JPH0814642B2 - 回折素子 - Google Patents
回折素子Info
- Publication number
- JPH0814642B2 JPH0814642B2 JP16059886A JP16059886A JPH0814642B2 JP H0814642 B2 JPH0814642 B2 JP H0814642B2 JP 16059886 A JP16059886 A JP 16059886A JP 16059886 A JP16059886 A JP 16059886A JP H0814642 B2 JPH0814642 B2 JP H0814642B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction grating
- substrate
- porous oxide
- forming layer
- grating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 『産業上の利用分野』 本発明は光通信、光情報処理、その他の分野で使用さ
れる回折素子（偏向素子）に関する。
れる回折素子（偏向素子）に関する。
『従来の技術』 周知の通り、回折格子を有する回折素子は、分光器、
合分波器等に広く利用されており、かかる回折格子の製
造手段として、マスターをつくり、そのマスターから複
製されたレプリカを用いる方法が知られている。
合分波器等に広く利用されており、かかる回折格子の製
造手段として、マスターをつくり、そのマスターから複
製されたレプリカを用いる方法が知られている。
上記方法では、研磨後のガラス面に形成されたAlメッ
キ層を、例えば、ダイヤモンドカッタによりカッティン
グして多数の平行溝（細溝）を形成し、これによりマス
ターを作製した後、そのマスターを原盤にしてレプリカ
を作製する。
キ層を、例えば、ダイヤモンドカッタによりカッティン
グして多数の平行溝（細溝）を形成し、これによりマス
ターを作製した後、そのマスターを原盤にしてレプリカ
を作製する。
この際の平行溝の間隔、すなわち格子間隔は、使用目
的に応じて変るが、通常は光の波長程度である。
的に応じて変るが、通常は光の波長程度である。
『発明が解決しようとする問題点』 上述した従来例の場合、格子間隔が波長単位と極微小
であるため、これの作製難度がきわめて高く、高度の技
術が要求される。
であるため、これの作製難度がきわめて高く、高度の技
術が要求される。
特に、溝の深い細溝をカッティングすること、しか
も、このような細溝を広範囲な面積にわたり多数カッテ
ィングすることが困難であり、したがって、高品質で安
価な回折格子を、容易かつ安定して得ることができな
い。
も、このような細溝を広範囲な面積にわたり多数カッテ
ィングすることが困難であり、したがって、高品質で安
価な回折格子を、容易かつ安定して得ることができな
い。
本発明は上記の問題点に鑑み、品質、価格、製作易
度、再現性等を満足させることのできる回折素子を提供
しようとするものである。
度、再現性等を満足させることのできる回折素子を提供
しようとするものである。
『問題点を解決するための手段』 本発明に係る回折素子は、所期の目的を達成するた
め、基板とその基板の任意表面に設けられた格子形成層
とを備え、格子形成層には、上記基板表面と直交した多
数の孔を有するアルミニウム製の透明な多孔質酸化膜が
部分的に形成されて回折格子が形成されていることを特
徴とする。
め、基板とその基板の任意表面に設けられた格子形成層
とを備え、格子形成層には、上記基板表面と直交した多
数の孔を有するアルミニウム製の透明な多孔質酸化膜が
部分的に形成されて回折格子が形成されていることを特
徴とする。
『作用』 本発明に係る回折素子の場合、基板表面に設けられた
格子形成層の多孔質酸化膜の部分的形成、その多孔質酸
化膜の封孔等がいずれも電気的／化学的な手段により行
なえるので、製作難度をともなう機械的な加工手段によ
らずとも、品質、特性のよい回折格子が高精度かつ容易
に得られる。
格子形成層の多孔質酸化膜の部分的形成、その多孔質酸
化膜の封孔等がいずれも電気的／化学的な手段により行
なえるので、製作難度をともなう機械的な加工手段によ
らずとも、品質、特性のよい回折格子が高精度かつ容易
に得られる。
『実 施 例』 以下、本発明回折素子の実施例につき、図面を参照し
て説明する。
て説明する。
第１図、第２図は反射型の平面回折素子を示したもの
である。
である。
第１図、第２図において、１はアルミニウム製の基
板、２は基板１の表面に一体形成された格子形成層、３
は平行間隔をおいて格子形成層２に形成された多数の透
明な多孔質酸化膜である。
板、２は基板１の表面に一体形成された格子形成層、３
は平行間隔をおいて格子形成層２に形成された多数の透
明な多孔質酸化膜である。
多孔質酸化膜３は、第２図のごとく、上位の多孔質部
４と下位のバリア部５とからなり、その多孔質部４は、
細孔６を有する六角柱状の各セル７が面状に連続した構
造となっており、かかる多孔質酸化膜３により、基板１
には回折格子８が形成されている。
４と下位のバリア部５とからなり、その多孔質部４は、
細孔６を有する六角柱状の各セル７が面状に連続した構
造となっており、かかる多孔質酸化膜３により、基板１
には回折格子８が形成されている。
なお、屈折率を調整するため、多孔質酸化膜３の細孔
６を、金属製、染料製、誘電体製などの封孔材９により
封孔することがある。
６を、金属製、染料製、誘電体製などの封孔材９により
封孔することがある。
また、上記のごとく形成される回折格子８は、前記平
行状、第３図のごとき複数の同心円からなるものが採用
できるほか、多数本の蛇行線状、多角形の多重リング状
など、特殊パターンが採用できる。
行状、第３図のごとき複数の同心円からなるものが採用
できるほか、多数本の蛇行線状、多角形の多重リング状
など、特殊パターンが採用できる。
上述した実施例において、格子形成層２の表面が、必
要に応じてガラス、プラスチックなどのクラッド材で覆
われることがある。
要に応じてガラス、プラスチックなどのクラッド材で覆
われることがある。
つぎに、本発明回折素子の製造例を、第４図により具
体的に説明する。
体的に説明する。
第４図（イ）の基板１は、純度99.99％、10cm角のAl
板を電解研磨した後、これをエチルアルコールで洗浄し
乾燥して得たものであり、その表面は完全な鏡面様を呈
している。
板を電解研磨した後、これをエチルアルコールで洗浄し
乾燥して得たものであり、その表面は完全な鏡面様を呈
している。
ついで第４図（ロ）のごとく、上記基板１の表面に耐
酸性のレジスト10を塗布した後、その表面に二光束干渉
法を用いて500本/mmの回折用格子を書きこみ、回折格子
のパターンニングを行なった。
酸性のレジスト10を塗布した後、その表面に二光束干渉
法を用いて500本/mmの回折用格子を書きこみ、回折格子
のパターンニングを行なった。
なお、回折格子の露光は、マスクパターンを利用する
露光法によっても行なえる。
露光法によっても行なえる。
かかる基板１を陽極とし、アルミニウム平板を陰極と
する陽極酸化法を、浴温22℃の15％H2SO4浴中において
印加電圧:60V、陽極電流密度：約1.3A/dm2、処理時間:3
0分の条件で実施し、基板１の表面に厚さ約10μｍの透
明な多孔質酸化膜３を平行間隔で生成して、格子形成層
２を得た。
する陽極酸化法を、浴温22℃の15％H2SO4浴中において
印加電圧:60V、陽極電流密度：約1.3A/dm2、処理時間:3
0分の条件で実施し、基板１の表面に厚さ約10μｍの透
明な多孔質酸化膜３を平行間隔で生成して、格子形成層
２を得た。
この場合における多孔質酸化膜３は、前記第２図で述
べた通りのものであり、セル７のサイズが約0.15μｍ、
細孔２の容積比が約２％、屈折率が1.61程度である。
べた通りのものであり、セル７のサイズが約0.15μｍ、
細孔２の容積比が約２％、屈折率が1.61程度である。
なお、細孔６＝ポアーの径、セル７のサイズは上記印
加電圧により変えられ、細孔径はポアーワイドニングに
より拡げることができる。
加電圧により変えられ、細孔径はポアーワイドニングに
より拡げることができる。
その後、第４図（ハ）のごとく、基板１の格子形成層
２からレジスト10を除去して、第１図のごとき回折格子
８を得る。
２からレジスト10を除去して、第１図のごとき回折格子
８を得る。
第４図の方法によるとき、回折格子８は第１図のごと
き平行状となるが、パターンニングの態様を変えること
により、第３図のごとき回折格子８が得られる。
き平行状となるが、パターンニングの態様を変えること
により、第３図のごとき回折格子８が得られる。
『発明の効果』 以上説明した通り、本発明の回折素子は、基板とその
基板の任意表面に設けられた格子形成層とを備え、格子
形成層には、上記基板表面と直交した多数の孔を有する
アルミニウム製の透明な多孔質酸化膜が部分的に形成さ
れて回折格子が形成されたものであるから、陽極酸化手
段を介して当該回折素子が得られ、その素子の品質、価
格、製作易度、再現性等を満足させ得る。
基板の任意表面に設けられた格子形成層とを備え、格子
形成層には、上記基板表面と直交した多数の孔を有する
アルミニウム製の透明な多孔質酸化膜が部分的に形成さ
れて回折格子が形成されたものであるから、陽極酸化手
段を介して当該回折素子が得られ、その素子の品質、価
格、製作易度、再現性等を満足させ得る。
第１図は本発明回折素子の一実施例を略示した斜視図、
第２図はその回折素子の要部拡大図、第３図は回折格子
パターンの他例を示した説明図、第４図は本発明回折素
子の一製造例を工程順に略示した説明図である。 １……基板、２……格子形成層、３……多孔質酸化膜、
４……多孔質部、５……バリア部、６……細孔、７……
セル、８……回折格子。
第２図はその回折素子の要部拡大図、第３図は回折格子
パターンの他例を示した説明図、第４図は本発明回折素
子の一製造例を工程順に略示した説明図である。 １……基板、２……格子形成層、３……多孔質酸化膜、
４……多孔質部、５……バリア部、６……細孔、７……
セル、８……回折格子。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平谷 雄二 東京都品川区二葉２丁目９番15号 古河電 気工業株式会社中央研究所内 (56)参考文献 特公 昭43−27920（ＪＰ，Ｂ１)
Claims (3)
- 【請求項１】基板とその基板の任意表面に設けられた格
子形成層とを備え、格子形成層には、上記基板表面と直
交した多数の孔を有するアルミニウム製の透明な多孔質
酸化膜が部分的に形成されて回折格子が形成されている
ことを特徴とする光回折格子。 - 【請求項２】格子形成層には、多孔質酸化膜が平行間隔
をおいて形成されている特許請求の範囲第１項記載の光
回折格子。 - 【請求項３】格子形成層には、多孔質酸化膜が複数の同
心円状に形成されている特許請求の範囲第１項または第
２項記載の光回折格子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16059886A JPH0814642B2 (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 回折素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16059886A JPH0814642B2 (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 回折素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6315203A JPS6315203A (ja) | 1988-01-22 |
| JPH0814642B2 true JPH0814642B2 (ja) | 1996-02-14 |
Family
ID=15718404
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16059886A Expired - Lifetime JPH0814642B2 (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 回折素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0814642B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1215820B (it) | 1988-02-08 | 1990-02-22 | Fata Europ Group | Sistema per immagazzinare in modo automatizzato containers termici. |
| JPH08295111A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-12 | Toyota Motor Corp | サスペンションアーム |
| KR100645654B1 (ko) * | 2001-06-29 | 2006-11-13 | 로무 가부시키가이샤 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
| US6930053B2 (en) * | 2002-03-25 | 2005-08-16 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of forming grating microstructures by anodic oxidation |
-
1986
- 1986-07-08 JP JP16059886A patent/JPH0814642B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6315203A (ja) | 1988-01-22 |
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