JPH0815866A

JPH0815866A - 露光装置

Info

Publication number: JPH0815866A
Application number: JP6144575A
Authority: JP
Inventors: Eiichi Miyake; 栄一三宅
Original assignee: San Ei Giken Inc
Current assignee: San Ei Giken Inc
Priority date: 1994-06-27
Filing date: 1994-06-27
Publication date: 1996-01-19

Abstract

(57)【要約】【目的】特に大型の基板を露光処理するにあたり、フ
ォトマスクおよび基板が自重によって撓むことを抑制し
ながら、安全に基板を保持できるようにする。【構成】基板３を保持する基板保持板４の板面および
フォトマスク７を、垂直面に対して、角度２度ないし１
５度の範囲で、上方向に傾斜させる。また、基板３の下
端部に接する位置において基板保持板４の板面に対して
直角方向に移動可能なストッパ６を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、たとえばプリント回
路基板またはフラットディスプレイ用のガラス基板の製
作において、所望のパターンを形成する際に光露光技術
が用いられるが、このような光露光工程で用いられる露
光装置に関するもので、特に、プリント回路基板または
ガラス基板のような基板の保持態様の改良に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】プリント回路基板またはガラス基板上に
所望のパターンを形成するため、露光装置が用いられ
る。露光装置は、感光材が表面に付された基板に接触ま
たは接近して配置されたフォトマスクを通して、光線を
基板に照射することによって、フォトマスクのパターン
を基板に転写することを行なうものである。このような
露光装置において、基板は基板保持板によって保持され
る。基板保持板は、通常、基板を真空吸引に基づき吸着
させるように負圧が与えられる複数個の吸着穴を有す
る。搬送されて来た基板は、このように基板保持板によ
って保持された状態で露光処理される。

【０００３】ところで、たとえばフラットディスプレイ
用のガラス基板は、近年、ますます大型化する傾向にあ
り、それに伴って重量も増加しつつある。プリント回路
基板においても、特定の分野で用いられるものについて
は、同様の傾向を有する。

【０００４】露光装置において、基板を安全な状態で保
持するという観点からは、基板は水平状態で保持される
のが好ましい。しかしながら、大型の基板およびフォト
マスクを水平状態で保持した場合、自重による撓みが大
きく、この撓みを防止する観点からは、基板およびフォ
トマスクを垂直状態で保持することが好ましい。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基板を
搬送および処理するにあたり、垂直状態で保持すること
は、比較的軽い基板では安易に採用できるが、たとえ
ば、大型のガラス基板の場合には、より確実で安全な保
持を可能とするものでなければならない。なぜなら、ガ
ラス基板が落下して破壊されれば、大きな事故になる可
能性があるとともに、復旧に時間を要するからである。

【０００６】上述した落下を防止するため、基板保持板
に関連して基板を下方から受けるストッパを設けること
が考えられる。しかしながら、基板の下端部をストッパ
で支持しても、もし、基板保持板の吸着穴に負圧を供給
する負圧源に故障が生じた場合、基板は基板保持板に吸
着されず、ストッパ上に垂直に立った状態となっている
にすぎず、そのため、基板は、基板保持板面から離れて
倒れる危険性が十分にある。

【０００７】それゆえに、この発明の目的は、基板およ
びフォトマスクに生じ得る撓みを抑制しながら、基板を
安全に保持することができるようにされた、露光装置を
提供しようとすることでさる。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この発明は、感光材が表
面に付された基板に接触または接近して配置されたフォ
トマスクを通して、光線を基板に照射することによっ
て、フォトマスクのパターンを基板に転写する、露光装
置に向けられるものであって、上述した技術的課題を解
決するため、光線の光軸が基板を保持する基板保持板面
およびフォトマスクに対して直角とされながら、基板保
持板面およびフォトマスクが、垂直面に対して、角度２
度ないし１５度の範囲で、上方向に傾斜していることを
特徴としている。

【０００９】この発明において、好ましくは、基板保持
板は、基板を真空吸引に基づき吸着させるように負圧が
与えられる複数個の吸着穴を有し、かつ、基板保持板に
は、基板の下端部に接する位置において基板保持板面に
対して直角方向に動作可能なストッパが設けられる。

【００１０】

【作用】この発明において、基板保持板面は、垂直面に
対して、２度以上の角度で、上方向に傾斜している。し
たがって、基板保持板面上に保持されている基板に対し
ても、２度以上の傾斜が与えられ、それゆえ、基板を基
板保持板面に向かって押し付ける力が除去されたとして
も、基板は倒れず、基板保持板面に接触した状態を維持
することができる。

【００１１】他方、フォトマスク（通常、ガラス板から
構成される。）は、垂直面に対して、１５度以下の角度
で傾斜しているので、フォトマスクが自重で撓むことを
実質的に防止することができる。

【００１２】

【発明の効果】したがって、この発明に係る露光装置に
よれば、フォトマスクおよび基板に実質的な撓みを生じ
させることなく、基板を安全に保持することができる。
したがって、基板保持板が基板を真空吸引に基づき吸着
する構造を有している場合、負圧源に故障がたとえ生じ
たとしても、基板が基板保持板面から離れ、そのため落
下して破損することを防止できる。その結果、基板の破
損による事故を防止することができる。

【００１３】また、基板保持板面が上述ような角度範囲
で上方向に傾斜しているため、基板の搬送、基板保持板
への基板の着脱等の基板の取扱において、作業性および
安全性を優れたものとすることができる。

【００１４】また、上述のように、基板保持板面が上方
向に傾斜しながら、この基板保持板面に対して、露光の
ための光線の光軸が直角とされているので、露光のため
の光線を与える光学的要素に比べて、基板を比較的低い
位置に位置させることができる。そのため、基板に対す
る作業を低い位置で行なえるようになり、この点におい
ても、作業性および安全性に優れた露光装置とすること
ができる。このことは、特に大型の基板を取扱う場合、
顕著な作用効果として注目される。

【００１５】この発明の好ましい実施態様として、基板
保持板が複数個の吸着穴を有し、これら吸着穴には、基
板を真空吸引に基づき吸着させるように負圧が与えら
れ、かつ、基板保持板には、基板の下端部に接する位置
において基板保持板面に対して直角方向に動作可能なス
トッパが設けられる場合には、まず、ストッパの存在に
より、負圧を供給するための負圧源がたとえ故障して
も、基板が基板保持板面から滑り落ちることが確実に防
止されるばかりでなく、ストッパの動作に従って、基板
保持板面からのストッパの突出高さを状況に応じて変更
することができる。すなわち、基板を基板保持板に対し
て着脱する場合には、基板の厚みを越える程度にまでス
トッパを突出させ、確実な着脱操作を行なえるように
し、他方、露光処理中においては、フォトマスクが基板
に接触または接近するため、このようなフォトマスクに
対する干渉を避けるため、ストッパの突出高さを基板の
厚みの範囲内にすることができる。

【００１６】

【実施例】図１は、この発明の一実施例による露光装置
１の内部構造を示す正面図である。露光装置１は、ハウ
ジング２を備え、このハウジング２内に以下の種々の要
素が配置されている。

【００１７】感光材が表面に付された、露光処理される
べき基板３は、基板保持板４によって保持されている。
基板保持板４は、基板３を真空吸引に基づき吸着させる
ように負圧が与えられる複数個の吸着穴５を有する。ま
た、基板保持板４には、基板３の下端部に接する位置に
おいてストッパ６が設けられている。

【００１８】基板保持板４の板面上に保持された基板３
に対向するように、フォトマスク７が配置される。基板
保持板４は、フォトマスク７に対して接近および離隔可
能であり、そのため、基板保持板４は、リニアガイド８
を介して、移動ベース９に連結されている。基板保持板
４の、フォトマスク７への接近および離隔動作は、エア
シリンダ１０によって駆動される。

【００１９】移動ベース９は、図１紙面に対して直角に
移動可能である。そのため、移動ベース９の上下の端部
には、それぞれ、回転可能なホイール１１および１２が
取付けられ、これらホイール１１および１２は、それぞ
れ、ハウジング２に固定された１３および１４に沿って
転動できるようにされている。また、移動ベース９のこ
のような移動は、エアシリンダ１５によって駆動され
る。

【００２０】露光のための光線を与える光源として、た
とえばショートアークランプ１６が、ランプハウス１７
内に設けられる。ランプ１６からの光線は、複数個のミ
ラー１８、１９、２０および２１ならびにフライアイレ
ンズ２２によって、平行光線２３とされ、フォトマスク
７および基板保持板４の板面に対して、その光軸２４が
直角になるように照射される。

【００２１】図１に示されているように、基板保持板４
の板面およびフォトマスク７は、上方向に傾斜してい
る。そして、基板保持板４の板面およびフォトマスク７
が垂直面に対してなす角度は、２度ないし１５度の範囲
に選ばれている。この基板保持板４の板面およびフォト
マスク７が垂直面に対してなす角度は、図１において、
光軸２４が水平面に対してなす角度θに相当し、したが
って、この角度θが２度ないし１５度の範囲とされる。

【００２２】このように、基板保持板４を傾斜させるこ
とにより、吸着穴５に負圧を及ぼす負圧源（図示せず）
にたとえ故障が生じたとしても、基板３が基板保持板４
から離れることがなく、基板３を安全に保持することが
できる。また、光軸２４は、ランプハウス１７の上方よ
り下方に向かって傾斜するように延びているため、光軸
２４が到達する位置に位置する基板３を比較的低い位置
に配置することが可能になる。そのため、基板３に対す
る作業を比較的低い位置で行なうことができるようにな
り、これによって、作業性および安全性をより向上させ
ることができる。

【００２３】前述したストッパ６が拡大されて、図２に
示されている。図２に示すように、ストッパ６は、エア
シリンダ２５によって、基板保持板４の板面に対して直
角方向に動作するように駆動される。ストッパ６は、図
２において実線および破線でそれぞれ示すように、その
突出高さが基板３の厚みの範囲内にある状態と基板３の
厚みを越える状態との間で動作可能である。

【００２４】このような露光装置１を用いて、基板３
は、次のような手順に従って露光処理される。

【００２５】まず、移動ベース９の前述した移動に従っ
て基板保持板４が基板着脱ステーション（図示せず）に
位置されるとき、手作業または専用のローダによって、
基板３が基板保持板４上に乗せられる。このとき、スト
ッパ６は、図２に破線で示すように、前進した状態にあ
り、基板３の下端部がストッパ６上に乗せられ、次い
で、基板３が基板保持板４の板面に沿う状態とされる。
次に、負圧源（図示せず）が作動され、それによって、
基板３が真空吸引に基づき基板保持板４に吸着される。
次いで、ストッパ６は、エアシリンダ２５の駆動によ
り、図２に実線で示すように、後退した位置にもたらさ
れる。

【００２６】上述のように基板３を保持した基板保持板
４は、エアシリンダ１５の駆動により、レール１３およ
び１４に案内されて、図１に示した露光ステーションま
で移動される。そして、所定の位置に停止した基板保持
板４は、エアシリンダ１０の駆動により、リニアガイド
８によって案内されながら、フォトマスク７に向かって
前進され、次いで停止される。これによって、基板３
は、フォトマスク７に所望のごとく接触または接近す
る。この状態で、ランプ１６からの光線が平行光線２３
とされて、フォトマスク７を通して基板３に与えられ
る。これによって、基板３が露光され、フォトマスク７
のパターンが基板３に転写される。

【００２７】このように露光された基板３は、上述した
動作の逆の動作に従って、基板着脱ステーションに戻
り、ここで基板保持板４から取出される。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施例による露光装置１の内部構
造を示す正面図である。

【図２】図１に示した露光装置１に備えるストッパ６が
設けられた部分を拡大して示す断面図である。

【符号の説明】

１露光装置３基板４基板保持板５吸着穴６ストッパ７フォトマスク１６ランプ１８〜２１ミラー２２フライアイレンズ２３平行光線２４光軸

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】感光材が表面に付された基板に接触また
は接近して配置されたフォトマスクを通して、光線を前
記基板に照射することによって、前記フォトマスクのパ
ターンを前記基板に転写する、露光装置において、前記光線の光軸が前記基板を保持する基板保持板面およ
び前記フォトマスクに対して直角とされながら、前記基
板保持板面および前記フォトマスクが、垂直面に対し
て、角度２度ないし１５度の範囲で、上方向に傾斜して
いることを特徴とする、露光装置。
【請求項２】前記基板保持板は、前記基板を真空吸引
に基づき吸着させるように負圧が与えられる複数個の吸
着穴を有し、かつ、前記基板保持板には、前記基板の下
端部に接する位置において前記基板保持板面に対して直
角方向に動作可能なストッパが用いられる。請求項１に
記載の露光装置。