JPH08143975A - 優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤及びスラリー - Google Patents
優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤及びスラリーInfo
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- JPH08143975A JPH08143975A JP6282292A JP28229294A JPH08143975A JP H08143975 A JPH08143975 A JP H08143975A JP 6282292 A JP6282292 A JP 6282292A JP 28229294 A JP28229294 A JP 28229294A JP H08143975 A JPH08143975 A JP H08143975A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 方向性電磁鋼板の製造工程において優れたグ
ラス被膜と磁気特性を得る。 【構成】 水酸化Ｍｇ、炭酸Ｍｇ、硫酸Ｍｇ、塩基性炭
酸Ｍｇ、塩化Ｍｇ、高純度酸化Ｍｇ等を出発原料とし、
高反応性ＭｇＯを製造するに当たり原料調整から最終粉
砕を経て製造されるＭｇＯにおいてフッ素と少なくとも
０．０１％以上含み、フッ素又はフッ素＋塩素のトータ
ル量を０．０１〜０．１５％含有するように調整され、
ＣＡＡ値３０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％
以上であることを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特
性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
ラス被膜と磁気特性を得る。 【構成】 水酸化Ｍｇ、炭酸Ｍｇ、硫酸Ｍｇ、塩基性炭
酸Ｍｇ、塩化Ｍｇ、高純度酸化Ｍｇ等を出発原料とし、
高反応性ＭｇＯを製造するに当たり原料調整から最終粉
砕を経て製造されるＭｇＯにおいてフッ素と少なくとも
０．０１％以上含み、フッ素又はフッ素＋塩素のトータ
ル量を０．０１〜０．１５％含有するように調整され、
ＣＡＡ値３０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％
以上であることを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特
性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は方向性電磁鋼板の製造に
際し、最終仕上げ焼鈍工程において、均一で優れた被膜
性能をもつグラス被膜を形成すると共に、優れた磁気特
性を得るための方向性電磁鋼板の焼鈍分離剤に関する。
際し、最終仕上げ焼鈍工程において、均一で優れた被膜
性能をもつグラス被膜を形成すると共に、優れた磁気特
性を得るための方向性電磁鋼板の焼鈍分離剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常、方向性電磁鋼板はＳｉ：２．５〜
４．０％を含有する素材スラブを熱延し、焼鈍と１回又
は中間焼鈍を挟む２回以上の冷延により最終板厚とされ
る。次いで、連続焼鈍炉においてＨ2 或いはＮ2 ＋Ｈ2
雰囲気中でＰ H2 O ／Ｐ H2 を制御して脱炭焼鈍を行
い、脱炭、一次再結晶及びＳｉＯ2 を主成分とする酸化
層形成処理を行う。その後、ＭｇＯを主成分とする焼鈍
分離剤をスラリー状としてコーティングロール等により
鋼板に塗布し、乾燥後、コイルに巻き取り最終仕上げ焼
鈍を行い、通常は絶縁被膜剤処理とヒートフラットニン
グを行って最終製品とされる。
４．０％を含有する素材スラブを熱延し、焼鈍と１回又
は中間焼鈍を挟む２回以上の冷延により最終板厚とされ
る。次いで、連続焼鈍炉においてＨ2 或いはＮ2 ＋Ｈ2
雰囲気中でＰ H2 O ／Ｐ H2 を制御して脱炭焼鈍を行
い、脱炭、一次再結晶及びＳｉＯ2 を主成分とする酸化
層形成処理を行う。その後、ＭｇＯを主成分とする焼鈍
分離剤をスラリー状としてコーティングロール等により
鋼板に塗布し、乾燥後、コイルに巻き取り最終仕上げ焼
鈍を行い、通常は絶縁被膜剤処理とヒートフラットニン
グを行って最終製品とされる。
【０００３】この方向性電磁鋼板〈００１〉軸をもつ
（１１０）〈００１〉結晶が高温の二次再結晶で優先的
に成長し、鋼中にインヒビターとして分散しているＡｌ
Ｎ，ＭｎＳ等によって、その成長を抑えられている他の
結晶を侵食するために（１１０）〈００１〉結晶が優先
的に成長するものと考えられている。従って、優れた方
向性電磁鋼板を製造するためには、鋼中インヒビターＡ
ｌＮ，ＭｎＳ等の分散状態とこれらの分解までの制御が
重要である。特に、最終仕上げ焼鈍においてインヒビタ
ーは脱炭焼鈍で形成した鋼板表面の酸化膜、焼鈍分離剤
及び最終仕上げ焼鈍での熱サイクルや雰囲気ガス条件に
より影響を受ける。
（１１０）〈００１〉結晶が高温の二次再結晶で優先的
に成長し、鋼中にインヒビターとして分散しているＡｌ
Ｎ，ＭｎＳ等によって、その成長を抑えられている他の
結晶を侵食するために（１１０）〈００１〉結晶が優先
的に成長するものと考えられている。従って、優れた方
向性電磁鋼板を製造するためには、鋼中インヒビターＡ
ｌＮ，ＭｎＳ等の分散状態とこれらの分解までの制御が
重要である。特に、最終仕上げ焼鈍においてインヒビタ
ーは脱炭焼鈍で形成した鋼板表面の酸化膜、焼鈍分離剤
及び最終仕上げ焼鈍での熱サイクルや雰囲気ガス条件に
より影響を受ける。
【０００４】これらの中でとりわけ焼鈍分離剤に用いる
グラス被膜形成剤のＭｇＯの反応性は、グラス被膜形成
を介してのインヒビターの挙動に影響が大きい。これ
は、ＭｇＯの粒子の純度、活性度、粒度等の物性値が最
終焼鈍での昇温過程における脱炭酸化膜の変化やグラス
被膜の形成反応開始温度、成長速度、コイル板間の雰囲
気酸化度等に多大な影響をもたらして、グラス被膜の形
成状態等によって鋼中インヒビターの安定性に影響を与
えるからである。
グラス被膜形成剤のＭｇＯの反応性は、グラス被膜形成
を介してのインヒビターの挙動に影響が大きい。これ
は、ＭｇＯの粒子の純度、活性度、粒度等の物性値が最
終焼鈍での昇温過程における脱炭酸化膜の変化やグラス
被膜の形成反応開始温度、成長速度、コイル板間の雰囲
気酸化度等に多大な影響をもたらして、グラス被膜の形
成状態等によって鋼中インヒビターの安定性に影響を与
えるからである。
【０００５】仕上げ焼鈍におけるグラス被膜形成反応
は、焼鈍分離剤のＭｇＯと脱炭焼鈍で形成されたＳｉＯ
2 主体の酸化膜と反応して通常グラス被膜と呼ぶフォル
ステライト被膜を形成する（２ＭｇＯ＋ＳｉＯ2 →Ｍｇ
2 ＳｉＯ4 ）。又、この際、鋼中インヒビターとしてＡ
ｌＮを用いる場合にはフォルステライト被膜直下付近に
Ａｌ2 Ｏ3 とＭｇＯ，ＳｉＯ2 等によるスピネル構造の
化合物を形成する。
は、焼鈍分離剤のＭｇＯと脱炭焼鈍で形成されたＳｉＯ
2 主体の酸化膜と反応して通常グラス被膜と呼ぶフォル
ステライト被膜を形成する（２ＭｇＯ＋ＳｉＯ2 →Ｍｇ
2 ＳｉＯ4 ）。又、この際、鋼中インヒビターとしてＡ
ｌＮを用いる場合にはフォルステライト被膜直下付近に
Ａｌ2 Ｏ3 とＭｇＯ，ＳｉＯ2 等によるスピネル構造の
化合物を形成する。
【０００６】このグラス被膜形成においては、ＭｇＯと
ＳｉＯ2 の反応は純粋系においては１６００℃近い高温
でなければ反応が生じず、酸化膜の性状（成分、形成状
態）、仕上げ焼鈍条件の制御（ヒートサイクル、雰囲気
ガス）と共に焼鈍分離剤の性状として不純物の調整、粒
径、粒子形状、表面状態、活性度等を制御して仕上げ焼
鈍工程において、いかに低温から均一なグラス被膜形成
を行わせるかが優れたグラス被膜と良好な磁気特性を得
るための重要な鍵となる。このように方向性電磁鋼板の
商品価値を決定する上で重要なグラス被膜と磁気特性に
対して焼鈍分離剤ＭｇＯの影響が大きいことから、Ｍｇ
Ｏ品質の改善は方向性電磁鋼板製造技術上重要な課題と
なってきている。
ＳｉＯ2 の反応は純粋系においては１６００℃近い高温
でなければ反応が生じず、酸化膜の性状（成分、形成状
態）、仕上げ焼鈍条件の制御（ヒートサイクル、雰囲気
ガス）と共に焼鈍分離剤の性状として不純物の調整、粒
径、粒子形状、表面状態、活性度等を制御して仕上げ焼
鈍工程において、いかに低温から均一なグラス被膜形成
を行わせるかが優れたグラス被膜と良好な磁気特性を得
るための重要な鍵となる。このように方向性電磁鋼板の
商品価値を決定する上で重要なグラス被膜と磁気特性に
対して焼鈍分離剤ＭｇＯの影響が大きいことから、Ｍｇ
Ｏ品質の改善は方向性電磁鋼板製造技術上重要な課題と
なってきている。
【０００７】焼鈍分離剤に使用するＭｇＯは、一般的に
はＭｇＣｌ2 或いは海水等を原料として、先ず、Ｃａ
（ＯＨ）2 との反応によりＭｇ（ＯＨ）2 結晶を調整
し、純度等の調整の目的で圧縮洗浄等によって１回又は
洗浄と結晶調整を挟む２回以上の焼成によってＭｇＯと
され、必要に応じて粉砕、分級等による粒度調整を行っ
て製品とされる。ＭｇＯの性状の中でグラス被膜形成と
これに関連してインヒビターの安定性ひいては磁気特性
に影響する因子としては、ＭｇＯの純度、粒度、活性
度、鋼板への密着性等が主なものであるが、鋼板に塗布
される際には、水和の進行度合い、粒子の水スラリー中
の分散状態、塗布量等がある。このため、優れたグラス
被膜と磁気特性を有する方向性電磁鋼板を得るために
は、これ等の条件を最適にすることが重要である。
はＭｇＣｌ2 或いは海水等を原料として、先ず、Ｃａ
（ＯＨ）2 との反応によりＭｇ（ＯＨ）2 結晶を調整
し、純度等の調整の目的で圧縮洗浄等によって１回又は
洗浄と結晶調整を挟む２回以上の焼成によってＭｇＯと
され、必要に応じて粉砕、分級等による粒度調整を行っ
て製品とされる。ＭｇＯの性状の中でグラス被膜形成と
これに関連してインヒビターの安定性ひいては磁気特性
に影響する因子としては、ＭｇＯの純度、粒度、活性
度、鋼板への密着性等が主なものであるが、鋼板に塗布
される際には、水和の進行度合い、粒子の水スラリー中
の分散状態、塗布量等がある。このため、優れたグラス
被膜と磁気特性を有する方向性電磁鋼板を得るために
は、これ等の条件を最適にすることが重要である。
【０００８】前述のように通常、ＭｇＯは必要に応じて
反応促進剤として配合する少量の添加剤と共に水に懸濁
させてスラリー状として鋼板に塗布される。この際、Ｍ
ｇＯの製造条件によっては、例えば高活性の場合、水と
の混合撹拌条件によってはＭｇＯ→ＭｇＯ（ＯＨ）2 と
なる水和反応が生じ、コイル内（板間）に水分を持ち込
む結果、板間露点を高め且つコイル長手方向及び幅方向
において雰囲気状態を不均一にする問題がある。このた
め、仕上げ焼鈍昇温過程で不均一で、過剰な追加酸化を
生じさせ、スケール、ガスマーク、ピンホール、変色等
の重度の被膜欠陥を引き起こす。この高水和による問題
点を解決するための手段としては、一般的には特開昭５
５−７３８２３号公報に開示された高温焼成による方法
が採用される。
反応促進剤として配合する少量の添加剤と共に水に懸濁
させてスラリー状として鋼板に塗布される。この際、Ｍ
ｇＯの製造条件によっては、例えば高活性の場合、水と
の混合撹拌条件によってはＭｇＯ→ＭｇＯ（ＯＨ）2 と
なる水和反応が生じ、コイル内（板間）に水分を持ち込
む結果、板間露点を高め且つコイル長手方向及び幅方向
において雰囲気状態を不均一にする問題がある。このた
め、仕上げ焼鈍昇温過程で不均一で、過剰な追加酸化を
生じさせ、スケール、ガスマーク、ピンホール、変色等
の重度の被膜欠陥を引き起こす。この高水和による問題
点を解決するための手段としては、一般的には特開昭５
５−７３８２３号公報に開示された高温焼成による方法
が採用される。
【０００９】この方法として、このように焼成温度を上
げることで得られた低活性ＭｇＯでは、水和性の低下は
得られるが活性（反応性）や付着性が低下する欠点があ
る。又、特開昭６２−１５６２２６号公報にはＭｇＯ粒
子の最表面層を活性化処理する方法が提案されている。
この方法では、高温焼成したＭｇＯの最表面層のみを気
相中で処理して水和層を形成するものである。これによ
りグラス被膜と磁気特性のかなりの向上が見られてい
る。
げることで得られた低活性ＭｇＯでは、水和性の低下は
得られるが活性（反応性）や付着性が低下する欠点があ
る。又、特開昭６２−１５６２２６号公報にはＭｇＯ粒
子の最表面層を活性化処理する方法が提案されている。
この方法では、高温焼成したＭｇＯの最表面層のみを気
相中で処理して水和層を形成するものである。これによ
りグラス被膜と磁気特性のかなりの向上が見られてい
る。
【００１０】更に、焼鈍分離剤中への添加剤によるグラ
ス被膜及び磁性の改善技術として、特公平２−５８２０
号公報にはＳｂ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｚｒの塩化物の１種又は
２種以上をＭｇＯ：１００重量部に対して０．０２〜
１．５重量部添加する方法が提案されている。これによ
り、添加剤化合物が鋼板表面の酸化層成分のＳｉＯ2 リ
ッチ化と緻密化をもたらし、仕上げ焼鈍において追加酸
化の抑制と反応促進効果をもたらして優れた鉄損特性と
グラス被膜が得られるものである。又、特開平３−１２
０３７６号公報には前記のような塩化物の添加技術の改
善技術として、Ｍｇ，Ｎａ，Ｋ及びＣａから選択された
金属塩化物をＭｇＯへ添加すれば硫酸アンチモン、メタ
珪酸ナトリウムの併用なしに磁気特性の改善効果が得ら
れることが示されている。
ス被膜及び磁性の改善技術として、特公平２−５８２０
号公報にはＳｂ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｚｒの塩化物の１種又は
２種以上をＭｇＯ：１００重量部に対して０．０２〜
１．５重量部添加する方法が提案されている。これによ
り、添加剤化合物が鋼板表面の酸化層成分のＳｉＯ2 リ
ッチ化と緻密化をもたらし、仕上げ焼鈍において追加酸
化の抑制と反応促進効果をもたらして優れた鉄損特性と
グラス被膜が得られるものである。又、特開平３−１２
０３７６号公報には前記のような塩化物の添加技術の改
善技術として、Ｍｇ，Ｎａ，Ｋ及びＣａから選択された
金属塩化物をＭｇＯへ添加すれば硫酸アンチモン、メタ
珪酸ナトリウムの併用なしに磁気特性の改善効果が得ら
れることが示されている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】このように、これ等の
ＭｇＯ性状を改善することでグラス被膜形成反応が改善
され、効果が得られている。しかし、鋼成分、脱炭焼鈍
条件や最終仕上げ焼鈍条件によっては被膜特性や磁気特
性が不安定になる場合があり、未だ十分な技術とはいえ
ず、更なる技術改善が望まれているところである。本発
明者等は低水和で且つ高反応性の焼鈍分離剤の実現に到
達すべく、低水和ＭｇＯの反応性向上策について膨大な
研究と実験を行って検討した。その結果、低水和タイプ
のＭｇＯの不純物としてフッ素含有をベースとしてフッ
素と塩素を適量に制御するかフッ素及び塩素の金属化合
物を焼鈍分離剤に含有させることで、従来の塩素化合物
添加技術による磁気特性や被膜特性の向上効果を更に上
回る改善効果が得られることを見いだした。
ＭｇＯ性状を改善することでグラス被膜形成反応が改善
され、効果が得られている。しかし、鋼成分、脱炭焼鈍
条件や最終仕上げ焼鈍条件によっては被膜特性や磁気特
性が不安定になる場合があり、未だ十分な技術とはいえ
ず、更なる技術改善が望まれているところである。本発
明者等は低水和で且つ高反応性の焼鈍分離剤の実現に到
達すべく、低水和ＭｇＯの反応性向上策について膨大な
研究と実験を行って検討した。その結果、低水和タイプ
のＭｇＯの不純物としてフッ素含有をベースとしてフッ
素と塩素を適量に制御するかフッ素及び塩素の金属化合
物を焼鈍分離剤に含有させることで、従来の塩素化合物
添加技術による磁気特性や被膜特性の向上効果を更に上
回る改善効果が得られることを見いだした。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は焼鈍分離剤で使
用するＭｇＯの従来技術における解決策として、以下の
構成を要旨とする。 （１）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が
５０％以上のＭｇＯであって、フッ素を少なくとも０．
００５％以上含み、フッ素又はフッ素＋塩素のトータル
量を０．００５〜０．１２％含有するように調整された
優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼
板用焼鈍分離剤。（但し、ＣＡＡ値測定は液温度３０℃
における測定値、粒子径測定はレーザー式粒度計による
測定値）
用するＭｇＯの従来技術における解決策として、以下の
構成を要旨とする。 （１）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が
５０％以上のＭｇＯであって、フッ素を少なくとも０．
００５％以上含み、フッ素又はフッ素＋塩素のトータル
量を０．００５〜０．１２％含有するように調整された
優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼
板用焼鈍分離剤。（但し、ＣＡＡ値測定は液温度３０℃
における測定値、粒子径測定はレーザー式粒度計による
測定値）
【００１３】（２）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１
０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、Ｈ，Ｌｉ，
Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，
Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃ
ｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂ
ｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦ
として０．００５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化
物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．００５〜
０．１２％含有するように添加調整された優れたグラス
被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離
剤。 （３）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が
５０％以上のＭｇＯと（２）の塩化物、フッ素化合物を
含有した優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向
性電磁鋼板焼鈍分離用スラリー。
０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、Ｈ，Ｌｉ，
Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，
Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃ
ｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂ
ｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦ
として０．００５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化
物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．００５〜
０．１２％含有するように添加調整された優れたグラス
被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離
剤。 （３）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が
５０％以上のＭｇＯと（２）の塩化物、フッ素化合物を
含有した優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向
性電磁鋼板焼鈍分離用スラリー。
【００１４】本発明者等は、微粒子且つ低活性のＭｇＯ
粒子の反応性向上策として、特にＭｇＯ中に存在させる
不純物としてフッ素に着目し、フッ素或いはフッ素化合
物及びフッ素或いはフッ素化合物と塩素及び塩素化合物
とを共存させた場合に極めて安定してグラス被膜形成反
応が向上することを発見した。これにより、従来技術で
は実現できなかったＭｇＯ表面水和層による反応性向上
や、本発明者等による塩化物添加技術を凌ぐ技術の開発
に成功した。即ち、広範囲の仕上げ焼鈍条件下において
グラス被膜が均一で、磁気特性がコイル全面、全長に亘
って良好な方向性電磁鋼板を得ることに成功した。
粒子の反応性向上策として、特にＭｇＯ中に存在させる
不純物としてフッ素に着目し、フッ素或いはフッ素化合
物及びフッ素或いはフッ素化合物と塩素及び塩素化合物
とを共存させた場合に極めて安定してグラス被膜形成反
応が向上することを発見した。これにより、従来技術で
は実現できなかったＭｇＯ表面水和層による反応性向上
や、本発明者等による塩化物添加技術を凌ぐ技術の開発
に成功した。即ち、広範囲の仕上げ焼鈍条件下において
グラス被膜が均一で、磁気特性がコイル全面、全長に亘
って良好な方向性電磁鋼板を得ることに成功した。
【００１５】本発明の適用に当たっては、出発材として
はＳｉ：２．５〜４．０％含む珪素鋼スラブを公知の方
法で熱延し、１回又は焼鈍を挟む２回以上の冷延を行
い、最終板厚とし、次いで脱炭焼鈍を行って表面にＳｉ
Ｏ2 を主成分とする酸化膜を形成したいわゆる脱炭焼鈍
板が用いられる。この鋼板に前記フッ素、フッ素化合物
及び塩素、塩素化合物を微量に調整したＭｇＯをスラリ
ーとして均一に微細分散した後、連続ラインにおいてコ
ーティングロール等で塗布し、１５０〜４００℃（板温
度）程度の温度で乾燥し、コイルに巻き取られる。この
際、焼鈍分離剤ＭｇＯにはグラス被膜形成の反応促進補
助剤、板間露点調整剤、インヒビター強化補助剤とし
て、酸化物、ほう素化合物、硫黄化合物、窒素化合物等
が鋼成分や処理条件に応じて添加配合される。
はＳｉ：２．５〜４．０％含む珪素鋼スラブを公知の方
法で熱延し、１回又は焼鈍を挟む２回以上の冷延を行
い、最終板厚とし、次いで脱炭焼鈍を行って表面にＳｉ
Ｏ2 を主成分とする酸化膜を形成したいわゆる脱炭焼鈍
板が用いられる。この鋼板に前記フッ素、フッ素化合物
及び塩素、塩素化合物を微量に調整したＭｇＯをスラリ
ーとして均一に微細分散した後、連続ラインにおいてコ
ーティングロール等で塗布し、１５０〜４００℃（板温
度）程度の温度で乾燥し、コイルに巻き取られる。この
際、焼鈍分離剤ＭｇＯにはグラス被膜形成の反応促進補
助剤、板間露点調整剤、インヒビター強化補助剤とし
て、酸化物、ほう素化合物、硫黄化合物、窒素化合物等
が鋼成分や処理条件に応じて添加配合される。
【００１６】このように処理されたコイルは、最終仕上
げ焼鈍としてバッチ式、或いは連続式炉内において１１
５０℃〜１２００℃×２０Hrのような高温、長時間処理
がなされ、グラス被膜形成と二次再結晶及び純化が同時
に行われる。方向性電磁鋼板においては、この際のグラ
ス被膜の形成時期、形成量、形成状態等がインヒビター
ＡｌＮ，ＭｎＳ等の分解速度に影響を与えたり、グラス
被膜の質、張力或いは純化反応等に影響を及ぼす結果、
製品のグラス被膜特性と磁気特性を左右するものであ
る。
げ焼鈍としてバッチ式、或いは連続式炉内において１１
５０℃〜１２００℃×２０Hrのような高温、長時間処理
がなされ、グラス被膜形成と二次再結晶及び純化が同時
に行われる。方向性電磁鋼板においては、この際のグラ
ス被膜の形成時期、形成量、形成状態等がインヒビター
ＡｌＮ，ＭｎＳ等の分解速度に影響を与えたり、グラス
被膜の質、張力或いは純化反応等に影響を及ぼす結果、
製品のグラス被膜特性と磁気特性を左右するものであ
る。
【００１７】このようにして処理されたグラス被膜形成
後のコイルは、連続ラインにおいて余剰の焼鈍分離剤を
水洗により除去し、軽酸洗の後、絶縁被膜剤を塗布し、
その焼き付けと形状矯正、歪取り焼鈍を兼ねてヒートフ
ラットニングが行われ、最終製品とされる。この際、方
向性電磁鋼板は、とりわけ高磁束密度材においては被膜
張力による鉄損、磁歪等の改善効果が大きいことから、
仕上げ焼鈍で形成したグラス被膜の張力効果を更に向上
するために、絶縁被膜成分としては張力付与型のものが
適用される。
後のコイルは、連続ラインにおいて余剰の焼鈍分離剤を
水洗により除去し、軽酸洗の後、絶縁被膜剤を塗布し、
その焼き付けと形状矯正、歪取り焼鈍を兼ねてヒートフ
ラットニングが行われ、最終製品とされる。この際、方
向性電磁鋼板は、とりわけ高磁束密度材においては被膜
張力による鉄損、磁歪等の改善効果が大きいことから、
仕上げ焼鈍で形成したグラス被膜の張力効果を更に向上
するために、絶縁被膜成分としては張力付与型のものが
適用される。
【００１８】この張力被膜剤としては、固形分でコロイ
ダルシリカ１００重量部に対し、Ａｌ，Ｍｇ，Ｃａ等の
燐酸塩の１種又は２種以上を１３０〜２００重量部とク
ロム酸、クロム酸塩、重クロム酸塩の１種又は２種以上
をＣｒＯ3 として１２〜４０重量部配合したものを用い
るのが経済的に高張力被膜を得るのに好適である。この
後、更に鉄損を改善しようとする場合には、レーザー、
歯形ロール、エッチング、局部メッキ等により圧延方向
とほぼ直角方向に線状、点状に間隔と深さをコントロー
ルして、歪、疵、メッキ層等を処理して磁区細分化処理
が行われる。
ダルシリカ１００重量部に対し、Ａｌ，Ｍｇ，Ｃａ等の
燐酸塩の１種又は２種以上を１３０〜２００重量部とク
ロム酸、クロム酸塩、重クロム酸塩の１種又は２種以上
をＣｒＯ3 として１２〜４０重量部配合したものを用い
るのが経済的に高張力被膜を得るのに好適である。この
後、更に鉄損を改善しようとする場合には、レーザー、
歯形ロール、エッチング、局部メッキ等により圧延方向
とほぼ直角方向に線状、点状に間隔と深さをコントロー
ルして、歪、疵、メッキ層等を処理して磁区細分化処理
が行われる。
【００１９】次に本発明の限定理由を述べる。先ず、本
発明に適用されるＭｇＯの成分としてはフッ素を少なく
とも０．００５％含み、フッ素又はフッ素＋塩素のトー
タル量を０．００５〜０．１２％含有するように調整さ
れるのが特徴である。フッ素或いはフッ素化合物は少量
の存在によって著しいグラス被膜の反応促進効果が得ら
れる。その使用条件や含有量を適当に制御すると改善効
果は塩素や塩素化合物或いは他の添加剤物質よりも飛躍
的に得られる。これはフッ素化合物は熱に対して安定性
が高く、仕上げ焼鈍昇温中における分解が塩素化合物よ
り遅れる。これにより、高温域までその効果を安定に維
持して、効果的、効率的な作用効果をもたらす。
発明に適用されるＭｇＯの成分としてはフッ素を少なく
とも０．００５％含み、フッ素又はフッ素＋塩素のトー
タル量を０．００５〜０．１２％含有するように調整さ
れるのが特徴である。フッ素或いはフッ素化合物は少量
の存在によって著しいグラス被膜の反応促進効果が得ら
れる。その使用条件や含有量を適当に制御すると改善効
果は塩素や塩素化合物或いは他の添加剤物質よりも飛躍
的に得られる。これはフッ素化合物は熱に対して安定性
が高く、仕上げ焼鈍昇温中における分解が塩素化合物よ
り遅れる。これにより、高温域までその効果を安定に維
持して、効果的、効率的な作用効果をもたらす。
【００２０】フッ素量として０．００５％未満では、こ
のグラス形成反応温度低下と昇温中の高温域までの反応
促進及び安定化効果が十分に発揮できない。塩素がフッ
素と共存する場合には、そのトータル量が０．００５〜
０．１２％の範囲に制限される。０．００５〜０．１２
％の範囲では、塩素や塩素化合物がフッ素やフッ素化合
物による効果を補って、仕上げ焼鈍の条件の広範囲に亘
って良好なグラス被膜形成と磁気特性の改善が顕著に得
られる。０．１５％超では、被膜界面における融点低下
が過度に生じて酸化過度特有の金属光沢斑点やスケール
等の欠陥を生じる。又、余剰のフッ素や塩素による高温
でのグラス被膜と地鉄界面のエッチング反応が生じ、グ
ラス被膜が不均一になったり、薄くなる等の欠陥が生じ
るため制限される。
のグラス形成反応温度低下と昇温中の高温域までの反応
促進及び安定化効果が十分に発揮できない。塩素がフッ
素と共存する場合には、そのトータル量が０．００５〜
０．１２％の範囲に制限される。０．００５〜０．１２
％の範囲では、塩素や塩素化合物がフッ素やフッ素化合
物による効果を補って、仕上げ焼鈍の条件の広範囲に亘
って良好なグラス被膜形成と磁気特性の改善が顕著に得
られる。０．１５％超では、被膜界面における融点低下
が過度に生じて酸化過度特有の金属光沢斑点やスケール
等の欠陥を生じる。又、余剰のフッ素や塩素による高温
でのグラス被膜と地鉄界面のエッチング反応が生じ、グ
ラス被膜が不均一になったり、薄くなる等の欠陥が生じ
るため制限される。
【００２１】ＭｇＯの製造段階でＭｇの塩素化合物やフ
ッ素化合物或いは他の金属化合物を添加し、原料として
ＭｇＯを製造し、本発明のようにフッ素或いはフッ素＋
塩素を０．０１〜０．１２％のように微量に調整する場
合には、フッ素或いは塩素の存在形態を正確に特定する
のは容易ではないが、基の添加されるフッ素化合物や塩
素化合物の形態か、Ｍｇの化合物（ＭｇＦ，ＭｇＣ
ｌ2 ）か焼成時のＭｇＯ表面へのフッ素、塩素の蒸着
体、付着体、或いは表面水和層中の水和層の置換体（Ｍ
ｇ（ＯＨ）2-x ・（Ｆ，Ｃｌ）x ）のいずれかと考えら
れる。
ッ素化合物或いは他の金属化合物を添加し、原料として
ＭｇＯを製造し、本発明のようにフッ素或いはフッ素＋
塩素を０．０１〜０．１２％のように微量に調整する場
合には、フッ素或いは塩素の存在形態を正確に特定する
のは容易ではないが、基の添加されるフッ素化合物や塩
素化合物の形態か、Ｍｇの化合物（ＭｇＦ，ＭｇＣ
ｌ2 ）か焼成時のＭｇＯ表面へのフッ素、塩素の蒸着
体、付着体、或いは表面水和層中の水和層の置換体（Ｍ
ｇ（ＯＨ）2-x ・（Ｆ，Ｃｌ）x ）のいずれかと考えら
れる。
【００２２】ＭｇＯ製造時にこれらフッ素或いは塩素元
素のソースとして添加される化合物としては、Ｈ，Ｌ
ｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，
Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，
Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂ
ｉ，Ｂの中から選ばれる元素よりなるフッ素化合物又は
フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上を最終製
品のＭｇＯ中で少なくともＦとして０．００５％含み、
Ｆ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有するよう
に添加量調整したり、ＭｇＯの製造途中工程における洗
浄工程、焼成条件をコントロールすることで制御する。
素のソースとして添加される化合物としては、Ｈ，Ｌ
ｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，
Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，
Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂ
ｉ，Ｂの中から選ばれる元素よりなるフッ素化合物又は
フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上を最終製
品のＭｇＯ中で少なくともＦとして０．００５％含み、
Ｆ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有するよう
に添加量調整したり、ＭｇＯの製造途中工程における洗
浄工程、焼成条件をコントロールすることで制御する。
【００２３】次に、このようにして製造されるＭｇＯの
活性度はＣＡＡ値で４０〜２５０秒である。本発明のフ
ッ素、或いはフッ素＋塩素或いはこれらの化合物による
グラス被膜形成反応では、そのグラス被膜形成反応の向
上効果の大きさから、仕上げ焼鈍中の雰囲気の水分によ
る追加酸化を受けにくいのが特徴である。その一方、Ｍ
ｇＯや雰囲気ガスからの水分自体をグラス被膜形成反応
にそれほど必要としないため、ドライからウェットまで
焼鈍雰囲気の広範囲で安定なグラス被膜形成が実現でき
る。このため、ＣＡＡ値で４０秒から２５０秒までの広
い活性領域のＭｇＯに適合する。
活性度はＣＡＡ値で４０〜２５０秒である。本発明のフ
ッ素、或いはフッ素＋塩素或いはこれらの化合物による
グラス被膜形成反応では、そのグラス被膜形成反応の向
上効果の大きさから、仕上げ焼鈍中の雰囲気の水分によ
る追加酸化を受けにくいのが特徴である。その一方、Ｍ
ｇＯや雰囲気ガスからの水分自体をグラス被膜形成反応
にそれほど必要としないため、ドライからウェットまで
焼鈍雰囲気の広範囲で安定なグラス被膜形成が実現でき
る。このため、ＣＡＡ値で４０秒から２５０秒までの広
い活性領域のＭｇＯに適合する。
【００２４】ＣＡＡ値が４０秒未満では、方向性電磁鋼
板製造段階での工業的な水和水分のコントロールが難し
く、極度に水和水分が増加するため、本発明の成分をも
ってしてもグラス被膜と磁気特性の向上が安定して得ら
れにくい。一方、２５０秒超では、ＭｇＯの安定性は向
上するが、ＭｇＯのスラリー塗布時の鋼板への密着性、
スラリーの粘性等が低下して作業性が低下したり、グラ
ス被膜形成にもやや悪影響を与えるため制限される。４
０〜２５０秒では良好な反応性やＭｇＯの安定性が得ら
れる。本発明では、フッ素化合物の仕上げ焼鈍昇温時の
高温域までの幅広い反応促進効果と塩素化合物の反応促
進補助効果により、従来技術よりも不活性なＭｇＯに適
用可能で、工業的により安定して優れた製品の製造が可
能である。
板製造段階での工業的な水和水分のコントロールが難し
く、極度に水和水分が増加するため、本発明の成分をも
ってしてもグラス被膜と磁気特性の向上が安定して得ら
れにくい。一方、２５０秒超では、ＭｇＯの安定性は向
上するが、ＭｇＯのスラリー塗布時の鋼板への密着性、
スラリーの粘性等が低下して作業性が低下したり、グラ
ス被膜形成にもやや悪影響を与えるため制限される。４
０〜２５０秒では良好な反応性やＭｇＯの安定性が得ら
れる。本発明では、フッ素化合物の仕上げ焼鈍昇温時の
高温域までの幅広い反応促進効果と塩素化合物の反応促
進補助効果により、従来技術よりも不活性なＭｇＯに適
用可能で、工業的により安定して優れた製品の製造が可
能である。
【００２５】次にＭｇＯの粒度は１０μｍ以下の微粒子
が５０％以上であることが重要である。前記ＣＡＡ値の
範囲と同様に粒度についても通常のＭｇＯに比較して広
範囲で良好な製品特性が得られる。１０μｍ以下の粒子
５０％未満では、粒子と鋼板酸化膜との接触面積が低下
して反応性が低下するため、本発明の焼鈍分離剤成分に
おいても制限される。
が５０％以上であることが重要である。前記ＣＡＡ値の
範囲と同様に粒度についても通常のＭｇＯに比較して広
範囲で良好な製品特性が得られる。１０μｍ以下の粒子
５０％未満では、粒子と鋼板酸化膜との接触面積が低下
して反応性が低下するため、本発明の焼鈍分離剤成分に
おいても制限される。
【００２６】又、本発明においては前記のようにＭｇＯ
の製造段階でフッ素或いは塩素化合物を用いてフッ素量
と塩素量を調整することの他に、ＭｇＯの使用段階でフ
ッ素或いは塩素元素のソースとして酸或いは金属化合物
等で添加調整することもできる。この場合には、Ｈ，Ｌ
ｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，
Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，
Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂ
ｉ，Ｂの中からなるフッ素化合物又はフッ素化合物及び
塩素化物の１種又は２種以上を、最終製品のＭｇＯ中で
Ｆ或いはＦ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有
するようにＭｇＯスラリー調整時に添加する。これらの
添加剤によっても製造時のフッ素、塩素の調整と同様な
効果がもたらされる。
の製造段階でフッ素或いは塩素化合物を用いてフッ素量
と塩素量を調整することの他に、ＭｇＯの使用段階でフ
ッ素或いは塩素元素のソースとして酸或いは金属化合物
等で添加調整することもできる。この場合には、Ｈ，Ｌ
ｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，
Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，
Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂ
ｉ，Ｂの中からなるフッ素化合物又はフッ素化合物及び
塩素化物の１種又は２種以上を、最終製品のＭｇＯ中で
Ｆ或いはＦ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有
するようにＭｇＯスラリー調整時に添加する。これらの
添加剤によっても製造時のフッ素、塩素の調整と同様な
効果がもたらされる。
【００２７】添加量がＭｇＯ：１００重量部当たりＦ或
いはＦ＋Ｃｌとして０．００５〜０．１２重量部であれ
ば製造時の調整と同様な効果が得られる。０．００５重
量部未満の場合と０．１２重量部超の場合、ＭｇＯ製造
時におけるフッ素量と塩素量の限定理由と同じ理由によ
って制限される。
いはＦ＋Ｃｌとして０．００５〜０．１２重量部であれ
ば製造時の調整と同様な効果が得られる。０．００５重
量部未満の場合と０．１２重量部超の場合、ＭｇＯ製造
時におけるフッ素量と塩素量の限定理由と同じ理由によ
って制限される。
【００２８】
〔実施例１〕重量％でＣ：０．０７６、Ｓｉ：３．３
０、Ｍｎ：０．０６５、Ｓ：０．０２５、Ａｌ：０．０
２６、Ｎ：０．００７８、Ｃｕ：０．０６、Ｓｎ：０．
０１０、残部を鉄と不可避の不純物からなる高磁束密度
方向性電磁鋼板素材を公知の方法で熱延、焼鈍、冷延を
行い、最終板厚０．０２３mmとした。その後、Ｎ2 ２５
％＋Ｈ2 ７５％、露点６７℃のウェット雰囲気中で脱炭
焼鈍を行った。
０、Ｍｎ：０．０６５、Ｓ：０．０２５、Ａｌ：０．０
２６、Ｎ：０．００７８、Ｃｕ：０．０６、Ｓｎ：０．
０１０、残部を鉄と不可避の不純物からなる高磁束密度
方向性電磁鋼板素材を公知の方法で熱延、焼鈍、冷延を
行い、最終板厚０．０２３mmとした。その後、Ｎ2 ２５
％＋Ｈ2 ７５％、露点６７℃のウェット雰囲気中で脱炭
焼鈍を行った。
【００２９】次いで、表１に示す組成の粒子径１０μｍ
以下８０％ＣＡＡ値５０秒のＭｇＯにＴｉＯ2 ５％配合
した焼鈍分離剤を鋼板に塗布し、乾燥後コイルとして巻
き取り、１２００℃×２０Hrの最終仕上げ焼鈍を行っ
た。この後、絶縁被膜剤として３０％コロイダルシリカ
７０ml、５０％りん酸アルミニウム５０mlからなるコー
ティング剤を乾燥、焼き付け後の重量で５ｇ／ｍ2 にな
るように塗布し、連続炉中で８５０℃×３０秒間のヒー
トフラットニング処理を行い最終製品とした。この試験
におけるグラス被膜形成状況、絶縁被膜特性、磁気特性
の結果を表２に示す。
以下８０％ＣＡＡ値５０秒のＭｇＯにＴｉＯ2 ５％配合
した焼鈍分離剤を鋼板に塗布し、乾燥後コイルとして巻
き取り、１２００℃×２０Hrの最終仕上げ焼鈍を行っ
た。この後、絶縁被膜剤として３０％コロイダルシリカ
７０ml、５０％りん酸アルミニウム５０mlからなるコー
ティング剤を乾燥、焼き付け後の重量で５ｇ／ｍ2 にな
るように塗布し、連続炉中で８５０℃×３０秒間のヒー
トフラットニング処理を行い最終製品とした。この試験
におけるグラス被膜形成状況、絶縁被膜特性、磁気特性
の結果を表２に示す。
【００３０】
【表１】
【００３１】
【表２】
【００３２】この結果、本発明のようにフッ素或いはフ
ッ素と塩素を一定量含有する焼鈍分離剤を使用した場合
には、光沢の良いグラス被膜が均一に、厚く形成され、
被膜張力、密着性及び磁気特性の優れた結果が得られ
た。一方、比較例のフッ素、塩素をほとんど含有しない
場合には、グラス被膜を形成せず、被膜張力、密着性、
磁気特性がかなり劣る結果となった。又、フッ素を含有
しない塩素のみを含有する場合には、グラス被膜は改善
されるものの、フッ素と塩素の共存の場合に比較して、
グラス被膜、磁性共やや劣る結果であった。更に、フッ
素と塩素添加量が多い比較例３，４のケースでは、グラ
ス被膜は比較的均一であるが、薄い被膜となり、被膜特
性、磁気特性とも劣る結果となった。
ッ素と塩素を一定量含有する焼鈍分離剤を使用した場合
には、光沢の良いグラス被膜が均一に、厚く形成され、
被膜張力、密着性及び磁気特性の優れた結果が得られ
た。一方、比較例のフッ素、塩素をほとんど含有しない
場合には、グラス被膜を形成せず、被膜張力、密着性、
磁気特性がかなり劣る結果となった。又、フッ素を含有
しない塩素のみを含有する場合には、グラス被膜は改善
されるものの、フッ素と塩素の共存の場合に比較して、
グラス被膜、磁性共やや劣る結果であった。更に、フッ
素と塩素添加量が多い比較例３，４のケースでは、グラ
ス被膜は比較的均一であるが、薄い被膜となり、被膜特
性、磁気特性とも劣る結果となった。
【００３３】〔実施例２〕重量％でＣ：０．０５５、Ｓ
ｉ：３．３５、Ｍｎ：０．１２、Ａｌ：０．０３２、
Ｓ：０．００７５、Ｎ：０．００７８、Ｓｎ：０．０
５、残留応力部をＦｅと不可避の不純物からなる方向性
電磁鋼板スラブを公知の方法で１１５０℃の低温で加熱
後、熱延し、焼鈍と冷延により最終板厚０．２３mmとし
た。このコイルを連続焼鈍ラインにおいてＮ2 ２５％＋
Ｈ2 ７５％、露点６５℃のウェット雰囲気中で８３０℃
×１１０秒間の脱炭焼鈍し、引き続き鋼中Ｎ量が２００
ppm となるようにＮ2 ２５％＋Ｈ2 ７５％＋ＮＨ3 のド
ライ雰囲気中で７５０℃×３０秒間の窒化処理を行っ
た。
ｉ：３．３５、Ｍｎ：０．１２、Ａｌ：０．０３２、
Ｓ：０．００７５、Ｎ：０．００７８、Ｓｎ：０．０
５、残留応力部をＦｅと不可避の不純物からなる方向性
電磁鋼板スラブを公知の方法で１１５０℃の低温で加熱
後、熱延し、焼鈍と冷延により最終板厚０．２３mmとし
た。このコイルを連続焼鈍ラインにおいてＮ2 ２５％＋
Ｈ2 ７５％、露点６５℃のウェット雰囲気中で８３０℃
×１１０秒間の脱炭焼鈍し、引き続き鋼中Ｎ量が２００
ppm となるようにＮ2 ２５％＋Ｈ2 ７５％＋ＮＨ3 のド
ライ雰囲気中で７５０℃×３０秒間の窒化処理を行っ
た。
【００３４】この鋼板に表３に示すようにＭｇＯの製造
段階で金属フッ化物、金属塩化物をＭｇＯの最終焼成前
の水酸化Ｍｇの結晶調整段階で添加してフッ素、塩素量
をそれぞれ調整し、焼成したＣＡＡ値７０秒、粒子径１
０μｍ以下７０％のＭｇＯ：１００重量部に対し、Ｔｉ
Ｏ2 を５重量部からなる焼鈍分離剤スラリーを塗布し、
乾燥後コイルに巻き取った。次いで実施例１と同様に最
終焼鈍と絶縁被膜剤処理を行って最終製品とした。この
試験におけるグラス被膜特性と磁気特性の結果を表４に
示す。
段階で金属フッ化物、金属塩化物をＭｇＯの最終焼成前
の水酸化Ｍｇの結晶調整段階で添加してフッ素、塩素量
をそれぞれ調整し、焼成したＣＡＡ値７０秒、粒子径１
０μｍ以下７０％のＭｇＯ：１００重量部に対し、Ｔｉ
Ｏ2 を５重量部からなる焼鈍分離剤スラリーを塗布し、
乾燥後コイルに巻き取った。次いで実施例１と同様に最
終焼鈍と絶縁被膜剤処理を行って最終製品とした。この
試験におけるグラス被膜特性と磁気特性の結果を表４に
示す。
【００３５】
【表３】
【００３６】
【表４】
【００３７】この試験の結果、本発明の金属フッ化物或
いは金属フッ化物と金属塩化物をＭｇＯ焼成前に添加し
てフッ素或いはフッ素及び塩素を調整したＭｇＯを適用
したコイルは、いずれもグラス被膜形成反応が優れ、良
好なグラス被膜特性と磁気特性が得られた。図１に本発
明１０，２、比較例１，２の仕上げ焼鈍時のグラス被膜
の生成状況を示すが、本発明のものが、より低温からグ
ラス被膜が生成されていることが解る。図中のＭｇＯ量
（ｇ／ｍ2 ）は、鋼板表面の被膜を定電位電解法により
剥離し、Ｍｇを定量した後ＭｇＯとして換算した値であ
る。一方、比較例の金属フッ化物、塩化物を添加しない
場合には、グラス被膜形成が極度に低下した。又、フッ
素化合物を含有しない塩素化合物のみの場合には、フッ
素化合物の共存の場合よりもやや被膜特性、磁気特性共
に劣る結果となった。
いは金属フッ化物と金属塩化物をＭｇＯ焼成前に添加し
てフッ素或いはフッ素及び塩素を調整したＭｇＯを適用
したコイルは、いずれもグラス被膜形成反応が優れ、良
好なグラス被膜特性と磁気特性が得られた。図１に本発
明１０，２、比較例１，２の仕上げ焼鈍時のグラス被膜
の生成状況を示すが、本発明のものが、より低温からグ
ラス被膜が生成されていることが解る。図中のＭｇＯ量
（ｇ／ｍ2 ）は、鋼板表面の被膜を定電位電解法により
剥離し、Ｍｇを定量した後ＭｇＯとして換算した値であ
る。一方、比較例の金属フッ化物、塩化物を添加しない
場合には、グラス被膜形成が極度に低下した。又、フッ
素化合物を含有しない塩素化合物のみの場合には、フッ
素化合物の共存の場合よりもやや被膜特性、磁気特性共
に劣る結果となった。
【００３８】〔実施例３〕重量％でＣ：０．０７８、Ｓ
ｉ：３．２５、Ｍｎ：０．０６５、Ａｌ：０．０２７、
Ｓ：０．００２４、Ｎ：０．００８０、Ｃｕ：０．０８
０、Ｓｎ：０．１０、残留応力部をＦｅと不可避の不純
物からなる方向性電磁鋼板素材スラブを実施例１と同様
にして熱延、焼鈍、冷延して最終板厚０．２３mmとした
後、脱炭焼鈍し、出発材とした。次いで、ＭｇＯとして
ＣＡＡ値６０秒、粒子径１０μｍ以下９０％の高純のＭ
ｇＯ（含有Ｆ量：０．００２０、Ｃｌ量：０．０２０
％）：１００重量部にＴｉＯ2 を５重量部配合し、更に
表５に示すように金属フッ素化合物、金属塩素化合物を
添加した焼鈍分離剤スラリーを鋼板表面積１ｍ2 当たり
の付着量を変更して塗布し、乾燥後コイルに巻き取り、
実施例１と同様にして最終仕上げ焼鈍と絶縁被膜剤の焼
き付け処理を行って最終製品とした。この試験における
グラス被膜特性と磁気特性の結果を表６に示す。
ｉ：３．２５、Ｍｎ：０．０６５、Ａｌ：０．０２７、
Ｓ：０．００２４、Ｎ：０．００８０、Ｃｕ：０．０８
０、Ｓｎ：０．１０、残留応力部をＦｅと不可避の不純
物からなる方向性電磁鋼板素材スラブを実施例１と同様
にして熱延、焼鈍、冷延して最終板厚０．２３mmとした
後、脱炭焼鈍し、出発材とした。次いで、ＭｇＯとして
ＣＡＡ値６０秒、粒子径１０μｍ以下９０％の高純のＭ
ｇＯ（含有Ｆ量：０．００２０、Ｃｌ量：０．０２０
％）：１００重量部にＴｉＯ2 を５重量部配合し、更に
表５に示すように金属フッ素化合物、金属塩素化合物を
添加した焼鈍分離剤スラリーを鋼板表面積１ｍ2 当たり
の付着量を変更して塗布し、乾燥後コイルに巻き取り、
実施例１と同様にして最終仕上げ焼鈍と絶縁被膜剤の焼
き付け処理を行って最終製品とした。この試験における
グラス被膜特性と磁気特性の結果を表６に示す。
【００３９】
【表５】
【００４０】
【表６】
【００４１】この結果、本発明のように金属フッ素化合
物、或いは金属フッ素化合物と金属塩素化合物を一定量
添加した焼鈍分離剤の場合には、いずれも良好なグラス
被膜特性と磁気特性が得られた。一方、焼鈍分離剤に金
属フッ素化合物を添加しなかった場合には、極端にグラ
ス被膜と磁気特性が劣る結果となった。又、金属塩素化
合物のみを添加した場合には、グラス被膜磁性の向上効
果が見られるものの、フッ素化合物或いはフッ素化合物
と塩素化合物の同時添加に比較してグラス被膜と磁気特
性がやや劣る結果となった。
物、或いは金属フッ素化合物と金属塩素化合物を一定量
添加した焼鈍分離剤の場合には、いずれも良好なグラス
被膜特性と磁気特性が得られた。一方、焼鈍分離剤に金
属フッ素化合物を添加しなかった場合には、極端にグラ
ス被膜と磁気特性が劣る結果となった。又、金属塩素化
合物のみを添加した場合には、グラス被膜磁性の向上効
果が見られるものの、フッ素化合物或いはフッ素化合物
と塩素化合物の同時添加に比較してグラス被膜と磁気特
性がやや劣る結果となった。
【００４２】
【発明の効果】本発明はＭｇＯの製造過程或いはスラリ
ー調整段階でフッ素或いはフッ素及び塩素の両方をそれ
ぞれ元素或いは金属化合物によってフッ素量と塩素量を
特定範囲に調整する。この焼鈍分離剤では、フッ素が仕
上げ焼鈍昇温における高温域まで安定に保たれ、塩素低
温域での反応促進補助作用の相乗効果によって、ＣＡＡ
値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下５０％以上のＭ
ｇＯの反応性を極めて向上する。この結果、従来の塩素
或いは塩素化合物添加のみの改善技術に比較して、格段
のグラス被膜と磁気特性改善ができる焼鈍分離剤を提供
する。
ー調整段階でフッ素或いはフッ素及び塩素の両方をそれ
ぞれ元素或いは金属化合物によってフッ素量と塩素量を
特定範囲に調整する。この焼鈍分離剤では、フッ素が仕
上げ焼鈍昇温における高温域まで安定に保たれ、塩素低
温域での反応促進補助作用の相乗効果によって、ＣＡＡ
値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下５０％以上のＭ
ｇＯの反応性を極めて向上する。この結果、従来の塩素
或いは塩素化合物添加のみの改善技術に比較して、格段
のグラス被膜と磁気特性改善ができる焼鈍分離剤を提供
する。
【図１】実施例２の焼鈍分離剤を用いて最終仕上げ焼鈍
の昇温過程のグラス被膜の形成状況を調査した図表であ
る。
の昇温過程のグラス被膜の形成状況を調査した図表であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石橋 希瑞 北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新日本製 鐵株式会社八幡製鐵所内 (72)発明者 山崎 幸司 北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新日本製 鐵株式会社八幡製鐵所内
Claims (3)
- 【請求項１】 ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μ
ｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対して
フッ素を少なくとも０．００５％以上含み、フッ素又は
フッ素＋塩素のトータル量を０．００５〜０．１２％含
有するように調整されたことを特徴とする優れたグラス
被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離
剤。 - 【請求項２】 ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μ
ｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対して
Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，
Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，
Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓ
ｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合
物をＦとして０．００５％以上含み、フッ素化合物及び
塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．０
０５〜０．１２％含有するように添加調整されたことを
特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方
向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。 - 【請求項３】 ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μ
ｍ以下が５０％以上のＭｇＯに、ＭｇＯに対してＨ，Ｌ
ｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，
Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，
Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂ
ｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦ
として０．００５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化
物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．００５〜
０．１２％含有するように添加調整されたことを特徴と
する優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電
磁鋼板焼鈍分離用スラリー。（但し、ＣＡＡ値測定は液
温度３０℃における測定値、粒子径測定はレーザー式粒
度計による測定値）
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