JPH08195336A - 収差補正光学系及び該光学系を用いた位置合わせ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 簡単な構成で、他の収差には殆ど影響を与え
ることなく、容易にコマ収差を補正して、高精度に位置
合わせ用のマークの位置を検出する。 【構成】 ウエハ３のショット領域にウエハマーク５が
付設されている。広帯域の照明光Ｌ１は、ハーフミラー
７、第１対物レンズ８、ミラー９を介してウエハマーク
５を照明し、ウエハマーク５からの反射光は、ミラー
９、第１対物レンズ８、ハーフミラー７、第２対物レン
ズ１０、及びアフォーカル系１３を介して撮像素子１４
の撮像面上にウエハマーク５の像を形成する。第２対物
レンズ１０で発生するコマ収差とアフォーカル系１３で
発生するコマ収差とが相殺する関係にしておき、全系の
コマ収差を打ち消すようにアフォーカル系１３を光軸に
垂直な適当な方向に適量シフトさせる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばコマ収差を補正
するための収差補正光学系、及びこの収差補正光学系を
備えた位置合わせ装置に関し、特に半導体素子、又は液
晶表示素子等を製造する際に使用される投影露光装置に
おいて、感光基板上のアライメントマークの位置に基づ
いてその感光基板の位置合わせを行うアライメント装置
に適用して好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子（又は液晶表示素子等）は一
般に感光材料が塗布されたウエハ（又はガラスプレート
等）上に複数層の回路パターンを積み重ねて形成される
ため、回路パターンをウエハ上に露光するための投影露
光装置には、これから露光するレチクルのパターンと既
に回路パターンが形成されているウエハの各ショット領
域との位置合わせを行うためのアライメント装置が備え
られている。

【０００３】従来この種のアライメント装置としては、
特開平４−６５６０３号公報、特開平４−２７３２４６
号公報等で提示されているように、ハロゲンランプ等の
光源から射出される波長帯域幅の広い光でウエハ上のア
ライメントマーク（ウエハマーク）を照明し、その拡大
像を撮像素子上に形成し、得られた撮像信号を画像処理
してそのウエハマークの位置検出を行うオフ・アクシス
方式で、且つ撮像方式のアライメント装置が知られてい
る。撮像方式のアライメント装置の検出系はＦＩＡ（Fi
eld Image Alignment)系とも呼ばれている。

【０００４】この撮像方式のアライメント装置では、広
帯域照明であるため、ウエハ上のフォトレジスト層での
薄膜干渉の影響が低減される。更に、検出対象とするウ
エハマークが非対称マークであるときにも、得られたウ
エハマークの拡大像中から特定のエッジを選択する等の
処理により、その非対称の影響を軽減することができる
等、様々なプロセスウエハに対して高精度にアライメン
トを行うことができる。

【０００５】また、従来のアライメント装置として、Ｔ
ＴＬ（スルー・ザ・レンズ）方式で、且つ撮像方式のア
ライメント装置も知られている。ＴＴＬ方式の場合に
は、露光光の波長とアライメント用の検出光の波長とが
異なるために、露光用の投影光学系においてアライメン
ト用の検出光に対して収差が発生する。そこで、例えば
特公平２−３５４４６号公報に開示されているＴＴＬ方
式のアライメント装置では、アライメント用の検出光に
対して投影光学系で発生するコマ収差を１枚の斜めに配
置された平行平面板で補正し、この平行平面板により発
生する非点収差を別の２枚の平行平面板で補正してい
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
撮像方式のアライメント装置の結像光学系では、加工、
組立、調整等の製造工程において、僅かながら収差が残
存していた。このように収差が残存していると、撮像面
上でのウエハマーク像のコントラストが低下したり、ウ
エハマーク像に歪が生じるなどして、マーク位置の検出
誤差が発生する。近年、回路パターンの線幅の微細化に
伴い、益々高精度のアライメントが必要とされるように
なり、上記の如き僅少な収差による、アライメント精度
の低下も問題となってきている。

【０００７】そのように残存する収差の内で、特にコマ
収差のウエハマーク像の検出に及ぼす影響は大きく、軸
対称なコマ収差や偏心コマ収差などの非対称な横収差が
光学系内に発生していると、撮像面上に投影されるウエ
ハマーク像は、理想結像の場合と比べて位置ずれして計
測される。また、ピッチ、デューティ比、段差等のウエ
ハマークの形状が変わった場合や、ウエハマークがデフ
ォーカスした場合に、そのウエハマーク像にコマ収差が
存在すると、その像の非対称性の度合いが様々に変化
し、且つその計測位置のずれ量も様々に変わることにな
る。

【０００８】半導体製造工程毎にウエハマークの形状は
異なるため、コマ収差が残留した光学系でウエハのアラ
イメント（位置合わせ）を行うと、プロセスオフセット
が発生したり、重ね合わせ精度の再現性が悪化する等に
より、アライメント精度が低下する。また、結像光学系
の光学性能（物体側開口数、倍率など）や画像処理の方
式によって、光学系に許容されるコマ収差量は多少異な
るものの、高精度のアライメントを可能とするにはほぼ
０でなくてはならない。

【０００９】これに関して、従来のアライメント装置で
は、光学系の製造上の精度を極力高めることで、コマ収
差を含む諸収差の発生を押さえていたが、上記の要請に
応えるほど十分にコマ収差を除去することは非常に困難
であると共に、製造コスト的にも限界があった。また、
上述の特公平２−３５４４６号公報で開示されているＴ
ＴＬ方式のアライメント装置では、コマ収差を低減させ
るために平行平面板を斜めに配置することにより、逆に
非点収差や分散等の収差が発生するため、これを更に補
正するための新たな光学部材の追加が必要となる。即
ち、光軸に対して非対称に（斜めに）配置された平行平
面板でコマ収差の補正を行う場合には、他の諸収差、例
えば像面傾斜、非点収差、分散等が発生して、マーク像
の像質が劣化してしまい、却ってマーク位置の検出精度
の低下を招くことになる。そして、これを防ぐために更
に収差補正部材を追加するのでは、光学系が大型化し、
且つ製造コストも高くなるという不都合がある。

【００１０】本発明は斯かる点に鑑み、簡単な構成で、
他の収差には殆ど影響を与えることなく、コマ収差を容
易に補正できる収差補正光学系を提供することを目的と
する。更に本発明は、そのような収差補正光学系を備え
高精度に位置合わせ用のマークの位置を検出できる位置
合わせ装置を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明による第１の収差
補正光学系は、例えば図２に示すように、第１面（５）
からの光を集光する対物光学系（８）と、この対物光学
系からの光を集光して第２面（１４ａ）上にその第１面
の像を形成する集光光学系（１０）とを有する光学系に
おいて、対物光学系（８）と第２面（１４ａ）との間
に、集光光学系（１０）で発生するコマ収差と相殺され
るコマ収差を発生する補正光学系（１３）を配置し、集
光光学系（１０）と補正光学系（１３）との少なくとも
一方を偏心させることにより全系のコマ収差を減少させ
るものである。

【００１２】この場合、集光光学系（１０）と補正光学
系（１３）との間の空間はテレセントリックであること
が望ましい。また、本発明の第２の収差補正光学系は、
第１の収差補正光学系と同じ前提のもとで、例えば図５
に示すように、対物光学系（８）と第２面（１４ａ）と
の間に、この集光光学系で発生する球面収差と相殺され
る球面収差を発生する補正光学系（２０）を配置し、集
光光学系（１０）と補正光学系（２０）との少なくとも
一方を偏心させることにより全系のコマ収差を減少させ
るものである。

【００１３】この場合、集光光学系（１０）と補正光学
系（２０）との間の空間は非テレセントリックであるこ
とが望ましい。更に、これらの場合において、補正光学
系（１３；２０）はほぼ等倍正立のアフォーカル系であ
ることが望ましい。次に、本発明の第１の位置合わせ装
置は、例えば図１に示すように、感光基板（３）上の位
置合わせ用のマーク（５）からの光を集光する対物光学
系（８）と、この対物光学系からの光を集光して位置合
わせ用のマーク（５）の像を形成する集光光学系（１
０）と、この集光光学系により形成されるその位置合わ
せ用のマークの像の位置を検出する検出手段（１４）と
を備え、この検出手段の検出結果に基づいて感光基板
（３）の位置合わせを行う位置合わせ装置において、対
物光学系（８）と検出手段（１４）との間に、集光光学
系（１０）で発生するコマ収差と相殺されるコマ収差を
発生する補正光学系（１３）を配置し、集光光学系（１
０）と補正光学系（１３）との少なくとも一方を偏心さ
せることにより全系のコマ収差を減少させるものであ
る。

【００１４】また、本発明の第２の位置合わせ装置は、
第１の位置合わせ装置と同じ前提のもとで、例えば図４
に示すように、対物光学系（８）と検出手段（１４）と
の間に、集光光学系（１０）で発生する球面収差と相殺
される球面収差を発生する補正光学系（２０）を配置
し、集光光学系（１０）と補正光学系（２０）との少な
くとも一方を偏心させることにより全系のコマ収差を減
少させるものである。

【００１５】

【作用】斯かる本発明によれば、例えば製造誤差等によ
り理想光軸対称のコマ収差が発生している場合には、集
光光学系（１０）と補正光学系（１３；２０）との少な
くとも一方を偏心させて適量の偏心コマ収差を発生する
ことにより、結像面上の特にコマ収差が問題になる範囲
においてそのコマ収差を打ち消すことができる。一方、
製造誤差等により結像面全体に一様に偏心コマ収差が発
生している場合にも、適量の偏心コマ収差を発生させる
ことにより、その結像面全域でコマ収差を打ち消すこと
ができる。その際に、他の収差の発生は殆ど無視できる
程度である。

【００１６】

【実施例】

［第１実施例］以下、本発明の第１実施例につき図１〜
図３を参照して説明する。本実施例は投影露光装置に備
えられるオフ・アクシス方式で、且つ撮像方式のアライ
メント装置（位置合わせ装置）に本発明を適用したもの
である。

【００１７】図１は本実施例の投影露光装置の概略構成
を示し、この図１において、不図示の照明光学系からの
露光光のもとで、レチクル１のパターンの像が投影光学
系２を介してフォトレジストが塗布されたウエハ３上の
各ショット領域に投影される。ここで、投影光学系２の
光軸ＡＸ₀ に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面内で
図１の紙面に平行にＸ軸を、図１の紙面に垂直にＹ軸を
取る。

【００１８】ウエハ５はウエハステージ４上に保持さ
れ、ウエハステージ４はウエハ３をＺ方向に位置決めす
るＺステージ、及びウエハ３をＸＹ平面内で移動させる
ＸＹステージ等から構成されている。ウエハ５上の或る
ショット領域へのレチクル１のパターン像の露光が終わ
ると、ウエハステージ４のステッピングにより次のショ
ット領域が露光位置に設定され、以下ステップ・アンド
・リピート方式でウエハ３上の複数のショット領域への
露光が行われる。この際に各ショット領域の位置決めを
正確に行うためには、ウエハ３上の各ショット領域の位
置、即ち各ショット領域に付設されたアライメント用の
マーク（ウエハマーク）の位置を計測し、この計測結果
に基づいてウエハステージ４のステッピング量を定める
必要がある。以下の説明では、ウエハ３上の所定のショ
ット領域に付設された所定のウエハマーク５の位置を計
測するものとする。

【００１９】本例では投影光学系２の側方にオフ・アク
シス方式のアライメント光学系６が配されている。この
アライメント光学系６において、不図示のハロゲンラン
プ等の光源からの、フォトレジストに対する感光性が低
く、且つ広帯域の照明光Ｌ１は、ハーフミラー７に入射
し、ハーフミラー７で反射された照明光Ｌ１は、第１対
物レンズ８及びミラー９を介してウエハ３上のウエハマ
ーク５を落射照明する。ウエハマーク５からの反射光
は、ミラー９を経て第１対物レンズ８により集光されて
ハーフミラー７に戻り、ハーフミラー７を透過した反射
光は、順次第２対物レンズ１０と、ほぼ等倍のガリレオ
型のアフォーカル系１３とを通過して、２次元ＣＣＤよ
りなる撮像素子１４の撮像面上にウエハマーク５の拡大
像を形成する。

【００２０】本例のアフォーカル系１３は第２対物レン
ズ１０側から負屈折力を持つレンズ群１１及び正屈折力
を持つレンズ群１２よりなり、且つアフォーカル系１３
は一体となって、この結像光学系の光軸ＡＸ₁ に対して
垂直な任意の方向に所定範囲内で任意の量だけシフトで
きるように構成されている。そして、撮像素子１４から
の撮像信号を画像処理することによりウエハマーク５の
位置が検出され、この検出結果に基づいてウエハ３の当
該ショット領域が露光位置に位置合わせ（アライメン
ト）される。

【００２１】図２（ａ）及び（ｂ）は、図１のアライメ
ント光学系６中の結像光学系を示す拡大図であり、図２
（ａ）及び（ｂ）では図１中のハーフミラー７及びミラ
ー９は省略してある。先ず、物体面と像面との共役関係
を示す図２（ａ）において、合焦状態では第１対物レン
ズ８の物体側焦点Ｆ₁ を通り光軸に垂直な面上にウエハ
マーク５が位置し、ウエハマーク５からの光は第１対物
レンズ８を通過した後ほぼ平行光束となって第２対物レ
ンズ１０に入射し、第２対物レンズ１０からの光束がア
フォーカル系１３を介して撮像素子１４上にウエハマー
ク５の像を形成する。

【００２２】また、瞳の共役関係を示す図２（ｂ）にお
いて、第１対物レンズ８の像側焦点Ｆ₁'と第２対物レン
ズ１０の物体側焦点Ｆ₂ とはほぼ合致し、ウエハマーク
５から出た光軸ＡＸ₁ に平行な主光線は、第２対物レン
ズ１０から射出される際にも光軸ＡＸ₁ にほぼ平行とな
る。この第２対物レンズ１０とアフォーカル系１３との
間の空間がテレセントリックであるということは、本例
の光学系の構成上特に望まれる条件である。それに続く
アフォーカル系１３では、レンズ群１１の像側焦点Ｆ₃'
とレンズ群１２の物体側焦点Ｆ₄ とがほぼ合致し、ほぼ
等倍のガリレオ型のアフォーカル系が構成されている。
そのため、第２対物レンズ１０から光軸ＡＸ₁ に平行に
射出される主光線は、アフォーカル系１３から射出され
る際にも光軸ＡＸ₁ にほぼ平行である。よって、本例の
第１対物レンズ８からアフォーカル系１３までの結像光
学系は全体としてほぼ両側テレセントリック系となって
いる。更に、第１対物レンズ８の焦点距離に対して、第
２対物レンズ１０の焦点距離の方が長く設定され、ウエ
ハマーク５の形成面から撮像素子１４の撮像面１４ａへ
の倍率は拡大倍率となっている。

【００２３】本例では、第１対物レンズ８はほぼ理想レ
ンズに近く収差補正されている。一方、第２対物レンズ
１０で適量発生させたコマ収差とアフォーカル系１３で
発生したコマ収差とは、撮像面１４ａ上にて互いにほぼ
打ち消し合うように収差補正してある。また、これに伴
い第２対物レンズ１０で副次的に球面収差が発生するこ
とがあるが、この場合には、第２対物レンズ１０で発生
した球面収差とアフォーカル系１３で発生した球面収差
とが、撮像面１４ａ上にて互いにほぼ打ち消し合うよう
に収差補正すればよい。

【００２４】なお、上記の第２対物レンズ１０、及びア
フォーカル系１３で発生しているコマ収差や球面収差は
ほぼ３次収差のレベルにあり、その他の収差はどのレン
ズ系にても殆ど発生せず十分に収差補正されている。本
例では、第２対物レンズ１０の屈折力及び開口数（Ｎ
Ａ）が第１対物レンズ８に比べて拡大倍率分だけ十分に
小さいため、第２対物レンズ１０及びアフォーカル系１
３において、そのようにコマ収差同士が相殺するように
収差の操作を行うことは容易である。このような収差関
係で構成された本例の結像光学系により、撮像素子１４
の撮像面１４ａ上に投影されるウエハマーク５の像はほ
ぼ理想結像と見なすことが出来る。

【００２５】次に、本例のアライメント光学系におい
て、第１対物レンズ８等の製造誤差等に起因して撮像面
１４ａ上でコマ収差が発生するときには、アフォーカル
系１３を光軸ＡＸ₁ に対して垂直な方向内の適当な方向
に、且つ適当量だけシフトさせることで、撮像面１４ａ
上には所望の量と方向の偏心コマ収差を発生させる。こ
のため、製造誤差等で生じる２種類のコマ収差の内、理
想光軸対称のコマ収差が発生している場合には、撮像面
１４ａ上の特にコマ収差が問題となる範囲において、そ
のコマ収差をアフォーカル系１３のシフトにより発生し
たコマ収差で打ち消すことが可能である。また、偏心コ
マ収差が発生している場合には、撮像面全域の偏心コマ
収差をアフォーカル系１３のシフトにより発生したコマ
収差で打ち消すことが可能である。そのようにコマ収差
が打ち消される範囲には他の収差は殆ど発生せず、ウエ
ハマーク５の像は理想結像に近いものとなる。

【００２６】また、図３（ａ）は第１実施例においてア
フォーカル系１３のシフト量δに対して発生する偏心コ
マ収差量ΔＸＣを示し、図３（ａ）に示すように、発生
する偏心コマ収差量ΔＸＣはアフォーカル系１３のシフ
ト量δに比例し、その傾きは第２対物レンズ１０とアフ
ォーカル系１３とで相殺し合うコマ収差量に比例する。
従って、第２対物レンズ１０とアフォーカル系１３とで
相殺し合うコマ収差量を適当に設定し、調整の容易なア
フォーカル系１３を適当量だけシフトさせることで所望
の偏心コマ収差を発生させることができる。発生する偏
心コマ収差量ΔＨＣ、アフォーカル系１３のシフト量δ
に対して、相殺し合うコマ収差量をΔＣ、比例定数をｋ
₁ とすると以下のように表される。

【００２７】ΔＨＣ＝ｋ₁ ・ΔＣ・δ （１） （１）式を変形すると、ΔＨＣ／δ＝ｋ₁ ・ΔＣとなる
が、この関係が図３（ｂ）に表されている。上述実施例
では、ガリレオ型のアフォーカル系１３はほぼ等倍であ
るとしていたが、等倍であることの利点としては、偏心
コマ収差を発生させるためにアフォーカル系１３をシフ
トしても、その後の光軸ＡＸ₁ のずれ（倒れ、又はシフ
ト）が殆ど無い点が挙げられる。

【００２８】なお、上述実施例ではアフォーカル系１３
を光軸ＡＸ₁ から垂直な方向にシフトしているが、撮像
面での光軸のずれ（倒れ、シフト）が問題にならないの
であれば、図２（ａ）において、第２対物レンズ１０側
を光軸ＡＸ₁ から垂直な方向にシフトさせてもよい。ま
た、本実施例ではアフォーカル系としてほぼ等倍のガリ
レオ型としたが、ほぼ等倍で正立でありさえすればよ
い。

【００２９】本例は、第１対物レンズの物体側空間がテ
レセントリックであるものについて示したが、特に物体
側がテレセントリックである必要がなく、逆に第１対物
レンズの像側がテレセントリックの場合には、本例の第
２対物レンズ１０とアフォーカル系１３の位置を入れ換
え、同様の収差の相殺関係にすれば同様の性能が得られ
る。

【００３０】また、光軸のずれ（倒れ、又はシフト）が
問題にならない場合には、アフォーカル系１３が等倍正
立でなくても、また所定の屈折力のあるレンズでも構わ
ない。このときは、第２対物レンズ１０が前後２群のレ
ンズ群によって構成されると考えられる。図２（ｃ）
は、そのような第１実施例の変形例として屈折力のある
レンズの場合を示し、この図２（ｃ）において、ウエハ
マーク５からの光は、第１対物レンズ８、及び第２対物
レンズ１７を介して撮像素子１４の撮像面上にウエハマ
ーク５の像を形成し、第２対物レンズ１７は、第１対物
レンズ８側から正の屈折力を有する第１レンズ群１５、
及び負の屈折力を有する第２レンズ群１６より構成され
ている。

【００３１】この変形例では、第１対物レンズ８の像側
焦点Ｆ₁'と第２対物レンズ１７内の第１レンズ群１５の
物体側焦点Ｆ₁₂とが一致し、第１対物レンズ８及び第１
レンズ群１５よりなる合成系が両側テレセントリックの
関係になっている。更に、第１レンズ群１５と第２レン
ズ群１６とは、互いにほぼ打ち消し合うようなコマ収差
を発生すると共に、広帯域の波長にて色収差の補正が行
われている。また、第２レンズ群１６が、全系の光軸Ａ
Ｘ₁ に対して垂直な任意の方向にシフトできるように構
成されている。そして、製造誤差等によりコマ収差が残
存しているときには、第２レンズ群１６をシフトさせて
所望の偏心コマ収差を発生させ、それにより残存してい
るコマ収差を打ち消すことができる。

【００３２】なお、この変形例では第２レンズ群１６を
光軸から垂直な方向にシフトしているが、図３（ｃ）に
おいて、第１レンズ群１５を光軸から垂直な方向にシフ
トさせてもよい。

【００３３】［第２実施例］次に、図４及び図５を参照
して第２実施例につき説明する。本例は第１実施例にお
いて第２対物レンズ１０とアフォーカル系１３との順序
を入れ換え、且つ第２対物レンズ１０とアフォーカル系
１３との間の空間が非テレセントリックである実施例に
相当し、図４及び図５において図１に対応する部分には
同一符号を付してその詳細説明を省略する。

【００３４】図４は本実施例の投影露光装置の概略構成
を示し、この図４において、ハーフミラー７により導か
れた広帯域の照明光Ｌ１は、第１対物レンズ８及びミラ
ー９を介してウエハ３上のウエハマーク５を落射照明す
る。ウエハマーク５からの反射光は、ミラー９、及び第
１対物レンズ８を経て集光されてハーフミラー７に戻
り、ハーフミラー７を透過した光束は、ほぼ等倍のガリ
レオ型のアフォーカル系２０と第２対物レンズ１０とを
介して、撮像素子１４の撮像面上にウエハマーク５の拡
大像を形成する。アフォーカル系２０は、第１対物レン
ズ８側から正屈折力を持つレンズ群１８、及び負屈折力
を持つレンズ群１９より構成され、且つアフォーカル系
２０は一体となってこの結像光学系の光軸ＡＸ₁ に対し
て垂直な任意の方向に所定範囲内で任意の量だけシフト
出来るように構成されている。但し、アフォーカル系を
除く他の構成は第１実施例と同様である。

【００３５】図５は図４中のアライメント光学系の結像
光学系を示し、合焦状態では第１対物レンズ８の物体側
焦点Ｆ₁ を通り光軸ＡＸ₁ に垂直な面上にウエハマーク
５が位置し、ウエハマーク５からの光は第１対物レンズ
８から射出された後、ほぼ平行光束となってアフォーカ
ル系２０に入射する。そして、アフォーカル系２０から
射出された光束は、次の第２対物レンズ１０により撮像
素子１４の撮像面１４ａ上にウエハマーク５の像を形成
する。

【００３６】また、ウエハマーク５から射出された光軸
ＡＸ₁ に平行な主光線（破線）は、第１対物レンズ８か
ら射出された後、光軸ＡＸ₁ に非平行となり、アフォー
カル系２０、更に第２対物レンズ１０に入射する。この
アフォーカル系と第２対物レンズとの間の空間が非テレ
セントリックであるということは、本例の光学系の構成
上特に望まれる条件である。更に、第１対物レンズ８の
焦点距離に比べて第２対物レンズ１０の焦点距離の方が
長く設定され、ウエハマーク５の配置面から撮像面１４
ａへの倍率は拡大倍率となっている。

【００３７】また、第１対物レンズ８はほぼ理想レンズ
に近く収差補正されている。一方、アフォーカル系２０
で適当量発生させた球面収差と第２対物レンズ１０で発
生した球面収差とは、撮像面１４ａ上にて互いにほぼ打
ち消し合うように収差補正してある。なお、それらアフ
ォーカル系２０及び第２対物レンズ１０の各々で発生し
ている球面収差はほぼ３次収差のレベルにあり、その他
の収差はどのレンズ系にても殆ど発生せず、十分に収差
補正されている。本例でも、拡大光学系における第２対
物レンズ１０の屈折力及び開口数（ＮＡ）が、第１対物
レンズ８のそれに比べて倍率分だけ十分に小さいため、
第２対物レンズ１０及びアフォーカル系２０においてそ
のように球面収差同士が相殺し合うように収差を操作す
ることは容易である。このような収差関係で構成された
上記光学系により撮像素子１４上に投影されるウエハマ
ーク５の像はほぼ理想結像と見なすことが出来る。

【００３８】本例の結像光学系において、第１対物レン
ズ８等により製造誤差等に起因して撮像面１４ａ上にコ
マ収差が発生したときには、アフォーカル系２０を光軸
ＡＸ ₁ に対して垂直な所定の方向の適当量だけシフトさ
せて、撮像面１４ａ上には所望の量と向きの偏心コマ収
差を発生させる。これにより、製造誤差等で生じる２種
類のコマ収差の内、理想光軸対称のコマ収差が発生して
いる場合には、撮像面上の特にコマ収差が問題となる範
囲においてそのコマ収差を打ち消すことが可能であり、
また、偏心コマ収差が発生している場合には、撮像面全
域にてその偏心コマ収差を打ち消すことが可能である。
このとき、そのコマ収差の発生範囲には他の収差として
若干のメリジオナル像面とサジタル像面との乖離（像面
の倒れは無い）が生じるが、他の収差は殆ど発生しな
い。

【００３９】図３（ｃ）は、第２実施例におけるアフォ
ーカル系２０の光軸ＡＸ₁ からのシフト量δに対する発
生する偏心コマ収差量ΔＨＣを示し、図３（ｃ）に示す
ように、発生する偏心コマ収差量ΔＨＣはアフォーカル
系２０のシフト量δに比例し、その傾きは、相殺し合う
球面収差量に比例する。そこで、相殺し合う球面収差量
を適当に設定し、調整の容易なアフォーカル系２０を適
当な方向に適量シフトさせることで、所望の量、及び向
きの偏心コマ収差を発生させることができる。発生する
偏心コマ収差量ΔＨＣ、アフォーカル系２０のシフト量
δに対して、相殺し合う球面収差量をΔＳ、比例定数を
ｋ₂ とすると以下のように表される。

【００４０】ΔＨＣ＝ｋ₂・ΔＳ・δ （２） この（２）式を変形すると、ΔＨＣ／δ＝ｋ₂・ΔＳとな
るが、この関係が図３（ｄ）に表されている。また、上
述の像面の乖離は、発生する像面乖離量をΔＡＳ、相殺
し合う球面収差量をΔＳ、アフォーカル系２０のシフト
量をδ、比例定数をｋ₃ とすると以下のように表され
る。

【００４１】ΔＡＳ＝ｋ₃・ΔＳ・δ² （３） 即ち、アフォーカル系２０のシフト量δが小さい範囲に
おいては、像面乖離量ΔＡＳは無視できる大きさである
が、シフト量δが或る程度大きく像面乖離量ΔＡＳが無
視できないときであっても、光学系内に元々その調整機
構（例えばシリンドリカルレンズを利用したもの等）が
あれば問題はない。

【００４２】なお、上述実施例ではガリレオ型のアフォ
ーカル系２０はほぼ等倍であるとしたが、等倍であるこ
との利点は、アフォーカル系２０を偏心コマ収差を発生
させるためにシフトしても、その後の光軸ＡＸ₁ のずれ
が殆ど無いという点が挙げられる。また、本例ではアフ
ォーカル系としてほぼ等倍のガリレオ型としたが、ほぼ
等倍で正立でありさえすればどのようなタイプでもよ
い。

【００４３】撮像面での光軸のずれ（倒れ、シフト）が
問題にならないのであれば、図５（ａ）において、アフ
ォーカル系２０ではなく、第２対物レンズ１０側を光軸
ＡＸ ₁ に対して垂直な方向にシフトしても同様の効果が
得られる。また、本例では第１対物レンズ８と第２対物
レンズ１０との間にアフォーカル系２０を配置したが、
第２対物レンズ１０とアフォーカル系２０の配置が逆で
あっても、第２対物レンズ１０とアフォーカル系２０と
の間の空間が非テレセントリックであるならば同様に実
現できる。

【００４４】［第３実施例］図６〜図１１を参照して第
３実施例につき説明する。本実施例は、投影露光装置に
設けられるオフ・アクシス方式で、且つ所謂レーザ・ス
テップ・アライメント方式のアライメント装置の照明系
に本発明を適用したものである。図６は本実施例の投影
露光装置の要部の斜視図であり、この図６において、不
図示のレチクルのパターンの像が投影光学系２を介して
ウエハステージ４上のウエハ３の各ショット領域に投影
露光される。ウエハステージ４の上部にはＸ軸に垂直な
反射面を有する移動鏡２１Ｘ、及びＹ軸に垂直な反射面
を有する移動鏡２１Ｙが固定され、不図示のＸ軸用のレ
ーザ干渉計から投影光学系２の光軸を通り、且つＸ軸に
平行な直線に沿ってレーザビーム２２Ｘが移動鏡２１Ｘ
に照射され、不図示のＹ軸用のレーザ干渉計から投影光
学系２の光軸を通り、且つＹ軸に平行な直線に沿ってレ
ーザビーム２２Ｙが移動鏡２１Ｙに照射され、それらの
レーザ干渉計によりウエハステージ４の２次元の座標
（Ｘ，Ｙ）が計測されている。

【００４５】また、投影光学系２の側方にオフ・アクシ
ス方式のアライメント装置のアライメント光学系２４が
配置されている。そのアライメント光学系２４は、レー
ザ・ステップ・アライメント方式の検出系（以下、「Ｌ
ＳＡ系」と呼ぶ）２６と、撮像方式の検出系であるＦＩ
Ａ系５２とが一体化されたものであり、ＬＳＡ系２６か
らのレーザビームとＦＩＡ系５２からの照明光とがハー
フプリズム４８により合成されて共通の第１対物レンズ
４９に向かい、第１対物レンズ４９を通過した光束がミ
ラーで反射されてウエハ３を落射照明する。そして、こ
のミラーにより折り曲げられたアライメント光学系２４
の光軸を通り、且つＸ軸に平行な直線に沿って不図示の
回転計測用のレーザ干渉計から移動鏡２１Ｘにレーザビ
ーム２３が供給され、回転計測用のレーザ干渉計の計測
値とＸ軸用のレーザ干渉計の計測値との差分により、ウ
エハステージ４の回転角が検出される。

【００４６】図７は、図６中のアライメント光学系２４
を示す拡大斜視図であり、この図７のＬＳＡ系２６にお
いて、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源３１から射出されるレーザ
ビームＬ２は、ビームエキスパンダ３２、及びシリンド
リカルレンズ３３を経て、ＸＹ分離用偏光ビームスプリ
ッタ３４を介してＸ軸用の断面形状が細長いシートビー
ムＬ４と、Ｙ軸用のシートビームＬ３とに分離される。
そして、Ｙ軸用のシートビームＬ３は、視野絞り３５
Ｙ、ミラー３６、ミラー３７Ｙ、リレーレンズ３８Ｙ、
ミラー３９Ｙを経て送受光分離用偏光ビームスプリッタ
ー４０Ｙに達し、偏光ビームスプリッター４０Ｙを透過
したシートビームは、フーリエ変換レンズ４１Ｙ、１／
４波長板４２Ｙ、及びミラー４５を介してアフォーカル
系４６に入射する。

【００４７】一方、Ｘ軸用のシートビームＬ４は、Ｙ軸
用のシートビームＬ３とほぼ対称に視野絞り３５Ｘ〜１
／４波長板４２Ｘを介して、ウエハ３（図６参照）の表
面と共役な面の近傍でＹ軸用のシートビームと視野合成
されて、ほぼ等倍のガリレオ型のアフォーカル系４６に
入射し、アフォーカル系４６から射出される両シートビ
ームは、第２対物レンズ４７により集光されハーフプリ
ズム４８で反射されて一度交差した後、第１対物レンズ
４９及びミラー５０を経てそれぞれＸ軸用のシートビー
ム５１Ｘ、及びＹ軸用のシートビーム５１Ｙとしてウエ
ハ３上に入射する。それらシートビーム５１Ｘ、及びシ
ートビーム５１Ｙの照射位置の近傍のウエハ３上にそれ
ぞれＸ軸用のウエハマーク２５Ｘ、及びＹ軸用のウエハ
マーク２５Ｙが形成されている。

【００４８】また、ＦＩＡ系において、ライトガイド５
３から射出された広帯域の照明光は、コンデンサーレン
ズ５４により集光されハーフミラー５５を透過した後、
第２対物レンズ５６を介してハーフプリズム４８に入射
する。そして、ハーフプリズム４８を透過した照明光
は、共通の第１対物レンズ４９及びミラー５０を経てウ
エハ３上に照射され、ウエハ３からの反射光は、ミラー
５０、第１対物レンズ４９、ハーフプリズム４８、第２
対物レンズ５６及びハーフミラー５５を介してＣＣＤカ
メラ５７上にウエハマークの像を形成する。

【００４９】図８は、ウエハ３上の第１対物レンズ４９
の観察視野５８を示し、この図８において、Ｘ軸用のウ
エハマーク２５ＸはＹ方向に所定ピッチで配列されたド
ットパターン、Ｙ軸用のウエハマーク２５ＹはＸ方向に
所定ピッチで配列されたドットパターンであり、Ｘ軸用
のシートビーム５１ＸはＹ方向にスリット状に伸びた光
ビーム、Ｙ軸用のシートビーム５１ＹはＸ方向にスリッ
ト状に伸びた光ビームである。また、シートビーム５１
Ｘとシートビーム５１Ｙとは第１対物レンズ４９の光軸
ＡＸ₁ を挟むように配置され、第１対物レンズ４９の光
軸ＡＸ₁ と図６の投影光学系２の光軸ＡＸ₀ とを通る直
線はＹ軸に平行である。

【００５０】図８において、ウエハステージを駆動する
ことによりシートビーム５１Ｘに対してウエハマーク２
５ＸをＸ方向に横切るように走査すると、シートビーム
５１Ｘとウエハマーク２５Ｘとが合致したときに所定の
方向に回折光が射出されるため、その回折光の強度が最
大になるときのウエハステージのＸ座標を検出すること
によりウエハマーク２５ＸのＸ座標が検出できる。同様
に、シートビーム５１Ｙに対してウエハマーク２５Ｙを
Ｙ方向に横切るように走査し、シートビーム５１Ｙとウ
エハマーク２５Ｙとが合致したときの回折光を検出する
ことにより、ウエハマーク２５ＹのＹ座標が検出され
る。ウエハマーク２５Ｙからの回折光（反射光も含む）
は図７のミラー５０、及び第１対物レンズ４９を経てハ
ーフプリズム４８に戻る。

【００５１】図７において、ハーフプリズム４８で反射
された回折光は、第２対物レンズ４７、アフォーカル系
４６、ミラー４５、１／４波長板４２Ｙ、及びフーリエ
変換レンズ４１Ｙを経て送受光分離用偏光ビームスプリ
ッター４０Ｙに戻り、偏光ビームスプリッター４０Ｙで
反射された回折光は、リレーレンズ４３Ｙを介して受光
素子４４Ｙに導かれ、受光素子４４Ｙにて０次回折光を
除く回折光が選択的に光電変換される。このとき、１／
４波長板４２Ｙの方向を最適調整しておくことにより、
ウエハマークからの回折光はほぼ完全に偏光ビームスプ
リッター４０Ｙにて反射されて受光素子４４Ｙに導かれ
る。

【００５２】同様に、図８のＸ軸用のウエハマーク２５
Ｘからの回折光は、Ｙ軸の回折光と対称に送受光分離用
偏光ビームスプリッター４０Ｘに戻り、偏光ビームスプ
リッター４０Ｘで反射された回折光は、リレーレンズ４
３Ｘを介して受光素子４４Ｘで受光される。そして、受
光素子４４Ｘ，４４Ｙの出力信号、及びウエハステージ
４の座標に基づいてウエハマーク２５Ｘ及び２５ＹのＸ
座標及びＹ座標が計測され、この計測結果に基づいてウ
エハ３のアライメントが行われる。

【００５３】ここで、本例において図７のアフォーカル
系４６は一体として、光軸に垂直な任意の方向に所定範
囲内で任意の量だけシフトできるように支持されてい
る。次に、本例のようにＨｅ−Ｎｅレーザ光源３１から
射出されるレーザビームＬ２が繰り返しリレーされる場
合に、コマ収差が発生しているときの弊害につき簡単に
説明する。先ず、レーザビームのリレーは、レーザビー
ムのビームウエスト（断面形状が最も小さい位置）のリ
レーとみなすことができる。

【００５４】図１１（ａ）は、図７のビームエクスパン
ダ３２におけるレーザビームのリレーを示し、この図１
１（ａ）において、ビームエクスパンダ３２が２枚のフ
ーリエ変換レンズ６２及び６３により構成されている。
そして、入射するレーザビームのビームウエスト６４Ａ
が第１のフーリエ変換レンズ６２によりビームウエスト
６４Ｂにリレーされ、このビームウエスト６４Ｂが第２
のフーリエ変換レンズ６３によりビームウエスト６４Ｃ
にリレーされている。

【００５５】これに関して、図１１（ｂ）は理想レンズ
によりリレーされたビームウエスト６５Ａの近傍の拡大
図であり、その近傍におけるビーム断面のエネルギーが
最大となるライン６６Ａも表示されている。このように
理想レンズにてリレーされた場合には、ライン６６Ａは
ビームウエスト前後で直線に分布する。ところが、図１
１（ｃ）に示すように、リレーレンズに例えば偏心コマ
収差が発生した場合には、ビームウエスト６５Ｂの近傍
でのエネルギー分布が最大となるライン６６Ｂは、ビー
ムウエスト６５Ｂの前後で湾曲してしまう。この湾曲量
はその発生したコマ収差量にほぼ比例する。同様に、図
７において第１対物レンズ４９からウエハ上に照射され
るシートビーム２５Ｘ，２５Ｙもウエハ上でほぼビーム
ウエストとなっており、仮にシートビーム２５Ｘ，２５
Ｙに偏心コマ収差が発生していると、シートビーム２５
Ｘ，２５Ｙ中のエネルギー分布が最大となるラインに曲
がりが生ずることになる。

【００５６】このようなエネルギー分布が最大となるラ
インの湾曲がアライメント精度に与える影響は、図８に
おいてウエハマーク２５Ｘ，２５Ｙがウエハ上のシート
ビーム５１Ｘ，５１Ｙの集光点から図８の紙面に垂直な
方向（Ｚ方向）に外れたとき（デフォーカスしたとき）
に生じる。即ち、エネルギー分布の湾曲がない場合に
は、デフォーカスしてもウエハマーク２５Ｘ，２５Ｙの
検出される位置がずれないようにするには、ウエハに対
してエネルギー分布が最大となるラインを垂直にすれば
よい。このためには、図７において、例えば第２対物レ
ンズ４７と第１対物レンズ４９との間に平行平面板を配
置し、この平行平面板を適当な角度だけ傾斜させればよ
い。

【００５７】ところが、エネルギー分布が最大となるラ
インに湾曲があると、このような調整ができず、ウエハ
マーク２５Ｘ，２５Ｙが集光点から少しでもデフォーカ
スしてＺ方向に外れてしまうと、ウエハマーク２５Ｘ，
２５Ｙの検出される位置が横ずれして、アライメント誤
差が生じてしまう。そのため、このようなエネルギー分
布の湾曲は解消する必要があり、その原因となるコマ収
差を殆ど０に抑えなければならない。

【００５８】図９は、図７のＬＳＡ系２６内のアフォー
カル系４６からウエハまでの送光系の概略の拡大図を示
し、この図９において、第１対物レンズ４９と、第２対
物レンズ４７と、アフォーカル系４６とからなる合成光
学系は両側テレセントリック光学系を形成し、第１対物
レンズ４９の焦点距離に対して第２対物レンズ４７の焦
点距離が長く設定されている。また、アフォーカル系４
６は第２対物レンズ４７側から順に負の屈折率を有する
レンズ群６０、及び正の屈折率を有するレンズ群６１よ
り構成されている。また、第１対物レンズ８の物体側焦
点面がウエハ３の表面となり、その合成光学系の像側焦
点面５９がウエハの表面に対する共役面となるように構
成される。よって、ウエハの表面と共役な像側焦点面５
９に導かれたシートビームは、ウエハ３の表面上に縮小
されて集光される。

【００５９】この例では、第１対物レンズ４９はほぼ理
想レンズに近く収差補正されている。一方、第２対物レ
ンズ４７で適当量発生させたコマ収差と、アフォーカル
系４６で発生したコマ収差とは、ウエハ３の表面にて互
いにほぼ打ち消し合うように収差補正してある。即ち、
図９の送光系は、第１実施例である図２（ａ）の結像光
学系を送光系として使用するものであり、構成及び作用
効果は第１実施例と同様である。

【００６０】図９に示すこの第３実施例の送光系におい
ては、第１対物レンズ４９等における製造誤差等に起因
してウエハ３の表面上にコマ収差が発生することがあっ
ても、アフォーカル系４６を光軸ＡＸ₁ に対して垂直な
適当な方向に適当量だけシフトさせることで、そのコマ
収差を打ち消すことができる。従って、ウエハ３上に集
光されるシートビームは、エネルギー分布が最大となる
ラインに湾曲のないほぼ理想的なものと考えられる。

【００６１】また、本例でも、図１０（ａ）に示すよう
にウエハ３上で発生する偏心コマ収差量ΔＨＣはアフォ
ーカル系４６のシフト量δに比例し、その傾きは相殺し
合うコマ収差量に比例するので、相殺し合うコマ収差量
を適当に設定し、アフォーカル系４６をシフトさせるこ
とで所望の偏心コマ収差を発生させることができる。発
生させたい偏心コマ収差ΔＨＣ、アフォーカル系のシフ
ト量δに対して、第２対物レンズ４７とアフォーカル系
４６にて相殺し合うコマ収差量をΔＣ、比例定数をｋ₁
とすると、第１実施例と同じく（１）式が成立する。従
って、第１実施例と同様に、図１０（ｂ）に示すよう
に、ΔＨＣ／δとΔＣとは比例する。また、ほぼ等倍の
アフォーカル系４６の代わりに、例えば角倍率α（αは
ウエハの表面への縮小倍率）のアフォーカル系や屈折力
のあるレンズを使用してもよい。

【００６２】なお、この第３実施例ではレーザビームを
照射する際のエネルギー分布が最大となるラインの湾曲
を補正しているが、例えばレーザビームを集光する際の
スポット形状を乱すコマ収差の補正にも本発明が適用で
きる。また、アライメント光学系だけでなく、ウエハマ
ークの重ね合わせ測定系においても本発明を適用するこ
とにより、測定結果の高精度化が期待できる。特に、重
ね合わせ測定値の真値ずれ（所謂ティス）を殆ど無くす
ことが出来る。

【００６３】このように、本発明は上述実施例に限定さ
れず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取
り得る。

【００６４】

【発明の効果】本発明の第１又は第２の収差補正光学系
によれば、簡単なレンズ構成で、全体の光学系内に製造
誤差等により生じたコマ収差を容易に相殺でき、且つ、
他の収差に殆ど影響を与えることがない。また、集光光
学系の物体又は像空間がテレセントリックであるかどう
かに応じて、少なくともどちらかの収差補正光学系が実
現できる。

【００６５】更に、補正光学系がほぼ等倍で正立のアフ
ォーカル系であるときには、例えばこのアフォーカル系
を偏心させてコマ収差を補正した場合でも、その後の光
軸のずれが無い利点がある。次に、本発明の第１、又は
第２の位置合わせ装置によれば、本発明の収差補正光学
系が使用されているため、簡単構成で他の収差に殆ど影
響を与えることなくコマ収差を補正でき、結果として高
精度に位置合わせ用のマークの位置を検出できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例のアライメント装置を備え
た投影露光装置の要部を示す構成図である。

【図２】（ａ）は第１実施例のアライメント光学系の結
像関係を示す光路図、（ｂ）はその第１実施例の瞳の共
役関係を示す光路図、（ｃ）は第１実施例の変形例を示
す光路図である。

【図３】本発明の第１実施例及び第２実施例におけるア
フォーカル系のシフト量δと発生する偏心コマ収差量Δ
ＨＣとの関係等を示す図である。

【図４】本発明の第２実施例のアライメント装置を備え
た投影露光装置の要部を示す構成図である。

【図５】本発明の第２実施例のアライメント光学系の結
像関係を示す光路図である。

【図６】本発明の第３実施例のアライメント装置を備え
た投影露光装置の要部を示す斜視図である。

【図７】第３実施例のアライメント光学系を示す斜視図
である。

【図８】第３実施例におけるウエハマークと照射される
シートビームとの関係を示す拡大平面図である。

【図９】第３実施例のアライメント光学系内の送光系の
結像関係を示す光路図である。

【図１０】第３実施例におけるアフォーカル系のシフト
量δと発生する偏心コマ収差量ΔＨＣとの関係等を示す
図である。

【図１１】レーザビームのビームウエストをレンズ系で
リレーする場合のコマ収差の影響の説明に供する図であ
る。

【符号の説明】

３ ウエハ ４ ウエハステージ ５ ウエハマーク ６ アライメント光学系 ７ ハーフミラー ８ 第１対物レンズ １０ 第２対物レンズ １３，２０ アフォーカル系 １４ 撮像素子 ２４ アライメント光学系 ２６ ＬＳＡ系 ５１Ｘ，５１Ｙ シートビーム ５２ ＦＩＡ系 ３１ Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源 ４０Ｘ，４０Ｙ 送受光分離用変更ビームスプリッター ４４Ｘ，４４Ｙ 受光素子 ４６ アフォーカル系 ４７ 第２対物レンズ ４９ 第１対物レンズ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１面からの光を集光する対物光学系
   と、該対物光学系からの光を集光して第２面上に前記第
   １面の像を形成する集光光学系とを有する光学系におい
   て、 前記対物光学系と前記第２面との間に、前記集光光学系
   で発生するコマ収差と相殺されるコマ収差を発生する補
   正光学系を配置し、 前記集光光学系と前記補正光学系との少なくとも一方を
   偏心させることにより全系のコマ収差を減少させること
   を特徴とする収差補正光学系。
2. 【請求項２】 第１面からの光を集光する対物光学系
   と、該対物光学系からの光を集光して第２面上に前記第
   １面の像を形成する集光光学系とを有する光学系におい
   て、 前記対物光学系と前記第２面との間に、前記集光光学系
   で発生する球面収差と相殺される球面収差を発生する補
   正光学系を配置し、 前記集光光学系と前記補正光学系との少なくとも一方を
   偏心させることにより全系のコマ収差を減少させること
   を特徴とする収差補正光学系。
3. 【請求項３】 前記集光光学系と前記補正光学系との間
   の空間がテレセントリックであることを特徴とする請求
   項１記載の収差補正光学系。
4. 【請求項４】 前記集光光学系と前記補正光学系との間
   の空間が非テレセントリックであることを特徴とする請
   求項２記載の収差補正光学系。
5. 【請求項５】 前記補正光学系はほぼ等倍正立のアフォ
   ーカル系であることを特徴とする請求項１、２、３又は
   ４記載の収差補正光学系。
6. 【請求項６】 感光基板上の位置合わせ用のマークから
   の光を集光する対物光学系と、該対物光学系からの光を
   集光して前記位置合わせ用のマークの像を形成する集光
   光学系と、該集光光学系により形成される前記位置合わ
   せ用のマークの像の位置を検出する検出手段と、を備
   え、 前記検出手段の検出結果に基づいて前記感光基板の位置
   合わせを行う位置合わせ装置において、 前記対物光学系と前記検出手段との間に、前記集光光学
   系で発生するコマ収差と相殺されるコマ収差を発生する
   補正光学系を配置し、 前記集光光学系と前記補正光学系との少なくとも一方を
   偏心させることにより全系のコマ収差を減少させること
   を特徴とする位置合わせ装置。
7. 【請求項７】 感光基板上の位置合わせ用のマークから
   の光を集光する対物光学系と、該対物光学系からの光を
   集光して前記位置合わせ用のマークの像を形成する集光
   光学系と、該集光光学系により形成される前記位置合わ
   せ用のマークの像の位置を検出する検出手段と、を備
   え、 前記検出手段の検出結果に基づいて前記感光基板の位置
   合わせを行う位置合わせ装置において、 前記対物光学系と前記検出手段との間に、前記集光光学
   系で発生する球面収差と相殺される球面収差を発生する
   補正光学系を配置し、 前記集光光学系と前記補正光学系との少なくとも一方を
   偏心させることにより全系のコマ収差を減少させること
   を特徴とする位置合わせ装置。