JPH081952A - インクジェット記録装置及びインクジェットヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ノズル詰まりがなく安定したインク吐出が可
能で信頼性の高いインクジェットヘッド及びインクジェ
ット記録装置を提供する。 【構成】 ノズル孔４と、ノズル孔４に連通する圧力発
生部６と、オリフィス７とからなる複数のインク流路
と、複数のインク流路路に連通するインク供給部８とが
設けてなる基板１を有するインクジェットヘッドにおい
て、前記基板１が異方性結晶材料よりなり、前記インク
供給部８にフィルター溝５２が異方性エッチングにて一
体に形成することを特徴とするインクジェットヘッド及
びインクジェット記録装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はインク・オン・デマンド
方式のインクジェット記録装置及びインクジェットヘッ
ドの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】インクジェットプリンタは、記録時の騒
音が極めて小さいこと、高速印字が可能であること、イ
ンクの自由度が高く安価な普通紙を使用できることなど
多くの利点を有する。この中でも記録の必要な時にのみ
インク液滴を吐出する、いわゆるインク・オン・デマン
ド方式が、記録に不要なインク液滴の回収を必要としな
いため、現在主流となっている。

【０００３】従来のインク・オン・デマンド方式のイン
クジェットヘッドには例えば特公昭６２−８３１６号公
報に開示されているインクジェットヘッドがある。この
ヘッドは、ヘッドのインク供給部に設けられるフィルタ
ーをフォトエッチングにより流路と同時に形成したもの
である。これはインクを安定して吐出させることのでき
るフィルターを内蔵したインクジェットヘッドを得るも
のであった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】異物の流路への侵入を
防止するためのフィルターはその開孔断面寸法が流路の
ノズルや供給口の断面積寸法よりも小さくする必要があ
るが、上述の従来のインクジェットヘッドでは、等方性
エッチングによって流路のノズルや供給口と同時にフィ
ルターを形成するのでその深さもまたすべて同一に形成
されてしまう。このためフィルターを通過した異物の大
きさは流路のノズルや供給口と同一となる場合があり、
流路のノズルや供給口を詰まらせる確率が高く、流路の
ノズルや供給口の詰まりを完全に防止することができな
いという課題を有していた。

【０００５】また、従来のインクジェットヘッドの様
に、単にフィルターをヘッド内部に形成したのでは、以
下に述べるような課題を有しており実用化が困難であっ
た。

【０００６】インク供給部は複数の流路に連通してイン
ク流路にインクを分配供給している。と同時に、ノズル
からインクを吐出した時のインク供給路からのインク逆
流による圧力を緩和している。

【０００７】フィルターのイナータンスが大きい場合に
はノズルからインクを吐出した時のインク供給路からの
インク逆流による圧力を十分に吸収・緩和できずに、イ
ンク供給部の圧力上昇を招き、インク流路間の圧力干渉
を起こし、インク流路の圧力発生部を動作させていない
流路のノズル（以下非駆動ノズル）からインクが吐出し
てしまうといった課題を有していた。（クロストークの
発生） また、フィルターの流路抵抗が大きくなると、インク供
給部からインク流路へのインクの供給が十分にできなく
なり、インクの吐出量が減少したり、ノズルから空気を
取り込んでしまい、安定したインク吐出ができなくなっ
てしまうといった課題を有していた。

【０００８】また、更に、インク流路のインク供給路か
らフィルターまでのインク供給部のインク容量が小さい
場合にも十分に圧力が吸収・緩衝されずに、フィルター
のイナータンスが大きい場合と同様にインク供給部を介
したインク流路間での圧力干渉を生じて、流路の圧力発
生部を動作させていない流路のノズルからインクが吐出
してしまうといった課題を有していた。

【０００９】これらいずれの場合もインクジェットヘッ
ドを搭載したプリンタの印刷物の画素抜けや、印刷物の
汚れ、誤読の原因となる等の印刷の信頼性の低下となっ
たり、印刷結果が鮮明でない等の印刷品位の低下を招く
などの不具合の原因となる。

【００１０】また、ガラス等の等方性材料を用いてフィ
ルターを形成する場合はエッチング時のエッチング比が
安定せず、容易に且つ、精度よくフィルターを形成して
インクジェットヘッドを製造することが困難であるとい
った課題を有していた。

【００１１】本発明は、このような課題を解決するため
になされたものであり、異物流入による流路の詰まりを
防止し、ドット抜けがなくて信頼性の高いインクジェッ
ト記録装置及びインクジェットヘッドの製造方法を提供
することを目的とする。

【００１２】更に、インク流路間の圧力干渉やインクの
供給不足がなく安定したインク吐出が可能で、良好な印
刷品質が得られるインクジェットヘッド及びインクジェ
ット記録装置を提供することを目的とする。

【００１３】又、更に、容易に製造可能であり、安価
で、寸法精度や品質の高いインクジェットヘッド及びイ
ンクジェット記録装置を得ることを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明のインクジェット
記録装置は、複数のノズル孔と、該ノズル孔の各々に連
通する独立の吐出室を有し、前記吐出室の一部の壁を構
成する振動板の変形によってインク液滴を吐出するイン
クジェットヘッドを具備するインクジェット記録装置に
おいて、前記吐出室の一部を形成する第１の溝と、イン
クを蓄える共通インク室の一部を形成する第２の溝と、
前記共通インク室と前記各々の吐出室を結ぶ第３の溝
（オリフィス）と、前記共通インク室へインクを供給す
る供給口の一部を形成し、前記第１、第２、及び第３の
溝より浅く、かつ前記ノズル孔の断面積より小さな断面
積を有し、列状に配置された複数の第４の溝が、第１の
面に形成された異方性結晶基板と、前記異方性結晶基板
の第１の面と接合され、前記第１から第４の溝と共に前
記吐出室、前記共通インク室、前記供給口をそれぞれ形
成する蓋基板と、前記吐出室内もしくは近接して配置さ
れ、該吐出室の各々に圧力を発生させる圧力発生手段
と、該圧力発生手段を選択的に駆動し、前記ノズル孔か
らインク滴を吐出させる駆動手段とを有することを特徴
とする。

【００１５】前記第４の溝を基に形成される供給口は、
外部からインクを前記共通インク室に補給するための入
り口であると共に、共通インク室内に異物が入り込み、
ノズルが異物によってふさがれることを防止するフィル
ターとしても機能する。

【００１６】また、前記フィルター（第４の溝）の好ま
しい形態としては、開孔断面積が第１から第３の溝を基
に構成されるインク流路の最小断面積以下である。ま
た、前記フィルターのイナータンスが前記ノズル孔から
前記オリフィスまでのインク流路のイナータンスの５分
の１以下であり、前記フィルターの流路抵抗が、前記ノ
ズルから前記オリフィスまでの流路抵抗の４分の１以下
である。

【００１７】また、前記共通インク室の好ましい形態と
しては、少なくとも１壁面を可撓性としたことを特徴と
する。

【００１８】また、本発明のインクジェットの製造方法
は、上述のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記吐出室の一部を形成する第１の溝と、インクを蓄え
る共通インク室の一部を形成する第２の溝と、前記共通
インク室と前記各々の吐出室を結ぶ第３の溝と、前記共
通インク室へインクを供給する供給口の一部を形成し、
前記第１、第２、及び第３の溝より浅く、かつ前記ノズ
ル孔の断面積より小さな断面積を有し、列状に配置され
た複数の第４の溝を、異方性結晶基板の第１面上に異方
性エッチングする工程と、前記圧力発生手段を前記吐出
室に付設する工程と、蓋基板を前記異方性結晶基板の第
１面に接合することにより、前記第１から第４の溝の縁
を封止すると共に、前記吐出室、前記共通インク室、前
記供給口及びこれらを結ぶ流路を形成する工程とを有す
ることを特徴とする。

【００１９】前記吐出室の壁面の一部に設けられた振動
板を駆動させるためのアクチュエータを形成するため
に、更に絶縁体基板上にに電極を形成し、前記電極が、
前記振動板と所定のギャップで対向するよう前記絶縁基
板を前記異方性材料基板の第１面とは反対側の第２の面
に接合する工程もしくは、前記異方性材料基板の前記吐
出室の裏側に、前記振動板を変形させる圧電素子を貼着
する工程とを有する。

【００２０】

【作用】本発明によればインクジェットヘッドに供給さ
れるインクは、インク供給口に設けられたフィルターを
通過して供給され、共通インク室に蓄えられる。共通イ
ンク室に蓄えられたインクは、各インク供給路を介し
て、各吐出室に分配供給される。記録データに基づいて
圧力発生手段が駆動され吐出室内のインクに圧力が加え
られ、吐出室に連通するノズル孔からインク液滴が吐出
される。

【００２１】インクまたは製造時のインク流路の洗浄液
等は、インク供給口に設けられたフィルターを通過して
供給されるため、これらの液体中に含まれるフィルター
の開孔面積より大きな異物はフィルターにより阻止され
て、インク供給口より下流のインク流路に侵入しないよ
うになる。フィルター開孔面積はノズル孔、各インク供
給路等の断面積より小さく設けて有るのでフィルターを
通過した異物はノズルより排出され、特に狭いノズル等
が異物で詰まることがなくなる。インク流路が目詰まり
を起こさないので印刷不良とならずに信頼性の高いヘッ
ドを得られるようになる。

【００２２】更に、フィルターのイナータンスがノズル
孔から供給路までのインク流路のイナータンスの５分の
１以下に設定されているので、駆動されたノズル（駆動
ノズル）の吐出室で発生した圧力により生じる共通イン
ク室の圧力上昇が小さくなる。

【００２３】これにより、駆動ノズルで発生した圧力が
非駆動ノズルに伝わり、非駆動ノズルからインクが吐出
される好ましくない現象（吐出室間での圧力干渉、クロ
ストーク）が生じなくなる。

【００２４】更に、フィルターの流路抵抗がヘッドのノ
ズル孔から供給路までのインク流路の流路抵抗の４分の
１以下に設定されているのでインク供給口から下流のイ
ンク流路へ十分なインクを供給できるようになり、供給
不足が生じず、高速でヘッドを駆動しても印刷濃度の低
下や、吐出不安定によるドット抜け印刷不良を起こさな
くなる。

【００２５】更に、共通インク室の少なくとも１壁面を
可撓性にすれば、駆動ノズルの吐出室で発生した圧力を
十分に吸収して緩衝し、吐出室間での圧力干渉によるク
ロストークもまた無くなる。

【００２６】

【実施例】図１は本発明の一実施例におけるインクジェ
ットヘッドの分解斜視図であり、一部断面図で示してあ
る。本実施例はインク液滴を基板の端部に設けたノズル
孔か吐出させるエッジイジェクトタイプの例を示すもの
であるが、基板の上面部に設けたノズル孔からインク液
滴を吐出させるフェイスイジェクトタイプでもよい。図
２は組み立てられたインクジェットヘッド全体の斜視
図、図３はインクジェットヘッドのインク流路部の断面
側面図である。以下図に従い、本発明の実施例について
説明する。

【００２７】本実施例のインクジェットヘッド１０は次
に詳述する構造を持つ３枚の基板１、２、３を重ねて接
合した積層構造となっている。

【００２８】中間の第１の基板１は、シリコン基板であ
り、複数のノズル孔４を構成するように、基板１の表面
に一端より平行に等間隔で形成された複数のノズル溝１
１と、各々のノズル溝１１に連通し、底壁を振動板５と
する圧力発生部である吐出室６を構成することになる凹
部１２と、凹部１２の後部に設けられたオリフィス７を
構成することになるインク流入口のための細溝１３と、
各々の吐出室６にインクを供給するためインク供給部で
あるリザーバ８を構成することになる凹部１４と、凹部
１４の後部に設けられたフィルター５１を構成すること
になるフィルター溝５２を有する。

【００２９】本実施例においては、振動板５とこれに対
向して配置される電極との対向間隔、即ちギャップ部１
６の長さＧ（図３参照、以下「ギャップ長」と記す。）
が、凹部１５の深さと電極の厚さとの差になるように、
間隔保持手段を第２の基板２に形成した振動室用の凹部
１５により構成している。また、別の例として凹部の形
成は第１の基板１の下面でもよい。ここでは、凹部１５
の深さをエッチングにより０．３μｍとしている。な
お、ノズル溝１１のピッチは０．５０９ｍｍであり、そ
の幅は６０μｍである。

【００３０】また、第１の基板１への共通電極１７の付
与については、半導体及び電極である金属の材料による
仕事関数の大小が重要であり、本実施例では共通電極材
料にはチタンを下付けとし白金、またはクロムを下付け
とし金を使用しているが、本実施例に限定されるもので
はなく、基板１がＰ型半導体の場合は仕事関数が共通電
極材料の方が大きくなるものであれば何でもよく、Ｎ形
半導体の場合は仕事関数が共通電極材料の方が小さくな
るような材料であれば何でもよい。

【００３１】第１の基板１の下面に接合される下側の第
２の基板にはホウ珪酸系ガラスを使用し、第１の基板１
の振動板５の下部に電極を装着するため振動室９を構成
することになる凹部１５が設けられている。この第２の
基板２の接合によって振動室９を構成するとともに、第
２の基板２上の振動板５に対応する各々の位置に、ＩＴ
Ｏ導電膜を０．１μｍスパッタし、振動板５とほぼ同じ
形状にＩＴＯパターンを形成して個別電極２１としてい
る。個別電極２１はリード部２２及び端子部２３を持
つ。

【００３２】第１の基板１の上面に接合される上側の第
３の基板３は、第２の基板２と同じくホウ珪酸ガラスを
用いている。この第３の基板３の接合によって、ノズル
孔４、吐出室６、オリフィス７、リザーバ８及びフィル
ター５１が構成される。そして、このリザーバ８には、
第１の基板と第３の基板とを接合するときにその凹部が
つぶれないように強度をもたせるために凸部１９が設け
られている。本実施例においてはフィルター５１は同時
にインク供給口となっていおり、接続パイプ３２が接続
され、チューブ３３を介して図示しないインクタンクに
接続されている。

【００３３】次に、第１の基板１と第２の基板２を温度
３００〜５００℃、電圧５００〜１０００Ｖの印加で陽
極接合し、また同条件で第１の基板１と第３の基板３を
接合し、図３のようにインクジェットヘッドを組み立て
る。陽極の接合後に、振動板５と第２の基板２上の個別
電極２１との間に形成されるギャップ長さＧは、凹部１
５の深さと個別電極２１の厚さとの差であり、本実施例
では０．２μｍとしてある。更に基板１の振動板５の表
面には熱酸化により酸化シリコン膜が形成されており、
個別電極２１と振動板５が接触しても短絡破壊しないよ
う構成されている。絶縁膜としての熱酸化膜は厚すぎる
と電界が弱くなる原因となる一方、薄過ぎると繰り返し
電界ストレスにより絶縁破壊しやすくなる。本実施例で
はこの熱酸化膜の厚さを０．１３μｍとしている。

【００３４】図２に説明されるようにインクジェットヘ
ッドを組み立てた後は、共通電極１７と個別電極２１の
端子部２３間にＦＰＣ４９により駆動回路４０を接続
し、インクジェットプリンタを構成する。インク１０３
は、図示しないインクタンクよりフィルター５１を経て
第１の基板１の内部に供給され、リザーバ８、吐出室６
等を満たしている。そして、吐出室６のインクは、図３
に示されるように、インクジェットヘッド１０の駆動時
にノズル孔４よりインク液滴１０４となって吐出され、
記録紙１０５に印字される。

【００３５】図４は基板１の部分詳細平面拡大図であ
る。本発明の実施例に示すインクジェットヘッドの基板
１は単結晶シリコンを異方性エッチングにて形成されて
いる。異方性エッチングとはエッチング速度がエッチン
グ方向により異なることを利用してなされるエッチング
である。本実施例では単結晶シリコン（１００）面のエ
ッチング速度が（１１１）面に比較して約４０倍以上速
いことを利用して、前述のノズル溝１１、凹部１２、細
溝１３、凹部１４及びフィルター溝５２を形成してい
る。この内ノズル溝１１、細溝１３及びフィルター溝５
２はそれぞれエッチング速度が遅い（１１１）面からな
るＶ字状の溝となっている。即ち、ノズル溝１１、細溝
１３及びフィルター溝５２の断面形状を三角形に構成し
てある。ノズル溝１１の幅は６０μｍ、細溝１３は３本
の流路を並列に構成してありその幅は５５μｍである。
また、フィルター溝５２の幅は５０μｍであり、凹部１
４に５４本が並列に連通している。また、凹部１２及び
１４は底面が（１００）面で側面が（１１１）面からな
る台形状の溝となっている。凹部１２及び１４の溝深さ
はエッチング時間を調整することにより決められる。一
方Ｖ字状の溝となっているノズル溝１１、細溝１３及び
フィルター溝５１はエッチング速度の遅い（１１１）面
のみからなるのでその深さはエッチング時間に寄らず溝
幅のみにより決まる。

【００３６】これらノズル溝１１、細溝１３とフィルタ
ー溝５２はインク流路の内で吐出インクの量や速度等の
特性に対して敏感な部位であり、最も高い加工精度が要
求される。本発明の実施例では、これらの高い加工精度
が要求される部位をエッチング速度が遅い面を用いて構
成し、異方性エッチングにより加工することにより、一
度に異なる寸法の流路を高精度で得ることを可能にして
いる。

【００３７】上述の本実施例における寸法構成例の様
に、フィルター溝５２の幅をノズル溝１１、細溝１３よ
りも狭く構成することにより、第３の基板接合により構
成されるインク流路の内フィルター５１の開孔断面積が
流路断面積中で最も断面積が小さく構成されるようにな
る。ノズル孔４、オリフィス７を詰まらせる異物はすべ
てフィルター孔５１により阻止されてインク流路中には
侵入せずドット抜け等の印刷不良が発生しにくくインク
ジェットヘッドの信頼性を確保可能である。更に、製造
中のノズル孔詰まりやオリフィス詰まりを防止できるの
で、良品率を向上させて、大量に作り易いヘッドを得る
ことができる。

【００３８】図５（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ本発明の実
施例におけるインクジェットヘッドの側断面図を示し、
特に振動板が待機状態から変形することによって、イン
クが吐出されるまでの状態を説明するものである。ま
た、図６（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ図５（ａ）〜
（ｃ）の状態において、振動板と電極間に印加される電
圧の状態を示す略図である。以下、これらの図により本
発明のインクジェットヘッドの動作の一例を以下に説明
する。

【００３９】図５（ａ）は、待機状態のインクジェット
ヘッドの側断面図を示すものであり、図６（ａ）は、そ
のときの振動板５、個別電極２１間の電位を示す略図で
ある。

【００４０】このとき、インクジェットヘッドは、イン
ク流路中にはインクが充填されており、インクの吐出を
行う際の待機状態にある。次に、図６（ｂ）に示すよう
に、待機状態から、振動板５と個別電極２１に電圧を印
加して電位差を生じさせると、振動板５と個別電極２１
に静電吸引力が作用して、振動板５は個別電極２１に吸
引される。このとき、図５（ｂ）に示すように、個別電
極２１に吸引された振動板５により吐出室６内の圧力が
低下し、リザーバ８から吐出室６へ矢印Ｂ方向にインク
が供給される。また、これと同時に、ノズル４に形成さ
れているメニスカス１０２も吐出室６方向に吸引され
る。次に、図６（ｃ）に示すように、インクが十分供給
されたタイミングを選んで、電圧の印加を止め、振動板
５と個別電極２１に蓄えられている電荷を放電すると、
図５（ｃ）に示すように、振動板５は電界の力から開放
されて自らの復原力により吐出室６側に復元する。この
時吐出室６に発生した圧力によりインク滴１０４はノズ
ル孔４より吐出する。と同時に吐出室６のインクは矢印
Ｃ方向にオリフィス７を通過してリザーバ８に排出され
る。この後インク流路内のインクの振動が流路抵抗によ
り減衰して収束し、再び図５（ａ）に示す待機状態とな
り、次のインクの吐出が可能な状態となる。

【００４１】上述の駆動方法は、待機状態では、振動板
は変形させておらず、駆動時に、振動板を変形させるこ
とにより、一度吐出室内の圧力を低下させて直後、振動
板にかかる力を解放し、圧力を上昇させてインク液滴を
吐出する方法（いわゆる引き打ち）であるが、待機状態
では、常に振動板を変形させておき、インク吐出を行う
際にのみ振動板を開放する駆動方法（いわゆる押し打
ち）でもよい。例に示した引き打ちによる方法であれ
ば、吐出インク量を多くし、吐出インク量の周波数特性
が優れた駆動が可能である。何れにしても駆動力や駆動
方法が異なっても本発明による作用・効果は同様であ
る。

【００４２】次に、本実施例におけるインクジェットヘ
ッドの流路定数について説明する。インクジェットヘッ
ドのインク流路はインクの流線に垂直な断面積やその周
長、流路の長さによって、インクの粘性及び密度に起因
する各種の性質を有している。

【００４３】イナータンスＭはインクの密度をρ、流路
の長さをＬ、流路の流線に垂直な断面積をＳとすると、
以下の式で示される。

【００４４】

【数１】

【００４５】イナータンスＭはインクの体積加速度に対
する抵抗であり、イナータンスＭは大きいほど発生圧力
等の力や加速度に対する抵抗が大きくなる。

【００４６】また、インクの粘度をη、流路の断面周長
をＴとすると、流路抵抗Ｒは、

【００４７】

【数２】

【００４８】で示される。これはインクの体積速度に対
する抵抗を示す。流路抵抗Ｒが大きい程、インクの流れ
に対する抵抗が大きくなる。

【００４９】更に、インク中の音速をｃ、インク流路の
容積をＷとすると、インクの容量Ｃは、

【００５０】

【数３】

【００５１】で示される。インクの容量Ｃはインクの変
形抵抗を示しており、インクの容量Ｃが大きければ大き
いほどインクは変形し易い。即ち圧力を緩衝する能力が
大きい。

【００５２】インクジェットヘッドでは、構成されるイ
ンク流路のこれら流路定数のバランスをとって、これら
を調節しながら設定し、安定したインクの吐出を確保し
ている。

【００５３】また、インク流路と同様にリザーバ８やフ
ィルター５１も上述のイナータンスや流路抵抗、インク
容量を有している。本発明の実施例では図５及び図６を
用いて説明した駆動方法により、非駆動ノズルからイン
ク滴が吐出するクロストーク（インク流路間の圧力干
渉）や、インクの供給不足が発生しない様に、リザーバ
８やフィルター５１のイナータンスや流路抵抗、インク
容量といった流路定数をインク流路の流路定数に対して
設定している。

【００５４】以下に、リザーバ８及びフィルター５１の
流路定数の設定例を詳説して示す。

【００５５】図７は本発明の一実施例の平面図である。
本図に基づきリザーバ８及びフィルター５１の流路定数
について説明する。

【００５６】まず、ｎ本のノズルを有するインクジェッ
トヘッドのノズルのうちｎ−ｋ本のノズルより、前述し
たように吐出室６に付設されたアクチュエータを駆動す
ることによって、インク液滴１０４を吐出させている状
態を前提に以下の説明を行う。（ｋは非駆動ノズルの本
数）本実施例では、この様な状態で、非駆動ノズルから
クロストークによりインク滴が吐出しないようにリザー
バ８及びフィルター５１の流路定数を設定している。

【００５７】ノズル孔４からインク滴１０４を吐出する
と同時にオリフィス７からリザーバ８へインクの一部が
逆流する。この時の駆動ノズル一本当たりの一回のイン
ク吐出量をｗ、一つの駆動ノズルのオリフィス７からリ
ザーバ８へ逆流するインクの体積速度をＵａとする。ま
た、ｎ本並列に構成されたノズル４からオリフィス７ま
での吐出部の流路全体のイナータンスをＭａ、流路抵抗
をＲａとし、リザーバ８とフィルター５１で構成される
供給部の流路のイナータンスと流路抵抗をそれぞれＭ
ｆ，Ｒｆとすると、これらは以下のように表せる。

【００５８】

【数４】

【００５９】ここで、Ｌｆはフィルタ５１の長さ、Ｓｆ
はフィルタの開口断面積、Ｔｆはフィルタの開口の断面
周長を示す。

【００６０】

【数５】

【００６１】ここで、ｌはノズル４からオリフィス７ま
での吐出部の流路全体の長さ、Ｓ（ｘ）は、ノズル４か
らオリフィス７までの任意の位置ｘでの一本の流路の断
面積で、Ｔ（ｘ）は、ノズル４からオリフィス７までの
任意の位置ｘでの一本の流路の断面周長である。

【００６２】更に、吐出部全体のイナータンスＭａと供
給部のイナータンスＭｆとの比をα＝Ｍｆ／Ｍａとす
る。図８の状態においてインク滴１０４吐出時のリザー
バ８の圧力上昇δＰfkは、

【００６３】

【数６】

【００６４】となる。ｔは時間を示す。この時駆動して
いないノズル（非駆動ノズル）１本からのインクの吐出
量、即ちインク流路間の相互干渉の結果生ずるクロスト
ークの量ｗｃは、リザーバ８での圧力上昇δＰfkをｎＭ
ａで除した値を２回積分したものであるから、

【００６５】

【数７】

【００６６】となる。ここでβはインク流路のノズル側
イナータンス及び流路抵抗とオリフィス側のイナータン
ス及び流路抵抗のバランスにより決まる定数で、ノズル
からの吐出インク量ｗとオリフィスからリザーバに逆流
するインク量の比を示している。即ち、

【００６７】

【数８】

【００６８】である。総ノズル数が１２本のインクジェ
ットヘッドにおいて、非駆動ノズル本数が１であるよう
な場合は、ｎ＞＞ｋ，α＜１であるから、更にクロスト
ーク量ｗｃは、

【００６９】

【数９】

【００７０】である。

【００７１】これより本発明の実施例では更に、クロス
トークが生じないようにするために、αの値即ちＭｆ／
Ｍａとクロストークの関係を表１に示す実験結果により
求め、Ｍｆ／Ｍａが０．２以下となるように設定し、サ
ンプル４にてＭｆ／Ｍａが０．１２１となるように構成
した。

【００７２】次に、ｎ本のノズル全てを最高周波数ｆｄ
にて駆動した場合でも、供給不足とならないようにリザ
ーバ８及びフィルター５１の流路定数を設定する。

【００７３】インクの表面張力をγ、ノズル孔４の周長
をＴａ、ノズル孔４の面積をＳａ、インクとヘッド材料
（例えば単結晶Ｓｉ）との接触角をθとすると、（θ≒
０）この時、インクの供給が不足して、ノズル孔４より
気泡を取り込まれる不具合を防止し、安定した駆動を行
うためには、

【００７４】

【数１０】

【００７５】なる関係が成立していることが必要があ
る。ここでＰｈは、インクジェットヘッドに外部からイ
ンクを供給するインク供給系によって加えられる圧力で
ある。例えば、ヘッドに供給するインクを保持している
インクタンクが弾性体である場合、インクタンクの変形
に伴って、インクジェットヘッドには外部から負圧が加
えられ、また、インクジェットヘッドとインクタンクの
高さ方向の配置関係（水頭値）によって、所定の圧力が
外部から加えられる。これよりリザーバ８及びフィルタ
ー５１の流路抵抗Ｒｆはインク流路全体の流路抵抗Ｒａ
に比べて無視できる程度に小さければフィルター５１の
付設によりインクの供給が不足する不具合は起こらない
ことが分かる。更に、表１の実験結果より本実施例では
Ｒｆ／Ｒａを０．２５以下とし、サンプル４にてＲｆ／
Ｒａを０．１７３となるように構成した。

【００７６】以下表１に本発明によるインクジェットヘ
ッドを作成し、クロストーク及び供給不足について実験
調査した結果を示す。実験で用いたインクジェットヘッ
ドのノズル本数は１２本である。

【００７７】

【表１】

【００７８】表１の中のサンプル２では高周波数駆動時
に供給不足によるインク吐出不安定が観測された。ま
た、サンプル３では１１ノズルを駆動し、１ノズルを非
駆動とした時に、非駆動ノズルのノズル孔よりインク滴
の吐出が観測された。サンプル１及びサンプル４ではク
ロストーク及び供給不足が観測されず、サンプル４では
一回当たりのインク吐出量ｗも多く、インク吐出特性に
おいて最も良好な結果が得られた。サンプル４のフィル
ターの開孔数は５８孔、フィルターの幅は４５μｍ、長
さは５０μｍである。

【００７９】図８は本発明の別の実施例を示す平面図で
ある。また、図９は図８におけるＤ−Ｄ断面の断面図で
ある。図８は複数のインク流路を平行に構成された例を
示すが図中インク流路は一部省略されている。

【００８０】図８及び図９において、５３はインク供給
部の下部に形成された空隙で、圧力緩衝室である。５４
は前述の圧力緩衝室５３の内部に形成された酸化透明導
電膜で、個別電極２１と同じＩＴＯよりなる。５５はイ
ンク供給部の底面壁に相当し振動板５と同一の厚みを有
する緩衝壁である。インク流路の吐出室６の駆動時に生
ずるリザーバ８部での圧力上昇は、緩衝壁５５により吸
収・緩衝されて消失し、フィルター５１を付設したこと
により生ずるインク流路間の圧力相互干渉やインク供給
不足を防止している。尚、酸化透明導電膜５４を付設し
た主な理由は、基板１と基板２を陽極接合する際、緩衝
壁５５が基板２に貼着されて、機能しなくなる不具合を
防止するためである。

【００８１】リザーバ部８のインクの容量（コンプライ
アンス）が十分大きい場合にはインクの容量のみによ
り、駆動ノズルで発生しリザーバ８に波及した圧力を緩
衝する事が可能である。本実施例の様に積極的に緩衝壁
５５を設けることにより、リザーバ８の容積は小さくて
も十分なコンプライアンスを得ることが可能であり、イ
ンクジェットヘッド動作時にリザーバ８に発生する圧力
を十分に緩衝することができる。更に緩衝壁５５により
前述のフィルタ５１の流路定数選定の範囲も広がる。即
ち、緩衝壁５５を設けることによりフィルタ５１のイナ
ータンスはインク流路全体のイナータンスに比較して大
きな値となっても、圧力が緩衝されるのでクロストーク
を生じない。

【００８２】以上述べた実施例では圧力発生手段として
静電吸引力を用いたが、圧力発生手段として圧電素子を
振動板５の吐出室６の反対側の面に貼着し、圧電素子に
適宜電気パルスを印加して、振動板を変形させても良
い。また、圧力発生手段として、発熱抵抗体素子を吐出
室６内に設け、発熱抵抗素子によるインクの加熱膨張に
よって、インクを吐出する圧力を得る方法であっても、
本発明の作用・効果として同一のものが得られる。この
ように、本発明は、圧力発生手段として、静電吸引力を
用いるものに限定されるものではないが、圧力発生手段
として静電吸引力を用いることにより、ギャップ量の選
定に寄っては大きな圧力を得ることが可能であり、か
つ、ヘッドの構成を簡素化することが可能である。静電
吸引力を用いるようにすれば本発明の特徴を最大限に応
用することができる。

【００８３】図１０は上述のインクジェットヘッド１０
を搭載した本発明のインクジェット記録装置の一実施例
を示す概要図である。３００は記録紙１０５を搬送する
プラテン、３０１は内部にインクを貯蔵するインクタン
クであり、インク供給チューブ３０６を介してインクジ
ェットヘッド１０にインクを供給する。３０２はキャリ
ッジであり、インクジェットヘッド１０を記録紙１０５
の搬送方向と直行する方向に移動させる。キャリッジ３
０２を移動させながら、駆動回路４０により適時インク
ジェットヘッド１０よりインク１０４を吐出させること
により、記録紙１０５に任意の文字や画像を印刷するこ
とができる。

【００８４】３０３はポンプであり、インクジェットヘ
ッド１０のインク吐出不良時の回復動作を行ったり、イ
ンクの詰め替えを行う等の場合、キャップ３０４、廃イ
ンク回収チューブ３０８を介してインクを吸引し、排イ
ンク溜３０５に回収する機能を果たしている。

【００８５】本発明のインクジェット記録装置ではイン
クジェットヘッド１０に前述したフィルタを内臓してい
るので、インクジェットヘッド１０に異物が侵入するこ
とを防止するために、インクタンク３０１及びインク供
給チューブ３０６内にフィルタを設ける必要がないた
め、インク供給系を簡素に構成できる。また、本実施例
では、インクジェットヘッド１０のみをキャリッジ３０
２に配設したものを示すが、これに限定されるものでも
のはなく、インクタンクはキャリッジ上に配設されても
よいし、インクタンクをヘッドと一体に構成したいわゆ
るディスポーザブルタイプ（インクタンクのインクが空
になった時点でインクジェットヘッドごと交換するタイ
プ）に適用しても所望の効果が得られることは言うまで
もない。

【００８６】以下、図１１から図１４を用いて、本発明
のインクジェットヘッドの製造方法を詳細に説明する。

【００８７】図１１は本発明のインクジェットヘッドの
製造方法の内、基板１の溝形成プロセスを説明する図で
ある。図はいずれも基板１のフィルタ溝５２の形成され
る部分の断面を示している。６１は単結晶Ｓｉである基
板１の表面に１１００℃の熱酸化にて形成された厚さ６
０００ÅのＳｉＯ２熱酸化膜である。６２は基板１表面
に塗布された感光性樹脂であるところのレジストであ
る。

【００８８】図１１（ａ）はレジスト６１を熱酸化後の
基板１の表面に塗布・乾燥した後、フィルタ溝５２を形
成する部分にのみパターンを描画したポジマスクを用い
て紫外光を照射・露光し、その後、現像・リンス・乾燥
した状態である。ここでパターンの幅について言及する
と、フィルタ溝５２を形成することになるパターンの幅
は図１に示すノズル溝１１、細溝１３を形成することに
なるパターンの幅より狭く形成されているる。

【００８９】次に酸化膜をフッ酸とフッ化アンモニュウ
ムを１：６（体積比）に混合したエッチング液（ＢＨ
Ｆ）によりエッチングする。これによりフィルタ溝５２
を形成しようとするパターン部の酸化膜は除去される。
この後、レジスト６１を剥離すると図１１（ｂ）に示す
状態となる。この時、同時にインク流路、インク供給
部、となる溝部を形成しようとするパターン部の酸化膜
も除去されている。

【００９０】更に、水酸化カリウム（ＫＯＨ）とエタノ
ールの水溶液により基板１である単結晶Ｓｉをエッチン
グする。この時、単結晶Ｓｉの（１００）面は（１１
１）面のエッチングスピードの４０倍の速度でエッチン
グされるため、結果として（１１１）面が露出してく
る。図１１（ｃ）は単結晶シリコンのエッチング後の状
態である。この時フィルタ溝５２は単結晶Ｓｉの（１１
１）面のみで形成される。フィルタ溝５２はエッチング
速度の遅い（１１１）面で構成されるため、エチングが
殆ど進行せず、マスクのパターン幅に対して安定した幅
・深さ寸法で出来上がる。他のインク流路・インク供給
部も同様に高精度で溝形状を作成することが可能であ
る。

【００９１】溝形成の最後に、熱硫酸で洗浄後、イソプ
ロピルアルコールにより蒸気洗浄し、ＢＨＦにて表面の
熱酸化膜を剥離する。図１１（ｄ）は熱酸化膜剥離後の
溝形成終了後の状態を示す。この後保護膜となる熱酸化
膜を再度形成して基板１は完成する。

【００９２】図１２は図４におけるフィルタ５１の矢視
Ａ方向の拡大図である。また、図１３はリザーバ溝１４
側からみたフィルタ溝５２のエッチング後の斜視拡大図
である。フィルタ５１はエッチングにてフィルタ溝５２
を形成し、基板１、基板２、基板３を接合後、切断加工
により開口して形成される。従って開口形状はＳｉ単結
晶の２つの（１１１）面と接合面である（１００）面か
らなる三角形となる。このように、フィルタの形成速
度、即ちエッチング速度が比較的遅い結晶面で且つ、同
一な直行する結晶面を用いてフィルタを構成することに
より、即ち三角形形状にてフィルタを構成することによ
り、容易に且つ高精度になフィルタを得ることが可能と
なる。

【００９３】尚、本実施例において、基板１に単結晶シ
リコンを用いているがゲルマニウムや単結晶酸化シリコ
ン（水晶）等、異方性エッチングが可能な材料であれば
何でもよい。単結晶シリコンは半導体材料として産業上
容易に手にすることができる材料であるし、水晶や、ゲ
ルマニウム等は高い純度の結晶を得ることができ更に高
精度の加工が可能である。

【００９４】以下に、複数組のインク流路のパターンを
１枚のウエーハ状のシリコン基板１に多数まとめて作成
し、基板２、基板３となる部材もまた、対応する位置と
数まとめて多数作成してこれを積層して接合した後、切
断して個々のインクジェットヘッドに分離して、インク
ジェットヘッドを製造する方法を説明する。

【００９５】図１４は、シリコン基板上に異方性エッチ
ングされた、複数組のインク流路パターンの内、後の工
程で、切断され個々のインクジェットヘッドに分離され
る箇所を示すパターン図である。分離されることになる
インクジェットヘッド１０、１０’は、パターン上、ノ
ズル４とフィルター部５１が向かい合う様に配置され
る。基板２、３を接合後、隣り合うパターンの切り代ｔ
ａ分を除去して、個々のインクジェットヘッドに分離す
る。フィルタ部５１のパターンはｔｂ分、切り代ｔａと
重複し、ノズル４部のパターンは、ｔｃ分、切り代ｔａ
と重複している。

【００９６】例えば、ダイシング加工によって、切断・
分離するときは、切り代ｔａより若干幅の狭い砥石を用
いて、フィルタ部５１側を基準に個々のインクジェット
ヘッドに分離した後、ノズル４部を研磨し、撥水処理等
の後処理を行う。

【００９７】このような方法によれば、多くのインクジ
ェットヘッドを一度に作成できるので、容易に且つ安価
にインクジェットヘッドを製造することが可能となる。
この場合、フィルタ５１の開口部の面積はヘッドの外部
に対して最も狭くしてあるため、フィルタ溝部を切断し
てヘッドを製造することにより、異物が製造上の取り扱
いでヘッド内に侵入することを防止する事が可能とな
る。これにより、インクジェットヘッドの製造不良を低
減させ更に多くのインクジェットヘッドを得ることがで
きるようになる。即ち製造歩留まりを向上させることが
可能となる。

【００９８】上述の切断工程における切断加工はダイシ
ングによる研削切断でも、スクライブ（溝形成）後ブレ
ークする切断方法でも、レーザによるスクライブ切断
や、ウオータジェットによる切断加工でもよい。ダイシ
ングによる研削切断であれば、比較的精度良く切断する
ことが可能である。特にダイシングではフィルタ５１の
長さを精度よく確保する事が可能である。また、スクラ
イブ後ブレークする方法は、最も容易で、短時間に切断
できる切断方法であり、大量生産向きである。レーザ加
工では、切断時の切り屑が発生せず、製造上の詰まりを
発生する確率が低く、更に、ウオータジェットによる切
断加工では熱の影響を受け難いといった利点を有してい
る。

【００９９】何れの切断加工方法であっても、フィルタ
５２をエッチングで形成された溝を接合後、最終的に切
断加工により形成することにより、得られる所の効果に
相違はない。

【０１００】

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、異物
流入による流路の詰まりを防止し、ドット抜けがなくて
信頼性の高いインクジェットヘッドを得ることができ
る。

【０１０１】更に、インク流路間の圧力干渉やインクの
供給不足がなく安定したインク吐出が可能で、良好な印
刷品質が得られるインクジェットヘッド及びインクジェ
ット記録装置を提供することが可能である。

【０１０２】又、更に、容易に製造可能であり、安価
で、寸法精度や品質の高いインクジェットヘッドが得ら
れるといった効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例のインクジェットヘッドの分解
斜視図。

【図２】本発明の実施例のインクジェットヘッドの斜視
図。

【図３】本発明の実施例のインクジェットヘッドの断面
側面図。

【図４】本発明の実施例のインクジェットヘッドの基板
の平面部分拡大図。

【図５】本発明の実施例のインクジェットヘッドのイン
ク吐出動作を示す断面側面図。

【図６】図５に示したインクジェットヘッドの振動板と
個別電極に与える電圧の状態を示す説明図。

【図７】本発明の実施例のインクジェットヘッドにおい
て、各インク流路の流路定数を説明する説明図。

【図８】本発明の他の実施例のインクジェットヘッドの
平面図。

【図９】図８のインクジェットヘッドの断面図。

【図１０】本発明の実施例のインクジェットヘッドを搭
載したプリンタの概要図。

【図１１】本発明の実施例のインクジェットヘッドの基
板の製造過程を示す断面図。

【図１２】本発明の実施例のインクジェットヘッドのフ
ィルタの開孔部拡大図。

【図１３】本発明の実施例のインクジェットヘッドの基
板フィルタ部の部分斜視図。

【図１４】シリコン基板上に異方性エッチングされた、
複数組のインク流路パターンを示すパターン図である。

【符号の説明】

１・・・基板 ４・・・ノズル孔 ５・・・振動板 ６・・・吐出室（圧力発生部） ７・・・オリフィス（インク供給路） ８・・・リザーバ（インク供給部） ５２・・・フィルター

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ４１Ｊ 2/055 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０３ Ａ (72)発明者 羽片 忠明 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 宮下 育宏 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内

Claims (19)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数のノズル孔と、該ノズル孔の各々に
   連通する独立の吐出室を有し、前記吐出室の一部の壁を
   構成する振動板の変形によってインク液滴を吐出するイ
   ンクジェットヘッドを具備するインクジェット記録装置
   において、 前記吐出室の一部を形成する第１の溝と、 インクを蓄える共通インク室の一部を形成する第２の溝
   と、 前記共通インク室と前記各々の吐出室を結ぶ第３の溝
   と、 前記共通インク室へインクを供給する供給口の一部を形
   成し、前記第１、第２、及び第３の溝より浅く、かつ前
   記ノズル孔の断面積より小さな断面積を有し、列状に配
   置された複数の第４の溝が、第１の面に形成された異方
   性結晶基板と、 前記異方性結晶基板の第１の面と接合され、前記第１か
   ら第４の溝と共に前記吐出室、前記共通インク室、前記
   供給口をそれぞれ形成する蓋基板と、 前記吐出室内もしくは近接して配置され、該吐出室の各
   々に圧力を発生させる圧力発生手段と、 該圧力発生手段を選択的に駆動し、前記ノズル孔からイ
   ンク滴を吐出させる駆動手段とを有することを特徴とす
   るインクジェット記録装置。
2. 【請求項２】 複数のノズル孔と、該ノズル孔の各々に
   連通し、各々独立した吐出室と、該吐出室に連通する共
   通インク室と、該共通インク室と前記吐出室を結ぶオリ
   フィスと、前記共通インク室内もしくは近接して設けら
   れ、該共通インク室に連通する複数の溝からなるフィル
   タと、前記吐出室内の各々に圧力を発生させる圧力発生
   手段とを具備するインクジェットヘッドと、 該圧力発生手段を選択的に駆動し、前記ノズルからイン
   ク滴を吐出させる駆動手段とを有するインクジェット記
   録装置において、 前記フィルタのイナータンスが、前記ノズル孔から前記
   オリフィスまでのイナータンスの５分の１以下であるこ
   とを特徴とするインクジェット記録装置。
3. 【請求項３】 複数のノズル孔と、該ノズル孔の各々に
   連通し、各々独立した吐出室と、該吐出室に連通する共
   通インク室と、該共通インク室と前記吐出室を結ぶオリ
   フィスと、前記共通インク室内もしくは近接して設けら
   れ、該共通インク室に連通する複数の溝からなるフィル
   タと、前記吐出室内の各々に圧力を発生させる圧力発生
   手段を具備するインクジェットヘッドと、 該圧力発生手段を選択的に駆動し、前記ノズルからイン
   ク滴を吐出させる駆動手段とを有するインクジェット記
   録装置において、 前記フィルタの流路抵抗が、前記ノズルから前記オリフ
   ィスまでの流路抵抗の４分の１以下であることを特徴と
   する請求項１記載のインクジェット記録装置。
4. 【請求項４】 前記共通インク室の少なくとも１壁面を
   可撓性とした事を特徴とする請求項１乃至３記載のイン
   クジェット記録装置。
5. 【請求項５】 前記基板の異方性結晶材料が単結晶シリ
   コンであることを特徴とする請求項１記載のインクジェ
   ットヘッド。
6. 【請求項６】 請求項１乃至３記載のインクジェット記
   録装置において、前記圧力発生手段が、前記吐出室の壁
   面の一部に設けられた振動板と、該振動板に対して所定
   の空隙を有して対向する電極とを有する静電アクチュエ
   ータであり、前記駆動手段が、前記静電アクチュエータ
   に、パルス電圧を印加して得られる静電気力によって前
   記振動板を変形させる駆動手段であることを特徴とする
   インクジェット記録装置。
7. 【請求項７】 請求項１乃至３記載のインクジェット記
   録装置において、前記圧力発生手段が、前記吐出室の壁
   面の一部に設けられた振動板と、該振動板に固着された
   圧電素子からなり、前記駆動手段が、該圧電素子に電気
   パルスを印加することによって前記振動板を変形させる
   駆動手段からなることを特徴とするインクジェット記録
   装置。
8. 【請求項８】 請求項１乃至３記載のインクジェット記
   録装置において、前記圧力発生手段が、前記吐出室の内
   部に設けられた発熱素子であり、前記駆動手段が、該発
   熱素子に電気パルスを印加することによって、前記吐出
   室内に発生する気化圧力により前記ノズル孔からインク
   液滴を吐出させる駆動手段であることを特徴とするイン
   クジェット記録装置。
9. 【請求項９】 請求項１記載のインクジェットヘッドの
   製造方法において、 前記第１乃至第４の溝を異方性結晶基板の第１面上に異
   方性エッチングする工程と、 前記圧力発生手段を前記吐出室に付設する工程と、 蓋基板を前記異方性結晶基板の第１面に接合することに
   より、前記第１から第４の溝の縁を封止すると共に、前
   記吐出室、前記共通インク室、前記供給口及びこれらを
   結ぶ流路を形成する工程とを有することを特徴とするイ
   ンクジェットヘッドの製造方法。
10. 【請求項１０】 請求項９において、前記異方性材料の
    基板の前記第１面に、エッチング液による腐食を防止す
    るエッチング防止膜を均一に形成した後に、前記第１か
    ら第４の溝を描く輪郭内のエッチング防止膜を除去する
    ことによりマスクパターンを形成する工程を有し、前記
    マスクパターンの前記第４の溝を描く輪郭の幅が、他の
    溝を描く輪郭の幅よりも狭いことを特徴とするインクジ
    ェットヘッドの製造方法。
11. 【請求項１１】 前記異方性結晶基板がシリコン基板で
    あって、前記マスクパターンが前記シリコン基板の（１
    ００）面に形成されることを特徴とする請求項１０記載
    のインクジェットヘッドの製造方法。
12. 【請求項１２】 前記エッチング防止膜がシリコンの熱
    酸化膜であることを特徴とする請求項１０記載のインク
    ジェットヘッドの製造方法。
13. 【請求項１３】 請求項９において、一枚の前記異方性
    結晶基板に、複数組の第１から第４の溝を異方性エッチ
    ングし、他の基板を接合した後、少なくとも前記第４の
    溝の一部分に相当する箇所を切断することにより、個々
    のインクジェットヘッドに切断分離することを特徴とす
    るインクジェットヘッドの製造方法。
14. 【請求項１４】 前記第４の溝の一部分に相当する箇所
    を切断する方法が、ダイシングによる研削切断であるこ
    とを特徴とする請求項１３記載のインクジェットヘッド
    の製造方法。
15. 【請求項１５】 前記第４の溝の一部分に相当する箇所
    を切断する方法が、スクライブ後にブレークする方法で
    あることを特徴とする請求項１３記載のインクジェット
    ヘッドの製造方法。
16. 【請求項１６】 前記第４の溝の一部分を切断する方法
    が、レーザによるスクライブ切断であることを特徴とす
    る請求項１３記載のインクジェットヘッドの製造方法。
17. 【請求項１７】 前記第４の溝の一部分を切断する方法
    が、ウォータジェットによる切断加工であることを特徴
    とする請求項１３記載のインクジェットヘッドの製造方
    法。
18. 【請求項１８】 請求項９記載のインクジェットヘッド
    の製造方法において、前記圧力発生手段を前記吐出室に
    付設する工程が、 絶縁体基板上に電極を形成する工程と、 前記吐出室の壁面の底部に設けられた振動板に対して、
    前記電極が所定の空隙を有して対向するように、前記絶
    縁体基板を前記異方性材料基板の第１面とは反対側の第
    ２の面に接合する工程からなることを特徴とするインク
    ジェットヘッドの製造方法。
19. 【請求項１９】 請求項９記載のインクジェットヘッド
    の製造方法において、前記圧力発生手段を前記吐出室に
    付設する工程が、前記吐出室の壁面の一部に設けられた
    振動板に圧電素子を貼着する工程であることを特徴とす
    るインクジェットヘッドの製造方法。