JPH08197259A - 抵抗溶接機 - Google Patents
抵抗溶接機Info
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- JPH08197259A JPH08197259A JP7026052A JP2605295A JPH08197259A JP H08197259 A JPH08197259 A JP H08197259A JP 7026052 A JP7026052 A JP 7026052A JP 2605295 A JP2605295 A JP 2605295A JP H08197259 A JPH08197259 A JP H08197259A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 不活性ガスを溶接部の周囲に噴出させて空気
との接触を遮断することにより該溶接部表面に酸化皮膜
の形成を防止するように構成された抵抗溶接機におい
て、上記ガスの消費量を低減することを目的とする。 【構成】 電極チップ１，２及びチップホルダ３，４か
らなる上下一対の電極５，６の少なくとも一方のホルダ
３のチップ１取付部位に円形の穴部１４を形成し、該穴
部１４に筒状のシールドチューブ１３を嵌入して上記チ
ップ１の周囲に取り付ける。その場合に、上記チップ１
が被溶接物Ｘを加圧したときに、シールドチューブ１３
の裾部が該被溶接物Ｘ表面に当接するように形成して、
チップ１とチューブ１３との間の空間１５を溶接時には
略密閉状態とし、供給パイプ１７及び通路１６を介して
該空間１５に供給されるシールドガスの外部への放出量
が微小となるように構成する。
との接触を遮断することにより該溶接部表面に酸化皮膜
の形成を防止するように構成された抵抗溶接機におい
て、上記ガスの消費量を低減することを目的とする。 【構成】 電極チップ１，２及びチップホルダ３，４か
らなる上下一対の電極５，６の少なくとも一方のホルダ
３のチップ１取付部位に円形の穴部１４を形成し、該穴
部１４に筒状のシールドチューブ１３を嵌入して上記チ
ップ１の周囲に取り付ける。その場合に、上記チップ１
が被溶接物Ｘを加圧したときに、シールドチューブ１３
の裾部が該被溶接物Ｘ表面に当接するように形成して、
チップ１とチューブ１３との間の空間１５を溶接時には
略密閉状態とし、供給パイプ１７及び通路１６を介して
該空間１５に供給されるシールドガスの外部への放出量
が微小となるように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は抵抗溶接機、特に、被溶
接物表面における酸化皮膜の形成を防止する抵抗溶接機
に関する。
接物表面における酸化皮膜の形成を防止する抵抗溶接機
に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、ステンレス等の金属材のスポッ
ト溶接に用いられる抵抗溶接機は、相互に対接離反する
一対の電極部が備えられ、これら両電極部間に被溶接物
を挟んで加圧したのち通電することにより、この被溶接
物を上記加圧部位で接合するものである。
ト溶接に用いられる抵抗溶接機は、相互に対接離反する
一対の電極部が備えられ、これら両電極部間に被溶接物
を挟んで加圧したのち通電することにより、この被溶接
物を上記加圧部位で接合するものである。
【０００３】その場合に、溶接部が高熱状態で空気に触
れると酸化を起こして所謂焼け焦げが生じ、これを除去
する作業が余分に必要となるので、かかる酸化皮膜の形
成を防止する技術として、特開昭４９−８１２５０号公
報には、図７に示すように、電極Ａの周囲にノズルＢを
設けると共に、これらの間の空間に連通する通気孔Ｃを
電極ホルダＤに形成し、ガスパイプＥから例えば二酸化
炭素ガス等を矢印方向に噴出させることにより被溶接物
Ｆの周囲にガスシールド部Ｇを形成することが開示され
ている。これによれば、溶接部と空気との接触が上記シ
ールド部Ｇによって遮断されるため酸化皮膜の形成が回
避されることになる。
れると酸化を起こして所謂焼け焦げが生じ、これを除去
する作業が余分に必要となるので、かかる酸化皮膜の形
成を防止する技術として、特開昭４９−８１２５０号公
報には、図７に示すように、電極Ａの周囲にノズルＢを
設けると共に、これらの間の空間に連通する通気孔Ｃを
電極ホルダＤに形成し、ガスパイプＥから例えば二酸化
炭素ガス等を矢印方向に噴出させることにより被溶接物
Ｆの周囲にガスシールド部Ｇを形成することが開示され
ている。これによれば、溶接部と空気との接触が上記シ
ールド部Ｇによって遮断されるため酸化皮膜の形成が回
避されることになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術では、溶接部と空気との接触を確実に遮断するよ
うなガスシールド部Ｇを形成するためには、多量のシー
ルドガスを噴出させなければならず、該ガスの消費量が
大きくなって製造コスト上好ましくない。
来技術では、溶接部と空気との接触を確実に遮断するよ
うなガスシールド部Ｇを形成するためには、多量のシー
ルドガスを噴出させなければならず、該ガスの消費量が
大きくなって製造コスト上好ましくない。
【０００５】そこで、本発明は、シールドガスを用いて
酸化皮膜の形成を防止するように構成された抵抗溶接機
において、該シールドガスの消費量を低減することを課
題とする。
酸化皮膜の形成を防止するように構成された抵抗溶接機
において、該シールドガスの消費量を低減することを課
題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、上
記課題を解決するために次のように構成したことを特徴
とする。
記課題を解決するために次のように構成したことを特徴
とする。
【０００７】まず、本願の請求項１に記載の発明（以下
「第１発明」という。）は、相互に対接離反する一対の
電極部で被溶接物を加圧したのち通電することにより該
被溶接物を接合する抵抗溶接機であって、少なくとも一
方の電極部の周囲に筒状のシールド部材が設けられてい
ると共に、該シールド部材と上記電極部との間の空間に
シールドガスを供給するガス供給通路が備えられ、か
つ、該シールド部材の裾部が上記加圧時に被溶接物表面
に当接するような長さに形成されていることを特徴とす
る。
「第１発明」という。）は、相互に対接離反する一対の
電極部で被溶接物を加圧したのち通電することにより該
被溶接物を接合する抵抗溶接機であって、少なくとも一
方の電極部の周囲に筒状のシールド部材が設けられてい
ると共に、該シールド部材と上記電極部との間の空間に
シールドガスを供給するガス供給通路が備えられ、か
つ、該シールド部材の裾部が上記加圧時に被溶接物表面
に当接するような長さに形成されていることを特徴とす
る。
【０００８】また、請求項２に記載の発明（以下「第２
発明」という。）は、上記第１発明において、シールド
部材の裾部に、微小な切欠きが形成されていることを特
徴とする。
発明」という。）は、上記第１発明において、シールド
部材の裾部に、微小な切欠きが形成されていることを特
徴とする。
【０００９】一方、請求項３に記載の発明（以下「第３
発明」という。）は、上記第１発明又は第２発明におい
て、シールド部材は、透明性を有する素材で形成されて
いることを特徴とする。
発明」という。）は、上記第１発明又は第２発明におい
て、シールド部材は、透明性を有する素材で形成されて
いることを特徴とする。
【００１０】さらに、請求項４に記載の発明（以下「第
４発明」という。）は、上記第１発明ないし第３発明の
いずれかにおいて、電極部が該電極部よりも大径の支持
部材に取り付けられている場合において、シールド部材
は、上記支持部材よりも小径に形成されていることを特
徴とする。
４発明」という。）は、上記第１発明ないし第３発明の
いずれかにおいて、電極部が該電極部よりも大径の支持
部材に取り付けられている場合において、シールド部材
は、上記支持部材よりも小径に形成されていることを特
徴とする。
【００１１】そして、請求項５に記載の発明（以下「第
５発明」という。）は、上記第１発明ないし第４発明の
いずれかにおいて、通電終了後に電極部が被溶接物の加
圧を保持して溶接部を冷却させる冷却期間が設けられて
いる場合において、少なくとも上記冷却期間中は、ガス
供給通路を介してシールド部材と電極部との間の空間に
シールドガスを供給するガス供給制御手段が設けられて
いることを特徴とする。
５発明」という。）は、上記第１発明ないし第４発明の
いずれかにおいて、通電終了後に電極部が被溶接物の加
圧を保持して溶接部を冷却させる冷却期間が設けられて
いる場合において、少なくとも上記冷却期間中は、ガス
供給通路を介してシールド部材と電極部との間の空間に
シールドガスを供給するガス供給制御手段が設けられて
いることを特徴とする。
【００１２】
【作用】上記第１発明の構成によれば、電極部の周囲に
設けられた筒状シールド部材の裾部が被溶接物の加圧時
に該被溶接物表面に当接し、上記シールド部材と電極部
との間に形成される空間の大部分が該シールド部材によ
って外部と遮蔽されることになる。その結果、この空間
にガス供給通路を介して供給されるシールドガスが大気
中に過剰に放出されないので、最小限のガス使用量で溶
接部周囲の環境を不活性雰囲気とすることができ、従来
のように確実なガスシールド形成のために上記ガスを多
量に噴出させる必要がなくなる。
設けられた筒状シールド部材の裾部が被溶接物の加圧時
に該被溶接物表面に当接し、上記シールド部材と電極部
との間に形成される空間の大部分が該シールド部材によ
って外部と遮蔽されることになる。その結果、この空間
にガス供給通路を介して供給されるシールドガスが大気
中に過剰に放出されないので、最小限のガス使用量で溶
接部周囲の環境を不活性雰囲気とすることができ、従来
のように確実なガスシールド形成のために上記ガスを多
量に噴出させる必要がなくなる。
【００１３】また、第２発明によれば、上記シールド部
材の裾部に微小な切欠きが形成されているので、該裾部
が被溶接物表面に密着しても供給されたシールドガスの
噴出が促進されて、上記空間のシールドガスによる置
換、充填が円滑に行なわれることになる。
材の裾部に微小な切欠きが形成されているので、該裾部
が被溶接物表面に密着しても供給されたシールドガスの
噴出が促進されて、上記空間のシールドガスによる置
換、充填が円滑に行なわれることになる。
【００１４】一方、第３発明によれば、シールド部材が
透明性を有する素材で形成されているので、上記空間内
の電極部を観察することができて、溶接部の位置決めが
支障なく行なわれることになる。
透明性を有する素材で形成されているので、上記空間内
の電極部を観察することができて、溶接部の位置決めが
支障なく行なわれることになる。
【００１５】さらに、第４発明によれば、電極部が該電
極部よりも大径の支持部材に取り付けられている場合
に、シールド部材が上記支持部材よりも小径に形成され
ているので、このシールド部材は支持部材よりも横方向
に突出することがなく、幅の狭い部位を溶接する際の支
障となることがない。
極部よりも大径の支持部材に取り付けられている場合
に、シールド部材が上記支持部材よりも小径に形成され
ているので、このシールド部材は支持部材よりも横方向
に突出することがなく、幅の狭い部位を溶接する際の支
障となることがない。
【００１６】そして、第５発明によれば、通電終了後に
おいても電極部が被溶接物の加圧を保持し、これにより
溶接部を冷却させる冷却期間が設けられている場合に、
少なくとも上記冷却期間中はガス供給通路を介して上記
空間にシールドガスを供給するガス供給制御手段が設け
られているので、溶接部が最も高温となったのち酸化皮
膜が発生し易い冷却期間中における空気の遮断を必要最
低限のガス供給で行なうことができる。
おいても電極部が被溶接物の加圧を保持し、これにより
溶接部を冷却させる冷却期間が設けられている場合に、
少なくとも上記冷却期間中はガス供給通路を介して上記
空間にシールドガスを供給するガス供給制御手段が設け
られているので、溶接部が最も高温となったのち酸化皮
膜が発生し易い冷却期間中における空気の遮断を必要最
低限のガス供給で行なうことができる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【００１８】図１に、この実施例に係る抵抗溶接機の電
極部を示す。図示したように、この抵抗溶接機では、上
下一対の電極チップ１，２がチップホルダ３，４にテー
パ面を介して圧入され、夫々上側電極５及び下側電極６
を構成している。これらのうち、下側電極６は固定され
ているのに対し、上側電極５は駆動装置７（図３参照）
により矢印ｂのように上下に昇降されて両電極５，６が
相互に対接もしくは離反するようになされている。そし
て、対接時に上記両チップ１，２で被溶接物Ｘ，Ｙを挟
んで加圧し、この状態で上側電極５に所定の電圧を印加
して両チップ１，２間に電流を通じることにより、上記
挟持された被溶接物Ｘ，Ｙに抵抗熱が発生して該被溶接
物Ｘ，Ｙが上記加圧された部位で接合されることにな
る。
極部を示す。図示したように、この抵抗溶接機では、上
下一対の電極チップ１，２がチップホルダ３，４にテー
パ面を介して圧入され、夫々上側電極５及び下側電極６
を構成している。これらのうち、下側電極６は固定され
ているのに対し、上側電極５は駆動装置７（図３参照）
により矢印ｂのように上下に昇降されて両電極５，６が
相互に対接もしくは離反するようになされている。そし
て、対接時に上記両チップ１，２で被溶接物Ｘ，Ｙを挟
んで加圧し、この状態で上側電極５に所定の電圧を印加
して両チップ１，２間に電流を通じることにより、上記
挟持された被溶接物Ｘ，Ｙに抵抗熱が発生して該被溶接
物Ｘ，Ｙが上記加圧された部位で接合されることにな
る。
【００１９】また、上記各ホルダ３，４には冷却水通路
８が形成されていると共に、該通路８内に小径の冷却水
管９が配設され、夫々冷却水排出パイプ１０及び冷却水
供給パイプ１１に接続されている。一方、各電極チップ
１，２には上記冷却水管９を挿通させる穴部１２が設け
られ、上記ホルダ３，４に取り付けられた電極チップ
１，２が矢印ｃ方向に流れる冷却水で冷却されて、該チ
ップ１，２の電流抵抗の増大防止が図られている。
８が形成されていると共に、該通路８内に小径の冷却水
管９が配設され、夫々冷却水排出パイプ１０及び冷却水
供給パイプ１１に接続されている。一方、各電極チップ
１，２には上記冷却水管９を挿通させる穴部１２が設け
られ、上記ホルダ３，４に取り付けられた電極チップ
１，２が矢印ｃ方向に流れる冷却水で冷却されて、該チ
ップ１，２の電流抵抗の増大防止が図られている。
【００２０】そして、図２にも示すように、上記上側電
極５の電極チップ１の周囲に筒状のシールドチューブ１
３が設けられている。このシールドチューブ１３は、例
えば塩化ビニル樹脂やシリコーン樹脂等を筒状に成形し
たもので、上側ホルダ３のチップ取付部位に形成された
円形穴１４に嵌入されて取り付けられている。その場合
に、該チューブ１３の下端部は、被溶接物加圧面である
電極チップ１の下面と略同じ位置まで延びている。な
お、上記樹脂材として透明性を有する素材を用いると、
内部の電極チップ１の観察が可能となって溶接部位の位
置決めが実行し易くなり、また、耐熱性の面からはシリ
コーン樹脂が好ましい。
極５の電極チップ１の周囲に筒状のシールドチューブ１
３が設けられている。このシールドチューブ１３は、例
えば塩化ビニル樹脂やシリコーン樹脂等を筒状に成形し
たもので、上側ホルダ３のチップ取付部位に形成された
円形穴１４に嵌入されて取り付けられている。その場合
に、該チューブ１３の下端部は、被溶接物加圧面である
電極チップ１の下面と略同じ位置まで延びている。な
お、上記樹脂材として透明性を有する素材を用いると、
内部の電極チップ１の観察が可能となって溶接部位の位
置決めが実行し易くなり、また、耐熱性の面からはシリ
コーン樹脂が好ましい。
【００２１】さらに、これら電極チップ１とシールドチ
ューブ１３との間に形成される空間１５に上記円形穴１
４の上面において開口するガス通路１６が上側ホルダ３
に設けられていると共に、該通路１６はシールドガス供
給パイプ１７に接続されている。その場合に、この供給
パイプ１７は、該パイプ１７の開閉を行なうソレノイド
バルブ１８（図３参照）を経て、例えばアルゴンガス等
の不活性ガスのボンベ１９に通じており、上記ソレノイ
ドバルブ１８の開動作により、アルゴンガスが供給パイ
プ１７及びガス通路１６を介して上記空間１５に所定の
圧力で供給されるようになされている。
ューブ１３との間に形成される空間１５に上記円形穴１
４の上面において開口するガス通路１６が上側ホルダ３
に設けられていると共に、該通路１６はシールドガス供
給パイプ１７に接続されている。その場合に、この供給
パイプ１７は、該パイプ１７の開閉を行なうソレノイド
バルブ１８（図３参照）を経て、例えばアルゴンガス等
の不活性ガスのボンベ１９に通じており、上記ソレノイ
ドバルブ１８の開動作により、アルゴンガスが供給パイ
プ１７及びガス通路１６を介して上記空間１５に所定の
圧力で供給されるようになされている。
【００２２】次に、図３及び図４を参照して、上記上側
電極５の昇降、電圧の印加、及びアルゴンガスの供給動
作について説明する。
電極５の昇降、電圧の印加、及びアルゴンガスの供給動
作について説明する。
【００２３】すなわち、この抵抗溶接機にはフットスイ
ッチ２０が備えられ、その起動により、前述の上側電極
駆動装置７に対して、上側電極下降信号が時間Ｔ０に、
及び上昇信号が時間Ｔ４に夫々出力され、また、上側電
極５に所定の電圧を印加する通電装置２１に対して、通
電開始信号が時間Ｔ１に、及び通電終了信号が時間Ｔ３
に夫々出力され、さらに、上記ソレノイドバルブ１８の
開閉動作を制御するシールドガス制御ユニット２２に対
して、開信号が時間Ｔ２に、及び閉信号が時間Ｔ４に夫
々出力されるようになされている。
ッチ２０が備えられ、その起動により、前述の上側電極
駆動装置７に対して、上側電極下降信号が時間Ｔ０に、
及び上昇信号が時間Ｔ４に夫々出力され、また、上側電
極５に所定の電圧を印加する通電装置２１に対して、通
電開始信号が時間Ｔ１に、及び通電終了信号が時間Ｔ３
に夫々出力され、さらに、上記ソレノイドバルブ１８の
開閉動作を制御するシールドガス制御ユニット２２に対
して、開信号が時間Ｔ２に、及び閉信号が時間Ｔ４に夫
々出力されるようになされている。
【００２４】これにより、上記時間Ｔ０からＴ４までの
間は、被溶接物Ｘ，Ｙが上下の電極チップ１，２で加圧
された状態となり、そのうち時間Ｔ１からＴ３までの間
で通電されて溶接が行なわれ、次いで時間Ｔ３からＴ４
までの間は被溶接物Ｘ，Ｙが加圧保持されたまま溶接部
の冷却が行なわれることになる。その場合に、アルゴン
ガスの供給が、上記時間Ｔ３よりやや早いタイミングの
時間Ｔ２から上側電極５の上昇と同時の時間Ｔ４まで行
なわれるので、時間Ｔ３からＴ４までの冷却期間中は電
極チップ１の周囲の空間１５にアルゴンガスが導入され
ることになる。
間は、被溶接物Ｘ，Ｙが上下の電極チップ１，２で加圧
された状態となり、そのうち時間Ｔ１からＴ３までの間
で通電されて溶接が行なわれ、次いで時間Ｔ３からＴ４
までの間は被溶接物Ｘ，Ｙが加圧保持されたまま溶接部
の冷却が行なわれることになる。その場合に、アルゴン
ガスの供給が、上記時間Ｔ３よりやや早いタイミングの
時間Ｔ２から上側電極５の上昇と同時の時間Ｔ４まで行
なわれるので、時間Ｔ３からＴ４までの冷却期間中は電
極チップ１の周囲の空間１５にアルゴンガスが導入され
ることになる。
【００２５】以上説明した構成により、時間Ｔ０からＴ
４までの加圧時には、図５に示すように、シールドチュ
ーブ１３の下端部が被溶接物Ｘの表面に当接して上記空
間１５が略密閉状態となるので、この空間１５にアルゴ
ンガスを矢印方向に供給することにより、該空間１５を
アルゴンガスで置換、充満させることができて、電極チ
ップ１で加圧された溶接部Ｚを不活性雰囲気下におくこ
とができる。このとき、通路１６を介して空間１５に供
給されたガスは、上記チューブ１３の下端部と被溶接物
Ｘの表面の起伏との間に生じる僅かな間隙から矢印で示
すように大気中に放出されるので、ガスの消費量を上記
空間１５の容量、及びこの僅かな間隙からの噴出量に抑
制しながら酸化皮膜の形成を防止できることになる。
４までの加圧時には、図５に示すように、シールドチュ
ーブ１３の下端部が被溶接物Ｘの表面に当接して上記空
間１５が略密閉状態となるので、この空間１５にアルゴ
ンガスを矢印方向に供給することにより、該空間１５を
アルゴンガスで置換、充満させることができて、電極チ
ップ１で加圧された溶接部Ｚを不活性雰囲気下におくこ
とができる。このとき、通路１６を介して空間１５に供
給されたガスは、上記チューブ１３の下端部と被溶接物
Ｘの表面の起伏との間に生じる僅かな間隙から矢印で示
すように大気中に放出されるので、ガスの消費量を上記
空間１５の容量、及びこの僅かな間隙からの噴出量に抑
制しながら酸化皮膜の形成を防止できることになる。
【００２６】また、上記アルゴンガスの供給が時間Ｔ３
の通電終了の直前から行なわれるので、溶接部Ｚが最も
高温となり、酸化皮膜の発生し易い冷却期間中に必要最
低限のガス供給で空気との接触が回避されることにな
る。
の通電終了の直前から行なわれるので、溶接部Ｚが最も
高温となり、酸化皮膜の発生し易い冷却期間中に必要最
低限のガス供給で空気との接触が回避されることにな
る。
【００２７】さらに、シールドチューブ１３がチップホ
ルダ３よりも小径とされて円形穴１４に嵌入されている
ので、該チューブ１３がホルダ３から横方向に突出する
ことがなく、幅の狭い部位を溶接する際における作業上
の支障となることがない。
ルダ３よりも小径とされて円形穴１４に嵌入されている
ので、該チューブ１３がホルダ３から横方向に突出する
ことがなく、幅の狭い部位を溶接する際における作業上
の支障となることがない。
【００２８】次に、本発明の第２の実施例を説明する。
図６に示すように、この実施例では、上側電極５ａに取
り付けられたシールドチューブ１３ａの下端部に、半円
状の微小な切欠き２３が複数形成されている。これによ
り、例えばチューブ１３ａの下端部が被溶接物Ｘの表面
に密着し、空間１５ａに供給されたシールドガスの噴出
が阻止されるような場合でも、該ガスが上記切欠き２３
…２３から大気中に放出されることとなって空間１５ａ
を円滑にシールドガスで置換、充填できることになる。
図６に示すように、この実施例では、上側電極５ａに取
り付けられたシールドチューブ１３ａの下端部に、半円
状の微小な切欠き２３が複数形成されている。これによ
り、例えばチューブ１３ａの下端部が被溶接物Ｘの表面
に密着し、空間１５ａに供給されたシールドガスの噴出
が阻止されるような場合でも、該ガスが上記切欠き２３
…２３から大気中に放出されることとなって空間１５ａ
を円滑にシールドガスで置換、充填できることになる。
【００２９】また、上記実施例で用いたような縦長のチ
ップホルダ３，４に代えて、図７に示すように、チップ
取付部位から横方向に延びた形状のホルダ３ｂ，４ｂを
使用してもよく、この場合には当該抵抗溶接機を縦方向
にコンパクト化することができる。
ップホルダ３，４に代えて、図７に示すように、チップ
取付部位から横方向に延びた形状のホルダ３ｂ，４ｂを
使用してもよく、この場合には当該抵抗溶接機を縦方向
にコンパクト化することができる。
【００３０】なお、上記実施例では、被溶接物Ｘと接す
る上側電極にのみシールドチューブを取り付ける場合を
説明したが、被溶接物Ｙと接する下側電極にのみ、ある
いは両電極共に該チューブを取り付けることができるこ
とはいうまでもない。
る上側電極にのみシールドチューブを取り付ける場合を
説明したが、被溶接物Ｙと接する下側電極にのみ、ある
いは両電極共に該チューブを取り付けることができるこ
とはいうまでもない。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本願の第１発明に
よれば、電極部の周囲に設けられた筒状シールド部材の
裾部が被溶接物の加圧時に該被溶接物表面に当接し、上
記シールド部材と電極部との間に形成される空間の大部
分が該シールド部材によって外部と遮蔽されることにな
る。その結果、この空間にガス供給通路を介して供給さ
れるシールドガスが大気中に過剰に放出されないので、
最小限のガス使用量で溶接部周囲の環境を不活性雰囲気
とすることができ、従来のように確実なガスシールド形
成のために上記ガスを多量に噴出させる必要がなくな
る。
よれば、電極部の周囲に設けられた筒状シールド部材の
裾部が被溶接物の加圧時に該被溶接物表面に当接し、上
記シールド部材と電極部との間に形成される空間の大部
分が該シールド部材によって外部と遮蔽されることにな
る。その結果、この空間にガス供給通路を介して供給さ
れるシールドガスが大気中に過剰に放出されないので、
最小限のガス使用量で溶接部周囲の環境を不活性雰囲気
とすることができ、従来のように確実なガスシールド形
成のために上記ガスを多量に噴出させる必要がなくな
る。
【００３２】また、第２発明によれば、上記シールド部
材の裾部に微小な切欠きが形成されているので、該裾部
が被溶接物表面に密着しても供給されたシールドガスの
噴出が促進されて、上記空間のシールドガスによる置
換、充填が円滑に行なわれることになる。
材の裾部に微小な切欠きが形成されているので、該裾部
が被溶接物表面に密着しても供給されたシールドガスの
噴出が促進されて、上記空間のシールドガスによる置
換、充填が円滑に行なわれることになる。
【００３３】一方、第３発明によれば、シールド部材が
透明性を有する素材で形成されているので、上記空間内
の電極部を観察することができて、溶接部の位置決めが
支障なく行なわれることになる。
透明性を有する素材で形成されているので、上記空間内
の電極部を観察することができて、溶接部の位置決めが
支障なく行なわれることになる。
【００３４】さらに、第４発明によれば、電極部が該電
極部よりも大径の支持部材に取り付けられている場合
に、シールド部材が上記支持部材よりも小径に形成され
ているので、このシールド部材は支持部材よりも横方向
に突出することがなく、幅の狭い部位を溶接する際の支
障となることがない。
極部よりも大径の支持部材に取り付けられている場合
に、シールド部材が上記支持部材よりも小径に形成され
ているので、このシールド部材は支持部材よりも横方向
に突出することがなく、幅の狭い部位を溶接する際の支
障となることがない。
【００３５】そして、第５発明によれば、通電終了後に
おいても電極部が被溶接物の加圧を保持し、これにより
溶接部を冷却させる冷却期間が設けられている場合に、
少なくとも上記冷却期間中はガス供給通路を介して上記
空間にシールドガスを供給するガス供給制御手段が設け
られているので、溶接部が最も高温となったのち酸化皮
膜が発生し易い冷却期間中における空気の遮断を必要最
低限のガス供給で行なうことができる。
おいても電極部が被溶接物の加圧を保持し、これにより
溶接部を冷却させる冷却期間が設けられている場合に、
少なくとも上記冷却期間中はガス供給通路を介して上記
空間にシールドガスを供給するガス供給制御手段が設け
られているので、溶接部が最も高温となったのち酸化皮
膜が発生し易い冷却期間中における空気の遮断を必要最
低限のガス供給で行なうことができる。
【図１】 本発明の第１の実施例に係る抵抗溶接機の電
極部を示す部分断面図である。
極部を示す部分断面図である。
【図２】 図１のａ−ａ線における断面図である。
【図３】 上記溶接機の溶接動作の制御システム図であ
る。
る。
【図４】 同じく溶接動作のタイムチャート図である。
【図５】 上記溶接機で得られる作用の説明図である。
【図６】 本発明の第２の実施例に係る抵抗溶接機の上
側電極の要部拡大図である。
側電極の要部拡大図である。
【図７】 本発明の第３の実施例に係る抵抗溶接機の上
側電極の部分断面図である。
側電極の部分断面図である。
【図８】 従来のガスシールド式抵抗溶接機の説明図で
ある。
ある。
１ 電極チップ ３ チップホルダ ５ 上側電極 １３ シールドチューブ １５ 空間 １６ ガス通路 １７ シールドガス供給パイプ １８ ソレノイドバルブ １９ アルゴンガスボンベ ２２ シールドガス制御ユニット ２３ 切欠き Ｘ 被溶接物 Ｚ 溶接部
Claims (5)
- 【請求項１】 相互に対接離反する一対の電極部で被溶
接物を加圧したのち通電することにより該被溶接物を接
合する抵抗溶接機であって、少なくとも一方の電極部の
周囲に筒状のシールド部材が設けられていると共に、該
シールド部材と上記電極部との間の空間にシールドガス
を供給するガス供給通路が備えられ、かつ、該シールド
部材の裾部が上記加圧時に被溶接物表面に当接するよう
な長さに形成されていることを特徴とする抵抗溶接機。 - 【請求項２】 シールド部材の裾部に、微小な切欠きが
形成されていることを特徴とする請求項１に記載の抵抗
溶接機。 - 【請求項３】 シールド部材は、透明性を有する素材で
形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２
に記載の抵抗溶接機。 - 【請求項４】 電極部が該電極部よりも大径の支持部材
に取り付けられている場合において、シールド部材は、
上記支持部材よりも小径に形成されていることを特徴と
する請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の抵抗溶
接機。 - 【請求項５】 通電終了後に電極部が被溶接物の加圧を
保持して溶接部を冷却させる冷却期間が設けられている
場合において、少なくとも上記冷却期間中は、ガス供給
通路を介してシールド部材と電極部との間の空間にシー
ルドガスを供給するガス供給制御手段が設けられている
ことを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに
記載の抵抗溶接機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7026052A JPH08197259A (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 抵抗溶接機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7026052A JPH08197259A (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 抵抗溶接機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08197259A true JPH08197259A (ja) | 1996-08-06 |
Family
ID=12182924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7026052A Pending JPH08197259A (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 抵抗溶接機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08197259A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040020542A (ko) * | 2002-08-30 | 2004-03-09 | 포스코신기술연구조합 | 저항 점용접기의 전극봉 |
| JP2006236906A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Ngk Spark Plug Co Ltd | スパークプラグの製造方法 |
| EP1820596A1 (de) * | 2006-02-21 | 2007-08-22 | Siemens Transportation Systems GmbH & Co KG | Vorrichtung zum Punktschweissen |
| JP2009045657A (ja) * | 2007-08-21 | 2009-03-05 | Sekisui Chem Co Ltd | スポット抵抗溶接機 |
| ITTO20090813A1 (it) * | 2009-10-26 | 2011-04-27 | Robotools S R L | Pinza per elettrosaldatura. |
| JP2013059806A (ja) * | 2011-09-15 | 2013-04-04 | Nippon Avionics Co Ltd | 抵抗溶接機用溶接ヘッドおよび溶接方法 |
| KR101360523B1 (ko) * | 2012-05-14 | 2014-02-10 | 주식회사 포스코 | 용접전극 및 이를 포함한 용접장치 |
-
1995
- 1995-01-20 JP JP7026052A patent/JPH08197259A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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