JPH08170200A - 冷間圧延されたストリップ状又はシート状のステンレス鋼の処理方法 - Google Patents

冷間圧延されたストリップ状又はシート状のステンレス鋼の処理方法

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JPH08170200A
JPH08170200A JP7175014A JP17501495A JPH08170200A JP H08170200 A JPH08170200 A JP H08170200A JP 7175014 A JP7175014 A JP 7175014A JP 17501495 A JP17501495 A JP 17501495A JP H08170200 A JPH08170200 A JP H08170200A
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temperature
scale
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electrolytically
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JP7175014A
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Yeong-U Kim
エオン−ユー・キム
Donald R Zaremski
ドナルド・レイモンド・ザレムスキ
Carol S Hertzler
キャロル・スナイダー・ハーツラー
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Allegheny International Inc
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    • C21D9/54Furnaces for treating strips or wire
    • C21D9/56Continuous furnaces for strip or wire
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 トランスバース・フラックス誘導加熱の前
に、冷間圧延されたステンレス鋼の表面を最初に洗浄す
る、ステンレス鋼の処理方法を提供する。 【解決手段】 ステンレス鋼の表面は、水と、アルカリ
性又は酸性の化合物とから成る群から選択された溶液で
洗浄される。これにより、約1,260℃の焼なまし温
度までトランスバース・フラックス誘導加熱されるその
後の焼なましの間に、酸化物スケールの形成が減少する
と共に、均一な酸化物スケールが形成される。次に、硫
酸ナトリウムが好ましい中性塩を有し、66℃よりも高
い温度に維持される電解質水溶液の中にステンレス鋼を
浸漬することにより、電解スケール除去が行われる。そ
の際に、0.016乃至0.155A/cm2の低い電
流密度を用いて、ステンレス鋼をほぼ完全にスケール除
去し、その後、電解スケール除去されたステンレス鋼を
水洗浄し、湿気を拭う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ステンレス鋼のシ
ート又はストリップを焼なまし及びスケール除去して、
これらの相乗作用により、その後の酸洗い処理を省く技
術に関し、より詳細には、薄く均一な酸化物スケール層
を確実に形成して、低電流密度の電解液の中で上記スケ
ール層を完全に除去する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】フラット圧延されたステンレス鋼シート
又はステンレス鋼ストリップを製造する際には、冷間圧
延操作に引き続いて、材料を焼なましするすなわち軟化
させる必要がある。極めて一般的な1つの焼なましの実
施方法においては、酸化炉雰囲気中で、鋼を、ある温度
まで加熱する工程を含むが、この工程は、酸化物の表面
スケールも生じさせる。このように、処理すべき鋼の化
学組成に応じてある温度まで、一般的には、788℃か
ら2,150℃(1,450°F乃至2,150°F)の
範囲の温度まで加熱することは、通常、酸化雰囲気を有
し、耐火物で内張りされた、ガス燃焼炉の中で行われ、
そのような処理は一般に、4,000Åから数ミクロン
の範囲の厚みを有する、酸化物スケールを、ステンレス
鋼に形成する。そのようなスケールは、最終的には、製
品を販売する準備が整う前に、除去されなければならな
い。そのような除去を行うためには、従来技術によれ
ば、幾つかの別個のスケール除去プロセスを、単独又は
組み合わせて使用することができる。そのような周知の
プロセスとしては特に、(1)ショットブラストの後に
酸洗いするプロセス、(2)製品を融解塩の中に浸漬さ
せるか、あるいは、製品を電解処理することにより、ス
ケールを状態調整し、その後に、酸洗いするプロセス、
及び、(3)単なる酸洗いを行うプロセスがある。その
ような酸洗い操作において一般に使用される酸として
は、硫酸、硝酸、及び、硝酸−フッ化水素の組み合わせ
が挙げられる。そのような酸の使用は、不都合でありま
た経費がかかる。その理由は、そのような酸自体が、比
較的高価であるばかりではなく、その使用前、使用中、
及び、使用後に、特殊な取り扱い技術を用いることを必
要とする、有害物質であるからであり、また、環境に関
する法規のために、酸洗い廃液の廃棄処分が、経費的な
問題を生ずるからである。
【0003】従来技術としては、米国特許明細書第4,
363,709号も挙げられ、この米国特許明細書は、
特に、300乃至400シリーズのステンレス鋼の金属
体の表面から、酸化物スケールを除去する技術を開示し
ており、この技術においては、約15乃至25重量%の
硫酸ナトリウムを含む水溶液から成り、少なくとも6
5.6℃(150°F)の温度に維持された浴の中で
の、高電流密度の電解液によるスケール除去プロセスを
使用している。上記米国特許によれば、ステンレス鋼
は、アノードとして、少なくとも10秒間にわたって、
直流の作用を受け、その際の電流密度は、少なくとも
0.465A/cm2(3アンペア/平方インチ)であ
る。酸化クロムを含む厚い酸化物スケールの形成を避け
るために、焼なましの前に、高クロムフェライト系合金
(chromium ferritic alloys)を完全に洗浄しなければ
ならないことが示唆されている。
【0004】米国特許第4,415,415号は、酸化物
スケールの形成を制御して、ステンレス鋼のスケール除
去を行うためのプロセスを開示している。酸化物スケー
ルは、酸素含有量が制限されている酸化炉雰囲気の中で
発生し、その後、0.016乃至0.155A/cm2
(0.1乃至1.0アンペア/平方インチ)の低電流密
度の電流密度で状態調整される。
【0005】従来技術としては、更に、誘導加熱によっ
て、金属のストリップ材料又はシート材料に熱を与える
問題に関連する、一連の特許がある。そのような従来技
術としては、例えば、米国特許第4,054,770号、
米国特許第4,585,916号、米国特許第3,444,
346号、米国特許第2,902,572号、及び、米国
特許第4,678,883号がある。これらの米国特許
は、「Transverse Flux Induct
ion Heating(トランスバース・フラックス
誘導加熱)(略して、”TFIH”)」と呼ばれる、電
磁誘導プロセスに関するものと考えることができる。
【0006】従来技術としては、また、米国特許第4,
824,536号があり、この米国特許は、冷間圧延さ
れたステンレス鋼のストリップ又はシートを、焼なまし
しそして続いて該ステンレス鋼のスケール除去をして処
理する工程を、最大1,260℃(2,300°F)まで
の範囲のある焼なまし温度まで誘導加熱して、最大2,
000Åの厚みを有するスケールを鋼に形成する技術を
組み合わせて行うことを開示している。上記焼なましプ
ロセスの後には、最低66℃(150°F)の温度に維
持された、15乃至25重量%の硫酸ナトリウムの水溶
液の中で、鋼をほぼ完全にスケール除去するに十分な時
間にわたって高電流密度で電解スケール除去を行う。酸
化物スケールの厚みは、焼なまし操作の完了時には、
2,000Åよりも大幅に小さくて、700乃至1,40
0Å程度であり、また、電解スケール除去の間に必要と
された電流密度は、少なくとも0.465A/cm
2(3アンペア/平方インチ)である。このように、誘
導焼なまし処理の後に、電解処理を行うことにより、上
述したようなガス燃焼雰囲気中の代表的な焼なまし操作
に比較して、顕著な進歩を示している。上記ガス燃焼雰
囲気中の代表的な焼なまし操作においては、焼なまし操
作の間に、不活性雰囲気又は還元雰囲気をもたらす特別
な手段を講じなければ、ステンレス鋼のシート又はスト
リップの酸化が広く発生してしまっていた。
【0007】誘導加熱操作は、組成的に比較的一定し且
つ均一な厚みを有する酸化物スケールを生じさせること
が分かった。また、そのようなスケールは、電解処理に
よって、極めて効果的に除去されることも分かった。例
えば、上記米国特許第4,824,536号は、1,01
0℃(1,850°F)の如き、低い焼なまし温度にお
いては、700Åの如き厚みを有する薄いスケールが生
じ、一方、1,125℃(2,057°F)の焼なまし温
度においては、1,400Åの厚みを有する厚いスケー
ルが生ずることを開示している。スケールの厚みが大き
く変わると、焼なまし温度の関数として、電解処理のプ
ロセス変数も大きく変わる。通常のガス燃焼型の焼なま
しプロセスに関しては、1,066乃至1,149℃
(1,950乃至2,100°F)程度の焼なまし温度が
用いられる。
【0008】”TFIH”に関しては、ステンレス鋼の
冶金学的な時間/温度の要件を達成するためには、高い
焼なまし温度が必要になると考えられる。そのような温
度は、フェライト系に関しては、約927℃(1,70
0°F)よりも高い範囲であり、また、オーステナイト
系に関しては、約1,038℃(1,900°F)から約
1,260℃(2,300°F)であり、更に、約1,0
93℃乃至約1,260℃(2,000°F乃至2,30
0°F)がより好ましい。
【0009】従って、誘導焼なましされたステンレス鋼
の電解処理によって、スケールの除去を行い、薄くて均
一なスケールを形成するだけではなく、従来必要とされ
ていた少なくとも0.465A/cm2(3アンペア/
平方インチ)の磁束密度よりも、著しく低い電流の磁束
密度によって、節約を行うプロセスが必要とされてい
る。また、後に酸洗いを行う必要のないプロセスも必要
とされている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、トランスバース・フラックス誘導加熱(”TFI
H”)による焼なましの前に、鋼表面を最初に洗浄する
ことにより、ステンレス鋼のシート又はストリップを処
理するプロセスすなわち方法を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、冷間圧
延されたストリップ状又はシート状のステンレス鋼を処
理するための方法が提供される。本方法は、水、及び、
アルカリ性および酸ベースの化合物の水溶液から成る群
から選択された溶液を、その後の焼なましの間に酸化物
スケールの形成を減少させ、また、スケールの厚みをよ
り均一にするに十分な量だけ用いて、ステンレス鋼の表
面を洗浄する工程を含む。焼なましは、該ステンレス鋼
に、横断する磁束がステンレス鋼の幅を実質的に均一に
横断するようトランスバース・フラックス電気誘導加熱
を、最大約1,260℃(2,300°F)、好ましく
は、約927乃至1,260℃(1,700乃至2,30
0°F)の焼なまし温度まで行う。これにより、鋼の上
に、約1,200Åあるいはそれ以下の、好ましくは、
900Åよりも薄い、比較的均一な厚みを有する酸化物
スケールを形成する。更に、電解処理は、0.016A
/cm2(0.1アンペア/平方インチ)程度の低い電
流密度を用いて、上記ステンレス鋼から実質的に完全に
スケール除去するに十分な時間にわたって、アルカリ金
属又はアンモニウムの、塩化物、硫酸塩、及び硝酸塩か
ら成る群から選択された少なくとも1つの中性塩を含
み、約65.6℃(150°F)よりも高い温度に維持
された水溶液の電解液の浴で電解処理することにより行
う。
【0012】本発明の上述の及び他の特徴及び効果は、
図面を参照して以下の記載を読むことにより、より良く
理解されよう。
【0013】
【発明の実施の形態】図1を参照すると、本発明の方法
が実行されており、この方法は、周知の方法で処理され
て、ストリップ又はシートの形態を有する冷間圧延され
たステンレス鋼の試験片になっている、ステンレス鋼製
品に関して実行されている。そのようなステンレス鋼
は、AISIタイプ430の如きフェライト系、あるい
は、例えば、AISIタイプ304の如きオーステナイ
ト系とすることができる。本発明に従って処理を受ける
シート又はストリップは、参照符号1が付されたボック
スの中に示すように、冷間圧延されており、このステン
レス鋼の最終的な用途に適するように選択された厚みを
有する。本発明の有用性を示すために、0.076乃至
0.178mm(0.003乃至0.007インチ)の
厚みを有する、AISIタイプ304のコイルストリッ
プのサンプルを用いた。
【0014】本発明によれば、次の工程である焼なまし
の前に、ステンレス鋼の表面を洗浄することにより、後
に説明するその後の処理によって、相乗作用の結果が得
られる。洗浄工程は、その後の焼なましの間に、酸化物
スケールの形成を減少させるだけではなく、誘導加熱技
術によって実行されるべき焼なましの間に、スケールの
厚みをより均一にする。ステンレス鋼を洗浄する工程
は、参照符号2で示されており、水と、アルカリ性およ
び酸ベースの化合物の水溶液とから成る群から選択され
た洗浄液を施すことにより実行される。ステンレス鋼の
表面を処理する洗浄工程は、ストリップをアンコイラー
(uncoiler)から洗浄ステーションへ供給することによ
り、ストリップの形態の鋼を洗浄するのに最も適するよ
うに選択される。上記洗浄ステーションには、鋼の表面
から汚れを取り除くに十分な量の洗浄液が準備されてい
る。上記汚れは、もし鋼の表面から取り除かれなけれ
ば、鋼基材を焼なまし温度まで加熱した時に、酸化物ス
ケールの形成を促進するものである。上記鋼は、シート
の形態の場合には、ローラテーブル又はコンベアによっ
て、洗浄ステーションへ供給されて、十分な量の洗浄剤
が与えられ、ストリップの形態のステンレス鋼の場合と
同様に、鋼の表面から汚れが取り除かれる。
【0015】洗浄操作の後に、ステンレス鋼は、ワイパ
ーあるいは他の手段へ送られ、鋼の表面から、残留して
いる洗浄液及び汚れが取り除かれる。次に、ステンレス
鋼は、参照符号3が付されたボックスで示すように、誘
導焼なましを受ける。ステンレス鋼の試験片は、温水で
洗浄された、約0.076mm(0.003インチ)の
ゲージのストリップ、並びに、アルカリ水溶液で焼なま
しされた約0.178mm(0.007インチ)のスト
リップであった。その後、両方のタイプの試験片は、ト
ランスバース・フラックス誘導加熱によって、10秒の
時間対温度の比率(time-temperature rate)よりも十
分に小さい、約3秒の時間対温度の比率で、1,177
℃(2,150°F)の温度まで、焼なましされた。両
方のコイルのストリップの表面は、焼なましの後に、高
度に均一な外観であることが観察された。
【0016】処理すべきステンレス鋼の化学組成に応じ
て、少なくとも788℃乃至1,260℃(1,450
°F乃至2,300°F)の、適正な焼なまし温度ま
で、鋼を加熱することは、本発明の範囲内である。本発
明の範囲内で、オーステナイト系のステンレス鋼は、最
低約1,038℃(1,900°F)程度から加熱するこ
とができ、また、フェライト系のステンレス鋼は、最低
で約927℃(1,700°F)程度から加熱すること
ができる。
【0017】また、米国特許第4,054,770号、米
国特許第4,585,916号、米国特許第3,444,3
46号、米国特許第2,902,572号、米国特許第
4,678,883号、及び、米国特許第4,824,53
6号から、当業者には周知の種類の、トランスバース・
フラックス誘導加熱のプロセスによって、焼なましする
ことも、本発明の範囲内である。本発明の目的のため
に、適正な組み合わせの印加周波数及び印加電力を選択
し、また、磁極片のシールド(shielding))および造形
(shaping)の適正な利用により、満足すべき生
産量で、ステンレス鋼のシート又はストリップを十分に
加熱し、その結果、小割り又は座屈等を生じさせる不均
一な温度の発生を防止することは、当業者の技量の範囲
内である。
【0018】洗浄され、そのように加熱されたステンレ
ス鋼のシートは、その後、水クエンチ又は空冷すること
ができる。トランスバース・フラックス誘導焼なまし処
理の後に、ステンレス鋼の製品は、約1,200Åを越
えない、好ましくは、900Åを越えない、更に、理想
的には、800Åを越えない厚みを有する、酸化物スケ
ールを持つ。その酸化物の厚みは、洗浄されていない鋼
の表面に対する、周知のトランスバース・フラックス誘
導焼なまし操作から生ずる酸化物の厚みよりも小さく、
その範囲は一般に、700Å(約1,010℃(1,8
50°F)から焼なましされた場合)から、1,400
Å(約1,125℃(2,057°F)で焼なましした場
合)である。
【0019】図2及び図3は、試験片上の酸化物スケー
ルの厚み及び組成を示している。より詳細に言えば、図
2及び図3のグラフは、約0.076mm(0.003
インチ)の厚み、及び、約0.178mm(0.007
インチ)の厚みをそれぞれ有するタイプ304のステン
レス鋼のサンプルを、約1,177℃(2,150°F)
で、トランスバース・フラックス誘導加熱(”TFI
H”)による焼なまし処理を行ったものに関して、走査
型オージェミクロ分析器(SAM)によって判定した、
元素深さを示している。グラフから分かるように、図2
及び図3に示す2つの元素深さは、殆ど同一であり、温
水又はアルカリ性のいずれで行った洗浄も、その後の焼
なましの間に生じた酸化物膜の厚みを減少するが、その
洗浄方法は、酸化物の元素深さに大きな影響を与えな
い。上記酸化物の外側の3分の2は、非常にクロムに富
み、一方、酸化物と金属との界面(境界)に隣接する、
内側の3分の1は、鉄に富んでいる傾向がある。酸化物
の外側の3分の1は、マンガンに富み、ニッケルの含有
量は、本質的にゼロであることが観察された。
【0020】”TFIH”の後に、ステンレス鋼は、ア
ルカリ金属又はアンモニウムの塩化物、硫酸塩、及び、
硝酸塩から成る群から選択される、少なくとも1つの中
性塩の水溶性電解液の浴の中に浸漬される。上記電解液
は、7乃至25重量パーセント、より好ましくは、15
乃至20重量%の、硫酸ナトリウムであるのが好まし
い。本発明によれば、66℃(150°F)よりも高い
温度に維持された、15乃至25重量パーセントの硫酸
ナトリウム水溶液の浴の中における電解処理の工程は、
図1の参照符号4で示されている。焼なまし操作を、試
験コイルに対して実行した後に、ストリップの表面に形
成されたスケールを視覚的に観察したところ、非常に均
一であることが分かった。本発明は、例えば、米国特許
第4,824,836号において、少なくとも0.465
A/cm2(3アンペア/平方インチ)であると開示さ
れている、従来技術で周知の電流密度よりも、かなり低
い電流密度で、電解処理を実行することを可能とする。
【0021】驚くべきことに、ストリップを洗浄する相
乗作用的な工程は、電流密度を減少することを可能と
し、その電流密度は、0.016乃至0.155A/c
2(0.1乃至1.0アンペア/平方インチ)、好ま
しくは、0.031乃至0.0784A/cm2(0.
2乃至0.5アンペア/平方インチ)である。0.03
A/cm2(0.2アンペア/平方インチ)は、焼なま
しされた材料を、10秒間にわたって、完全にスケール
除去することを必要とすることは分かった。71℃(1
60°F)に維持された、20重量%の硫酸ナトリウム
水溶液を用いて、0.076mm(0.003インチ)
及び0.178mm(0.007インチ)の、2つの”
TFIH”焼なまし処理されたサンプルに対して、スケ
ール除去実験を行った。0.155A/cm2(1アン
ペア/平方インチ)、及び、0.078A/cm
2(0.5アンペア/平方インチ)の電流密度を用い
て、10秒間の処理を行うことでも、スケール除去が成
功した。一般に、上記電流密度の値は、通常の硫酸ナト
リウム電解液の作用単位(operating unit)の、上方及
び下方の限界値である。
【0022】本発明の方法で使用可能な低い電流密度に
加えて、上記浴のpHを、2.0乃至7.0の範囲で変
えることができるが、好ましいpH範囲は、2.0乃至
4.0である。上記広いpH範囲が可能な理由は、本発
明の方法においては、より薄く且つより均一な酸化物ス
ケールが形成されるからであると考えられる。従来の方
法は、一般に、2.0乃至3.5の如き、低いpH値を
有する酸性電解液が必要とされた。
【0023】電解液の温度は、66乃至85℃(150
°F乃至185°F)であり、好ましくは、71乃至8
2℃(160乃至180°F)である。
【0024】図4乃至図7には、0.076mm(0.
003インチ)及び、0.178mm(0.007イン
チ)のゲージ材料に関して、0.031A/cm
2(0.2アンペア/平方インチ)、及び、0.078
A/cm2(0.5アンペア/平方インチ)において、
硫酸ナトリウムの電解液でスケール除去されたサンプル
について得た、走査型オージェミクロ分析器(SAM)
の元素深さを示されている。上記サンプルに関して、酸
化物膜の厚みの範囲は、70乃至130Åであり、この
値は、酸洗いあるいは光輝焼き鈍しされたステンレス鋼
のストリップの表面に関して通常測定される値と、ほぼ
同じである。
【0025】スケール除去操作の次に、試験片に、水洗
及び湿式ウエッピングから成る後処理工程を施した。こ
の工程は、図1において参照符号5で示されている。冷
間圧延されたステンレス鋼の試験片の処理は、満足すべ
きスケール除去、並びに、酸洗い媒体の完全な排斥を含
み、これにより、そのような酸洗い技術を使用する際に
生ずる上述の問題を排除することが重要である。
【0026】本発明は、その目的とする、薄く且つ均一
な酸化物スケールを生じさせる焼なましプロセスを提供
する。本プロセスすなわち方法は、あまり厳密な電解プ
ロセスを必要としないという利点をもたらし、このプロ
セスは、低い電流密度を用いると共に、pHに関するの
要件が厳密ではない。そのような薄く均一な酸化物は、
焼なましが、通常の低い焼なまし温度とは反対に、”T
FIH”が高い温度を必要とする場合でも、得ることが
できる。
【0027】図面に示す好ましい実施例に関して、本発
明を説明したが、本発明の範囲から逸脱することなく、
他の類似の実施例を用いたり、また、上述の実施例に変
更及び追加を加えることができることは理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法のフローダイアグラムである。
【図2】あるステンレス鋼のサンプルに関する酸化物ス
ケールの元素深さを示すグラフである。
【図3】別のステンレス鋼のサンプルに関する酸化物ス
ケールの元素深さを示すグラフである。
【図4】本発明によって準備されたステンレス鋼のスケ
ール除去された表面の元素深さを示すグラフである。
【図5】本発明によって準備された別のステンレス鋼の
スケール除去された表面の元素深さを示すグラフであ
る。
【図6】本発明によって準備された別のステンレス鋼の
スケール除去された表面の元素深さを示すグラフであ
る。
【図7】本発明によって準備された別のステンレス鋼の
スケール除去された表面の元素深さを示すグラフであ
る。
フロントページの続き (72)発明者 ドナルド・レイモンド・ザレムスキ アメリカ合衆国ペンシルバニア州15024, チェスウィック,マックルア・ドライブ 196 (72)発明者 キャロル・スナイダー・ハーツラー アメリカ合衆国ペンシルバニア州15146, モンローヴィル,ガーデン・シティ・ドラ イブ 216

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 冷間圧延されたストリップ状又はシート
    状のステンレス鋼の処理方法であって、 水とアルカリ性および酸ベースの化合物の水溶液とから
    成る群から選択された溶液を、その後の焼なましの間に
    酸化物スケールの形成を低減すると共にスケールの厚み
    をより均一にするに十分な量だけ用いて、該ステンレス
    鋼の表面を洗浄する工程と、 その後、該ステンレス鋼に対して、横断磁束が該ステン
    レス鋼の幅を実質的に均一に横切るよう、最大1,26
    0℃(2,300°F)までの範囲のある焼なまし温度
    までトランスバース・フラックス誘導加熱して、約1,
    200Åあるいはそれ以下の比較的均一な厚みを有する
    酸化物スケールを該ステンレス鋼に形成する工程と、 該ステンレス鋼を、アルカリ金属又はアンモニウムの塩
    化物、硫酸塩及び硝酸塩から成る群から選択された少な
    くとも1つの中性塩の水溶液から成り、66℃(150
    °F)よりも高い温度に維持された電解液の浴で、前記
    ステンレス鋼を実質的に完全にスケール除去する時間、
    約0.016乃至0.155A/cm2(約0.1乃至
    1.0アンペア/平方インチ)の電流密度で電解処理す
    ることにより、前記ステンレス鋼のスケールを電解スケ
    ール除去する工程とを、備える、冷間圧延されたストリ
    ップ状又はシート状のステンレス鋼の処理方法。
  2. 【請求項2】 請求項1の方法において、電解スケール
    除去されたステンレス鋼のストリップを、水洗浄液の中
    で処理すると共に、湿式ワイピングすることにより、焼
    なましされ且つスケール除去されたステンレス鋼製品を
    得る工程を更に備えることを特徴とする方法。
  3. 【請求項3】 請求項2の方法において、冷間圧延の後
    に、前記焼なましされ且つスケール除去されたステンレ
    ス鋼製品を、酸洗い処理を用いることなく、完全に処理
    することを特徴とする方法。
  4. 【請求項4】 請求項1の方法において、前記電解液
    が、7乃至25重量%の硫酸ナトリウムの水溶液である
    ことを特徴とする方法。
  5. 【請求項5】 請求項1の方法において、前記電解液の
    温度範囲が、最大85℃(185°F)であることを特
    徴とする方法。
  6. 【請求項6】 請求項1の方法において、前記ステンレ
    ス鋼を、927乃至1,260℃(1,700乃至2,3
    00°F)の温度まで焼なましすることを特徴とする方
    法。
  7. 【請求項7】 請求項1の方法において、前記ステンレ
    ス鋼を、1,038乃至1,276℃(1,900乃至2,
    300°F)の温度まで焼なましすることを特徴とする
    方法。
  8. 【請求項8】 請求項1の方法において、前記電流密度
    の範囲が、0.031乃至0.078A/cm2(0.
    2乃至0.5アンペア/平方インチ)であることを特徴
    とする方法。
  9. 【請求項9】 請求項1の方法において、前記電解液の
    pH値の範囲が、2.0乃至7.0であることを特徴と
    する方法。
  10. 【請求項10】 冷間圧延されたストリップ状又はシー
    ト状のステンレス鋼の処理方法であって、 水とアルカリ性又は酸性ベースの化合物の水溶液とから
    成る群から選択された溶液を、その後の焼なましの間に
    酸化物スケールの形成を低減すると共に付随するスケー
    ルの厚みを均一にするに十分な量だけ用いて、前記ステ
    ンレス鋼の表面を洗浄する工程と、 その後、該ステンレス鋼に対して、横断磁束が該ステン
    レス鋼の幅を実質的に均一に横切るよう、927〜1,
    260℃(1700〜2,300°F)の範囲のある焼
    なまし温度で、最大約10秒間の時間対温度比率でトラ
    ンスバース・フラックス誘導加熱する工程と、 15乃至20重量%の硫酸ナトリウムの水溶液から本質
    的に成り、71乃至82℃(160乃至180°F)に
    維持された電解液の浴で、前記ステンレス鋼を実質的に
    完全にスケール除去する時間、約0.031乃至0.0
    78A/cm2(約0.2乃至0.5アンペア/平方イ
    ンチ)の電流密度で電解処理することにより、前記ステ
    レンレス鋼のスケールを電解スケール除去する工程と、 前記電解スケール除去されたステンレス鋼に対して洗浄
    すると共に湿式ワイピングを施す工程とを、備えること
    を特徴とする方法。
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