることなく検査が行われる。このよう
に、本実施例では、ウエハ受け渡し高さS7がウエハ平
面内のXYθ方向の位置合わせ高さと同一のため、搬送
アーム4がウエハ下から退避するまで待つことなく位置
合わせを開始することができる。また、処理高さ(検査
時の高さ)もウエハ受け渡し高さS7と同じにしている
ため、ウエハ平面内のXYθ方向の位置合わせが終わっ
た時点で直ちに(ウエハを上下移動することなく)処理
を開始することができる。
【0016】一方、搬送装置1においては、未処理ウエ
ハをウエハチャック9に引き渡した搬送アーム4が図1
の位置に戻ると、ウエハチャック6がS7の高さからS
3の高さまで下降して処理済ウエハを搬送アーム4に渡
す。搬送アーム4は、この搬送アーム4と回動部材17
が、図1に示す位置からそれぞれ時計回りに180°と
反時計回りに180°互いに同期して回転し、搬送アー
ム4の上にのったウエハの軌跡が直線を描くように移動
してカセット19内に挿入される。挿入後、カセット台
3が上昇し、搬送アーム4上に保持された処理済ウエハ
がカセット19の所定位置に収納される。次に、回動部
材と搬送アーム4の協働により、搬送アーム4の先端を
一旦カセット19の外に出し、所望の未処理ウエハの高
さが搬送アーム4よりわずかに上になるようにカセット
台3が上下し、搬送アーム4を再度カセット19内に挿
入する。そしてカセット台3が下降することにより、前
記所望の未処理ウエハが搬送アーム4に引き渡される。
次いで搬送アーム4は上記と逆の動作により図1に図示
する位置に戻り、そこでウエハチャック6がS3の高さ
からS4の高さまで上昇して未処理ウエハを受け取る。
ウエハチャック6は回転し、センタリング用コマ5とセ
ンサ8とによって、ウエハチャック6上の未処理ウエハ
は位置合わせされる。位置合わせ後、ウエハチャック6
は再度S3の高さまで下がり搬送アーム4に未処理ウエ
ハを渡す。この状態で処理済ウエハが受け渡し位置S1
に到来するまで待機する。なお、上記のウエハチャック
9に対するウエハ受け渡しもカセット19に対するそれ
と同様に行われる。図3において、S5はウエハを傾斜
させる際のウエハ傾斜高さである。
【0017】なお、搬送アーム4の移動による搭載ウエ
ハの軌跡は、上述においては直線にしているが、トロコ
イド等の曲線や折れ線にすることもできる。ウエハチャ
ック6と搬送アーム4のウエハ受け渡し高さおよびウエ
ハチャック6上での位置合わせ高さは、上述においては
ウエハチャック6と搬送アーム12のウエハ受け渡し高
さと同じS4にしているが、S4とS3の間の搬送アー
ム4より上の適宜の高さに設定することもできる。搬送
アーム4と12それぞれのウエハ受け渡し高さは異なる
ことが必要であるが、どちらが上でも下でも構わない。
搬送アーム4,12が他の装置や部材と干渉しない場
合、これらを、XY方向水平移動機構11が受け渡し位
置S1に到着した際、ウエハチャック9,6の上に位置
するように伸ばした状態で水平移動機構11の受け渡し
位置への到着を待機させるようにすれば、到着後の搬送
アーム4,12の移動時間を短縮することができる。
【0018】以上のように本実施例では、2つのウエハ
搬送装置1と2をお互いに隣り合わせに並べるようにか
つ各々のウエハ搬送装置のウエハ受け渡し高さを異なら
せて配置し(S7とS6)、前者のウエハ搬送装置と後
者のウエハ搬送装置が各々保持しているウエハをほぼ同
時に交換する際において、ウエハ受け渡し高さの高い搬
送装置1からウエハを受け取ったウエハチャック9が、
その高さを変えることなく、ウエハをほぼ水平状態にチ
ャック9で保持したまま位置合わせ用コマ10をウエハ
側面数箇所にあてて、保持されたウエハ平面内でXY方
向に位置合わせを行ない、またその高さを変えることな
くXY方向に水平移動しながら処理を行なうことによ
り、ウエハ搬送装置を処理装置専有面積内に納め、かつ
待機時間を短縮してスループットの向上を図ることがで
きる。
【0019】
【発明の適用例】なお、本発明は上述の実施例に限定さ
れることなく本発明の思想を逸脱しない範囲で適宜変形
して実施することができる。
【0020】例えば、ウエハの傾斜および回転以外のウ
エハ処理を行なった場合および処理は行なわずウエハの
平面内での粗な位置合わせとウエハ搬送のみの場合も上
述の実施例と同一のスループット向上の効果がある。
【0021】ウエハ搬送装置2においてウエハの受け渡
し、XYθ方向の位置合わせ、処理を行なう高さが搬送
アーム4より高い高さであれば、上述の実施例とほぼ同
一のスループット向上の効果がある。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るウエ
ハ搬送装置は、以下のごとき効果を奏する。
【0023】1)ウエハのウエハ平面内での回転方向の
位置合わせとウエハの傾斜・回転を行なう第一の処理装
置の専有面積内に搬送装置を納め、またウエハのウエハ
平面内でのXYθ方向の位置合わせと、ウエハの直交X
Y方向の水平移動を行なう第二の処理装置の専有面積内
に搬送装置を収めたため、搬送装置だけの専用スペース
を省ける。
【0024】2)処理済ウエハをXY水平移動機構が受
け渡し位置に移動開始と同時に搬送アームに渡せるこ
と、次の未処理ウエハのウエハ平面内でのXYθ方向の
位置合わせを、そのウエハを搬送した搬送アームが戻り
動作開始と同時に開始出来ること、ウエハの受け渡し高
さと平面内でのXYθ方向の位置合わせと処理を同一高
さで連続して行なえることによりウエハ交換時間を短縮
し、スループットを向上出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例に係るウエハ外観検査装置
用ウエハ搬送装置の概略構成図である。
【図2】 図1の装置におけるウエハ交換に関するフロ
ーの概略図である。
【図3】 図2のフローを理解するための図1の各アー
ムおよび各チャックの高さを示す概略図である。
【図4】 従来のウエハ外観検査装置のウエハ搬送装置
の概略構成図である。
【図5】 図4の装置におけるウエハ交換に関するフロ
ーの概略図である。
【図6】 図5のフローを理解するための図4の各アー
ムおよび各チャックの高さを示す概略図である。
【符号の説明】
1:第一のウエハ搬送装置、2:第二のウエハ搬送装
置、3:カセット台、4:搬送アーム(第一のアーム手
段)、5:センタリング用コマ、6:ウエハチャック
(第一の保持手段)、7:ウエハ傾斜・回転機構、8:
センサ、9:ウエハチャック(第二の保持手段)、1
0:位置合わせ用コマ、11:XY方向水平移動機構、
12:搬送アーム(第二のアーム手段)、17:回動部
材、18:回転軸、S1:ウエハ受け渡し位置、S2:
ウエハ処理位置、S4,S7:ウエハ受け渡し高さ。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 未処理ウエハ収納位置から取り出したウ
    エハおよび処理済ウエハ収納位置へ収納するウエハを択
    一的に保持する第一の保持手段と、 所定の受け渡し位置で上昇して未処理のウエハを受け取
    ってから所定の処理位置で該ウエハに対し所定の処理が
    施され次いで前記受け渡し位置で下降して処理済のウエ
    ハを引き渡すまでの間、該ウエハをほぼ水平状態で保持
    する第二の保持手段と、 第一の保持手段から未処理のウエハを、第二の保持手段
    から処理済のウエハを受け取ってそれぞれ第二および第
    一の保持手段に引き渡すウエハ入替え手段と、 前記入替え手段から第二の保持手段に引き渡されたウエ
    ハの側面の複数箇所に位置合わせ用コマを当てることに
    より該ウエハを該ウエハ平面内でXYおよびθ方向に位
    置合わせする位置合わせ手段と、 第二の保持手段を搭載して直交XY方向に水平移動し前
    記ウエハを前記受け渡し位置と前記処理位置との間で搬
    送する移動手段とを具備するウエハ搬送装置において、 前記位置合わせ手段は、前記入替え手段から第二の保持
    手段に受け渡された未処理ウエハをその受け渡された高
    さ位置で位置合わせすることを特徴とするウエハ搬送装
    置。
  2. 【請求項2】 未処理ウエハ収納位置から取り出したウ
    エハおよび処理済ウエハ収納位置へ収納するウエハを択
    一的に保持する第一の保持手段と、 所定の受け渡し位置で上昇して未処理のウエハを受け取
    ってから所定の処理位置で該ウエハに対し所定の処理が
    施されさらに前記受け渡し位置で下降して処理済のウエ
    ハを引き渡すまでの間、該ウエハをほぼ水平状態で保持
    する第二の保持手段と、 第一の保持手段に保持されたウエハの下方の位置と前記
    受け渡し位置での第二の保持手段の上方の位置とに移動
    し、第一の保持手段に保持されたウエハの下方に位置し
    た後第一の保持手段が下降することにより該ウエハを第
    一の保持手段から受け取り、かつ第二の保持手段の上方
    に位置した後第二の保持手段が上昇することにより該ウ
    エハを第二の保持手段に引き渡す第一のアーム手段と、 前記受け渡し位置での第二の保持手段に保持されたウエ
    ハの下方の位置と第一の保持手段の上方の位置とに移動
    し、第二の保持手段に保持されたウエハの下方に位置し
    た後第二の保持手段が下降することにより該ウエハを第
    二の保持手段から受け取り、かつ第一の保持手段の上方
    に位置した後第一の保持手段が上昇することにより該ウ
    エハを第一の保持手段に引き渡す第二のアーム手段と、 第二の保持手段を搭載して直交XY方向に水平移動し前
    記ウエハを前記受け渡し位置と前記処理位置との間で搬
    送する移動手段とを具備するウエハ搬送装置において、 第二のアーム手段が前記移動手段に搭載されており、第
    二の保持手段から第二のアーム手段への処理済ウエハの
    受け渡しが前記移動手段による該処理済ウエハの前記処
    理位置から前記受け渡し位置への移動と並行して行なわ
    れることを特徴とするウエハ搬送装置。
  3. 【請求項3】 前記第一のアーム手段から第二の保持手
    段に引き渡されたウエハの側面の複数箇所に位置合わせ
    用コマを当てることにより該ウエハを該ウエハ平面内で
    XYおよびθ方向に位置合わせする位置合わせ手段をさ
    らに備え、該位置合わせ手段は、前記第一のアーム手段
    から第二の保持手段に受け渡された未処理ウエハをその
    受け渡された高さ位置で位置合わせすることを特徴とす
    る請求項2記載のウエハ搬送装置。
  4. 【請求項4】 前記第一のアーム手段から第二の保持手
    段へのウエハ受け渡し位置と前記第二の保持手段から第
    二のアーム手段へのウエハ受け渡し位置の高さが異なる
    ことを特徴とする請求項2または3記載のウエハ搬送装
    置。
  5. 【請求項5】 前記第一の保持手段を一定高さまで持ち
    上げ、あるいはさらに傾斜させる機構、および第一の保
    持手段自身を回転させるかまたは第一の保持手段を持ち
    上げる機構自体を水平面内で回転させる機構からなる二
    軸ウエハ回転機構と、 前記未処理ウエハをほぼ水平状態に第一の保持手段で保
    持したまま回転させて保持されたウエハ平面内で回転方
    向に位置合わせする機構とをさらに有することを特徴と
    する請求項2〜4のいずれかに記載のウエハ搬送装置。
  6. 【請求項6】 前記第一のアーム手段は、前記第一の保
    持手段の垂直軸とほぼ同心で回動する回動部材上に軸支
    され、該部材と同期して回動することにより、前記未処
    理ウエハの第一の保持手段から第二の保持手段への受け
    渡しに加え、前記未処理ウエハ収納位置からの未処理ウ
    エハの取り出しおよび処理済ウエハ収納位置への処理済
    ウエハの収納をさらに行なうことを特徴とする請求項5
    に記載のウエハ搬送装置。
  7. 【請求項7】 前記位置合わせ手段による前記未処理ウ
    エハの位置合わせが前記移動手段による該未処理ウエハ
    の前記受け渡し位置から前記処理位置への移動と並行し
    て行なわれることを特徴とする請求項1〜6のいずれか
    に記載のウエハ搬送装置。
  8. 【請求項8】 前記請求項1〜7のいずれかに記載のウ
    エハ搬送装置と顕微鏡とを組み合わせたウエハ検査装
    置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6405610B1 (en) * 1995-11-14 2002-06-18 Nikon Corporation Wafer inspection apparatus
JP2008510141A (ja) * 2004-08-11 2008-04-03 リハイトン エレクトロニクス インク 導電性シート材料のシート電荷密度と移動度の測定のための装置及び取り扱いシステム
US8207748B2 (en) 2004-08-11 2012-06-26 Lehighton Electronics, Inc. Device and handling system for measurement of mobility and sheet charge density

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