JPH08146336A - 光走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 安価なホログラムを使用できる光走査装置を
提供する。 【構成】 半導体レーザ２より出射されたレーザ光はコ
リメートレンズ１１により平行光とされ、その一部がス
リット１２を透過し、円筒レンズ１３でホログラムディ
スク６に集光される。スリット１２の開口部の副走査方
向幅は２ａであり、副走査方向のビーム半径Ｗa に対
し、ａ／Ｗa を０．４以上とすることにより、ホログラ
ム１枚あたりに必要とされる回折効率は３０％以下とな
る。これにより、ホログラムの凹凸の深さをピッチより
も小さくすることができ、射出成形等により量産可能な
安価なホログラムを使用することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザプリンタ等に用
いられる、レーザ光を用いて走査・集光を行う光走査装
置に係り、詳しくは、レーザ光を偏向させる手段として
光の回折格子であるホログラムを用いた光走査装置に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、レーザ光源からの射出レーザ光を
ホログラムを用いて偏向させ、偏向されたレーザ光を被
走査面上にスポット状に集光させて主走査を行う光走査
装置が知られている。図９は、このような光走査装置の
一例を示している。以下、図９を用いて光走査装置の概
要を説明する。光走査装置１０１は、半導体レーザ１０
２と、コリメートレンズ１０３と、前置ホログラム１０
４と、ホログラム１０５が形成されたホログラムディス
ク１０６と、後置ホログラム１０７等を有しており、半
導体レーザ１０２から出射されたレーザ光はコリメート
レンズ１０３によって平行光とされた後、前置ホログラ
ム１０４、ホログラムディスク１０６、及び後置ホログ
ラム１０７で順次に回折され、感光体ドラム１０８上に
照射される。ホログラムディスク１０６はモータ１０９
の回転軸に取り付けられており、モータ１０９の回転駆
動に伴ってホログラムディスク１０６が回転することに
より、回折されたレーザ光は偏向され、感光体ドラム１
０８上をその長手方向に直線走査する。このように、ホ
ログラムディスク１０６によりレーザ光の偏向が行わ
れ、前置ホログラム１０４、ホログラムディスク１０
６、及び後置ホログラム１０７の組み合わせにより、感
光体ドラム１０８上の光スポットを走査範囲内で所定の
大きさに保持し、レーザ光の波長変動に伴う走査位置の
変位補正を行っている。なお、ホログラム１０５はホロ
グラムディスク１０６の片面の表面に凹凸形状で形成さ
れている。前置ホログラム１０４及び後置ホログラム１
０７についても同様のホログラムが形成されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の光走査装置１０１において、ホログラムは前置ホロ
グラム１０４、ホログラムディスク１０６、及び後置ホ
ログラム１０７の３枚が必要であり、感光体ドラム１０
８上において所定の光強度を得るためには、ホログラム
ディスク１０６、前置ホログラム１０４、及び後置ホロ
グラム１０７には高い回折効率が必要とされていた。基
板表面の凹凸として干渉縞が形成されたホログラムの場
合、回折効率を高めるためには、実験結果によれば、凹
凸の深さを1 μｍ以上とする必要があり、これは、通常
の凹凸のピッチの２〜３倍程度となる。このような深い
凹凸を有するホログラムは、射出成形等で量産すること
が困難であって生産性が低く、ホログラム自体が高価と
なり、光走査装置も高価となるという問題があった。

【０００４】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、ホログラムへ照射するレーザ光
のビーム径とスリットの関係を適切に設定することによ
り、ホログラムの回折効率が低くとも被走査面上で必要
な光量を確保することができ、従って、凹凸が浅く量産
可能で安価なホログラムを使用することが可能で、低コ
スト化が図れる光走査装置を提供することを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に請求項１の発明の光走査装置は、レーザ光源からの射
出レーザ光を回転駆動されるホログラムディスクにより
回折させ、回折されたレーザ光を被走査面上にスポット
状に集光させて主走査を行う光走査装置であって、レー
ザ光源からの射出レーザ光をホログラムディスクに照射
するための照射光学手段を有し、この照射光学手段は、
走査方向と垂直な副走査方向に光を制限するスリットを
含み、このスリットに入射するレーザ光の副走査方向の
ビーム径に対するスリットの副走査方向の幅の比率が
０．３以上であるものである。また、請求項２の発明の
光走査装置は、請求項１記載の構成において、スリット
に入射するレーザ光の副走査方向のビーム径に対するス
リットの副走査方向の幅の比率が０．７以上かつ１．１
以下であるものである。また、請求項３の発明の光走査
装置は、請求項１又は請求項２に記載の構成において、
レーザ光源が半導体レーザであり、その偏光方向が走査
方向と平行な主走査方向に平行であるものである。ま
た、請求項４の発明の光走査装置は、請求項１乃至請求
項３のいずれかに記載の構成において、ホログラムディ
スクの表面に形成されたホログラムの凹凸の深さが凹凸
のピッチよりも小さいものである。また、請求項５の発
明の光走査装置は、請求項１乃至請求項４のいずれかに
記載の構成において、照射光学手段として、ホログラム
ディスクへの入射レーザ光を、走査方向に平行な主走査
方向にはほぼ平行光とし、走査方向に垂直な副走査方向
には集光するものを用い、さらに、ホログラムディスク
からの回折光を被走査面上に集光するためのホログラム
レンズを備え、このホログラムレンズとして、主走査方
向と副走査方向とでパワーが異なるものを用いたもので
ある。また、請求項６の発明の光走査装置は、請求項５
記載の構成において、ホログラムレンズに形成されたホ
ログラムの凹凸の深さが凹凸のピッチよりも小さいもの
である。また、請求項７の発明の光走査装置は、請求項
１乃至請求項６のいずれかに記載の構成において、照射
光学手段がさらにコリメートレンズと、円筒レンズとを
含むものである。

【０００６】

【作用】上記の構成を有する請求項１の光走査装置にお
いては、レーザ光源からの射出レーザ光が、走査方向と
垂直な副走査方向に光を制限するスリットを含む照射光
学手段を通してホログラムディスクに照射される。射出
レーザ光は、回折効率を高くするために、その偏光方向
を走査方向と平行な主走査方向に平行とした状態にてホ
ログラムディスクに照射される。射出レーザ光は、通
常、偏光方向に垂直な方向、つまり副走査方向に細長い
楕円ビームであり、また、光強度はビーム中心を最大と
して中心から離れる程弱くなる分布を持つことから、光
照射光学系がそれ程大きくなることなく、しかも光量損
失を小さく抑えるためには、副走査方向での光ビーム形
状を制限することが望ましい。しかしながら、余りに制
限し過ぎると、所定の光量を確保するには、ホログラム
での高い回折効率が必要となり、そのようなホログラム
は量産が難しく高価となる。このような理由から、副走
査方向での光ビーム形状を制限する手段としてのスリッ
トに入射するレーザ光のうち、副走査方向のビーム径の
０．３倍以上の部分がスリットを透過するようにしたこ
とにより、回折効率の低い安価なホログラムを用いるこ
とが可能となる。また、請求項２の光走査装置において
は、スリットに入射するレーザ光のうち、副走査方向の
ビーム径の０．７倍以上かつ１．１倍以下の部分がスリ
ットを透過する。これにより、請求項１のものより一
層、回折効率の低い安価なホログラムを用いることが可
能となる。また、請求項３の光走査装置においては、光
源である半導体レーザの偏光方向が主走査方向に平行で
あるので、ホログラムディスクの表面に形成されている
ホログラムの凹凸が浅くても所望の回折効率が得られ
る。また、請求項４の光走査装置においては、ホログラ
ムディスクの表面に形成されたホログラムの凹凸の深さ
が凹凸のピッチよりも小さくなっているため、ホログラ
ムディスクを安価に量産することができる。また、請求
項５の光走査装置においては、照射光学手段によりレー
ザ光は走査線と平行な方向にはほぼ平行光とされてホロ
グラムに照射され、このとき、走査線と垂直な方向には
ホログラム上に集光される。ホログラムディスクからの
回折光は主走査方向にはほぼ平行光であり、副走査方向
には発散光となっているため、これを主走査方向と副走
査方向とでパワーが異なるホログラムレンズにより走査
線上に集光する。また、請求項６の光走査装置において
は、ホログラムレンズに形成されたホログラムの凹凸の
深さが凹凸のピッチよりも小さいので、ホログラムレン
ズを安価に量産することができる。また、請求項７の光
走査装置においては、コリメートレンズによりレーザ光
源からの出射光を平行光とし、さらに、円筒レンズによ
り副走査方向のみホログラムディスク上に集光する。

【０００７】

【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図面を
参照して説明する。図１は本実施例による光走査装置１
の側面図である。光走査装置１は、半導体レーザ２の出
射口に設けられた照射光学手段３を有する。この照射光
学手段３は、半導体レーザ２より出射されるレーザ光を
平行光とするためのコリメートレンズ１１と、コリメー
トレンズ１１からの平行光の一部を透過させるスリット
１２ａを有するスリット部材１２と、スリット１２ａを
透過したレーザ光を、モータ４により回転駆動されるホ
ログラム５が片面に形成されたホログラムディスク６の
接線方向に垂直な方向すなわち副走査方向に収束して入
射レーザ光Ｌ３とする円筒レンズ１３とから構成されて
いる。半導体レーザ２は、出射レーザ光の偏光方向が主
走査方向に平行となるように配置されており、従って、
出射レーザ光の短軸が主走査方向に平行な楕円形状とな
っている。

【０００８】ホログラムディスク６は、透明の円盤状の
基板からなるものであり、その中心がモータ４の回転軸
に固定されてモータ４の回転駆動に伴って回転可能とさ
れている。ホログラムディスク６の材料としては、樹
脂、例えば、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、ポリイミ
ド、アモルファスポリオレフィン等を用いた基板を使用
することができる。また、樹脂以外にガラスやセラミッ
ク等を用いてもよい。この場合、ガラス、セラミック基
板に直接、凹凸を形成しホログラムとしてもよい。ま
た、これらの基板の上に紫外線硬化樹脂や熱可塑性樹脂
あるいはフォトレジスト等の樹脂等でホログラム５を形
成してもよい。

【０００９】ホログラムディスク６へ入射されたレーザ
光Ｌ３はホログラム５により回折され、その回折された
レーザ光は、その方向が偏向され、後置ホログラムであ
るホログラムレンズ７を通して感光体ドラム８の表面に
集光される。このとき、モータ４の回転駆動によってホ
ログラムディスク６が回転することにより、回折レーザ
光は感光体ドラム８上をその長手方向すなわち主走査方
向に直線走査する。また、ホログラムレンズ７は、主走
査方向及びそれに垂直な副走査方向にそれぞれ異なるパ
ワーを有するものを用いており、このため、ホログラム
５で回折され副走査方向に発散光となった回折レーザ光
を感光体ドラム８上に微小スポットとして集光する。ま
た、感光体ドラム８の長手方向に平行な方向である主走
査方向に関して、ホログラム５に入射するレーザ光Ｌ３
は平行光とされているが、ホログラム５からの回折レー
ザ光は、ホログラムレンズ７で副走査方向とは異なった
主走査方向のパワーで収束され、微小スポットとして集
光される。このようなホログラムレンズ７の集光作用に
より、光学系の偏心、ホログラムディスク６の面振れや
半導体レーザ２の波長変動に伴う回折角の変動も補償す
ることができる。

【００１０】上記照射光学手段３の構成及び作用の詳細
について図２を参照して以下に説明する。半導体レーザ
２は、その出射レーザ光の偏光方向を主走査方向に平行
となるように配置している。図２（ａ）は、その場合の
一般の出射レーザ光の形状を示す。同図に示すように、
出射レーザ光は短軸が主走査方向に平行な楕円形状とな
っている。ホログラム５の干渉縞はおおむね主走査方向
に平行な成分が大きいため、入射レーザ光の偏光方向も
主走査方向に平行な方が、ホログラム５における回折効
率が高くなる。回折効率が高くなれば、ホログラム５に
おいて同一回折効率を得るためには凹凸の深さは浅くて
よいことになる。図２（ｂ）は、半導体レーザ２からの
出射光がコリメートレンズ１１により平行光とされ、コ
リメートレンズ１１の直径で制限され、かつ、スリット
１２ａで制限された状態を示している。

【００１１】図２（ｃ）は図２（ｂ）の場合の光強度分
布を示している。スリット１２ａは、レーザ光の光強度
が一定以上である範囲を利用するために、主に副走査方
向ビーム径を制限するものであり、矩形の開口部の幅は
主走査方向が２ｂ、副走査方向が２ａである。同図に示
すように、スリット１２ａへの入射平行光はガウス分布
を有しており、その光強度が中心の１／ｅ² となるビー
ム半径は主走査方向がＷb 、副走査方向がＷa である。
ビーム形状が主走査方向には短軸であるので、主走査方
向には容易にＷb ＜ｂとすることができ、スリット１２
ａでの光量損失はほぼ無視することができる。しかし、
副走査方向に関してはビーム径が大きいため、Ｗa ＜ａ
とすることは困難であり、しかも、光量損失を小さくす
るためにスリット１２ａの開口部の副走査方向幅２ａを
大きくすると、それに合わせて円筒レンズ１３の焦点距
離を長くする必要があり、装置の小型化等の面から副走
査方向幅２ａを大きくすることには制限が生じてくる。
また、被走査面上のスポット光に所望の光強度を得るに
は、スリット等での光量損失の他にホログラムの回折効
率も考慮する必要がある。

【００１２】図３（ａ）（ｂ）は、スポット光に所望の
光強度を得るに必要な、ビーム径に対するスリットの副
走査方向幅とホログラムの回折効率との関係を示す図で
あり、副走査方向に関して、ビーム半径Ｗa で規格化し
たスリット幅ａ／Ｗa に対して、１枚あたりのホログラ
ムに要求される回折効率を求めた結果を示している。ホ
ログラムに要求される回折効率は、感光体ドラム８の表
面で必要とされる光強度と半導体レーザ２の出力との比
から求められるが、コリメートレンズ１１、円筒レンズ
１３及び必要に応じて光路に挿入されるミラー等の光学
素子での損失、及びスリット１２ａにおける損失による
光強度低下分を補うように定められる。なお、ホログラ
ムとしてホログラムディスク６とホログラムレンズ７の
２枚を使用するため、図３ではこの２枚のホログラムの
回折効率が等しいとした場合について示した。もちろ
ん、２枚のホログラムの回折効率は等しい必要はなく、
一方の回折効率を図３の値よりも高くすれば他方を図３
の値よりも低くすることができる。すなわち、図３の値
を２乗した値が２枚のホログラムの回折効率の積となる
ように各ホログラムの効率を組み合わせればよい。

【００１３】図３（ａ）は半導体レーザ２の出力が５ｍ
Ｗ、感光体ドラム８の表面で必要とされる光強度を０．
１ｍＷとして求めたものである。ａ／Ｗa を０．４以上
とすることにより、ホログラム１枚あたりに必要とされ
る回折効率は３０％以下となる。また、ａ／Ｗa を０．
９以上とするとホログラム１枚あたりに必要とされる回
折効率は２０％以下となる。なお、ａ／Ｗa を１．６以
上としても回折効率の低下はわずかである。ホログラム
の回折効率が３０％以下の場合は、ホログラムの凹凸の
深さをピッチよりも小さくすることができ、射出成形等
による量産が可能となる。さらに、ホログラムの回折効
率を２０％以下とすることで、ホログラムの凹凸の深さ
をピッチの半分以下とすることができ、量産が容易とな
り、ホログラムを安価に製造することができる。ただ
し、ａ／Ｗa を大きくするとそれに比例して円筒レンズ
１３の焦点距離を長くする必要がある。例えば、ａ／Ｗ
a が０．５では円筒レンズ１３の焦点距離は約６９ｍ
ｍ、また、ａ／Ｗa が１．１では円筒レンズ１３の焦点
距離は約１５２ｍｍとなる。さらに、ａ／Ｗa が１．５
では円筒レンズ１３の焦点距離は約２０８ｍｍとなる。
円筒レンズ１３の焦点距離が長いと光走査装置１全体が
大きくなるため、ａ／Ｗa は１．１以下が望ましい。

【００１４】図３（ｂ）は半導体レーザ２の出力が３ｍ
Ｗ、感光体ドラム８の表面で必要とされる光強度を０．
０５ｍＷとして求めたものである。ａ／Ｗa を０．３以
上とすることにより、ホログラム１枚あたりに必要とさ
れる回折効率は３０％以下となる。また、ａ／Ｗa を
０．７以上とするとホログラム１枚あたりに必要とされ
る回折効率は２０％以下となる。

【００１５】このように、ホログラムに必要とされる回
折効率は半導体レーザ２の出力、感光体ドラム８の面上
の光強度等によって異なるが、以上を考察すると、ａ／
Ｗaは０．３以上が望ましい。さらに、ａ／Ｗa は０．
７以上かつ１．１以下とするのがより望ましい。これに
より、ホログラム１枚あたりの回折効率を３０％以下、
さらには２０％以下とすることができるため、ホログラ
ムの凹凸の深さをピッチあるいはピッチの半分よりも小
さくすることができる。このように、凹凸の深さが浅い
ホログラムは射出成形等による量産が可能となり、ホロ
グラムを安価に製造することができる。このようなホロ
グラムを用いることにより、安価な光走査装置１を提供
することができる。

【００１６】以上、本発明の一実施例を図１及至図３を
用いて詳細に説明したが、本発明は上記実施例に限定さ
れるものではなく、その主旨を逸脱しない範囲で種々の
変更を加えることができる。例えば、スリット１２ａの
開口形状は矩形に限定されるわけではなく、図４（ａ）
のように、角に丸みをもたせたり、面取りを行ってもよ
い。また、図４（ｂ）のような楕円形状や図４（ｃ）の
ような菱形としてもよい。この場合、楕円又は菱形の副
走査方向の軸の長さを２ａとすればよい。また、スリッ
ト部材１２の構成についても所定の開口形状を有する限
り特に限定されない。例えば、図５（ａ）のように、ス
リット部材１２として、金属板、プラスチック板等に所
定のスリット１２ａを形成したものでもよい。また、図
５（ｂ）のようにガラス、樹脂等の透明な基板５０の上
に所定のパターンで形成された遮光層５１を設けてスリ
ット部材１２を構成してもよい。遮光層５１としてはＡ
ｌ、Ｃｒ、Ｔａ等の金属又は塗料、色素、カーボン等か
らなる光吸収材料等を用いることができる。また、図６
（ａ）（ｂ）のように円筒レンズ１３に密着してスリッ
ト部材５５又は５６を設けてもよい。

【００１７】照射光学手段３の配置、構成についてもそ
の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えることがで
きる。例えば、図７のように半導体レーザ２、コリメー
トレンズ１１、スリット部材１２及び円筒レンズ１３の
光軸をホログラムディスク６面と平行とし、その出射光
を立ち下げミラー６１で所定の入射角としてホログラム
ディスク６へ入射させてもよい。さらに、ホログラムデ
ィスク６での回折光も、ミラー６２，６３，６４で光路
を折り曲げてもよい。これにより、光走査装置１を薄型
化することができる。このとき、ホログラムレンズ７の
挿入箇所はミラー６４の後方に限定されるわけではな
く、ホログラムディスク６からの回折光の光路中であれ
ば、ホログラムディスク６に形成されたホログラム５に
合わせて適時所定の位置に配置される。

【００１８】また、ホログラムディスク６への入射レー
ザ光Ｌ３は、主走査方向に平行光となる光束に限定され
るわけではない。ホログラム５のパターンに応じて、入
射レーザ光Ｌ３の主走査方向にも発散又は収束する光束
としてもよい。また、必要に応じ、プリズム等の光学素
子を用いてもよい。また、ホログラムディスク６及びホ
ログラムレンズ７に形成されているホログラムは、表面
の凹凸として形成されているものに限定されるわけでは
ない。例えば、図８（ａ）又は（ｂ）に示すように、表
面の凹凸の代わりに、遮光部７０，７２と透過部７１を
配した吸収型ホログラムを用いることができる。遮光部
７０，７２としては、図８（ａ）のように写真感光剤の
銀塩等の光吸収粒子や、図８（ｂ）のように金属等の薄
膜等が用いられる。すなわち、本実施例の構成であれば
光の透過率自体が低いため、結果的に回折効率も低くな
る吸収型ホログラムも用いることができる。また、レー
ザ光源２としては半導体レーザに限定されず、例えば、
ガスレーザ、固体レーザ等を用いてもよい。また、これ
らレーザの第２高調波等を用いてもよい。

【００１９】

【発明の効果】以上のように請求項１の発明に係る光走
査装置によれば、ホログラムディスクに照射される射出
レーザ光が、その偏光方向を走査方向と平行な主走査方
向に平行とされ、一般に偏光方向に垂直な副走査方向に
細長い楕円ビームであることから、光照射光学系の小型
化等を図るべく、副走査方向での光ビーム形状を制限す
る手段としてスリットを用いる。その場合に、スリット
に入射するレーザ光の副走査方向のビーム径の０．３倍
以上の部分がスリットを透過するようにしたことによ
り、ホログラムでの回折効率が低くても被走査面で所望
の光量を確保することができ、回折効率の低い安価なホ
ログラムを用いることが可能となり、装置を安価とする
ことができる。また、請求項２の発明に係る光走査装置
によれば、スリットに入射するレーザ光の副走査方向の
ビーム径の０．７倍以上かつ１．１倍以下の部分がスリ
ットを透過するようにしたことにより、回折効率のより
低い安価なホログラムを用いることが可能となる。ま
た、請求項３の発明に係る光走査装置によれば、半導体
レーザの偏光方向が回折効率が高くなる方向と平行であ
るため、所望の回折効率を得るためにはホログラムディ
スクに形成されたホログラムの凹凸を浅くすることがで
き、これにより、安価なホログラムを用いることがで
き、装置を安価とすることができる。また、請求項４の
発明に係る光走査装置によれば、ホログラムディスクを
射出成形等で安価に量産することができる。また、請求
項５の発明に係る光走査装置によれば、照射光学手段に
より出射レーザ光を主走査方向にはほぼ平行光とし、副
走査方向にはホログラム上に集光する。また、ホログラ
ムディスクからの回折光を主走査方向と副走査方向とで
パワーが異なるホログラムレンズにより走査線上の一点
に集光する。このようなホログラムレンズの集光作用に
より、光学系の偏心、ホログラムディスクの面振れや半
導体レーザの波長変動に伴う回折角の変動を補償するこ
とができ、湾曲や変位の小さな走査線を得ることができ
る。また、請求項６の発明に係る光走査装置によれば、
ホログラムレンズを安価に量産することができる。ま
た、請求項７の発明に係る光走査装置によれば、コリメ
ートレンズと円筒レンズの組合せにより、半導体レーザ
からの出射光を主走査方向にはほぼ平行光とし、副走査
方向にはホログラム上に集光する。このような入射レー
ザ光をホログラムディスクに照射し、ホログラムレンズ
で集光することにより、光学系の偏心、ホログラムディ
スクの面振れや半導体レーザの波長変動に伴う回折角の
変動を補償することができ、湾曲や変位の小さな走査線
を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例による光走査装置の側面図で
ある。

【図２】レーザ光形状とスリットの関係を示す説明図で
ある。

【図３】スリット幅に対する回折効率を示す説明図であ
る。

【図４】本発明の他の実施例による光走査装置における
レーザ光形状とスリットの関係を示す説明図である。

【図５】本発明の他の実施例による光走査装置のスリッ
トの斜視図である。

【図６】本発明の他の実施例による光走査装置のスリッ
トの側断面図である。

【図７】本発明の他の実施例による光走査装置の側面図
である。

【図８】本発明の他の実施例による光走査装置のホログ
ラムの断面図である。

【図９】従来の光走査装置の側面図である。

【符号の説明】

１ 光走査装置 ２ 半導体レーザ（レーザ光源） ３ 照射光学手段 ４ モータ ５ ホログラム ６ ホログラムディスク ７ ホログラムレンズ １１ コリメートレンズ １２ スリット部材 １２ａ スリット １３ 円筒レンズ Ｌ３ 入射レーザ光

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザ光源からの射出レーザ光を回転駆
   動されるホログラムディスクにより回折させ、回折され
   たレーザ光を被走査面上にスポット状に集光させて主走
   査を行う光走査装置において、 前記レーザ光源からの射出レーザ光を前記ホログラムデ
   ィスクに照射するための照射光学手段を有し、この照射
   光学手段は、走査方向と垂直な副走査方向に光を制限す
   るスリットを含み、前記スリットに入射するレーザ光の
   副走査方向のビーム径に対する該スリットの副走査方向
   の幅の比率が０．３以上であることを特徴とする光走査
   装置。
2. 【請求項２】 前記スリットに入射するレーザ光の副走
   査方向のビーム径に対する該スリットの副走査方向の幅
   の比率が０．７以上かつ１．１以下であることを特徴と
   する請求項１記載の光走査装置。
3. 【請求項３】 前記レーザ光源が半導体レーザであり、
   その偏光方向が走査方向と平行な主走査方向に平行であ
   ることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光走
   査装置。
4. 【請求項４】 前記ホログラムディスクの表面に形成さ
   れたホログラムの凹凸の深さが凹凸のピッチよりも小さ
   いことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに
   記載の光走査装置。
5. 【請求項５】 前記照射光学手段として、前記ホログラ
   ムディスクへの入射レーザ光を、走査方向に平行な主走
   査方向にはほぼ平行光とし、走査方向に垂直な副走査方
   向には集光するものを用い、さらに、 前記ホログラムディスクからの回折光を被走査面上に集
   光するためのホログラムレンズを備え、このホログラム
   レンズとして、主走査方向と副走査方向とでパワーが異
   なるものを用いたことを特徴とする請求項１乃至請求項
   ４のいずれかに記載の光走査装置。
6. 【請求項６】 前記ホログラムレンズに形成されたホロ
   グラムの凹凸の深さが凹凸のピッチよりも小さいことを
   特徴とする請求項５記載の光走査装置。
7. 【請求項７】 前記照射光学手段が、さらに、コリメー
   トレンズと、円筒レンズとを含むことを特徴とする請求
   項１乃至請求項６のいずれかに記載の光走査装置。