JPH08183857A - ポリベンザゾールの製造方法 - Google Patents
ポリベンザゾールの製造方法Info
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- JPH08183857A JPH08183857A JP32784294A JP32784294A JPH08183857A JP H08183857 A JPH08183857 A JP H08183857A JP 32784294 A JP32784294 A JP 32784294A JP 32784294 A JP32784294 A JP 32784294A JP H08183857 A JPH08183857 A JP H08183857A
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Abstract
が多少変動しても、安定して高分子量ポリマーを得るこ
と。 【構成】芳香族ジアミンジオールと芳香族ジカルボン酸
を反応させてポリベンザゾールを製造するに際し、芳香
族ジアミンジオールを芳香族ジカルボン酸に対して７０
〜９７モル％となるように配合し、主としてポリリン酸
からなる溶媒兼脱水剤中で脱水重縮合反応させることを
特徴とする対数粘度１．３以上かつフィルム形成能を示
すポリベンザゾールの製造方法。
Description
を有するポリベンザゾールの製造方法に関する。
香族ジカルボン酸とをモノマー成分とし、それらをポリ
リン酸中で重縮合反応で得られるポリベンザゾールは知
られており、該ポリベンザゾールは繊維やフィルムなど
に形成され、広い分野で使用されている。一般に重縮合
反応ではモノマー仕込み比が１：１のときに得られるポ
リマー粘度が最大となり、モノマー仕込み比が１：１か
らずれるに従って急激に低下することが知られており、
特にポリベンザゾールでは、図１における点線で示され
るように、モノマー仕込み比が異なると得られるポリマ
ー分子量は大きく異なり、１：１からずれると分子量は
大きく低下すると考えられていた。従って、重縮合反応
においては高分子量であり、各重合反応ごとに得られる
ポリマー分子量を一定にするには、各重合反応における
モノマー仕込み比を厳密に一定になるように管理する必
要があった。
法における欠点を解決するものであり、つまり重合反応
におけるモノマー仕込み比などの条件が多少変動して
も、安定して高分子量ポリマーを得ることのできる方法
を得ることを課題とするものである。
を解決するため、鋭意、研究、検討した結果、ポリリン
酸を溶媒兼脱水剤とし、ポリベンザゾールの重縮合反応
において、モノマーの仕込み比が多少異なっても得られ
るポリベンザゾールの分子量がほとんど同じで、しかも
フィルム形成能を有する高分子量のポリマーを得られる
領域が存在することを見出した。これは一般の重縮合挙
動とは異なる特異的な挙動である。つまり本発明は、下
記化８〜１０で示される芳香族ジアミンジオールと下記
化１１〜１３で示される芳香族ジカルボン酸を反応させ
てポリベンザゾールを製造するに際し、前記芳香族ジア
ミンジオールを前記芳香族ジカルボン酸に対して７０〜
９７モル％となるように配合し、主としてポリリン酸か
らなる溶媒兼脱水剤中で脱水重縮合反応させることを特
徴とする対数粘度１．３以上かつフィルム形成能を示す
ポリベンザゾールの製造方法である。
下記化１４で示される二価の基を示す。
ジオールとして具体的には、４，６−ジアミノレゾルシ
ノール、２，５−ジアミノ１，４−ジヒドロキシベンゼ
ン、３，３−ジアミノ４，４−ジヒドロキシジフェニル
スルフォン、４，６−ジアミノ１，３−ジヒドロキシベ
ンゼン、２，５−ジアミノ１，４−ジチオベンゼン、
４，４−ジアミノ３，３−ジヒドロキシフェニル、３，
３’４，４−テトラアミノビフェニル等が挙げられる。
また前記化１１〜１３で示される芳香族ジカルボン酸と
して具体的には、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタ
レンジカルボン酸、オキシビス（４−ベンゼン酸）、ビ
ス（４−ベンゼン酸）およびそれらの酸クロライド等が
挙げられるが、これらに限らず前記化８〜１３で示され
る芳香族化合物すべてを含む。
ポリマーをメタンスルホン酸に溶解し、水中で凝固させ
たとき充分強度の高いフィルムが作成可能であることを
意味する。本発明において、前記化８〜１０で示される
芳香族ジアミンジオールと前記化１１〜１３で示される
芳香族ジカルボン酸の重縮合反応は溶媒兼脱水剤である
ポリリン酸中で行なう。その濃度は完全に反応を進行さ
せるために７６重量％（Ｐ 2 Ｏ5 組成）以上、好ましく
は８０重量％以上、溶液粘度を抑えるために９０重量％
以下、好ましくは８７重量％以下である。また反応温度
は反応を進行させるために１２０℃以上、モノマーの劣
化を防ぐために３００℃以下であることが好ましい。こ
の時、反応に用いるポリリン酸は水に五酸化ニリンを加
えて調製するか、ポリリン酸またはリン酸に五酸化ニリ
ンを加えて調製してもよい。
〜１０で示される芳香族ジアミンジオールが、化１１〜
１３で示される芳香族ジカルボン酸に対して７０〜９７
モル％であることが好ましく、さらに好ましくは８０〜
９５モル％、特に８５〜９５モル％が望ましい。本発明
において化８〜１０で示される芳香族ジアミンジオール
が７０モル％よりも少ない場合、未反応のモノマーおよ
びオリゴマー存在量が多くなり、精製が困難となる。一
方９７モル％よりも多い場合には得られるポリベンザゾ
ールの分子量がモノマー仕込み比のわずかな増加で急激
に大きくなるので好ましくない。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お本発明におけるポリマーの対数粘度の測定は、ポリマ
ーを０．２５ｇ／ｄｌの濃度で９８％濃硫酸に溶解し、
３０℃において測定した。またポリマー特性の評価とし
て、フィルム作成能はポリマーのメタンスルホン酸溶液
をガラス板上に塗布し水中で凝固させ、得られたフィル
ムの強度を測定して判断した。
フタル酸（以下ＰＴＡと略す）１．１６ｇとＰＴＡに対
して７０〜９０モル％の範囲で４，４’−ジアミノ３，
３’−ジヒドロキシビフェニル（以下ＨＡＢと略す）を
仕込み、８５．１％ポリリン酸（以下ＰＰＡと略す）４
３ｇを加えて、窒素気流下５０℃で約３０分混合攪拌し
た。そして、１５０℃に昇温させ（１００℃／１ｈ）、
さらに１時間よく混合させた。その後２００℃に昇温さ
せ（５０℃／５０ｍｉｎ）、２時間脱水重縮合を行なっ
てポリベンザゾールを得た。図１にモノマー仕込み比と
分子量（対数粘度）との関係を示す。ＨＡＢの仕込み比
が７０、８０、９０モル％のとき、得られたポリマーの
対数粘度はそれぞれ１．３、１．６、１．９であった。
またいずれのポリマーともフィルム形成能を示した。
０モル％としてポリマーを合成した。得られたポリマー
の対数粘度はそれぞれ１．０、０．５であった。またい
ずれのポリマーともフィルム形成能を示さなかった。
ンザゾールはモノマー仕込み比が多少ばらついていて
も、その分子量はほとんど一定である。またフィルムを
形成できるほど高い分子量を有するため優れた耐熱性と
機械特性を有する。従ってポリベンザゾールの製造の際
にモノマー仕込み比を厳密に管理する必要もないので、
従来に比べて製造が容易になるといった利点がある。
フであり、実線は実施例１における実測値を、点線は従
来より考えられていた推測値を示す。
Claims (1)
- 【請求項１】下記化１〜３で示される芳香族ジアミンジ
オールと下記化４〜６で示される芳香族ジカルボン酸を
反応させてポリベンザゾールを製造するに際し、前記芳
香族ジアミンジオールを前記芳香族ジカルボン酸に対し
て７０〜９７モル％となるように配合し、主としてポリ
リン酸からなる溶媒兼脱水剤中で脱水重縮合反応させる
ことを特徴とする対数粘度１．３以上かつフィルム形成
能を示すポリベンザゾールの製造方法。 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 【化６】 なお、前記化３および化６におけるＸ、Ｙ、Ｚは、下記
化７で示される二価の基を示す。 【化７】
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32784294A JP3546971B2 (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | ポリベンザゾールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP32784294A JP3546971B2 (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | ポリベンザゾールの製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JP32784294A Expired - Fee Related JP3546971B2 (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | ポリベンザゾールの製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3546971B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005019305A1 (ja) * | 2003-08-20 | 2005-03-03 | Sumitomo Bakelite Company Limited | ベンゾオキサゾール樹脂前駆体、ポリベンゾオキサゾール樹脂、樹脂膜および半導体装置 |
| JP2010260983A (ja) * | 2009-05-09 | 2010-11-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | ポリアミド系樹脂、光学部品用樹脂組成物、被覆部材、光学部品および光学デバイス |
-
1994
- 1994-12-28 JP JP32784294A patent/JP3546971B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2005019305A1 (ja) * | 2003-08-20 | 2005-03-03 | Sumitomo Bakelite Company Limited | ベンゾオキサゾール樹脂前駆体、ポリベンゾオキサゾール樹脂、樹脂膜および半導体装置 |
| JPWO2005019305A1 (ja) * | 2003-08-20 | 2006-10-19 | 住友ベークライト株式会社 | ベンゾオキサゾール樹脂前駆体、ポリベンゾオキサゾール樹脂、樹脂膜および半導体装置 |
| JP4702057B2 (ja) * | 2003-08-20 | 2011-06-15 | 住友ベークライト株式会社 | ベンゾオキサゾール樹脂前駆体、ポリベンゾオキサゾール樹脂、樹脂膜および半導体装置 |
| JP2010260983A (ja) * | 2009-05-09 | 2010-11-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | ポリアミド系樹脂、光学部品用樹脂組成物、被覆部材、光学部品および光学デバイス |
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